JP3955028B2 - Waveguide / conductive structure - Google Patents
Waveguide / conductive structure Download PDFInfo
- Publication number
- JP3955028B2 JP3955028B2 JP2004058117A JP2004058117A JP3955028B2 JP 3955028 B2 JP3955028 B2 JP 3955028B2 JP 2004058117 A JP2004058117 A JP 2004058117A JP 2004058117 A JP2004058117 A JP 2004058117A JP 3955028 B2 JP3955028 B2 JP 3955028B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waveguide
- substrate
- plating
- base
- conductive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Waveguides (AREA)
Description
本発明は、電波導波管、空洞共振器などの導波構造物、電気導電回路などの導電構造物、又は導波機能と導電機能が混在する構造物(コンポネント)(以下、これを総称して「導波・導電構造物」という。)に関する。 The present invention relates to a waveguide structure such as a radio wave waveguide and a cavity resonator, a conductive structure such as an electric conductive circuit, or a structure (component) in which a waveguide function and a conductive function are mixed (hereinafter collectively referred to as “component”). (Referred to as “waveguide / conductive structure”).
従来から電波導波管は金属パイプを複雑に屈成加工して製作しているが、精密な加工が困難であるため、最近の従来例では金属板に溝状の導波路を穿設加工し、この金属板に蓋を載せてボルトで締結して導波管を形成するもの、他の従来例では熱可塑性合成樹脂板に溝状の導波路を射出成形し、この樹脂板に蓋を載せてボルトで締結して導波管を形成するもの
そこで、本発明が解決しようとする問題点は、合成樹脂の一体成形では型中子が抜けないような複雑な形状のものであっても容易に成形することができ、その構造物は小型化し、且つ完全シームレス化することができ、電波の漏洩がなく高性能化した導波・導電構造物を容易に且つ精密に成形することにある。 Therefore, the problem to be solved by the present invention is that even if the mold core has a complicated shape that does not come off in the synthetic resin integral molding, it can be easily molded, and the structure is downsized. In addition, it is possible to easily and precisely form a waveguide / conductive structure that can be completely seamless and that has no leakage of radio waves and has high performance.
本発明に係る導波構造物の第1の特徴は、第1基体(1)と第2基体(2)とからなり、上記両基体は、熱可塑性合成樹脂を素材とするもので、上記両基体の少なくともいずれか一方(2)には溝状の導波路が形成してあり、他方の基体を溶着させることによりシームレス化した導波管(21)(22)が形成してあり、上記導波管の内周面にはめっき(210)(220)が施してあるところにある。
この導波構造物の第2の特徴は、上記導波管(21)(22)は複数であり、この導波管の間にダミーの導波管(23)が設けてあるところにある。
この導波構造物の第3の特徴は、上記両基体の一方(1)は光透過性のよい色調であり、他方(2)は光吸収性のよい色調であり、この光透過性のよい基体側からレーザー光(a)を照射することにより上記両基体を溶着してあるところにある。
この導波構造物の第4の特徴は、上記めっき(210)(220)(230)は二重層であるところにある。
A first feature of the waveguide structure according to the present invention includes a first substrate (1) and a second substrate (2), both of which are made of a thermoplastic synthetic resin. A groove-shaped waveguide is formed on at least one of the substrates (2), and a waveguide (21) (22) made seamless by welding the other substrate is formed. The inner peripheral surface of the wave tube is plated (210) (220).
The second feature of the waveguide structure is that a plurality of the waveguides (21) and (22) are provided, and a dummy waveguide (23) is provided between the waveguides.
The third feature of the waveguide structure is that one of the two substrates (1) has a color tone with good light transmission, and the other (2) has a color tone with good light absorption. The two substrates are welded by irradiating laser beam (a) from the substrate side.
The fourth feature of this waveguide structure is that the plating (210) (220) (230) is a double layer.
本発明に係る導電構造物の第5の特徴は、第1基体(3)と第2基体(4)とからなり、上記両基体は、熱可塑性合成樹脂を素材とするもので、上記第1基体(3)にはスルーホール(31)(32)が形成してあり、上記両基体の少なくともいずれか一方(4)には溝状の導電路が形成してあり、他方(3)の基体を溶着させることによりシームレス化した導電管(41)(42)(43)が形成してあり、上記スルーホールは上記導電管に連通しており、上記スルーホール及び上記導電管の内周面にはめっき(310)(320)(410)(420)(430)が施してあり、このスルーホールと上記導電管のめっきは電気的に導通しているところにある。
導電構造物の第6の特徴は、第1基体には、上記スルーホール(31)(32)に導通している所定の回路パターン(310)(320)が形成してあるところにある。
導電構造物の第7の特徴は、第2基体の外周面に所定の回路パターンが形成してあるところにある。
上記導電構造物の第8の特徴は、上記両基体の一方(3)光透過性のよい色調であり、他方の基体(4)は光吸収性のよい色調であり、この光透過性のよい基体側からレーザー光(a)することにより上記両基体を溶着してあるところにある。
A fifth feature of the conductive structure according to the present invention includes a first substrate (3) and a second substrate (4), and both the substrates are made of a thermoplastic synthetic resin. The substrate (3) has through holes (31) and (32), and at least one of the two substrates (4) has a groove-shaped conductive path, and the other (3) substrate. Conductive tubes (41), (42), and (43) are formed by welding, and the through holes communicate with the conductive tubes, and the through holes and the inner peripheral surface of the conductive tubes are formed. Is plated (310) (320) (410) (420) (430), and the plating of the through hole and the conductive tube is in electrical conduction.
A sixth feature of the conductive structure is that predetermined circuit patterns (310) and (320) that are electrically connected to the through holes (31) and (32) are formed on the first base.
A seventh feature of the conductive structure is that a predetermined circuit pattern is formed on the outer peripheral surface of the second base.
The eighth feature of the conductive structure is that one of the substrates (3) has a color tone with good light transmission, and the other substrate (4) has a color tone with good light absorption, and this light transmission property is good. The two substrates are welded by laser light (a) from the substrate side.
本発明の係る導波導電構造物の第9の特徴は、第1基体(3)と第2基体(5)とからなり、上記両基体は、熱可塑性合成樹脂を素材とするもので、上記第1基体(3)にはスルーホール(31)(32)が形成してあり、上記両基体の少なくともいずれか一方(5)には溝状の導電路が形成してあり、他方(3)の基体を溶着させることによりシームレス化した導電管(51)(52)が形成してあり、上記スルーホールは上記導電管に連通しており、上記両基体の少なくともいずれか一方(5)には溝状の導波路が形成してあり、他方の基体を接合させることにより導波管(53)が形成してあり、上記導波管にはめっき(530)が施してあり、上記スルーホール(31)(32)と上記導電管(51)(52)の内周面には、それぞれめっき(310)(320)(510)(520)が施してあり、上記スルーホールのめっき(310)(320)と上記導電管のめっき(510)(520)とは電気的に導通しているところにある。
上記導波導電構造物の第10の特徴は、上記両基体の一方(3)は光透過性のよい色調であり、他方(5)は光吸収性のよい色調であり、この光透過性のよい基体側からレーザー光を照射することにより上記両基体を溶着してあるところにある。
A ninth feature of the waveguide conductive structure according to the present invention includes a first substrate (3) and a second substrate (5). Both the substrates are made of a thermoplastic synthetic resin. The first substrate (3) has through holes (31) and (32), and at least one of the two substrates (5) has a groove-like conductive path, and the other (3) Conductive tubes (51) and (52) that are made seamless by welding the bases of the above are formed, the through holes communicate with the conductive tubes, and at least one of the two bases (5) A groove-shaped waveguide is formed, and a waveguide (53) is formed by bonding the other substrate, and the waveguide is plated (530), and the through hole ( (31) (32) and the inner peripheral surface of the conductive tube (51) (52) are plated (310) (320) (510) (520), respectively, the plating of the through hole (310) ( 320) and the above conductive tube The plating (510) (520) is in place which is electrically conductive.
The tenth feature of the waveguide conductive structure is that one of the substrates (3) has a color tone with good light transmission and the other (5) has a color tone with good light absorption. The two substrates are welded by irradiating a laser beam from a good substrate side.
以上の構成を有する本発明に係る導波・導電構造物は複雑な形状の成形が可能であり、軽量小型化しており、従来例のようにねじ止めなどの微調整が不要になるためコトスダウンに有効であり、シームレス化した導波間からは電波の漏洩がなく高性能化したものである。 The waveguide / conductive structure according to the present invention having the above-described configuration can be molded in a complicated shape, is lighter and smaller, and does not require fine adjustment such as screwing as in the conventional example. It is effective, and there is no leakage of radio waves between the seamless waveguides, and the performance is improved.
以下、図面を参照して電波を導く導波構造物、電流を流す導電構造物、電波と導電の両者が混在する構造物のそれぞれの実施の形態について説明する。 Hereinafter, embodiments of a waveguide structure that guides radio waves, a conductive structure that conducts current, and a structure in which both radio waves and conductivity are mixed will be described with reference to the drawings.
本発明の実施の形態1を図1〜8を参照して説明すると、この実施の形態は導波構造物に関するもので、その構造は図1、図2に示す板状の第1基体1と図3、図4に示すように、第1基体1と同一平面形状であるがそれより厚板の第2基体2との2部材からなり、この両基体は、相互に相溶性のある品質の熱可塑性合成樹脂、望ましくは同一素材の合成樹脂、例えば全芳香族系ポリエステル液晶ポリマーを素材とするもので、この素材を射出成形することにより成形されたものである。そして、この両基体の一方の第1基体1は光透過性のよい色調、望ましくは透明の材質であり、他方の第2基体は光吸収性のよい色調、例えば黒色である。この液晶ポリマーとしては、例えば、「ベクトラ」(ポリプラスチックス株式会社の商品名)の「めっきグレードC810」がある。
A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 8. This embodiment relates to a waveguide structure, and the structure thereof is the same as that of the plate-like
第2基体2には、複数、図面では2つの導波管21,22を構成する溝状の導波路が一体的に射出形成してあり、この両導波路の間にはダミーの導波管23を構成するための溝状の導波路が一体形成してあり、図5,6に示すようにこの第2基体2は第1基体1と接合させ溶着させることによりシームレス化した導波管21〜23を構成する。勿論、導波路21,22、ダミーの導波路23を第1基体1に形成したもの、両基体のそれぞれに導波路21,22、ダミーの導波路23を形成したものでもよい。いずれにしても、両基体1,2の少なくともいずれか一方には導波管を構成するための溝状の導波路が形成してあり、他方の基体を溶着させることにより一体化し完全なシームレス化した導波管が形成されるものであればよい。
In the
次に、第1基体1と第2基体2とを接合させ、さらに両者を溶着させて一体化する工程について説明すると、図5、図6の示すように第1基体1と第2基体2とを接合させる。そこで、図示していないが耐熱透明ガラスの押え治具で第1基体1を押圧する。この押え治具の上方からレーザー光aを照射するが、この時のレーザー光は波長が940nm、出力60Wのもので、照射スピードは1〜2mm/sec程度でよい。このレーザー光aは押え治具と第1基体1とを貫通し、第2基体2の接合端面に吸収される。この時、第2基体2の色調が光吸収力のよい黒色であるので、このレーザー光aの吸収が効率的に行われる。レーザー光aのエネルギーは熱に変換されて、第1、第2の基体1,2の接合面を溶着させ、そのままの状態で第1基体1と第2基体2とをクランプしておくと、この熱は第2基体2から透過部材の第1基体1に伝わり、この両基体の接合面が溶着されて一体化する。これが一次成形品である。
Next, the process of joining the
そこで、図7、図8に示すように導波管21,22,23の内周面にめっき210,220,230を施こすが、このめっき工程は、先ず図5、図6に示す溶着した第1基体1と第2基体2(一次成形品)の外周面と導波管21,22,23の内周面を粗面化することが必要である。この粗面化、つまりエッチング処理方法として、カ性ソーダまたはカ性カリを所定濃度、例えば45wt%に溶解したアルカリ性水溶液を所定温度、例えば50〜90℃に加熱し、第1基体1と第2基体2を所定時間、例えば30分浸漬する。このエッチングによって第1基体1と第2基体2の外周面と導波管21,22,23の内周面は粗面化する。
Therefore, as shown in FIGS. 7 and 8, plating 210, 220, and 230 are applied to the inner peripheral surfaces of the
これを、図示していないが、通常の上下の金型の対向面には、一体化している第1基体1と第2基体2からなる一次成形品の外周に所定の空隙を有する形状に合致する形状のキャビティが形成されており、このキャビティ内に一次成形品を入れて金型を閉じ、この状態で、このキャビティ内にオキシアルキレン基含有ポリビニルアルコール系樹脂を射出して一次成形品の非めっき面である外周面を被覆する。これが二次成形品である。この被覆剤であるオキシアルキレン基含有ポリビニルアルコール系樹脂として、例えば「エコマティAX」(日本合成化学工業株式会社の商品名)がある。射出成形条件としては、この「エコマティAX」をシリンダー温度220℃で、金型温度80℃、射出圧力900kg/cm2、冷却時間30秒である。
Although not shown in the figure, the opposing surfaces of the normal upper and lower molds conform to a shape having a predetermined gap on the outer periphery of the primary molded product made up of the integrated
次に粗面化しているめっき面は露出しているので、この粗面にパラジウム、金などによる触媒を附与する。この触媒方法は公知のものであるが、例えば錫、パラジウム系の混合触媒液に溶着している第1基体1と第2基体2を浸漬した後、塩酸、硫酸などの酸で活性化し、表面にパラジウムを析出させる。この混合触媒液の温度は15〜23℃で5分間浸漬する。このようにして、めっき面には触媒が附与された状態になる。
Next, since the roughened plating surface is exposed, a catalyst such as palladium or gold is applied to the rough surface. This catalyst method is a known method. For example, the
その後、溶着し一体化している第1基体1と第2基体2からなる二次成形品を、80℃の湯内に10分間入れておくと、被膜剤のエコマティAXは湯中に溶出して除去される。「ベクトラ」のめっきグレードC810は熱変形温度が200℃以上であるので、何の変化も与えることがない。そこで、この触媒附与面にめっきを施すが、このめっきは化学銅めっき、化学ニッケルめっきなどが用いられる。このように導波管21,22,23の内周面にはめっき面210,220,230が形成され、最後に熱処理を施して内部の水分を除去すればよい。
なお、第1基体1と第2基体2とは、最初にエッチング処理した後で、両基体をレーザー光で溶着し、非めっき面の被覆し、その後に、前記しためっき工程を行ってもよい。
After that, when the secondary molded product composed of the
The
以上の実施例では、めっきを化学銅めっきか化学ニッケルめっきを施した例であるが、このめっきを、銅めっきとニッケル・鉄めっきとの二重層とすることにより、この銅めっきは導電性による電界ノイズをシールドし、ニッケル・鉄めっきは、その高透磁性により磁界ノイズをシールドする。 In the above examples, chemical copper plating or chemical nickel plating is applied. However, by making this plating a double layer of copper plating and nickel / iron plating, this copper plating depends on conductivity. Electric field noise is shielded, and nickel / iron plating shields magnetic field noise by its high permeability.
また、ダミーの導波管23は必ずしも必要ではなく、導波管21,22のみでもよいが、電波の強さなどの条件次第では、この導波管21から電波が漏洩して隣接する導波管22に電波が侵入して混信する危険性があるので、1つの導波管から他の導波管に電波が侵入することを確実に防止するためには、この両導波管の間にダミーの導波管23を介在させた方が望ましい。
Further, the
次に、本発明の実施の形態2を図9〜17を参照して説明すると、この実施の形態は導電構造物に関するもので、その構造は図9、図10に示す板状の第1基体3と、図11、図12に示す同一平面形状でありこれより厚板状の第2基体4との2部材からなり、この両基体は、相互に相溶性のあるもの、又は相溶性のある同一の熱可塑性合成樹脂、例えば全芳香族系ポリエステル液晶ポリマーの前記「ベクトラ」のめっきグレードC810を素材とするもので、この両基体の一方の第1基体は光透過性のよい色調、望ましくは透明性の材質であり、他方の第2基体は光吸収性のよい色調の黒色である。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 9 to 17. This embodiment relates to a conductive structure, and the structure is a plate-like first base body shown in FIGS. 3 and the same planar shape as shown in FIGS. 11 and 12, and a thicker plate-like
第1基体3には複数、図面では2つのスルーホール31,32が形成してあり、第2基体4には、複数の、図面では2つの導電管41,42を構成する溝状の導電路が形成してあり、この導電路の間にはダミーの導電管43を構成する導電路が形成してあり、図13、14に示すように、この第2基体は第1基体1と接合させることにより導電管41〜43を構成する。そして、第1基体3の2つのスルーホール31,32は、図13に示すように、第2基体4の2つの導電管41,42を構成する溝状の導電路に連通している。
勿論、導電路41,42、ダミーの導電路43を第1基体3に形成したもの、両基体に導電路41,42、ダミーの導電路43を形成したものでもよい。いずれにしても、両基体3,4の少なくともいずれか一方には溝状の導電路が形成してあり、他方の基体を溶着させることにより導電管が形成されるものであればよい。
The
Of course, the
次に、第1基体3と第2基体4とを接合させ、この両基体を溶着させる工程について説明すると、図13、図14の示すように第1基体3と第2基体4とを接合させる。そこで、前記の実施の形態と同様に押え治具でこの第1基体1を押圧して、押え治具の上方からレーザー光aを照射する。この時のレーザー光の波長、出力、照射スピードは前記の実施の形態1と同一程度でよい。このレーザー光は押え治具と第1基体3とを貫通し、第2基体4の接合端面に吸収される。この時、第2基体4の色調が光吸収力のよいもの、例えば黒色であるので、このレーザー光aの吸収が効率的に行われる。レーザー光aのエネルギーは熱に変換されて、両基体3、4の接合面を溶着させる。このままの状態で第1基体3と第2基体4とをクランプしておくと、この熱はこの第2基体から透過部材の第1基体に伝わり、この両基体が溶着され一体化する。これが一次成形品である。
Next, the process of bonding the
そこで、図15〜図17に示すように導電管41,42,43の内周面にめっきを施こすが、このめっき工程は、先ず図13、図14に示す溶着した第1基体3と第2基体4の外周面と導電管41,42,43の内周面を粗面化することが必要である。この粗面化、つまりエッチング処理方法として、カ性ソーダまたはカ性カリを例えば45wt%に溶解したアルカリ性水溶液を例えば50〜90℃に加熱し、第1基体3と第2基体4を例えば30分浸漬する。このエッチングによって第1基体3と第2基体4の外周面と導電管41,42,43の内周面は粗面化する。また、上下の金型の対向面には、一体化している両基体3,4の外周に所定の空隙を有する形状に合致する形状のキャビティが形成されており、このキャビティ内に一体化している一次成形品を挿置し、この金型を閉じ、このキャビティ内にオキシアルキレン基含有ポリビニルアルコール系樹脂を射出して非めっき面を被覆する。これが二次成形品である。このオキシアルキレン基含有ポリビニルアルコール系樹脂としては、前記の「エコマティAX」を用い、この射出成形条件のシリンダー温度、金型温度、射出圧力及び冷却時間は、実施の形態1の同じである。
Therefore, as shown in FIGS. 15 to 17, the inner peripheral surfaces of the
粗面化しているめっき面は露出しているので、この粗面にパラジウム、金などによる触媒を附与する。この触媒方法は、例えば錫、パラジウム系の混合触媒液に、溶着している第1基体3と第2基体4を浸漬した後、塩酸、硫酸などの酸で活性化し、表面にパラジウムを析出させる。この混合触媒液の温度や浸漬時間も前記の実施の形態1と同じである。
Since the roughened plating surface is exposed, a catalyst such as palladium or gold is added to the rough surface. In this catalyst method, for example, the
その後、相互に接合面が溶着している第1基体3と第2基体4からなる二次成形品を80℃の湯内に10分間入れておくと、被覆剤のエコマティAXは湯中に溶出する。「ベクトラ」のめっきグレードC810は熱変形温度が200℃以上であるので、何の変化も与えることがない。このようにして、めっき面であるスルーホール31,32、導電管41,42,43、回路パターン44,45には触媒が附与された状態になる。
After that, when a secondary molded product composed of the
そこで、この触媒附与面にめっきを施すが、このめっきは化学銅めっき、化学ニッケルめっきなどが用いられる。このようにスルーホール31,32にはめっき面310,320と、このめっき面に導通している回路パターン310,320(これはめっき面310,320と同じものであるので同一符号をつけた)、導電管41,42,43の内周面のめっき面410,420,430が形成され、さらに第2基体4には2つの回路パターン44,45が形成され、最後に熱処理を施して内部の水分を除去すればよい。
Therefore, plating is performed on the surface to which the catalyst is attached, and chemical copper plating, chemical nickel plating, or the like is used for this plating. In this way, the through
この実施の形態によると、導電経路は複数、つまり多層の回路が形成されるもので、具体的には、その第1はスルーホール31を中心としてそれから回路パターン310と導電管41との経路と、第2はスルーホール32を中心としてそれから回路パターン320と導電管42との経路と、第3は導電管43の経路、第4は回路パターン44の経路、第5は回路パターン45の多くの経路が形成されている。
なお、第1基体3と第2基体4とは、最初にエッチング処理した後で、両基体をレーザー光で溶着し、非めっき面の被覆し、その後のめっき工程を行ってもよい。
According to this embodiment, a plurality of conductive paths, that is, a multi-layer circuit is formed. Specifically, the first is centered on the through
Note that the
以上はめっきを化学銅めっきか化学ニッケルめっきを施した例であるが、このめっきを銅めっきとニッケル・鉄めっきの二重層としてもよい。 The above is an example of chemical copper plating or chemical nickel plating, but this plating may be a double layer of copper plating and nickel / iron plating.
また、ダミーの導電管43は必ずしも必要ではなく、導電管41、42のみでもよい。
The dummy
本発明の実施の形態3を、図18〜図20を参照して説明する。これは導波構造物と導電構造物が混在している導波導電構造物を示すもので、この図面自体は前記の実施の形態2の図15〜図17と同一である。 A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. This shows a waveguide conductive structure in which a waveguide structure and a conductive structure are mixed, and this drawing itself is the same as FIGS. 15 to 17 of the second embodiment.
この実施の形態では、図18に示す第1基体3と図20に示す第2基体5との2部材からなり、この両基体は、熱可塑性合成樹脂を素材とし射出成形したもので、この素材の具体例は前記の実施の形態1,2と同じである。両基体の一方の第1基体3は光透過性のよい色調であり、他方の第2基体5は光吸収性のよい色調であり、この光透過性のよい基体3側からレーザー光を照射することにより両基体3、5の接合面は溶着し一体化してある。
In this embodiment, the
先ず、導電構造物について説明すると、第1基体3は図9、図10に示すものと同一形状で、この基体には複数、図面では2つのスルーホール31,32が形成してある。また、両基体3,5の少なくともいずれか一方、図19の例では第2基体5には導電管51,52を構成する溝状の導電路が形成してあり、他方の第1基体3をこの第2基体に接合させ溶着させることにより導電管51,52が形成される。そして、スルーホール31,32は導電管51,52に連通している。導電管51,52の内周面にも、それぞれめっき510,520が施してあり、スルーホール31,32の内周面に施してあるめっきは、第1基体3の表面に伸長し回路パターン310,320になって、この導電管のめっきに電気的に導通している。さらに、第2基体5の表面には回路パターン54,55が形成してある。
First, the conductive structure will be described. The
次に、導波構造物について説明すると、両基体3,5の少なくともいずれか一方、図19の例では第2基体5には導波管53を構成する溝状の導波路が形成してあり、他方の基体、この例では第1基体3をこの第2基体に溶着させることによりシームレス化した導波管53が形成される。そして、導波管53の内周面にはめっき530が施してある。
Next, the waveguide structure will be described. At least one of the
なお、この導波管53に施すめっき530としては、めっきを銅めっきとニッケル・鉄めっきの二重層とすることにより、この銅めっきは導電性による電界ノイズをシールドし、ニッケル・鉄めっきは、その高透磁性により磁界ノイズをシールドすることができる。
In addition, as plating 530 to be applied to the
したがって、この実施の形態3によると、導電経路としては一方のスルーホール31を中心として回路パターン310、導電管51の経路、他方のスルーホール32を中心として回路パターン320、導電管52の経路、回路パターン54、55があり、さらに、導波経路としては導波管53による経路がある。
Therefore, according to the third embodiment, as the conductive path, the
発明の活用例として、テレビ受信用パラボラアンテナの入口に設置される導波管フイルタ、自動車の追突防止用の電波を放射するレーダー放射導波管、トンネル内の電波を増幅させるための高周波共振器、多層回路基板などとして利用できる。 Examples of use of the invention include a waveguide filter installed at the entrance of a TV receiving parabolic antenna, a radar radiation waveguide that emits radio waves for preventing rear-end collisions of automobiles, and a high-frequency resonator for amplifying radio waves in a tunnel It can be used as a multilayer circuit board.
1 第1基体
2 第2基体
21 導波管
22 導波管
210 めっき
220 めっき
23 ダミーの導波管
230 めっき
3 第1基体
31 スルーホール
310 めっき(回路パターン)
32 スルーホール
320 めっき(回路パターン)
4 第2基体
41 導電管
410 めっき
42 導電管
420 めっき
43 導電管
430 めっき
5 第2基体
51 導電管
510 めっき
52 導電管
520 めっき
53 導波管
530 めっき
DESCRIPTION OF
32 Through
4
Claims (3)
上記両基体は、熱可塑性合成樹脂を素材とするもので、
上記両基体の少なくともいずれか一方(2)には溝状の導波路が形成してあり、他方の基体を溶着させることによりシームレス化した導波管(21)(22)が形成してあり、
上記導波管(21)(22)は複数であり、この導波管の間にダミーの導波管(23)が設けてあり、
上記導波管とダミーの導波管との内周面にはめっき(210)(220)(230)が施してある
ことを特徴とする導波構造物。 It consists of a first substrate (1) and a second substrate (2),
Both the substrates are made of a thermoplastic synthetic resin,
At least one of the two substrates (2) is formed with a groove-shaped waveguide, and a waveguide (21) (22) made seamless by welding the other substrate is formed,
There are a plurality of the waveguides (21) and (22), and a dummy waveguide (23) is provided between the waveguides.
A waveguide structure characterized in that plating (210) (220) (230) is applied to the inner peripheral surfaces of the waveguide and the dummy waveguide.
上記両基体は、熱可塑性合成樹脂を素材とするもので、
上記第1基体(3)にはスルーホール(31)(32)が形成してあり、
上記両基体の少なくともいずれか一方(5)には溝状の導電路が形成してあり、他方(3)の基体を溶着させることによりシームレス化した導電管(51)(52)が形成してあり、
上記スルーホールは上記導電管に連通しており、
上記両基体の少なくともいずれか一方(5)には溝状の導波路が形成してあり、他方の基体を接合させることにより導波管(53)が形成してあり、
上記導波管にはめっき(530)が施してあり、
上記スルーホール(31)(32)と上記導電管(51)(52)の内周面には、それぞれめっき(310)(320)(510)(520)が施してあり、
上記スルーホールのめっき(310)(320)と上記導電管のめっき(510)(520)とは電気的に導通している
ことを特徴とする導波導電構造物。 It consists of a first substrate (3) and a second substrate (5),
Both the substrates are made of a thermoplastic synthetic resin,
Through holes (31), (32) are formed in the first base (3),
At least one of the two substrates (5) is formed with a groove-like conductive path, and the other (3) substrate is welded to form a seamless conductive tube (51) (52). Yes,
The through hole communicates with the conductive tube,
At least one of the two substrates (5) has a groove-shaped waveguide, and a waveguide (53) is formed by bonding the other substrate,
The waveguide is plated (530),
Plating (310) (320) (510) (520) is applied to the inner peripheral surfaces of the through holes (31) (32) and the conductive tubes (51) (52), respectively.
The waveguide conductive structure, wherein the through-hole plating (310) (320) and the conductive tube plating (510) (520) are electrically connected .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004058117A JP3955028B2 (en) | 2004-03-02 | 2004-03-02 | Waveguide / conductive structure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004058117A JP3955028B2 (en) | 2004-03-02 | 2004-03-02 | Waveguide / conductive structure |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005252486A JP2005252486A (en) | 2005-09-15 |
JP3955028B2 true JP3955028B2 (en) | 2007-08-08 |
Family
ID=35032582
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004058117A Expired - Fee Related JP3955028B2 (en) | 2004-03-02 | 2004-03-02 | Waveguide / conductive structure |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3955028B2 (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010252092A (en) * | 2009-04-16 | 2010-11-04 | Tyco Electronics Japan Kk | Waveguide |
CN105590902B (en) * | 2013-02-08 | 2019-02-19 | 日月光半导体制造股份有限公司 | Antenna packages module and its manufacturing method |
JP2015076661A (en) * | 2013-10-07 | 2015-04-20 | 日本電気株式会社 | Coaxial wiring device and transmission/reception integral splitter |
JP6537943B2 (en) * | 2015-09-18 | 2019-07-03 | Ntn株式会社 | Waveguide slot antenna and method of manufacturing the same |
CN115922258B (en) * | 2023-02-07 | 2023-05-09 | 河南工学院 | Casting and milling integrated forming manufacturing method for terahertz metal coating hollow rectangular waveguide cavity |
-
2004
- 2004-03-02 JP JP2004058117A patent/JP3955028B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005252486A (en) | 2005-09-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5380386A (en) | Molded metallized plastic microwave components and processes for manufacture | |
CN110312380B (en) | Manufacturing and production method of multilayer insulated isolation circuit board with side metallized edges | |
CN111129709B (en) | Middle frame assembly, preparation method of middle frame assembly and electronic equipment | |
KR101661002B1 (en) | Waveguide | |
CN107835587B (en) | High-frequency microwave multilayer printed circuit blind slot and manufacturing process thereof | |
KR101724071B1 (en) | Laser direct structuring electroless plating method with single-step pre-treatment process and intenna thereof | |
JP5080653B2 (en) | Method for contacting rigid printed circuit board with contact partner and apparatus comprising rigid printed circuit board and contact partner | |
JP3955028B2 (en) | Waveguide / conductive structure | |
WO2016208006A1 (en) | Three-dimensional wiring board production method, three-dimensional wiring board, and substrate for three-dimensional wiring board | |
US20170294748A1 (en) | Pluggable electrical connector | |
KR101475340B1 (en) | Multi-layer flexible circuit board and process for producing the same | |
CN110798988A (en) | Additive process for manufacturing high-frequency antenna packaging substrate and AiP packaging antenna structure | |
KR101448256B1 (en) | Methods for manufacturing a antenna | |
KR101152266B1 (en) | Preparation method of electromagnetic wave absorbing sheet using copper clad laminate film | |
KR20070000013A (en) | Printed circuit board using bump and manufacturing method thereof | |
JP2011042818A (en) | Method for producing three-dimensional formed circuit component | |
KR20160080655A (en) | Internal antenna and method for manufacturing the same | |
JP2001004864A (en) | Optical and electrical wiring board and its manufacture and mounting board | |
CN111698830A (en) | High electromagnetic compatibility circuit board and manufacturing method thereof | |
JP2001185915A (en) | Microstrip line structure | |
US20230052656A1 (en) | Filter and manufacturing method for same | |
CN111263525B (en) | Manufacturing method of ultrathin false hollow double-layer FPC product | |
JP2022152789A (en) | Electromagnetic wave transmission cover and manufacturing method of electromagnetic wave transmission cover | |
JP4429712B2 (en) | Manufacturing method of substrate precursor | |
JP2003298319A (en) | Electromagnetic wave transmission circuit element and its manufacturing method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051102 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061019 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061031 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070403 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070427 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110511 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120511 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130511 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |