JP3986727B2 - 導電性ウェブ状材料の製造装置及びこれを用いた導電性ウェブ状材料の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、含浸方式を用いた新規な導電性ウェブ状材料の製造技術に関するものであり、主として電池の構成材や電磁波のシールド材の製造に用いる導電性ウェブ状材料の製造装置と導電性ウェブ状材料の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
電磁波のシールド等に用いる導電性ウェブ状材料の製造技術としては、従前から各種の技術、例えば▲1▼ガラスや樹脂基板に金属薄膜を積層するようにしたもの(特開2000−59081号等)及び▲2▼不織布や織布の表面に導電性の塗布剤を吹き付け又はコーティングするようにしたもの(特開平11−247074号、特開平11−271482号等)が開発されている。
【0003】
図2は、前記特開平11−271482号に係る電磁波シールド材の製造技術の一例を示すものであり、ローラ15に巻き取られた合成繊維又は天然繊維から成る織布や不織布製のウェブ状材料16が、カレンダローラ17及び撥水加工機18を通してベルトコンベア12上へ引き出され、ベルトコンベア12上に載置したウェブ状材料16の外表面上へ、塗布機19から導電性塗布剤20が供給される。ウェブ状材料16の上へ供給された塗布剤20は、コンマナイフ21によって塗布厚みが所定の厚さに調整されると共に、ウェブ状材料16の外表面上へ塗り付けられる。塗布剤20がコーティングされたウェブ状材料16は、引き続き第1乾燥機22及び第2乾燥機26に於いて乾燥され、これによって、ウェブ状材料16の外表面上に一定の厚さの導電性皮膜25が固着された電磁シールド材24が形成される。
【0004】
尚、前記カレンダローラ17は、ウェブ状材料16の厚みを均一にすると共にウェブ状材料16の表面に柔軟性を与えるためのものである。また、撥水加工機18は、ウェブ状材料16に撥水性を付与することにより、塗布剤20がウェブ状材料16の内部へ浸透するのを防止するためのものである。
更に、2段の乾燥機22、26は、塗布剤20を異なる温度(乾燥機22は100〜130℃、乾燥機26は150〜160℃)で乾燥させることにより、導電性皮膜25を多孔性の皮膜とするためのものであり、導電性皮膜25を多孔性にすることにより、電磁シールド材に透湿性及び吸湿性が付与されると共に、電磁シールド材でエプロン等を作った場合には、人体の蒸れを防止することができる。
【0005】
前記図2の導電性ウェブ状材料の製造装置は、所定の厚さの導電性皮膜25を有する電磁シールド材24を高能率で製造することができ、優れた実用的効用を有するものである。
しかし、この導電性ウェブ状材料の製造装置にも解決すべき多くの欠点が残されている。
第1の欠点は、ウェブ状材料16の外表面へ導電性塗布剤20をコーティングすることにより導電性皮膜25を形成しているために、皮膜25とウェブ状材料16との間の固着力が比較的弱く、皮膜25がウェブ状材料16から剥離し易いことである。尚、ウェブ状材料16の外表面に撥水加工を施していることも、前記皮膜25が剥離し易くなる原因となっている。
【0006】
第2の欠点は、ベルトコンベア12を用いてウェブ状材料16を搬送すると共に、ベルトコンベア12とコンマナイフ21との間で皮膜25の厚みを調整するようにしている。その結果、ベルトコンベア装置が必要となり、導電性ウェブ状材料の製造装置が大型化するだけでなく、ランニングコストが高騰する。
【0007】
第3の欠点は、ウェブ状材料16の上面へ塗布機19から塗布剤20を繰り出し、これをコンマナイフ21によって引き伸ばしつつウェブ状材料16の表面へコーティングするようにしている。その結果、供給された塗布剤20が、全て順にウェブ状材料16上へコーティングされて行くとは限らず、繰り出された塗布剤20の一部が長時間外気に直接触れた状態におかれることがある。そうすると、導電性塗布剤20の種類によっては、外表面が酸化して所謂表面重合を起し、結果として形成された導電性皮膜25の品質に斑を生ずることになる。
【0008】
第4の欠点は、カレンダローラ17でウェブ状材料16を押圧して厚みを整えたあと、導電性塗布剤20をウェブ状材料16の外表面上へコーティングするようにしている。そのため、ウェブ状材料16には、引張強度の高いものが必要となる。その結果、厚さが10μm〜15μm程度の薄いウェブ状材料16を使用することが困難となり、薄くて、しかも導電性皮膜25の密度の高い導電性ウェブ状材料の製造が出来ない。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、従前のこの種導電性ウェブ状材料の製造に於ける上述の如き問題、即ちウェブ状材料16の外表面へ導電性塗布剤20を塗布又はコーティングすることによって導電性皮膜25を形成するようにしているため、▲1▼導電性皮膜25の固着力が比較的弱いこと、▲2▼導電性皮膜25の品質に斑が生じ易いこと、▲3▼薄いウェブ状材料を用いて導電性皮膜の密度を高めることが困難なこと、及び▲4▼製造装置が大形化すること等の問題を解決せんとするものであり、ウェブ状基材を導電性ワニス内へ浸漬してウェブ状基材に導電性ワニスを含浸させることにより、薄いウェブ状基材に高い固着力で品質に斑の無い導電性皮膜を固着した導電性ウェブ状材料を安価に製造できるようにした導電性ウェブ状材料の製造装置と、これを用いた導電性ウェブ状材料の製造方法を提供するものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
近年、導電性ウェブ状材料は、電磁シールドの分野のみならず電池の構成部材としても多用され出している。例えば、携帯用機器の電源として広く用いられているリチウム電池では、負極材として黒鉛(炭素)等を固着させた導電性ウェブ状材料が用いられているが、電池としての用途上の理由から、導電性ウェブ状材料に対する軽量化や製造コストの引下げの要求が厳しくなって来ている。
また、炭素負電極へのリチウムイオン挿入反応を高めるために炭素皮膜を多孔性にしたり、或いは電池の小形化を図るために単位重量当りの充放電容量(mA−H/gr)を高めると云う要求が、強くなって来ている。
【0011】
これ等の要求に対応するためには、基本的には、ウェブ状基材として可能な限り薄い織布又は不織布を用いて導電性ウェブ状材料の軽量化を図ると共に、これに含浸方式によって塗膜剤を含浸させることにより、良質で厚い塗膜剤をウェブ状基材に強固に固着させ、固着炭素密度の高い導電性ウェブ状材料とする必要がある。
【0012】
一方、本願発明者等は、永年に亘って電気材料の一種である所謂プリプレグの製造装置の開発並びに製造を行なっており、当該プリプレグの製造技術を基礎にして含浸方式による導電性ウェブ状材料の製造を着想した。
しかし、ウェブ状基材を薄い織布又は不織布とし且つこれに導電性ワニスを含浸させた場合には、導電性ウェブ状材料の製造作業中に於けるウェブ状基材の切断が避けられず、作業能率が大幅に低下する。
また、含浸タンク内に貯留した導電性ワニスの液面が表面重合により硬化する場合が屡々あり、結果として導電性ウェブ状材料の品質の悪化を招くことになる。
【0013】
そこで、本願発明者等は、上記ウェブ状基材の切断や導電性ワニスの表面硬化等の問題を解決するために数多くの導電性ウェブ状材料の製造並びに製造した導電性ウェブ状材料の品質テストを繰り返して来た。
本願発明は上記の各テスト結果を基にして開発されたものであり、請求項1の発明は、ウェブ状基材の供給装置と、ウェブ状基材に導電性ワニスを含浸させるワニスバット装置と、ワニスバット装置からのワニス含浸基材を乾燥する輻射式ヒータ装置と、輻射式ヒータ装置からのワニスを乾燥させたウェブ状基材を巻取りする導電性ウェブ状材料の巻取装置とを備えた導電性ウェブ状材料の製造装置に於いて、ワニスバット装置に貯留した導電性ワニスの内部にディッピングロールを設けると共に、導電性ワニスの液面上方にメタリングロールを配設し、更に、二酸化炭素供給装置からワニスバット装置の内部へ二酸化炭素を供給して前記メタリングロールを含むワニス液面の上方に二酸化炭素層を形成し、二酸化炭素濃度調整装置により前記二酸化炭素層の二酸化炭素濃度を設定値に保持することを発明の基本構成とするものである。
【0015】
請求項2の発明は、請求項1の発明に於いてワニスバット装置をバット本体とバットカバーとから形成し、バット本体のみを昇降装置により昇降動自在に支持するようにしたものである。
【0016】
請求項3の発明は、請求項1の発明に於いて、ウェブ状基材をガラス繊維又はカーボン繊維又はその複合繊維から成る目付けが8gr〜20gr/m2の織布又は不織布としたものである。
【0017】
請求項4の発明は、請求項1の発明に於いて、導電性ワニスを、導電材がメソカーボンマイクロビーズ又はカーボン粉体、バインダーがエポキシ樹脂又はポリ弗化ビニリデン、溶剤がアセトン、エヌメチルピロリドン若しくはメチルエチルケトンであり、且つ固形成分の75〜97%(重量比)の導電材を含む導電性ワニスとしたものである。
【0018】
請求項5の発明は、請求項1の発明に於いて、輻射式ヒータ装置を加熱温度が100°〜200℃、高さが1000〜5000mmのヒータ装置としたものである。
【0019】
請求項6の発明は、請求項1の発明に於いて、ディッピングロールをマグネット軸受を備えた軽量低磨擦型のディッピングロールとしたものである。
【0020】
請求項7の発明は、ウェブ状基材の供給装置から所定の速度で引き出したウェブ状基材をワニスバット装置に貯留した導電性ワニス内を走行させることにより、当該ウェブ状基材に導電性ワニスを含浸させると共に、前記導電性ワニス液面の上方空間に二酸化炭素を供給して二酸化炭素層を形成し、当該二酸化炭素層内に配設したメタリングロールによりウェブ状基材に含浸した導電性ワニスの厚みを調整すると共に、メタリングロールからのワニス含浸基材を輻射式ヒータ装置内へ導入し、当該輻射式ヒータ装置内で導電性ワニスを乾燥させたウェブ状基材を導電性ウェブ状材料の巻取装置へ連続的に引き出すようにしたことを発明の基本構成とするものである。
【0021】
請求項8の発明は、請求項7の発明に於いて、二酸化炭素層の濃度を連続的に検出し、二酸化炭素濃度を所定値に自動保持するようにしたものである。
【0022】
請求項9の発明は、請求項7の発明に於いて、ウェブ状基材の走行速度を3〜6m/分とし且つ輻射式ヒータ装置の加熱温度を100〜200℃としたものである。
【0023】
請求項10の発明は、請求項8の発明に於いて、ウェブ状基材をガラス繊維又はカーボン繊維又はその複合繊維から成る目付けが8gr〜20gr/m2の織布又は不織布としたものである。
【0024】
請求項11の発明は、請求項7の発明に於いて、導電性ワニスを、導電材がメソカーボンマイクロビーズ又はカーボン粉体、バインダーがエポキシ樹脂又はポリ弗化ビニリデン、溶剤がアセトン、エヌメチルピロリドン若しくはメチルエチルケトンであり、且つ固形成分の75〜97%(重量比)の導電材を含む導電性ワニスとしたものである。
【0025】
【発明の実施形態】
以下、図面に基づいて本発明に係る導電性ウェブ状材料の製造方法について説明をする。
図1は、本方法発明の実施に使用する導電性ウェブ状材料の製造装置の概要を示すものであり、図1に於いて1はウェブ状基材の供給装置、2はワニスバット装置、2aはバット本体、2bはバットカバー、2cは昇降装置、2dは基材入口、2eは基材出口、3はディッピングロール、4はメタリングロール、4aはロール本体、4bはメタリングロール、5は輻射式ヒータ装置、6は二酸化炭素供給装置、6aは二酸化炭素容器、6bは二酸化炭素供給口、6cは電磁弁、7は二酸化炭素濃度調整装置、7aは二酸化炭素検出口、7bは二酸化炭素センサー、7cは二酸化炭素濃度調整・指示盤、8は導電性ウェブ状材料の巻取装置、Aはウェブ状基材、Wは導電性ワニス、WL はワニス液面、B1 は二酸化炭素層、B2 は空気層、Mは導電性ウェブ状材料である。
【0026】
前記ウェブ状基材の供給装置1はウェブ状基材Aを巻取りしたロール、当該ロールの支持装置、ロール駆動装置及びテンション調整装置(図示省略)等から形成されており、従前のプリプレグ製造装置に於けるウェブ状基材の供給装置とほぼ同様のものである。
【0027】
前記ウェブ状基材Aとしては、目付(単位面積当りの重量)が約8〜20gr/m2 の織布又は不織布からなるシートが使用されている。また、織布又は不織布の原料としてはガラス繊維、カーボン繊維及びカーボン繊維と合成樹脂繊維の混合繊維等が使用されているが、金属繊維や天然繊維の使用も可能である。
また、繊維そのものの太さは、1デニール以下の極細繊維を使用するのが望ましい。
【0028】
前記ワニスバット装置2はバット本体2aとバットカバー2bと昇降装置2c等から構成されており、バット本体2aとバットカバー2bとは着脱自在に固定されている。
前記バット本体2aは流体圧シリンダ式の昇降装置2cによって昇降動自在に支持されており、更に、バットカバー2bの方は建物側(図示省略)から吊下げした状態で固定されている。即ち、定常時には、バット本体2aはバットカバー2bへ固定されており、ワニスの補充や保守点検の際にはバットカバー2bとの連結を解いて床面まで下降される。
【0029】
バット本体2aの内部には後述する含浸用の導電性ワニスWが所定量だけ貯留されており、ワニス液面WL が規定位置以下に下がると、導電性ワニスWが補充される。
また、バット本体2aの内部には、直径約100〜250mmφのディッピングロール3と直径約200〜400mmのメタリングロール4等が配設されており、更にバットカバー2bには、後述する二酸化炭素供給口6bと二酸化炭素検出口7aが夫々設けられている。
【0030】
前記導電性ワニスWは導電材W1 とバインダW2 と溶剤W3 との混合体である。
導電材W1 としては、カーボン粉体、MCMB(メソカーボンマイクロビーズ)、熱分解カーボン残査、フエライト粒体(10〜30μm)、金属粉体(10〜30μm)等が使用され、特に電池材料用の導電性ウェブ状材料Mの製造にはMCMBやカーボン粉体の使用が望ましい。
【0031】
また、前記バインダW2 としては、エポキシ樹脂、PVDF(ポリ弗化ビニリデン)、ポリ酢酸ビニル、ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂が用いられる。
【0032】
更に、溶剤W3 としては、炭化水素系のアセトン、NMP(エヌメチルピロリドン)、MEK(メチルエチルケトン)、トルエン、キシレン等が使用される。
尚、ワニス含浸基材A′の乾燥工程に於ける乾燥速度や環境負荷、乾燥後のワニス層の気孔比及び気孔径等の点から考えて、溶剤W3 には沸点の低い(約56〜57℃)アセトンの使用が望ましい。
【0033】
固形成分である導電材W1 とバインダW2 との混合比は、通常重量比でW1 /(W1 +W2 )=75〜97、W2 /(W1 +W2 )=25〜3に選定される。導電材W1 の含有量が高いほど、導電性ウェブ状材料Mの電磁シールド性能等は向上するが、導電材W1 とウェブ状基材Aとの間の固着力が低下し、導電性ウェブ状材料Mの加工性が低下する。
また、導電性ワニスWの粘度は溶剤W3 の添加量によって調整され、通常は固形分(W1 +W2 )と溶剤W3 のW3 /(W1 +W2 )を約20〜50%(重量比)とする。
尚、導電性ワニスWの粘度としては、ウェブ状基材Aにかかる張力負荷を小さくする低粘度の方が良いが、乾燥速度や乾燥後の皮膜の厚み等の点からすれば120〜180センチポアズ(cP)位いの粘度が最適である。
【0034】
前記ディッピングロール3はバットカバー2bから吊り下げ支持されており、バット本体2a内の導電性ワニスW内に浸漬されている。
また、当該ディッピングロール(外径100mm)3は、例えば非接触式のマグネット軸受装置によって支持されたアルミニウム製の所謂軽量・低磨擦のロールであり、極く低い張力でウェブ状基材Aの搬送が可能である。尚、このディッピングロール3には回転駆動装置は設けられていない。
【0035】
前記メタリングロール4は2本のロール本体4a・4aと、各ロール本体4a・4aに設けたドクターブレード4b・4bとから構成されている。そして、当該メタリングロール4は、そのロール本体4a・4aを回転自在に支持する軸受装置(図示省略)をパッドカバー2bから吊り下げすることにより、前記ディッピングロール3と同じ様にバットカバー2bから吊り下げ支持されている。
前記2本のロール本体4a・4aは、両者の間隙Gの調整が可能なように支持されており、また、各ロール本体4a・4aはワニス液面WL上方の二酸化炭素層B1内に設けられている。
前記ロール本体4a・4aの間隙は、30〜600μmに調整可能であり、ウェブ状基材Aに含浸された導電性ワニスWの厚さを調整すると共にその外表面を平滑にする。
尚、この場合の乾燥後の最終製品である導電性ウェブ状材料の目付量は60〜200g/m2となる。
【0036】
前記輻射式ヒータ装置5には公知の輻射式ヒータが使用されており、バットカバー2bの基材出口2eに近接して設けられている。
即ち、当該輻射式ヒータ装置5は有効高さ1000〜5000mm、横幅1000〜1600mmの2枚のヒータ板5a・5aを対向状に配設することにより形成されており、両ヒータ板5a・5aは、その間隙を調整自在に支持固定されている。 またヒータ板5a・5aの熱源としては通常熱媒油が用いられており、80〜200℃の温度でもってワニス含浸基材A′を加熱し、硬化・乾燥する。
【0037】
前記二酸化炭素供給装置6は二酸化炭素容器6aと電磁弁6cと二酸化炭素供給口6b等から形成されており、二酸化炭素容器6aから電磁弁6c、二酸化炭素供給口6aを通してバット本体2aのワニス液面WL 上へ二酸化炭素を供給することにより、ワニス液面WL の上部に所定の濃度の二酸化炭素層B1 を形成する。
【0038】
前記二酸化炭素濃度調整装置7は二酸化炭素検出口7a、二酸化炭素センサー7b、二酸化炭素濃度設定・指示盤7c等から形成されており、二酸化炭素センサー7bにより検出した二酸化炭素濃度信号に基づいて、二酸化炭素濃度設定・指示盤7cを介して電磁弁6cを開閉制御することにより、バット本体2a内の二酸化炭素層B1 の二酸化炭素濃度を、所定値に自動的に保持するものである。
【0039】
前記導電性ウェブ状材料の巻取装置8は輻射式ヒータ装置5を通して乾燥された導電性ウェブ状材料Mを巻取り収容するものであり、巻取りロール、ロール支持装置、張力調整ロール、ロール駆動装置(図示省略)等から形成されている。
【0040】
また、図1に於いては、導電性ウェブ状材料の製造装置の要部のみが示されているが、例えば輻射式ヒータ装置5は竪型の乾燥機本体(図示省略)内に設けられており、導電性ワニスWを含浸せしめたウェブ状基材A′は、乾燥機本体内に設けたヒータ板5a・5aの間を上方へ向けて通過し、天井部で反転されたあと下方向へ向けて走行する。そして、乾燥機本体の下方部から導電性ウェブ状材料の巻取装置8へ引出され、巻き取り収納される。
【0041】
次に、図1の装置を用いた導電性ウェブ状材料Mの製造について説明する。
ウェブ状基材の供給装置1から引き出されたウェブ状基材Aは、ワニスバット装置2の導電性ワニスW内へ引き込まれ、導電性ワニスW内を通過する間にウェブ状基材A内に導電性ワニスWが含浸される。尚、ウェブ状基材Aの走行速度は約3〜6m/分に設定されている。
【0042】
バット本体2a内へは二酸化炭素ガスが供給されており、ワニス液面WL の上方空間には所定の厚みの二酸化炭素層B1 が形成されている。尚、二酸化炭素層B1 の最低の厚みは400〜500mmに選定されており、直径約300mmφのメタリングロール4が二酸化炭素層B1 内に位置するように二酸化炭素の供給が調整されている。
尚、前記二酸化炭素に代えて窒素やその他の不活性ガスを使用することも可能である。
【0043】
即ち、バットカバー2bの側面下方に設けた二酸化炭素検出口7aから本体2a内の二酸化炭素が吸引され、二酸化炭素センサー7bによりその濃度が常時検出されている。
万一、二酸化炭素層B1 の厚さが所定値より低下して、二酸化炭素層B1 上方部の二酸化炭素濃度が減少すると、二酸化炭素濃度・設定・指示盤7cからの信号により電磁弁6cが開放され、バット本体2a内へ二酸化炭素が供給される。これにより、二酸化炭素層B1 内の二酸化炭素濃度が、常時設定値に保持される。
【0044】
二酸化炭素層B1 によってワニス液面WL が常時覆われることにより、空気層B2 とワニス液面WL 間が遮断され、これによって導電性ワニスWの表面の硬化が完全に防止される。
何故なら、導電性ワニスW中に含まれる物質によっては、空気との接触によってワニス液面近傍のワニスの表面上に皮膜が形成され、その結果、ウェブ状基材A上へのワニス塗膜の均一な形成が阻害されるからである。
また、二酸化炭素は、導電性ワニスW中の溶媒(例えばアセトンなどの有機溶剤)に溶け込み易いので、導電性ワニスWを含浸せしめたウェブ状基材Aの表面などからも吸収され、ウェブ状基材Aの繊維中にトラップされている空気の微細な泡を追い出して、導電性ワニスWの含浸密度を向上させることが出来る。
尚、このような作用効果は二酸化炭素のみに見られるものであり、窒素やその他の不活性ガスでは得られないものである。
【0045】
導電性ワニスW内を通過することによりウェブ状基材Aに含浸された導電性ワニスの量は、ロール本体4a・4aの間隙を通ることにより調整され、余分な導電性ワニスWは矢印方向へ3〜6m/分の周速度で回転するロール本体4a・4aの外表面へ付着する。そして、ロール本体4a・4aの外表面へ付着した導電性ワニスWはドクターブレード4bにより剥離され、除去される。
尚、ロール本体4a・4aは二酸化炭素層B1 内に配置されているため、ロール外表面に付着した導電性ワニスの硬化の問題は全く起らない。
【0046】
導電性ワニスWが含浸されたワニス含浸基材A′は引き続き直ちに輻射式ヒータ装置5内へ移行され、約3〜6m/分の速度で長さ1000〜5000mm、温度100°〜200℃のヒータ板5a・5a間を走行する間に、含浸された導電性ワニスW中の溶剤W3 が気化すると共に、導電材W1 とバインダW2 との固形成分が固化し、最終製品である導電性ウェブ状材料Mが形成される。
尚、導電性ウェブ状材料Mは通常60〜200g/m2 の目付量に仕上げられ、前述の通りその引張り張力を適宜に調整しつつ、導電性ウェブ状材料の巻取装置8へ連続的に巻き取られて行く。
【0047】
(実施例1)
導電材W1 をMCMB(メソカーボンマイクロビーズ)、バインダーW2 をPUDF(ポリ弗化ビニリデン)、溶剤W3 をNMP(エヌメチルピロリドン)とし、W1 /W2 =97/3(重量比)の割合で混合すると共に、固形分(W1 +W2 )と溶剤W3 の比をW3 /W1 +W2 (重量比)=30/100として、常温下で機械的に混合して導電性ワニスWを形成した。
また、ウェブ状基材Aとしてガラス繊維から成る横幅約600mmの不織布(目付10gr/m2 )を用い、これを約5m/分で走行させると共に、ロール本体4a・4a間の間隙を約300μmとした。
更に、輻射式ヒータ装置5の乾燥温度を約110℃とし、且つ輻射式ヒータ装置5の高さは4000mmであった。
また、二酸化炭素層B1 の厚さは約500mm、バット本体2aの深さは400mm、ワニス液面WL の高さは250mmである。
【0048】
上記製造条件下で導電性ウェブ状材料Mを連続的に製作したとき、当該導電性ウェブ状材料Mの仕上り目付量は約100g/m2 であった。
【0049】
この導電性ウェブ状材料Mを用いて電磁シールド性の試験を行なったとき、電界強度で30〜35dBの減衰率を得ることが出来た。
また、この導電性ウェブ状材料Mを用いてリチウム電池の負極を形成し、その充放電容量を検査したしたところ280〜300mA−H/grの性能が得られた。
【0050】
(実施例2)
実施例1に於いて、導電材W1 とバインダーW2 との比W1 /W2 を75/25とし、その他は実施例1の場合と同一にして導電性ウェブ状材料Mを製造した。
第2実施例の場合には、導電性皮膜とウェブ状基材Aとの固着力はより一層強固になったが、電磁シールド性は電界強度で25〜30dBの減衰率で、また充放電容量は200〜250mA−H/grに低下した。
【0051】
【発明の効果】
本発明に於いては、ワニスバット装置内の導電性ワニスの上方に二酸化炭素層を形成すると共に、この二酸化炭素層内にディッピングロールを設ける構成としているため、ワニス液面と空気との接触によるワニスの硬化が防止でき、ワニスの表面重合による皮膜硬化が生じない。
その結果、極く薄いガラス繊維やカーボン繊維から成る織布や不織布製のウェブ状基材であっても、円滑に導電性ワニス内を走行させてこれにワニスを含浸させることができると共に、無理な引っ張りにより切断等を生ずることなしに高能率でウェブ状基材を走行させることができ、本含浸方式によってより経済的に安価に、しかも高品質の導電性皮膜を有する導電性ウェブ状材料を製造することができる。
【0052】
また、導電性ワニスをウェブ状基材に含浸させる構成としているため、従前の塗布式(又はコーティング式)の導電性ウェブ状材料の製造に比較して、より固着力の高い皮膜が得られると共に、固着力が高いために、導電性皮膜自体の目付量を多くしても皮膜の脱落を生ずることがなく、導電性ウェブ状材料の加工性が大幅に向上する。
【0053】
更に、目付量の多いウェブ状基材に導電性ワニスを含浸させているため、薄いウェブ状基材により厚い導電性皮膜を形成することができ、しかも固着力が高いために導電性固形物(カーボン)の含有量をバインダーの含有量に対して大幅に高めることができる。
その結果、導電性ウェブ状材料の電磁シールド効果や蓄電能力が、従前の導電性ウェブ状材料に比較して大幅に向上する。
本発明は上述の通り優れた実用的効用を有するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る導電性ウェブ状材料製造装置の要部を示す断面概要図である。
【図2】従前の導電性ウェブ状材料製造装置の説明図である。
【符号の簡単な説明】
Aはウェブ状基材、A′はワニス含浸基材、Wは導電性ワニス、WL はワニス液面、B1 は二酸化炭素層、B2 は空気層、Mは導電性ウェブ状材料、1はウェブ状基材の供給装置、2はワニスバット装置、2aはバット本体、2bはバットカバー、2cは昇降装置、2dは基材入口、2eは基材出口、3はディッピングロール、4はメタリングロール、4aはロール本体、4bはドクターブレード、5は輻射式ヒータ装置、5aはヒータ板、6は二酸化炭素供給装置、6aは二酸化炭素容器、6bは二酸化炭素供給口、6cは電磁弁、7は二酸化炭素濃度調整装置、7aは二酸化炭素検出口、7bは二酸化炭素センサー、7cは二酸化炭素濃度設定・指示盤、8は導電性ウェブ状材料の巻取装置。
Claims (11)
- ウェブ状基材の供給装置と,ウェブ状基材に導電性ワニスを含浸させるワニスバット装置と,ワニスバット装置からのワニス含浸基材を乾燥する輻射式ヒータ装置と,輻射式ヒータ装置からのワニスを乾燥させたウェブ状基材を巻取りする導電性ウェブ状材料の巻取装置とを備えた導電性ウェブ状材料の製造装置に於いて、前記ワニスバット装置に貯留した導電性ワニスの内部にディッピングロールを設けると共に、導電性ワニスの液面上方にメタリングロールを配設し、更に、二酸化炭素供給装置からワニスバット装置の内部へ二酸化炭素を供給して前記メタリングロールを含むワニス液面の上方に二酸化炭素層を形成し、二酸化炭素濃度調整装置により前記二酸化炭素層の二酸化炭素濃度を設定値に保持する構成とした導電性ウェブ状材料の製造装置。
- ワニスバット装置をバット本体とバットカバーとから形成し、バット本体のみを昇降装置により昇降動自在に支持する構成とした請求項1に記載の導電性ウェブ状材料の製造装置。
- ウェブ状基材をガラス繊維又はカーボン繊維又はその複合繊維から成る目付けが8gr〜20gr/m2の織布又は不織布とした請求項1に記載の導電性ウェブ状材料の製造装置。
- 導電性ワニスを、導電材がメソカーボンマイクロビーズ又はカーボン粉体、バインダーがエポキシ樹脂又はポリ弗化ビニリデン、溶剤がアセトン、エヌメチルピロリドン若しくはメチルエチルケトンであり、且つ固形成分の75〜97%(重量比)の導電材を含む導電性ワニスとした請求項1に記載の導電性ウェブ状材料の製造装置。
- 輻射式ヒータ装置を、加熱温度が100°〜200℃、高さが1000〜5000mmの輻射式ヒータ装置とした請求項1に記載の導電性ウェブ状材料の製造装置。
- ディッピングロールを、マグネット軸受を備えた軽量低磨擦型のディッピングロールとした請求項1に記載の導電性ウェブ状材料の製造装置。
- ウェブ状基材の供給装置から所定の速度で引き出したウェブ状基材をワニスバット装置に貯留した導電性ワニス内を走行させることにより、当該ウェブ状基材に導電性ワニスを含浸させると共に、前記導電性ワニス液面の上方空間に二酸化炭素を供給して二酸化炭素層を形成し、当該二酸化炭素層内に配設したメタリングロールによりウェブ状基材に含浸した導電性ワニスの厚みを調整すると共に、メタリングロールからのワニス含浸基材を輻射式ヒータ装置内へ導入し、当該輻射式ヒータ装置内で導電性ワニスを乾燥させたウェブ状基材を導電性ウェブ状材料の巻取装置へ連続的に引き出す構成としたことを特徴とする導電性ウェブ状材料の製造方法。
- 二酸化炭素層の濃度を連続的に検出し、濃度を所定値に保持するようにした請求項7に記載の導電性ウェブ状材料の製造方法。
- ウェブ状基材の走行速度を3〜6m/分とし且つ輻射式ヒータ装置の加熱温度を100〜200℃、高さ寸法を1000〜5000mmとするようにした請求項7に記載の導電性ウェブ状材料の製造方法。
- ウェブ状基材をガラス繊維又はカーボン繊維又はその複合繊維から成る目付けが8gr〜20gr/m2の織布又は不織布とするようにした請求項7に記載の導電性ウェブ状材料の製造方法。
- 導電性ワニスを、導電材がメソカーボンマイクロビーズ又はカーボン粉体、バインダーがエポキシ樹脂又はポリ弗化ビニリデン、溶剤がアセトン又はエヌメチルピロリドン若しくはメチルエチルケトンであり、且つ固形成分の75〜97%(重量比)の導電材を含む導電性ワニスとした請求項7に記載の導電性ウェブ状材料の製造方法。
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