JP3955822B2 - 非晶質金属合金を調整可能な低密度雰囲気中で鋳造する装置および方法 - Google Patents
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Description
発明の背景
1つの面において、連続金属ストリップを鋳造する方法が開示される。焼入表面を有するチル体(chill body)がある選択された速さで動き、そしてストリップを形成する溶融金属の流れが焼入表面の焼入領域上に配置される。焼入領域から上流で、その焼入領域に隣接する位置にある枯渇領域に還元性ガスが与えられる。還元性ガスは、互いにバッフルで分離されていることができる多重ノズルによって供給される。バルブが各ノズルを通るガスの流れを独立に制御する。還元性ガスは発熱反応せしめられてそれらの密度を下げ、そして各ゾーンの枯渇領域内に独立に低密度還元性雰囲気を与える。1つの好ましい態様において、金属ストリップは非晶質金属合金である。
本発明は、次の詳細な説明および添付図面を参照するとき、さらに完全に理解され、そしてさらなる利点が明らかになるであろう。
本発明の目的のために、明細書および特許請求の範囲で使用される「ストリップ」は、横方向寸法が長さよりはるかに小さい細長体であると理解されるべきである。かくして、用語「ストリップ」は規則断面および不規則断面の両者のワイヤー、リボン、シート等を包含することを理解すべきである。ストリップの高さまたは厚さは、特に平面ストリップ(即ち、リボン、箔、テープ等々)のときは、通常その幅より小さく、そしてその幅は典型的には長さよりもはるかに小さい。
本発明による鋳造装置系を、鋳造しながらリボンの厚さ分布に対するその鋳造装置系の効果を調べた。
図17Aは、内向き側へのガス流を増加させ、かつ外向き側へのガス流を減少させようにガス流量を調整した後に得られた3つのx−線厚さ分布走査図を示す。これは、より薄い外向き側とより厚い内向き側を有する僅かなくさび型分布を誘導した。この効果は外向き側でより顕著であった。LFは0.83、TVは1.31であった。
図18Aは、外向き側へのガス流を増加させ、かつ内向き側へのガス流を減少させようにガス流量を調整した後に得られた3つの厚さ分布走査図を示す。これは、より厚い外向き側とより薄い内向き側を有する僅かなくさび型分布を誘導した。実測LFは0.84、実測TVは1.16であった。
本発明による技術の実行は、皿型分布、D−分布およびくさび型分布を含めて鋳造において今日見いだされる幾つかの一般的な分布を誘導し、続いてそれらを校正する際に成功を収めることが確認された;あるものは他のものより有意に良好であった。この影響の効果は一般に非常に急速で、定常状態の状態に非常に速やかに達した。この影響の効果も可逆的であることが確認された。
Claims (33)
- 金属ストリップを鋳造する方法であって:
溶融金属を焼入表面の焼入領域上に堆積させてある一定の幅を有するストリップを形成し;
上記焼入領域から上流で、その焼入領域に隣接する位置にある上記焼入表面の枯渇領域中で、上記ストリップの幅を横切っている複数の個別の区画にガスを供給し;
上記供給ガスを各個別区画内で発熱反応させて上記枯渇領域内に1リットル当たり1グラム未満の密度を有する雰囲気を与え;そして
上記反応を各個別区画内で独立に制御する
工程を含む上記の方法。 - ストリップの厚さの均一性をセンサーで測定し、そして該測定に基づいて個別区画の各々に対するガスの供給を調整する工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- センサーがx−線装置である、請求項2に記載の方法。
- ガスが還元性火炎雰囲気である、請求項1に記載の方法。
- 還元火炎雰囲気の火炎温度が溶融金属の温度よりも低い、請求項4に記載の方法。
- ガス供給が、ガスを、焼入表面と接線をなすように規定された、溶融金属が上記焼入表面上に堆積される点において上記焼入表面と交差する仮想線から0〜90°の角度で上記焼入表面の方に向けることによって成し遂げられる、請求項1に記載の方法。
- 角度が20〜70°である、請求項6に記載の方法。
- 複数の個別区画が1つまたは2つ以上のバッフルの位置に対応する、請求項1に記載の方法。
- 枯渇領域内の雰囲気が1リットル当たり0.5グラム未満の密度を有する、請求項1に記載の方法。
- ガスが一酸化炭素である、請求項1に記載の方法。
- 金属ストリップが非晶質金属のストリップである、請求項1に記載の方法。
- 供給ガスがディフューザープレートを通して流れる、請求項1に記載の方法。
- 供給ガスを発熱反応させることが少なくとも800Kの温度で成し遂げられる、請求項1に記載の方法。
- 供給ガスを発熱反応させることが少なくとも1200Kの温度で成し遂げられる、請求項1に記載の方法。
- 鋳造表面;
溶融金属供給源;
鋳造ノズル;
還元性ガス供給源;
複数の独立に制御可能なガスノズル;および
複数のガス流制御装置
を含む金属ストリップの鋳造装置系であって、
溶融金属を上記溶融金属供給源から上記鋳造表面の焼入領域上に堆積させてある一定の幅を有するストリップを形成し;
上記焼入表面の枯渇領域中で、上記ストリップの幅を横切って延在する複数の個別の区画に還元性ガスを上記還元性ガス供給源から供給し、ここで該枯渇領域は上記焼入領域から上流で、その焼入領域に隣接する位置にあり;
上記還元性ガスを各個別区画内で発熱反応させて上記枯渇領域内に還元性雰囲気を与え、ここで該還元性ガスは1リットル当たり1グラム未満の密度を有し;そして
上記反応を各個別区画中で独立に制御する
ことができるようにされている上記の鋳造装置系。 - ストリップの厚さの均一性を監視し、その監視に基づいて還元性ガスの供給を調整することができるようにされている厚さセンサーをさらに含む、請求項16に記載の装置系。
- 厚さセンサーの出力が複数のガス流制御装置を修正できるようにされている、請求項17に記載の装置系。
- 厚さセンサーがx−線装置である、請求項17に記載の装置系。
- 枯渇領域内の雰囲気の温度が少なくとも800Kである請求項16に記載の装置系。
- 枯渇領域内の雰囲気の温度が少なくとも1200Kである、請求項16に記載の装置系。
- さらに、焼入表面と接線をなすように規定された、溶融金属がその焼入表面上に堆積される点において上記焼入表面と交差する仮想線から0〜90°の角度で上記焼入表面において向けられた還元性ガスを供給できるようにされている請求項16に記載の装置系。
- 角度が20〜70°である、請求項22に記載の装置系。
- 複数の独立に制御可能なガスノズルがガスをバッフルによって互いに分離されている複数のチャンバーの中に供給する、請求項16に記載の装置系。
- 枯渇領域内の雰囲気が1リットル当たり0.5グラム未満の密度を有する、請求項16に記載の装置系。
- 還元性ガスが一酸化炭素である、請求項16に記載の装置系。
- 金属ストリップが非晶質金属のストリップである、請求項16に記載の装置系。
- 金属ストリップを鋳造する装置において:
1つの出口スロットを有するケーシング;
上記ケーシング内に個別の区画室を画成する複数のバッフル;および
各個別区画室の中に延在するガスノズル
を含む装置を含んでいることを改善点とする上記の装置。 - ガスノズルを通して流れるガスに点火する点火装置をさらに含む、請求項29に記載の装置。
- 少なくとも1つのディフューザープレートをさらに含む、請求項29に記載の装置。
- 少なくとも1つの個別区画室がディフューザープレートを含んでいる、請求項31に記載の装置。
- 各個別区画室がディフューザープレートを含んでいる、請求項31に記載の装置。
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