JP3949783B2 - Display panel substrate manufacturing method - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネルを初めとする各種のディスプレイパネルに使用される微細隔壁を備えたディスプレイパネル用基板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
壁掛けテレビ等への応用もなされているプラズマディスプレイパネルの基本的構造は、例えば、図6に示すとおりである。即ち、前面パネルAと背面パネルBとを、両パネルにそれぞれ形成したストライプ状電極A1、B1が互いに対向するように重ね合わせ、その交点におけるストライプ状又は格子状の隔壁C内で放電を起こすことにより、発光させるものである。
【0003】
隔壁Cは、光のクロストークを防ぐとともに、画面のコントラストを作るために設けられているもので、非常に微細なものである。例えば、ストライプ状のものにあっては、幅約30μm、高さ約200μmで、100μm程度の間隔でパネル全面にわたって形成されることが要求されている。そして、このような微細寸法の隔壁Cの内部には、蛍光体が塗布され、Ne、Xe等の不活性ガスが封入される。よって、複雑でかつ鮮明な画像を得るという観点から当然に隔壁Cに要求されるファインパターン化とともに、蛍光体の塗布量を一定にし、前面パネルAと密着して不活性ガスの漏出を防止する観点等からも、隔壁Cの寸法精度が高いことが要求される。
【0004】
従来、このような隔壁Cを形成する方法として、スクリーン印刷法やサンドブラスト法が採用されている。スクリーン印刷法は、ガラス基板上に、ガラスペーストを印刷し、乾燥する操作を、毎回位置合わせして10回程度繰り返すもので、所謂重ね刷りにより隔壁を形成するものである。サンドブラスト法は、ガラスペーストをガラス基板の前面に塗布したのち、フォトレジストで被覆し、露光、現像し、その後、レジストパターンで被覆されない部分をサンドブラストして、隔壁を形成するものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
スクリーン印刷法による隔壁の形成方法においては、毎回の位置合わせとスクリーンの歪みとによりファインパターン化が困難となり、この困難性が特に大画面化に際しての大きな障害となっている。また、サンドブラスト法による隔壁の形成方法によっては、主に深さが不均一になりやすいという問題を解決することができず、やはりファインパターン化、大画面化が困難になっている。さらに、いずれの方法においても、寸法精度を高めようとすれば長時間を要するため、それが製造コストを上昇させる要因ともなっている。
【0006】
そこで本発明は、マスター型となる金型から、消耗型となるストライプ状又は格子状の微細パターンが形成された樹脂型を得、さらに前記樹脂型から微細パターンを転写する方法を採用することにより上記問題を解決し、ファインパターン化、大画面化が可能な寸法精度の高い隔壁を備えたディスプレイパネルの製造方法を提供することを目的とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記目的を達成するための手段として、参考技術の射出成形により所望の微細パターンが形成された樹脂型を得る第1工程と、前記樹脂型の微細パターン形成面に液状硬化材料を流し込んだのち、さらにその上にガラス板を重ねて置く第2工程と、前記液状硬化材料を押圧しながら硬化させたのち、樹脂型を取り除く第3工程とを具備することを特徴とするディスプレイパネル用基板の製造方法を提供する。
【0008】
本発明は、上記目的を達成するための手段として、請求項1射出成形により所望の微細パターンが形成された樹脂型を得る第1工程と、前記樹脂型の微細パターン形成面に部分加硫シリコーンゴムフィルムを置いて前記樹脂型の前記微細パターンを前記部分加硫シリコーンゴムフィルムに転写し、さらに前記部分加硫シリコーンゴムフィルムの上にガラス補強材を設ける第2工程と、前記部分加硫シリコーンゴムフィルムを硬化させたのち、樹脂型を取り除く第3工程とを具備することを特徴とするディスプレイパネル用基板の製造方法を提供する。
【0009】
また、本発明は、上記目的を達成するための手段として、第2工程のガラス補強材を設けることがガラス板を重ねて置くことを特徴とする請求項1記載のディスプレイパネル用基板の製造方法を提供する。
【0010】
また、本発明は、上記目的を達成するための手段として、第2工程のガラス補強材を設けることがガラス質のコーティング層を塗布することを特徴とする請求項1記載のディスプレイパネル用基板の製造方法を提供する。
【0011】
さらに、本発明は、上記目的を達成するための手段として、請求項4の前記ディスプレイパネル用基板は、プラズマディスプレイパネル用の基板である参考技術又は請求項1記載のディスプレイパネル用基板の製造方法を提供する。
【0012】
参考技術記載の発明で使用する液状硬化材料における「液状」とは、硬化材料自体が液状であるもののほか、硬化材料を含む溶液状、分散液状、ゾル状、ペースト状のもの等であり、樹脂型に流し込めるだけの流動性を有するものの意味である。また、液状硬化材料における「硬化材料」とは、常温において又は加熱により硬化する性質を有するものを意味するものであり、「硬化」の程度は、ディスプレイパネル用基板の隔壁部分に対して通常要求される剛性及び耐久性を付与できる程度のものである。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明のディスプレイパネル用基板の製造方法について説明する。図1(a)〜(c)は、参考技術記載の製造方法を説明するための概略正面図であり、図2(a)〜(c)は、請求項1記載の製造方法を説明するための概略正面図であり、図3は請求項1記載の製造方法の他態様である製造方法を説明するための概略正面図であり、図4は請求項1記載の製造方法の他態様である製造方法を説明するための概略正面図であり、図5は参考技術及び請求項1記載の製造方法を説明するための概略正面図である。
【0014】
まず、参考技術記載のディスプレイパネル用基板の製造方法について説明する。第1工程において、射出成形により、図1(a)に示すような所望の微細パターン50が形成された樹脂型11を得る。この樹脂型11の微細パターン50は目的とするディスプレイパネル用基板の隔壁を形成するためのものであり、前記隔壁のパターンとは凹凸反転像をなすものである。また、この樹脂型11の微細パターン50は、ストライプ状又は格子状のものであり、その寸法の一例を挙げると、ストライプ状のもので、幅60μm、深さ200μm、間隔160μm程度のものである。
【0015】
この第1工程における射出成形法は周知の射出技術を適用すればよく、使用する樹脂も射出成形ができるものであれば、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ABS樹脂、AS樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、フッ素樹脂、ポリエステル樹脂等の熱可塑性樹脂のなかのいずれも使用することができる。
この射出成形で使用する金型は樹脂型11の製造用のマスター金型となるものであり、例えばフライス盤や特殊バイトで可動型の内面を微細加工することにより、目的とする樹脂型11の微細パターン50に対応させることができる。
【0016】
第2工程において、図1(b)に示すように、まず、樹脂型11の微細パターン50の形成面に液状硬化材料12を流し込む。この液状硬化材料12は、図1(b)、(c)に示すように、硬化終了後にディスプレイパネル用基板の隔壁2となるものである。この流し込み方法としては、液状硬化材料12をキャスティングする方法のほか、刷毛塗り等の方法を適用することができる。このように液状硬化材料12を流し込むことにより、液状硬化材料12は樹脂型11の微細パターン50をそのまま精緻に反転した状態で転写できるものであり、この転写は次工程における硬化により完了する。
【0017】
この工程で使用する液状硬化材料12としては、上記したとおり、「液状」であり、常温又は加熱下において、それ単独で又は硬化剤、触媒、その他の硬化に資する成分との併用により「硬化」するものであれば特に制限されるものではない。ただし、成形型として樹脂型を使用するため、樹脂を熱変形させないよう、従来のガラスペーストに比べるとより低温で加熱硬化できるものであることが必要となる。同様に、液状硬化材料12の成分中に溶剤を包含するときには、溶剤と樹脂型との相性を考慮する必要がある。このような液状硬化材料12の例としては、常温又は加熱下において架橋反応が進行し、セラミックス様の膜を形成する無機のケイ素含有ポリマーのほか、セラミックス粉末、アルミナセメントのようなセメント、水ガラス類等を含有する無機系バインダーも使用することができる。また、この液状硬化材料12は隔壁2となるものであるため、ディスプレイパネルのコントラストを得る上で有利になるように、必要に応じて黒色等の暗色系の着色剤を配合することができる。
【0018】
このような液状硬化材料12の具体例としては、ケイ素含有ポリマーを形成する商品名 HEATLESS GLASSのGS−600シリーズ(ホーマーテクノロジー株式会社)、ペルヒドロポリシラザンのようなポリシラザン類、例えば商品名東燃ポリシラザン(東燃株式会社)、無機バインダーである商品名 レッドプルーフのMR−100シリーズ(株式会社熱研)等を挙げることができる。
【0019】
次に、このようにして樹脂型11に液状硬化材料12を流し込んだのち、上方からガラス板13を重ねて置く。このガラス板13は、図1(b)、(c)に示すように、そのまま背面のガラス基板3とすることができるものである。
【0020】
この第2工程においてガラス板13を置く場合、流し込んだ液状硬化材料12とガラス板13の間に空気が入り込み、そのまま残存することが考えられるので、例えば、一端から他端に向けて徐々に空気を排除しながらガラス板13を液状硬化材料12に重ね合わせるようにして置くようにするのが望ましい。
【0021】
第3工程において、例えば、ヒートプレス機により、押圧しながら硬化させたのち、樹脂型11を取り除く。この工程の処理により、樹脂型11の微細パターン50はそのまま精緻に反転した状態で液状硬化材料12の硬化物に転写される。また、同時に、液状硬化材料12とガラス板13は固着する。なお、押圧とは、別途プレス機により圧力をかけるほかに、例えばガラス板の自重により加わる圧力も含むものとする。プレスする場合には、均一な押圧状態を確保するため、熱伝導性のよいクッション材を介在させることができる。
【0022】
この第3工程における硬化処理は、使用した液状硬化材料12の性質に応じて、硬化温度を選択する。また、この硬化温度の選択に際しては、樹脂型11の軟化点も考慮する。例えば、樹脂型11の材料としてポリプロピレンを使用した場合には、ポリプロピレンの軟化点である140〜160℃未満の温度で加熱硬化させることが必要となる。
【0023】
硬化終了後に樹脂型11と、隔壁2及びガラス板13とを剥離する。このとき、樹脂型11は柔軟性があるために容易に折り曲げることができるので、この剥離作業を円滑になすことができる。剥離性を考慮すると、液状硬化材料12が凹凸形状を保持できる程度の固さで剥離し、その後に再硬化させてもよい。剥離後にはさらに硬化温度を上げて完全に硬化させてもよい。このようにして、図1(c)に示すような、樹脂型11の微細パターン50が精緻に反転・転写された微細パターン60を有する隔壁2と、それを支持するガラス基板3からなるディスプレイパネル用基板10を得ることができる。
【0024】
次に、請求項1記載のディスプレイパネル用基板の製造方法について説明する。まず、第1工程において、上記した参考技術記載の製造方法と同様にして、樹脂型11を得る[図2(a)参照]。
【0025】
次に、第2工程において、図2(b)に示すように、樹脂型11の微細パターン50の形成面に部分加硫されたシリコーンゴムフィルム15を置き、その上にガラス補強材としてガラス板13を重ねて置く。この部分加硫されたシリコーンゴムフィルム15は、図2(b)、(c)に示すように、硬化終了後にディスプレイパネル用基板10の隔壁5となるものである。また、ガラス板13は、図2(b)、(c)に示すように、そのまま背面のガラス基板3とすることができるものであり、製造時において部分加硫シリコーンゴムフィルム15(隔壁5)を支持して作業性を向上させるものである。
【0026】
この第2工程において用いる部分加硫されたシリコーンゴムフィルム15は、加硫反応を完結させずに途中で停止させ、得られるフィルムが作業性に支障を来さない程度の保形性を有し、圧力を加えることにより容易に変形できるような性質を有するシリコーンゴムフィルムを意味するものである。よって、部分加硫されたシリコーンゴムフィルム15を樹脂型11の微細パターン50上に置くことにより、前記微細パターン50をそのまま精緻に反転した状態で転写できる。この転写は、次工程における硬化により完了する。
【0027】
このように部分加硫されたシリコーンゴムフィルム15は、例えば、次に示すような方法により得ることができる。未加硫のシリコーンゴム原料に必要に応じて他の成分を配合したのち、型に入れ、押圧しながら加熱して、部分的に加硫する。この部分加硫の条件はシリコーンゴムの種類等により異なるものであるが、その一例としては、付加型液状のシリコーンゴム(2液型)の場合、20℃では約8時間で加硫反応が完了し、60℃では約1時間で加硫反応が完了するため、前記性質を付与できるように、いずれも半分以下の時間で加硫反応を停止させる。このように反応停止させたとき、さらに加硫反応が進行することを防止するため、直ちに冷所で保存する。また、この部分加硫反応の進行は、時間のほかに、加熱温度の調節び反応抑制剤の添加によっても制御することができる。
【0028】
ここで用いるシリコーンゴム原料としては、一般に市販されている加熱硬化型又は室温硬化型、1液又は2液型、付加型又は縮合型のものを用いることができる。また、他の成分としては、メチルビニルシクロテトラシロキサン、アセチレンアルコール類、シロキサン変性アセチレンアルコール、ハイドロパーオキサイドのような反応抑制剤;補強性シリカ、石英粉、酸化鉄、アルミナ、ビニル基含有シリコーンレジンのような補強剤;顔料、耐熱剤、難燃剤、接着性向上剤のような各種添加剤を挙げることができる。
【0029】
このような部分加硫されたシリコーンゴムフィルム15として、市販されている商品名SOTEFA50(JIS A硬度50)、SOTEFA70(JISA硬度70)、SH861U(JIS A硬度60)(いずれも東レ・ダウコーニング・シリコーン社)、商品名TSE260−7U(東芝シリコーン社)、商品名KE565K−U(JIS A硬度60;信越化学工業社)等を用いることができる。なお、ここで示したJIS A硬度は、いずれも加硫完了後の硬度である。
【0030】
次に、第3工程において、常温又は加熱下で部分加硫シリコーンゴムフィルム15を硬化させたのち、樹脂型11を取り除く。この硬化時において加熱する場合の温度選択に際しては、樹脂型11の軟化点を考慮し、前記軟化点よりも低温で硬化させる。この硬化反応を完了させ、樹脂型11を剥離することにより、図2(c)に示すような、樹脂型11の微細パターン50が精緻に反転・転写された微細パターン60を有する隔壁5と、それを支持するガラス基板3からなるディスプレイパネル用基板10を得ることができる。
【0031】
このような製造方法においては請求項3記載のようにガラス板13を使用しないこともできる。その場合には、シリコーンゴムからなる隔壁5をそのままディスプレイパネル用基板10とする。この場合には、図3に示すように、微細パターン60が形成されていない面に、ガラス補強板として硬質表皮層となるガラス質のコーティング層70を形成して補強することが好ましい。このガラス質のコーティング層70は、例えば、上記したHEATLESSGLASSのような材料をスピンコート法により塗布し、硬化させることによって、形成することができる。
【0032】
また、図4に示すように、隔壁5の表面にガラス質のコーティング層71を形成することもできる。これは、隔壁5が部分加硫されたシリコーンゴムフィルムを出発材料とするものであるため、隔壁5の内部に低分子物質が残存している可能性がある。よって、そのような場合には、アドレス用電極の形成、蛍光体塗布等のディスプレイパネルの製造工程途中において、前記低分子物質が揮発することによって、工程内容によっては作業に支障を来すおそれがあるからである。このガラス質のコーティング層71は、ガラス質のコーティング層70と同様にして形成することができる。
【0033】
このようにして得られるディスプレイパネル用基板10は、常法にしたがい、アドレス用電極の取り付けや、蛍光体の塗布等をすることにより、目的とするプラズマディスプレイパネル等のディスプレイパネルを得ることができる。
【0034】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
【0035】
実施例1
参考技術記載の製造方法を適用し、図6に示すようなストライプ状の隔壁を有するプラズマディスプレイパネル用基板を製造した。以下、図5をもとに実施例1を説明する。まず、射出成形により、幅60μm、高さ200μm、間隔160μmの微細パターン50を有するポリプロピレン製の樹脂型11を製造し、これをヒートプレス機Pの固定盤P1の上に置いた。次に、この樹脂型11の微細パターン50の形成面上に、液状硬化材料12として商品名HEATLESSGLASS(GS−600−1;稀釈剤としてイソプロピルアルコールを含有している)を刷毛塗りにより塗布した。その後、塗布面に基板となるガラス板13を置いた。次に、可動盤P2を下降させ、ガラス板13の上から約15g/cm2の圧力を加えながら、130℃で20〜30分間程度加熱保持し、HEATLESSGLASSを硬化させた。硬化が完了したのち、可動盤P2を上昇させて樹脂型11を剥離し、図1(c)に示すようなプラズマディスプレイパネル用基板10を得た。このプラズマディスプレイパネル用基板10の表面を顕微鏡により観察したところ、樹脂型11の微細パターン50がそのまま反転・転写された、幅60μm、高さ200μm、間隔160μmの精緻な微細パターン60の隔壁3が形成されていることを確認した。
【0036】
実施例2
請求項1記載の製造方法を適用し、図3に示すようなストライプ状の隔壁を有するプラズマディスプレイパネル用基板を製造した。以下、図5をもとに実施例2を説明する。まず、射出成形により、幅60μm、高さ200μm、間隔160μmの微細パターンを有するポリエステル製の樹脂型11を製造し、これをヒートプレス機Pの固定盤P1の上に置いた。次に、この樹脂型11の微細パターン50の形成面上に、部分加硫されたシリコーンゴムフィルム15として商品名SOTEFA70(厚み0.5mm)を置いた。その後、フィルム上に基板となるガラス板13を置いた。次に、可動盤P2を下降させ、ガラス板13の上から約50g/cm2の圧力を加えながら、150℃で4時間程度加熱保持し、SOTEFA70を硬化させた。硬化が完了したのち、可動盤P2を上昇させて樹脂型11を剥離して、図2(c)に示すようなプラズマディスプレイパネル用基板10を得た。このプラズマディスプレイパネル用基板10の表面を顕微鏡により観察したところ、樹脂型11の微細パターン50がそのまま反転・転写された、幅60μm、高さ200μm、間隔160μmの精緻な微細パターン60の隔壁5が形成されていることを確認した。
【0037】
【発明の効果】
参考技術及び請求項1記載の製造方法によれば、マスター型となる金型の微細パターンを樹脂型に反転・転写し、さらに樹脂型の微細パターンを反転・転写することにより、所望の微細パターンからなる隔壁を有するディスプレイパネル用基板を容易かつ大量に得ることができる。樹脂型はマスター型から容易にかつ大量に製造できるものであり、元々原料となる樹脂自体が安価であるため価格をごく安価に設定維持できるので、消耗成形型とすることができる。よって、繰り返しの使用により目づまり等して使用不能となった場合には廃棄して、新たな樹脂型に取り替えることができるため、洗浄等のような維持処理がまったく不要となるので維持コストも安くなる。このため、参考技術及び請求項1記載の製造方法を適用することにより、安価でしかも高品質のプラズマディスプレイパネル等に適用できるディスプレイパネル用基板を提供することができ、さらに、ファインパターン化の達成により、大画面化への応用もできるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】参考技術記載の製造方法を説明するための概略正面図である。
【図2】請求項1記載の製造方法を説明するための概略正面図である。
【図3】請求項3記載の製造方法を説明するための概略正面図である。
【図4】請求項1記載の製造方法の他の態様を説明するための概略正面図である。
【図5】参考技術及び請求項1記載の製造方法を説明するための概略正面図である。
【図6】プラズマディスプレイパネルの構造例を示す概略斜視図である。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for manufacturing a substrate for a display panel having fine barrier ribs used for various display panels including a plasma display panel.
[0002]
[Prior art]
The basic structure of a plasma display panel that is also applied to a wall-mounted television or the like is as shown in FIG. 6, for example. That is, the front panel A and the back panel B are overlapped so that the striped electrodes A1 and B1 formed on both panels face each other, and discharge is generated in the striped or grid-shaped partition walls C at the intersections. To emit light.
[0003]
The partition wall C is provided to prevent crosstalk of light and to make the contrast of the screen, and is very fine. For example, in the case of a stripe shape, it is required to be formed over the entire panel with a width of about 30 μm and a height of about 200 μm at intervals of about 100 μm. And inside the partition C of such a fine dimension, fluorescent substance is apply | coated and inert gas, such as Ne and Xe, is enclosed. Therefore, from the viewpoint of obtaining a complex and clear image, naturally, the fine pattern required for the partition wall C is made, and the amount of the phosphor applied is made constant, and it adheres closely to the front panel A to prevent leakage of the inert gas. From a viewpoint or the like, the dimensional accuracy of the partition wall C is required to be high.
[0004]
Conventionally, as a method for forming such partition walls C, a screen printing method or a sand blasting method has been adopted. In the screen printing method, an operation of printing a glass paste on a glass substrate and drying is repeated about 10 times by aligning each time, and a partition wall is formed by so-called overprinting. In the sand blasting method, a glass paste is applied to the front surface of a glass substrate, coated with a photoresist, exposed and developed, and then a portion not covered with a resist pattern is sand blasted to form partition walls.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
In the method of forming the partition wall by the screen printing method, it is difficult to form a fine pattern due to the alignment and the distortion of the screen every time, and this difficulty is a great obstacle especially when the screen is enlarged. Also, depending on the method of forming the partition wall by the sandblast method, the problem that the depth tends to be nonuniform can not be solved, and it is difficult to make a fine pattern and enlarge the screen. Furthermore, in any of the methods, it takes a long time to increase the dimensional accuracy, which is a factor that increases the manufacturing cost.
[0006]
Therefore, the present invention obtains a resin mold in which a stripe-shaped or lattice-shaped fine pattern as a consumable mold is formed from a mold as a master mold, and further adopts a method for transferring the fine pattern from the resin mold. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a display panel having partition walls with high dimensional accuracy that can solve the above-described problems and can be finely patterned and have a large screen.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
As a means for achieving the above object, the present invention provides a first step of obtaining a resin mold in which a desired fine pattern is formed by injection molding according to a reference technique , and a liquid curable material is applied to the fine pattern forming surface of the resin mold. A display panel comprising: a second step of pouring a glass plate thereon after pouring; and a third step of removing the resin mold after curing the liquid curable material while pressing the liquid curable material. Provided is a method for manufacturing an industrial substrate.
[0008]
As a means for achieving the above object, the present invention provides a first step of obtaining a resin mold in which a desired fine pattern is formed by injection molding, and a partially vulcanized silicone on the fine pattern forming surface of the resin mold. A second step of placing a rubber film to transfer the fine pattern of the resin mold to the partially vulcanized silicone rubber film, and further providing a glass reinforcing material on the partially vulcanized silicone rubber film ; and the partially vulcanized silicone And a third step of removing the resin mold after the rubber film is cured. A method of manufacturing a display panel substrate is provided.
[0009]
The method for producing a display panel substrate according to
[0010]
The present invention provides a means for achieving the above object, the display panel substrate according to
[0011]
Further, according to the present invention, as means for achieving the above object, the display panel substrate according to claim 4 is a substrate for a plasma display panel or a method for manufacturing a display panel substrate according to
[0012]
“Liquid” in the liquid curable material used in the invention described in the reference technology is not only a liquid curable material itself, but also a solution, dispersion liquid, sol, paste, etc. containing a curable material, resin This means that it has fluidity that can be poured into a mold. In addition, the “curing material” in the liquid curable material means a material that has a property of curing at room temperature or by heating, and the degree of “curing” is usually required for the partition portion of the display panel substrate. The rigidity and durability can be imparted.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the manufacturing method of the display panel substrate of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 (a) to 1 (c) are schematic front views for explaining a production method described in the reference technique , and FIGS. 2 (a) to 2 (c) are for explaining the production method according to
[0014]
First, a method for manufacturing a display panel substrate described in the reference technology will be described. In the first step, a
[0015]
As the injection molding method in this first step, a well-known injection technique may be applied. If the resin used can also be injection molded, phenol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, silicone Heat of thermosetting resin such as resin, urethane resin, vinyl chloride resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, ABS resin, AS resin, polyamide resin, polyacetal resin, methacrylic resin, polycarbonate resin, fluorine resin, polyester resin, etc. Any of the plastic resins can be used.
The mold used in this injection molding is a master mold for manufacturing the
[0016]
In the second step, as shown in FIG. 1B, first, the liquid
[0017]
As described above, the liquid
[0018]
Specific examples of such a liquid
[0019]
Next, after pouring the liquid
[0020]
When placing the
[0021]
In the third step, for example, the
[0022]
In the curing process in the third step, the curing temperature is selected according to the properties of the liquid
[0023]
After the curing is completed, the
[0024]
Next, a method for manufacturing the display panel substrate according to
[0025]
Next, in the second step, as shown in FIG. 2B, a partially vulcanized
[0026]
The partially vulcanized
[0027]
The partially vulcanized
[0028]
As the silicone rubber raw material used here, a commercially available thermosetting type or room temperature curing type, one-component or two-component type, addition type or condensation type can be used. Other components include reaction inhibitors such as methylvinylcyclotetrasiloxane, acetylene alcohols, siloxane-modified acetylene alcohol, hydroperoxide; reinforcing silica, quartz powder, iron oxide, alumina, vinyl group-containing silicone resin And various additives such as pigments, heat-resistant agents, flame retardants, and adhesion improvers.
[0029]
As such partially vulcanized
[0030]
Next, in the third step, the partially vulcanized
[0031]
In such a manufacturing method, the
[0032]
In addition, as shown in FIG. 4, a glassy coating layer 71 can be formed on the surface of the
[0033]
The
[0034]
【Example】
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited by these.
[0035]
Example 1
The manufacturing method described in the reference technique was applied to manufacture a plasma display panel substrate having striped barrier ribs as shown in FIG. Hereinafter, Example 1 is demonstrated based on FIG. First, a
[0036]
Example 2
The manufacturing method according to
[0037]
【The invention's effect】
According to the reference technique and the manufacturing method according to
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic front view for explaining a production method described in a reference technique .
FIG. 2 is a schematic front view for explaining the manufacturing method according to
FIG. 3 is a schematic front view for explaining the manufacturing method according to
FIG. 4 is a schematic front view for explaining another aspect of the manufacturing method according to
FIG. 5 is a schematic front view for explaining the reference technique and the manufacturing method according to
FIG. 6 is a schematic perspective view showing a structural example of a plasma display panel.
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