KR20030017244A - Fabrication method of rolling mold for barrier rib in plasma display panel and method of forming barrier rib using the mold - Google Patents

Fabrication method of rolling mold for barrier rib in plasma display panel and method of forming barrier rib using the mold Download PDF

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KR20030017244A
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plasma display
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박이순
정승원
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송복식
김건환
이광호
최정웅
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주식회사 유피디
박이순
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Abstract

PURPOSE: A method for producing a soft rolling mold and a method for forming barrier ribs are provided to minimize the damage on barrier rib patterns by permitting the mold to be easily removed, while obtaining barrier ribs having uniform heights. CONSTITUTION: A method for producing a soft rolling mold for formation of barrier ribs of a plasma display panel, comprises a first step of depositing a photoresist on the surface of a rear surface substrate(30); a second step of forming a basic mold frame by forming photoresist patterns through the use of a photomask where barrier rib patterns are formed; a third step of injecting a rubber material in a solution state into the basic mold frame; a fourth step of solidifying the rubber material; a fifth step of obtaining a soft mold(32) by separating the solidified rubber material from the basic mold frame; and a sixth step of attaching the soft mold to a hard cylinder in such a manner that the soft mold covers the outer surface of the hard cylinder.

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 소프트 롤링 몰드 제작방법 및 그를 이용한 격벽 형성방법{Fabrication method of rolling mold for barrier rib in plasma display panel and method of forming barrier rib using the mold}Fabrication method for forming barrier ribs of plasma display panel and method for forming barrier ribs using the same {{Fabrication method of rolling mold for barrier rib in plasma display panel and method of forming barrier rib using the mold}

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP) 제조 기술에 관한 것이며, 특히 PDP의 격벽(barrier rib) 형성용 소프트 롤링 몰드 제작방법 및 그를 이용한 격벽 형성방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel (PDP) manufacturing technology, and more particularly, to a method of manufacturing a soft rolling mold for forming a barrier rib of a PDP and a method of forming a partition using the same.

플라즈마 디스플레이 패널(PDP)은 기체 방전시에 생성된 플라즈마를 이용하여 화상을 표시하는 표시소자로서, 기체 방전 표시(gas discharge display) 소자라고도 부른다. PDP는 상판과 하판 사이에 Ne, Xe 등의 방전 기체를 충진하고, 기체 방전을 통해 발생한 진공자외선이 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 형광체를 여기하여 가시광선을 발생시킨다.The plasma display panel (PDP) is a display element for displaying an image by using a plasma generated during gas discharge, and is also called a gas discharge display element. The PDP fills discharge gas such as Ne and Xe between the upper plate and the lower plate, and the vacuum ultraviolet rays generated through the gas discharge excite the red (R), green (G), and blue (B) phosphors to generate visible light.

PDP는 직류(DC)형과 교류(AC)형으로 구분이 되는데, DC형은 플라즈마를 형성하기 위해 외부에서 가해주는 전압인가를 위해 사용되는 전극이 플라즈마에 직접 노출되어 전도전류가 전극을 통해 직접 흐르도록 하는 방식으로, 구조가 비교적 간단한 장점이 있으나 전극이 방전 공간에 노출이 되어 전류제한을 위한 외부저항을 구비해야 하는 단점이 있다. AC형은 전극이 유전체로 덮여 있어 직접 노출되지 않아 변위전류가 흐르도록 하는 방식으로, 유전체로 전극을 덮어 자연적 전류제한을 할 수 있어 방전시 이온충격으로부터 전극이 보호되어 DC형에 비해 수명이 길다. AC형은 방전 셀의 전극 구조에 따라 다시 대향방전형과 면방전형으로 나뉘어 지는데, 대향방전형은 형광체가 이온충격에 의한 형광체 열화로 인해 수명이 단축되는 문제가 있는 반면, 면방전형은 방전을 형광체 반대편면으로 모아 형광체 열화를 최소화함으로써 대향형 구조의 문제점을 극복하였고, 현재 대부분의 PDP에서 이 방식을 채택하고 있다.PDP is divided into direct current (DC) type and alternating current (AC) type. In the DC type, the electrode used to apply an external voltage to form a plasma is directly exposed to the plasma so that the conduction current is directly transmitted through the electrode. In such a way as to flow, the structure has a relatively simple advantage, but the electrode is exposed to the discharge space has the disadvantage that it must have an external resistance for limiting the current. AC type is a method that the electrode is covered with a dielectric so that it is not directly exposed so that the displacement current flows, and the current is limited by covering the electrode with a dielectric, which protects the electrode from ion shock during discharge, resulting in longer life than DC type. . AC type is divided into counter discharge type and surface discharge type again according to the electrode structure of discharge cell. In the opposite discharge type, there is a problem that the phosphor is shortened due to phosphor deterioration due to ion shock, whereas the surface discharge type discharges the phosphor. Overcoming the problem of the opposite structure by minimizing phosphor degradation by gathering on the opposite side, most PDPs adopt this method.

한편, 다양한 평판 디스플레이 중에서도 PDP는 박형, 대화면의 구현이 용이하여 증권거래소의 현황게시판, 화상회의용 디스플레이, 그리고 최근 대화면의 벽걸이 TV에 이르기까지 이용 분야가 증대되고 있는 추세이다.On the other hand, among various flat panel displays, PDP is easy to implement a thin screen and a large screen, and thus, the field of use of the PDP is increasing from the current bulletin board of the stock exchange, the video conferencing display, and the large wall-mounted TV.

도 1은 면방전형 AC PDP의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a surface discharge type AC PDP.

도 1을 참조하면, 면방전형 AC PDP는 배면기판(10), 어드레스 전극(11), 백색 유전체(12), 격벽(13) 등이 배면판을 이루며, 전면기판(14), 투명 전극(15), 버스 전극(16), 투명 유전체(17), 유전체 보호막(18), 블랙 스트라이프(black stripe)(도시되지 않음) 등이 전면판을 이룬다. 또한, PDP에서 색상을 구현하기 위한 형광체(R, G, B)(19)는 투과형의 경우는 전면판에, 반사형의 경우는 도시된 바와 같이 배면판의 격벽(13) 사이에 배치된다.Referring to FIG. 1, in the surface discharge type AC PDP, a back substrate 10, an address electrode 11, a white dielectric 12, a partition 13, and the like form a back substrate, the front substrate 14, and the transparent electrode 15. ), The bus electrode 16, the transparent dielectric 17, the dielectric protective film 18, a black stripe (not shown), and the like form a front plate. In addition, phosphors R, G, and B 19 for realizing color in the PDP are disposed on the front plate in the case of a transmissive type and between partition walls 13 of the back plate in the case of a reflective type.

이 중에서 격벽은 50∼80㎛ 내외의 선폭을 가진 3차원 구조를 이루고 있기 때문에 그 형성 공정이 까다롭다. 현재 PDP의 격벽 형성 공정으로는 스크린 인쇄법(Screen printing method), 샌드 블라스트법(Sand blast method), 사진식각법(Photolithography), 금형법(Press method), LTCC-M법(Low Temperature Co-fired Ceramic on Metal) 등이 알려져 있다.Among these, the partition wall has a three-dimensional structure with a line width of about 50 to 80 µm, which makes the formation process difficult. Currently, PDP bulkhead formation process includes screen printing method, sand blast method, photolithography, press method, and LTCC-M (Low Temperature Co-fired). Ceramic on Metal) and the like are known.

스크린 인쇄법은 스크린 마스크(screen mask)를 이용하여 원하는 패턴(pattern) 인쇄 및 건조 과정을 수회 반복하는 방법이다. 이러한 스크린 인쇄법은 원하는 격벽 높이를 얻기까지 여러 차례 반복 인쇄를 수행해야 하기 때문에 격벽의 기울어짐, 격벽의 높이 편차에 따른 방전 특성의 불안정 및 형광체 형성시균일성 저하, 스크린 마스크 메쉬(screen mask mesh) 자국 등이 문제점으로 지적되어 재현성 불량에 따른 수율 저하가 예상되며, 스크린 마스크의 한계로 인해 고정세 패턴의 제작이 상당히 어려운 단점이 있다. 즉, 종래의 인쇄법으로 격벽을 형성하고자 할 때, 전술한 바와 같이 원하는 높이에 이를 때까지 인쇄 및 건조 과정을 여러 차례 반복해야 하는데, 이러한 과정은 많은 시간을 필요로 하기 때문에 생산성이 떨어질 뿐만 아니라, 시간의 흐름에 따라 스크린 마스크의 장력(tension), 페이스트의 특성 등이 변할 수 있으며 정렬 후에도 처음 위치에 똑바로 인쇄가 되지 않는 문제점이 있다. 참고적으로, 1회 인쇄시 형성되는 격벽의 높이는 대략 15∼25㎛ 정도이며, 원하는 격벽의 높이는 보통 100∼200㎛에 달한다. 또한 마스크 제작 과정에서 발생한 무늬 얼룩 때문에 인쇄시 격벽의 평탄성이 나빠질 수 있으며, 이는 형광체 형성에 영향을 미칠 뿐만 아니라 화상 구현시 불안정한 방전을 일으키는 원인이 되고 있다. 아울러 마스크 패턴 폭과 스크린 메쉬의 한계 등으로 인쇄가 가능한 패턴의 폭이 제한되어 고정세, 고화질의 패널을 제작하는데 걸림돌로 지적되고 있다.Screen printing is a method of repeating a desired pattern printing and drying process several times using a screen mask. Since the screen printing method requires repeated printing several times until the desired barrier height is obtained, the barrier is inclined, the instability of the discharge characteristics due to the height deviation of the barrier, the uniformity of phosphor formation, and the screen mask mesh ) Markings are pointed out as a problem, and yields are expected to be low due to poor reproducibility, and due to limitations of screen masks, it is difficult to produce high-definition patterns. In other words, when forming a partition by the conventional printing method, as described above, the printing and drying process must be repeated several times until the desired height is reached, and this process requires a lot of time, not only decreases productivity. As a result, the tension of the screen mask, the characteristics of the paste may change with time, and there is a problem in that the printing is not directly performed at the initial position even after the alignment. For reference, the height of the barrier rib formed in one printing is about 15 to 25 µm, and the height of the desired barrier rib is usually 100 to 200 µm. In addition, the flatness of the partition wall during printing may be deteriorated due to the pattern stains generated during the mask fabrication process, which not only affects the formation of the phosphor but also causes an unstable discharge during image formation. In addition, the width of the printable pattern is limited due to the mask pattern width and the limitation of the screen mesh, and it is pointed out as an obstacle in producing a high-definition and high-quality panel.

샌드블라스트법은 격벽 페이스트를 300∼400㎛ 두께로 도포 및 건조시킨 후 내샌딩성을 가지는 드라이 필름 레지스트(dry film resist, DFR)를 라미네이팅(laminating)하고 노광 및 현상 공정을 통해 이를 패터닝한 다음, 그 패턴을 마스크로 사용하여 격벽 페이스트를 미세한 연마제 알갱이로 깍아내는 공정이다. 이러한 샌드블라스트법은 인쇄법에 비해 고정세의 격벽 형성이 가능한 장점이 있으나, 공정이 복잡하고 재료 손실이 많으며, 샌드블라스트 과정에서 생성된 분말혼합물의 분리가 쉽지 않고 공해 물질이기 때문에 비환경친화적이라는 문제점이 있다. 무엇보다도 샌드블라스트 과정에서 유리기판에 유발되는 물리적인 충격이 크기 때문에 후속 소성 과정에서 격벽에 균열이 발생하는 것이 단점으로 지적되고 있다.In the sand blasting method, after the barrier paste is coated and dried to a thickness of 300 to 400 μm, the dry film resist (DFR) having a sanding resistance is laminated and patterned through an exposure and development process. Using this pattern as a mask, the partition paste is scraped off with fine abrasive grains. This sandblasting method has the advantage that it is possible to form a high-definition bulkhead compared to the printing method, but the process is complicated and material loss, and the separation of the powder mixture produced during the sandblasting process is not easy and environmentally friendly because it is a pollution material There is a problem. Above all, it is pointed out that the cracks in the partition wall during the subsequent firing process are large because the physical impact caused on the glass substrate during the sandblasting process is large.

사진식각법은 감광성 격벽 페이스트를 도포 및 건조한 다음 포토마스크를 사용하여 노광한 후 비노광 부분의 페이스트를 현상액으로 선택적으로 용해시켜 제거하는 공정이다. 이러한 사진식각법은 정밀한 치수 조정이 가능한 장점이 있는 반면, 페이스트의 손실이 크고, 감광성 격벽 페이스트의 하부까지 감광이 어렵기 때문에 100㎛ 이상 높이의 격벽 형성이 곤란하다는 단점이 있다.Photolithography is a process of applying and drying the photosensitive partition wall paste, exposing with a photomask, and then selectively dissolving and removing the non-exposed portion of the paste with a developer. While the photolithography method has an advantage in that precise dimension adjustment is possible, the loss of the paste is large and it is difficult to form a barrier rib having a height of 100 μm or more because it is difficult to photosensitize to the lower portion of the photosensitive barrier paste.

금형법은 기판 상에 그린테이프(green tape)를 부착시킨 후, 격벽 패턴이 음각된 판상의 금속 몰드를 그린테이프 위에 정렬시키고, 고온 조건하에서 가압 성형을 실시한 다음, 판상의 금속 몰드를 수직 방향으로 분리시켜 격벽을 형성하는 공정이다. 이러한 금형법은 공정이 매우 단순하고 재료 이용률이 높다는 장점을 가지고 있는 반면, 수득된 격벽의 높이 균일도가 떨어지고, 대면적의 몰드에 가해지는 압력으로 인하여 유리기판의 파손이 우려되며 가압 성형 후 판상의 금속 몰드와 그린테이프 사이의 접촉 면적이 넓기 때문에 분리(탈형)가 어렵다는 단점이 있다.In the mold method, after the green tape is attached on the substrate, the plate-shaped metal mold having the partition pattern engraved thereon is aligned on the green tape, subjected to pressure molding under high temperature conditions, and then the plate-shaped metal mold is placed in the vertical direction. It is a process of separating and forming a partition. This mold method has the advantage that the process is very simple and the material utilization is high, while the height uniformity of the obtained partition wall is inferior, and the glass substrate is broken due to the pressure applied to the mold of a large area. Since the contact area between the metal mold and the green tape is large, separation (demolding) is difficult.

LTCC-M(Low Temperature Co-fired Ceramic on Metal)법은 금속기판(예컨대, Ti) 상에 그린테이프를 부착시키고, 그린테이프 상에 어드레스 전극과 유전체층을 형성한 후, 판상의 금속 몰드인 엠보싱 몰드(embossing mold)로 가압 성형하여 격벽을 형성하는 공정이다. 이러한 LTCC-M법은 공정이 간단하고 설비 및 재료비를 절감하며 동시 소성시 격벽 패턴의 수축이 거의 없어 정렬 문제를 해결할 수 있다.또한, 무거운 유리기판을 얇은 금속판으로 대체하기 때문에 배면기판의 무게를 줄일 수 있는 장점이 있고, 열전도도가 높은 금속기판을 사용함으로써 배면기판의 열방출 특성이 우수한 장점이 있다. 그러나, 실제 PDP의 양산에 적용되기 위해서는 가압 성형 후 탈형의 용이성 확보, 동시 소성시 발생하는 휨(camber) 억제, 가압 성형시 배면기판의 휨 방지 등의 기술적인 사항을 해결해야 한다.Low Temperature Co-fired Ceramic on Metal (LTCC-M) method attaches a green tape on a metal substrate (e.g., Ti), forms an address electrode and a dielectric layer on the green tape, and then forms an embossing mold, which is a plate-shaped metal mold. It is a process of forming a partition by press molding with an embossing mold. The LTCC-M method simplifies the process, saves equipment and materials costs, and eliminates the shrinkage of the bulkhead pattern during simultaneous firing, which solves the alignment problem. In addition, the weight of the back substrate is reduced by replacing the heavy glass substrate with a thin metal plate. There is an advantage that can be reduced, and by using a metal substrate with high thermal conductivity there is an advantage of excellent heat dissipation characteristics of the back substrate. However, in order to be applied to mass production of PDP, technical matters such as securing ease of demoulding after pressure forming, suppressing warp generated during simultaneous firing, and preventing bending of back substrate during pressure forming should be solved.

한편, 금형법의 단점인 가압 성형시의 높은 압력에 의한 유리기판의 손상을 줄이기 위하여 롤링 몰드법(rolling mold method)이 제안된 바 있다. 롤링 몰드법은 외주면에 스트라이프 형태의 격벽 형상이 음각된 금속 실린더(롤링 몰드)를 롤링시켜 기판 상에 도포된 격벽 페이스트를 가압 성형하는 공정으로, 롤링 몰드를 기판에 대해 수평 방향으로 롤링시켜 성형하기 때문에 유리기판에는 기존의 금형법에 비해 작은 압력이 전달되어 유리기판의 손상을 방지하고, 번거로운 탈형 과정을 필요로 하지 않는 장점이 있다. 그러나, 금속의 가공이 용이하지 않아 정밀한 몰드 제작이 어렵고, 이에 따라 몰드 제작 단가가 높은 단점이 있으며, 성형시 롤링이 진행됨에 따라 페이스트가 몰드에 달라붙어 연속 공정시 고정세의 균일한 격벽 패턴을 얻기 힘든 문제점이 있었다.On the other hand, a rolling mold method (rolling mold method) has been proposed in order to reduce the damage of the glass substrate due to the high pressure during the press molding, which is a disadvantage of the mold method. The rolling mold method is a process of pressing a barrier rib paste applied on a substrate by rolling a metal cylinder (rolling mold) in which a stripe-shaped barrier rib is engraved on an outer circumferential surface thereof. Therefore, the glass substrate has a small pressure compared to the conventional mold method to prevent damage to the glass substrate, there is an advantage that does not require a cumbersome demolding process. However, it is difficult to manufacture metal molds because it is not easy to process metals, and thus, there is a disadvantage in that mold manufacturing costs are high.As the rolling progresses during molding, the paste adheres to the mold, so that a uniform partition pattern of high-definition can be obtained in a continuous process. There was a hard problem to get.

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 유리기판의 휨 또는 손상을 방지하면서, 연속 공정시에도 고정세의 균일한 격벽을 수득할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 소프트 롤링 몰드제작방법 및 그를 이용한 격벽 형성방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been proposed to solve the above problems of the prior art, for preventing the formation or damage of glass substrates, and for forming partition walls of the plasma display panel, which can obtain a high-definition uniform partition even in a continuous process. It is an object of the present invention to provide a soft rolling mold production method and a partition wall formation method using the same.

도 1은 면방전형 AC PDP의 단면도.1 is a cross-sectional view of a surface discharge type AC PDP.

도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 일 실시예에 따른 PDP의 격벽 형성용 소프트 롤링 몰드 제작 공정도.2a to 2e is a soft rolling mold manufacturing process diagram for forming the partition wall of the PDP according to an embodiment of the present invention.

도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 소프트 롤링 몰드를 이용한 PDP의 격벽 형성 공정도.3A to 3C are diagrams illustrating a process for forming barrier ribs of a PDP using the soft rolling mold of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

30 : 배면기판30: back substrate

31 : 격벽 페이스트31: bulkhead paste

32 : 소프트 롤링 몰드32: soft rolling mold

상기의 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따르면, 기본 몰드틀용 기판 상에 포토레지스트를 도포하는 단계; 격벽 패턴이 그려진 포토마스크를 사용하여 포토레지스트 패턴을 형성하여 기본 몰드틀을 형성하는 단계; 상기 기본 몰드틀에 액체 상태의 고무 원료를 주입하는 단계; 상기 고무 원료를 경화시키는 단계; 상기 경화된 고무 원료를 상기 기본 몰드틀로부터 분리시켜 소프트 몰드를 얻는 단계; 및 상기 소프트 몰드를 하드 실린더의 외주면을 감싸도록 접착하는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 소프트 롤링 몰드 제작방법이 제공된다.According to an aspect of the present invention for achieving the above technical problem, the step of applying a photoresist on a substrate for a base mold; Forming a basic mold by forming a photoresist pattern using a photomask on which a partition pattern is drawn; Injecting a rubber raw material in a liquid state into the base mold; Curing the rubber raw material; Separating the cured rubber stock from the base mold to obtain a soft mold; And attaching the soft mold to surround the outer circumferential surface of the hard cylinder, thereby providing a soft rolling mold for forming a partition wall of the plasma display panel.

또한, 본 발명의 다른 측면에 따르면, 상기의 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 소프트 롤링 몰드 제작방법에 따라 제작된 소프트 롤링 몰드를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성방법에 있어서, 기판 상에 격벽용 물질막을 형성하는 단계; 상기 격벽용 물질막 상에 격벽 패턴이 음각된 상기 소프트 롤링 몰드를 정렬시키는 단계; 상기 소프트 롤링 몰드를 롤링시키면서 격벽 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 격벽 패턴을 소성하는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성방법이 제공된다.According to another aspect of the present invention, in the method for forming a partition wall of a plasma display panel using a soft rolling mold manufactured according to the method for fabricating a partition wall forming soft rolling mold of the plasma display panel, a barrier material film is formed on a substrate. Forming; Aligning the soft rolling mold having the partition pattern engraved on the barrier material layer; Forming a barrier rib pattern while rolling the soft rolling mold; And firing the partition pattern.

종래기술에 따른 PDP의 격벽 형성용 롤링 몰드는 금속 재질을 사용하여 제작하였다. 금속 재질의 롤링 몰드는 제작이 까다롭고, 외주면에 고정세의 격벽 패턴을 음각으로 제작하기 어려울 뿐 아니라 표면장력 및 마찰력이 크므로 이형이 용이하지 않아 고정세의 균일한 격벽을 얻기가 어려운 단점이 있었다. 본 발명에서는 실리콘 고무(silicon rubber), 우레탄 고무(urethane rubber) 등과 같이 탄성을 가지는 고무 재료를 사용하여 굴곡이 용이한 고정세의 소프트 몰드를 제작한 후, 이 소프트 몰드를 금속재의 실린더 외주면에 접착시켜 소프트 롤링 몰드를 제작하고, 그를 이용한 롤링 몰드법으로 격벽을 형성한다. 이와 같이 소프트 롤링 몰드를 사용하여 격벽을 형성하는 경우, 소프트 롤링 몰드의 표면장력 및 마찰력이 작으므로 가압 성형된 격벽층으로부터 이형이 용이할 뿐 아니라 고정세의 균일한 격벽을 형성할 수 있다.The rolling mold for forming a partition wall of the PDP according to the prior art was manufactured using a metal material. Rolling mold made of metal is difficult to manufacture, and it is difficult to produce high-definition bulkhead pattern on the outer circumferential surface as well as the surface tension and frictional force are not easy to release, so it is difficult to obtain a high-definition uniform bulkhead. there was. In the present invention, using a rubber material having elasticity, such as silicone rubber, urethane rubber, etc. to produce a high-precision soft mold that is easy to bend, the soft mold is bonded to the outer cylinder surface of the metal material A soft rolling mold is produced, and a partition is formed by the rolling mold method using the same. As described above, in the case of forming the partition wall using the soft rolling mold, since the surface tension and the frictional force of the soft rolling mold are small, it is not only easy to release the mold from the press-molded partition layer, but also it is possible to form a highly uniform partition wall.

이하, 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 보다 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여 본 발명의 바람직한 실시예를 소개하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be introduced in order to enable those skilled in the art to more easily carry out the present invention.

도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 일 실시예에 따른 소프트 롤링 몰드 제작 공정도로서, 이하 이를 참조하여 설명한다.2a to 2e is a soft rolling mold manufacturing process according to an embodiment of the present invention, will be described below with reference to this.

우선, 도 2a에 도시된 바와 같이 금속기판(구리, 니켈 등)(20) 또는 유리기판 표면 위에 PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition) 장비를 사용하여 접착층(21)을 증착한다. 이때, 접착층(21)으로는 비정질실리콘을 사용하는 것이 바람직하며, 0.1㎛∼0.2㎛ 두께로 증착한다.First, as shown in FIG. 2A, an adhesive layer 21 is deposited on a metal substrate (copper, nickel, etc.) 20 or a glass substrate using plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) equipment. At this time, it is preferable to use amorphous silicon as the adhesive layer 21, and it is deposited by 0.1 micrometer-0.2 micrometer thickness.

다음으로, 도 2b에 도시된 바와 같이 300㎛ 이상의 두꺼운 막을 형성하기가용이한 포토레지스트(예컨대, microchem사의 SU 8)를 스핀 도포(900rpm, 30sec)하고, 건조(90℃/20min) 공정을 실시한다.Next, as shown in Fig. 2B, a photoresist (e.g., SU 8 of microchem), which is easy to form a thick film of 300 µm or more, is spin-coated (900 rpm, 30 sec) and dried (90 DEG C / 20 min). .

이어서, 도 2c에 도시된 바와 같이 격벽 패턴이 그려진 포토마스크를 사용하여 노광(360∼420nm 노광원, 600∼1000mJ/cm2노광 에너지) 공정을 실시하고, 현상을 실시하여 기본 몰드틀을 제작한다.Subsequently, an exposure (360-420 nm exposure source, 600-1000 mJ / cm 2 exposure energy) process is performed using a photomask on which a partition pattern is drawn as shown in FIG. 2C, and development is performed to prepare a basic mold. .

계속하여, 도 2d에 도시된 바와 같이 진공 주형기 내에서 액상 RTV 투명 실리콘 고무 원료(예컨대, 실리콘 수지 용액:경화제=5∼15:1) 또는 우레탄 고무 원료를 기본 몰드틀에 주입하고, 기포를 제거한 후, 오븐(oven)에서 약 80℃ 온도로 약 5분 동안 경화시킨다. 이후 기본 몰드틀로부터 경화된 액상 RTV 투명 실리콘 고무를 가장자리 부분부터 점진적으로 분리시켜 소프트 몰드(23)를 얻는다.Subsequently, the liquid RTV transparent silicone rubber raw material (for example, silicone resin solution: hardener = 5 to 15: 1) or urethane rubber raw material is injected into the basic mold in a vacuum molding machine as shown in FIG. After removal, the oven is cured at about 80 ° C. for about 5 minutes. Then, the liquid RTV transparent silicone rubber cured from the base mold is gradually separated from the edge portion to obtain the soft mold 23.

다음으로, 도 2e에 도시된 바와 같이 금속 실린더(24)를 감싸도록 소프트 몰드(23)를 접착시켜 소프트 롤링 몰드(25)를 형성한다.Next, as illustrated in FIG. 2E, the soft mold 23 is bonded to surround the metal cylinder 24 to form the soft rolling mold 25.

상기와 같이 본 발명에서는 굴곡 탄성이 있는 실리콘 고무나 우레탄 고무를 사용하여 PDP의 격벽 형성용 소프트 롤링 몰드를 제작한다. 한편, 본 발명에서는 포토레지스트를 사용한 기본 몰드틀을 제작함에 있어서, 접착층으로서 비정질실리콘을 사용한다. 비정질실리콘은 금속기판 또는 유리기판은 물론 포토레지스트와의 접착성이 우수하여 안정된 몰드 제작 공정을 보장할 수 있다. 또한, 상기와 같은 공정을 통해 몰드를 제조하는 경우, 포토마스크의 설계 변경만으로 다양한 셀 구조(격벽 구조)를 용이하게 구현할 수 있다.As described above, in the present invention, a soft rolling mold for forming partition walls of a PDP is manufactured by using a silicone rubber or urethane rubber having flexural elasticity. On the other hand, in the present invention, amorphous silicon is used as the adhesive layer in fabricating the basic mold using the photoresist. Amorphous silicon is excellent in adhesion with a photoresist as well as a metal substrate or a glass substrate can ensure a stable mold manufacturing process. In addition, when manufacturing a mold through the above process, it is possible to easily implement a variety of cell structure (b partition structure) only by changing the design of the photomask.

도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 소프트 롤링 몰드를 이용한 PDP의 격벽 형성 공정도이다.3A to 3C are diagrams illustrating a process for forming barrier ribs of a PDP using the soft rolling mold of the present invention.

본 실시예에 따른 소프트 롤링 몰드를 이용한 PDP의 격벽 형성 공정은 우선, 도 3a에 도시된 바와 같이 배면기판(30) 상에 격벽 페이스트(31)를 200∼300㎛의 두께로 도포한다.In the process of forming the partition wall of the PDP using the soft rolling mold according to the present embodiment, first, as shown in FIG. 3A, the partition wall paste 31 is applied on the back substrate 30 to a thickness of 200 to 300 μm.

다음으로, 도 3b에 도시된 바와 같이 소프트 롤링 몰드(32)를 사용하여 격벽 패턴을 형성한다. 이때, 기판 온도를 30∼80℃의 온도로 유지한 상태에서 소프트 롤링 몰드(32)에 적절한 압력을 가하면서 롤링시킨다.Next, as shown in FIG. 3B, the partition pattern is formed using the soft rolling mold 32. At this time, it rolls, applying an appropriate pressure to the soft rolling mold 32, maintaining the board | substrate temperature at the temperature of 30-80 degreeC.

도 3c는 소프트 롤링 몰드(32)를 사용하여 격벽 패턴을 형성한 후, 500∼580℃의 온도로 소성 공정을 실시하여 격벽 페이스트(31) 내의 유기물 성분을 연소시켜 제거하고 무기 격벽 재료만을 잔류시켜 110∼130㎛ 높이의 격벽(31a)을 수득한 상태를 나타낸다.FIG. 3C shows that the barrier rib pattern is formed using the soft rolling mold 32, and then a baking process is performed at a temperature of 500 to 580 ° C. to burn and remove the organic component in the barrier paste 31, leaving only the inorganic barrier material. The state which obtained the partition 31a of 110-130 micrometers in height is shown.

상기와 같은 공정을 실시하는 경우, 종래의 금속 재질의 롤링 몰드를 사용하는 경우와 마찬가지로 공정이 단순하고 기판의 손상을 방지할 수 있는 장점이 있으며, 금속이 아닌 탄성 재질의 롤링 몰드를 사용하기 때문에 균일한 격벽 패턴을 얻을 수 있다.In the case of performing the above process, the process is simple and similar to the case of using a conventional metal rolling mold, there is an advantage that can prevent damage to the substrate, because it uses a rolling mold of elastic material rather than metal A uniform partition pattern can be obtained.

실제 실험 결과, 종래의 금속 재질의 롤링 몰드를 사용하여 격벽을 형성하는 경우, 격벽 페이스트와 금속 재질의 롤링 몰드 사이의 마찰력으로 인하여 일부 격벽 패턴이 열화된 상태가 관찰되었으며, 형성된 격벽의 높이가 평균 높이 대비 약 5%의 편차를 나타내는 반면, 본 발명에 따라 수득된 격벽의 경우 평균 높이 대비0.5% 이내의 편차를 나타내었다. 한편, 종래의 금속 재질의 롤링 몰드를 사용하는 경우, 격벽 페이스트가 롤링 몰드의 격벽 셀 구조 사이에 달라붙어 연속 공정시 균일한 격벽의 형성이 어려웠으나, 본 발명에서 소프트 롤링 몰드의 재료로 사용되는 실리콘 고무나 우레탄 고무는 금속에 비해 표면장력 및 마찰력이 작기 때문에 성형을 위한 롤링 과정에서 페이스트가 달라붙는 현상이 줄어들어 연속 공정시에도 균일한 격벽의 형성이 가능함을 확인할 수 있었다.As a result of the experiment, when the partition wall is formed by using a conventional metal rolling mold, some partition wall patterns are degraded due to the friction force between the partition paste and the metal rolling mold, and the height of the partition walls is averaged. While a deviation of about 5% relative to the height was shown, the partition obtained according to the present invention exhibited a deviation within 0.5% of the average height. On the other hand, in the case of using a conventional metal rolling mold, it is difficult to form a uniform partition wall in a continuous process because the partition paste is stuck between the partition cell structures of the rolling mold, but it is used as a material of the soft rolling mold in the present invention. Since silicone rubber and urethane rubber have smaller surface tension and friction than metal, it is possible to reduce the sticking of paste in the rolling process to form uniform barrier ribs in a continuous process.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible in the art without departing from the technical spirit of the present invention. It will be apparent to those of ordinary knowledge.

이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명은 안정된 몰드 제작 공정을 보장하는 효과가 있으며, 유리기판의 휨이나 손상을 방지할 수 있어 PDP의 수율을 높일 수 있으며, 몰드의 탈형이 용이하여 탈형 과정에서 발생하는 격벽 패턴의 손상을 최소화할 수 있으며, 균일한 높이의 격벽을 수득할 수 있어 고정세 PDP의 제조 기술을 확보하는 효과가 있다. 또한, 본 발명은 포토레지스트를 사용한 기본 몰드틀 제작을 통해 다양한 격벽 패턴을 용이하게 구현할 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention has the effect of ensuring a stable mold manufacturing process, can prevent the bending or damage of the glass substrate can increase the yield of PDP, and the mold wall is easy to demould the mold generated in the demolding process Damage to the pattern can be minimized, and partition walls having a uniform height can be obtained, thereby securing the manufacturing technology of the high-definition PDP. In addition, the present invention has an effect that can easily implement a variety of partition pattern through the production of a basic mold using a photoresist.

Claims (8)

기본 몰드틀용 기판 상에 포토레지스트를 도포하는 단계;Applying a photoresist on the base mold substrate; 격벽 패턴이 그려진 포토마스크를 사용하여 포토레지스트 패턴을 형성하여 기본 몰드틀을 형성하는 단계;Forming a basic mold by forming a photoresist pattern using a photomask on which a partition pattern is drawn; 상기 기본 몰드틀에 액체 상태의 고무 원료를 주입하는 단계;Injecting a rubber raw material in a liquid state into the base mold; 상기 고무 원료를 경화시키는 단계;Curing the rubber raw material; 상기 경화된 고무 원료를 상기 기본 몰드틀로부터 분리시켜 소프트 몰드를 얻는 단계; 및Separating the cured rubber stock from the base mold to obtain a soft mold; And 상기 소프트 몰드를 하드 실린더의 외주면을 감싸도록 접착하는 단계Bonding the soft mold to surround the outer circumferential surface of the hard cylinder 를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 소프트 롤링 몰드 제작방법.Soft rolling mold manufacturing method for forming a partition wall of the plasma display panel comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기본 몰드틀용 기판 표면에 접착층으로서 비정질실리콘을 증착하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 소프트 롤링 몰드 제작방법.And depositing amorphous silicon as an adhesive layer on the surface of the substrate for the basic mold mold. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 고무 원료는 우레탄 고무 원료인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 소프트 롤링 몰드 제작방법.The rubber raw material is a urethane rubber raw material, the soft rolling mold manufacturing method for forming a partition wall of the plasma display panel. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 고무 원료는 실리콘 고무 원료인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 소프트 롤링 몰드 제작방법.The rubber raw material is a soft rolling mold for forming a partition wall of the plasma display panel, characterized in that the silicon rubber raw material. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 기본 몰드틀용 기판은 금속기판 또는 유리기판인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 몰드 제작방법.The base mold mold substrate is a metal substrate or a glass substrate, characterized in that the mold forming method for forming the partition wall of the plasma display panel. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 실리콘 고무는 액상 RTV 투명 실리콘 고무인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 몰드 제작방법.The silicon rubber is a liquid crystal RTV transparent silicone rubber, characterized in that the partition wall forming mold manufacturing method of the plasma display panel. 제1항의 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 소프트 롤링 몰드 제작방법에 따라 제작된 소프트 롤링 몰드를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성방법에 있어서,A method of forming a partition wall of a plasma display panel using a soft rolling mold manufactured according to the method of manufacturing a partition wall forming soft rolling mold of claim 1, 기판 상에 격벽용 물질막을 형성하는 단계;Forming a barrier material film on the substrate; 상기 격벽용 물질막 상에 격벽 패턴이 음각된 상기 소프트 롤링 몰드를 정렬시키는 단계;Aligning the soft rolling mold having the partition pattern engraved on the barrier material layer; 상기 소프트 롤링 몰드를 롤링시키면서 격벽 패턴을 형성하는 단계; 및Forming a barrier rib pattern while rolling the soft rolling mold; And 상기 격벽 패턴을 소성하는 단계Firing the partition pattern 를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성방법.A partition wall forming method of a plasma display panel comprising a. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 격벽 패턴을 형성하는 단계에서,In the forming of the barrier rib pattern, 상기 기판 온도를 30∼80℃로 유지하면서 상기 소프트 롤링 몰드를 롤링시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성방법.And rolling the soft rolling mold while maintaining the substrate temperature at 30 to 80 ° C.
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