JP3971023B2 - M2測定装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザビームの品質を表すパラメータであるM2値を測定するM2測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
レーザビームの品質を表すパラメータとしてM2値がある。これは、レーザビームの強度分布の理想的なガウス分布からのずれを表すパラメータであり、レーザ光源のスペックの一つとして表示が求められるようになってきている。
【0003】
このM2値を測定する装置としては、コヒーレント社のモードマスタやキノ・メレスグリオ社のウェーブアライザーがある。
【0004】
このうち、モードマスタは、図2に示されるように、被測定レーザ光の光軸上に光軸方向に移動可能なレンズ101、102と、ナイフエッジ103を有し、モーター105によりこの光軸に直交する軸を中心として回転するドラム104と、光検出器106とを配置して構成されている。
【0005】
そして、レンズ101と102を光軸方向に移動させ、被測定レーザ光の集光位置をずらしつつ、モータ105によりドラム104を回転させ、集光位置にナイフエッジ103を通過させる。こうして光検出器106により被測定レーザ光の二次元強度分布であるプロファイルを求め、さらにこのプロファイルからM2値を求めている。
【0006】
一方、ウェーブアライザーは、図3に示されるように、シェアリング干渉計を応用したものであり、シェアプレート110と、ミラー111a、bと2台の干渉縞撮影用のCCDカメラ112a、bと、駆動機構113を備え、電源114と、コンピュータ115に接続されている。
【0007】
そして、シェアプレート110を回転させて被測定レーザ光に対して1波長の光路差スキャンニングをつくりだし、CCDカメラ112a、bを操作して光路差1/4波長の4つの連続的なフリンジイメージを撮像する。これらのフリンジイメージを基にして被測定光のビームの強度分布、波面形状等をコンピュータ115により解析し、M2値を求めている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
上記いずれの装置も回転部分を含むため、被測定レーザ光との光軸の調整が難しい。また、モードマスタは、レーザビーム内の強度分布を走査して求めており、一方、ウェーブアライザーは、干渉を利用しているため、どちらの装置を用いた場合でもリアルタイムでビームの特性を測定することはできない。特に、いずれの装置でも時間分解を必要とするから、パルスレーザの特性を測定することは不可能であり、M2値を測定することができない。
【0009】
そこで、本発明は、上記の問題点に鑑みて、パルスレーザのM2値を測定可能で光軸の調整が容易なM2測定装置を提供することを課題とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明のM2測定装置は、(1)測定対象レーザビームの光軸上にこの光軸に沿って移動可能に配置され、レーザビームを集光する無収差の集光レンズと、(2)この集光レンズをレーザビームの光軸に沿って移動させるレンズ駆動手段と、(3)集光レンズの後ろ側焦点面より後方に配置され、入射光を集光する対物レンズと、(4)対物レンズの後ろ側焦点面より後方に配置され、入射光を第1と第2の方向に分岐して出射する光分岐手段と、(5)第1の方向の光軸上に配置され、対物レンズの後ろ側焦点面の光像を拡大あるいは縮小若しくは等倍で結像面に結像するリレーレンズと、(6)リレーレンズの結像面に配置され、結像画像を撮像する第1の撮像素子と、(7)第2の方向の光軸上に配置され、集光レンズにより集光されたビーム像を拡大して投影する拡大結像レンズと、(8)拡大結像レンズの結像面に配置され、結像画像を撮像する第2の撮像素子と、(9)第1の撮像素子で撮像した画像を基にしてビームの拡がり角度を検出するとともに、レンズ駆動手段を制御して集光レンズを移動させながら第2の撮像素子で撮像した画像を基にしてそれぞれの位置におけるビーム径を測定することで最小ビーム径となるビームウェスト位置のビーム径を求め、ビームの拡がり角度とビームウェスト位置のビーム径とを基にしてM2値を算出する制御処理部と、を備えていることを特徴とする。
【0011】
これによれば、被測定レーザビームは、集光レンズで集光されて、特定の位置にスポットを形成したうえ、このビームはさらに拡散して対物レンズに入射する。対物レンズに入射したビームは、再度集束されて後方へ出射され、その後ろ側焦点面に集光レンズの出射光角に対応した角強度分布像を形成する。この角強度分布像を含むビームは、さらに光分岐手段に送られて2方向に分割される。このうち第1の方向には、リレーレンズが配置され、上述の対物レンズ後ろ側焦点面に形成された角強度分布像と同一の像が第1の撮像素子の入射面に投影され、撮像される。一方、第2の方向には、拡大結像レンズが配置されており、対物レンズの前方で集光レンズにより集光されたスポット像を拡大して第2の撮像素子の入射面に投影している。
【0012】
ここで、集光レンズを光軸方向に移動させると、集光位置が移動し、そのスポット径も変化する。このうち最小のスポット径がビームウェスト径である。これを第2の撮像素子の撮像データから求める。一方、第1の撮像素子には、対物レンズへの入射角度、つまりビーム拡がり角度に応じた角強度分布像が投影されているから、ビーム拡がり角度を求めることができる。制御処理部は、このビーム拡がり角度とビームウェスト径からM2値を求める。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面を参照して説明する。
【0014】
図1は、本発明に係るM2測定装置の全体構造を示す概略構成図である。レーザ光源20から照射される被測定光であるレーザビームの光路上に、無収差の集光レンズ1が配置されており、この集光レンズ1は、一軸ステージ2により、レーザビームの光軸に沿って移動可能である。この集光レンズ1によるレーザビームの集光位置4より後方に対物レンズ3が配置されており、その後ろ側焦点面5より後方に入射光を2方向の光路に分岐して出力するハーフミラー12が配置されている。
【0015】
ハーフミラー12により分岐された光路のうち一方には、リレーレンズ7が配置されており、このリレーレンズ7の結像面には、拡がり角計測用の二次元画像の撮像素子8が配置されている。
【0016】
ハーフミラー12により分岐された他方の光路には、拡大結像レンズ6が配置されており、その結像面には集光径計測用の二次元画像の撮像素子11が配置されている。各撮像素子8、11で撮像した画像信号は、信号処理部10に送られ、処理される。信号処理部10はまた、ステージ駆動装置9を制御して、一軸ステージ2を駆動する。
【0017】
続いて、本装置の動作を説明する。一軸ステージ2を駆動させて集光レンズ1を所定の位置に配置する。レーザ光源20から発せられたレーザビームは集光レンズ1により集光されて、ある特定の集光位置4で集光されたあと、再び拡散して対物レンズ3に入射する。対物レンズ3は、この拡散光束の拡がり角度に対応する像を後ろ側焦点面5に結像する。
【0018】
この光はさらにハーフミラー12により2方向に分岐される。分岐された光のうち一方はリレーレンズ7に導かれ、撮像素子8の受光面上に対物レンズ3の後ろ側焦点面に結像された像と同じ像を結像する。これにより、ビームの拡がり角度に対応した画像が撮像されることになる。この画像の大きさとビームの拡がり角度の対応は、対物レンズの光学系により決まるものであり、予めその対応を求めておけば、簡単にビームの拡がり角を求めることができる。
【0019】
また、ハーフミラー12により分岐された他方の光は、拡大結像レンズ6に導かれる。拡大結像レンズ6は、対物レンズ3と組み合わせることにより集光位置4のスポットの像を拡大して撮像素子11の受光面上に投影している。したがって、撮像素子11では、集光位置4のスポット像に対応する画像が撮像される。
【0020】
ステージ駆動装置9により一軸ステージ2を制御して集光レンズ1を光軸方向に移動させると、集光位置4が変化する。これに伴い、集光位置4におけるスポット径も変化する。しかし、対物レンズ3の後ろ側焦点面5に結像される像の大きさは変化しない。このため、撮像素子8で撮像される画像の大きさは一定となる。一方、撮像素子11で撮像される画像の大きさはスポット径の変化に応じて変化する。集光位置4がビームウェスト位置に合致したとき、スポット径は最小となる。逆に集光位置4をずらしていったときに観測される最小スポット径がビームウェスト位置のスポット径であるビームウェスト径である。こうしてビームウェスト径を求めることができる。
【0021】
信号処理部10は、このようにしてビームウェスト径とビーム拡がり角度を求め、これらの値を基にして、次式によりM2値を求める。
【0022】
【数1】
ここで、Θはビーム拡がり角度、w0が求めたビームウェスト直径、λが被測定レーザ光の波長である。
【0023】
このように、本発明によれば、ほぼリアルタイムでビームの特性値を測定することができるので、被測定レーザ光がパルスレーザの場合でも同様の手法でM2値を測定することができる。
【0024】
また、本装置とレーザ光源の光軸が合っていない場合、レーザ光の光軸が装置の光軸からシフトしている場合は、撮像素子11への入射光がシフトする。一方、角度がずれている場合は、撮像素子8への入射光がシフトする。したがって、撮像素子8、11の出力画像を基にして簡単に光軸を調整することができる。本装置は、回転部分を含まないため、集光レンズ1を動かす前に一度光軸を調整すれば測定中に光軸調整を行う必要はない。
【0025】
さらに、撮像素子11には、集光位置4におけるビームの像が拡大投影されるから、ビームの強度分布もあわせて確認することができる。
【0026】
【発明の効果】
以上、説明したように本発明によれば、ビームウェスト径とビーム拡がり角度を同時に計測できるので、迅速かつ容易にM2値を求めることができる。特に、パルスレーザ光についても測定が可能である。また、光軸のずれを容易に確認できるので光軸調整も容易である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のM2測定装置を示す全体概略図である。
【図2】従来のM2測定装置を示す概略図である。
【図3】従来の別のM2測定装置を示す概略図である。
【符号の説明】
1…集光レンズ、2…一軸ステージ、3…対物レンズ、4…集光位置、5…後ろ側焦点面、6…拡大結像レンズ、7…リレーレンズ、8、11…撮像素子、9…ステージ駆動装置、10…信号処理部、12…ハーフミラー、20…レーザ光源。
Claims (1)
- レーザビームの品質を表すパラメータであるM2値を測定するM2測定装置であって、
測定対象レーザビームの光軸上にこの光軸に沿って移動可能に配置され、前記レーザビームを集光する無収差の集光レンズと、
前記集光レンズを前記レーザビームの光軸に沿って移動させるレンズ駆動手段と、
前記集光レンズの後ろ側焦点面より後方に配置され、入射光を集光する対物レンズと、
前記対物レンズの後ろ側焦点面より後方に配置され、入射光を第1と第2の方向に分岐して出射する光分岐手段と、
前記第1の方向の光軸上に配置され、前記対物レンズの後ろ側焦点面の光像を拡大あるいは縮小若しくは等倍で結像面に結像するリレーレンズと、
前記リレーレンズの結像面に配置され、結像画像を撮像する第1の撮像素子と、
前記第2の方向の光軸上に配置され、前記集光レンズにより集光されたビーム像を拡大して投影する拡大結像レンズと、
前記拡大結像レンズの結像面に配置され、結像画像を撮像する第2の撮像素子と、
第1の撮像素子で撮像した画像を基にしてビームの拡がり角度を検出するとともに、前記レンズ駆動手段を制御して前記集光レンズを移動させながら前記第2の撮像素子で撮像した画像を基にしてそれぞれの位置におけるビーム径を測定することで最小ビーム径となるビームウェスト位置のビーム径を求め、前記ビームの拡がり角度と前記ビームウェスト位置のビーム径とを基にしてM2値を算出する制御演算処理部と、
を備えていることを特徴とするM2測定装置。
Priority Applications (1)
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JP08639298A JP3971023B2 (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | M2測定装置 |
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