JP3934708B2 - 置換されたｎ−エチルグリシン誘導体の製法 - Google Patents
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Description
【０００１】
本発明は、ＥＰ−Ａ ６７２ ６６１に記載されているＰＮＡおよびＰＮＡ／ＤＮＡハイブリッドを合成するための置換されたＮ−エチルグリシン誘導体を製造する新規な改善された方法に関するものである。これらの置換されたＮ−エチルグリシン誘導体は、ＥＰ−Ａ ６７２ ６７７に記載されているＰＮＡおよびＰＮＡ／ＤＮＡハイブリッドを製造するために使用される。これらの出願は、遺伝子発現の阻害剤（アンチセンスオリゴヌクレオチド、リボザイム、センスオリゴヌクレオチドおよびトリプレックス−形成オリゴヌクレオチド）としての、核酸を検出するプローブとしてのおよび分子生物学における補助剤としてのこれらの物質の使用に関するものである。
本発明の目的は、これらの置換されたＮ−エチルグリシン誘導体の簡易で経済的な製法の提供である。
【０００２】
式Ｉ
【化７】
〔上記式において、
ＰＧは、弱酸に対して不安定でありそしてウレタン型、例えば１−（１−アダマンチル）−１−メチルエトキシカルボニル（Ａｄｐｏｃ）、１−（３,５−ジ第３ブチルフェニル）−１−メチルエトキシカルボニル（ｔ−Ｂｕｍｅｏｃ）および１−メチル−１−（４−ビフェニル）エチルオキシカルボニル（Ｂｐｏｃ）および３,５−ジメトキシフェニル−２−プロピル−２−オキシカルボニル（Ｄｄｚ）またはトリチル型、例えばトリフェニルメチル（Ｔｒｔ）、（４−メトキシフェニル）ジフェニルメチル（Ｍｍｔ）、（４−メチルフェニル）ジフェニルメチル（Ｍｔｔ）、ジ（４−メトキシフェニル）フェニルメチル（Ｄｍｔ）および９−（９−フェニル）キサンテニル（Ｐｉｘｙｌ）のアミノ保護基であり、
【０００３】
Ｘは、ＮＨまたはＯであり、そして
Ｂ′は、ヌクレオチド化学において慣用の塩基、例えば天然塩基、例えばアデニン、シトシン、グアニン、チミンおよびウラシルまたは非天然塩基、例えばプリン、２,６−ジアミノプリン、７−デアザアデニンまたは７−デアザグアニン（これらの両方は、場合によっては、７−位においてハロゲン、（Ｃ1〜Ｃ10）−アルキル、（Ｃ2〜Ｃ10）−アルケニルまたは（Ｃ3〜Ｃ10）−アルキニル、好ましくは塩素、臭素または沃素、（Ｃ3〜Ｃ6）−アルキル、（Ｃ3〜Ｃ6）−アルケニルまたは（Ｃ3〜Ｃ6）アルキニルからなる群からの置換分によって置換されていてもよい）、Ｎ4Ｎ4−エタノシトシン、Ｎ6Ｎ6−エタノ−２,６−ジアミノプリン、５−メチルシトシン、５−（Ｃ3〜Ｃ6）−アルキニルウラシル、５−（Ｃ3〜Ｃ6）−アルキニルシトシン、５−フルオロウラシルまたはプソイドイソシトシン（環外のアミノおよび（または）ヒドロキシル基は、適当な既知の保護基、例えばベンゾイル、イソブタノイル、アセチル、フェノキシアセチル、４−（ｔ−ブチル）ベンゾイル、４−（ｔ−ブチル）フェノキシアセチル、４−（メトキシ）ベンゾイル、２−（４−ニトロフェニル）エチルオキシカルボニル、２−（２,４−ジニトロフェニル）エチルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニルジフェニルカルバモイルまたはホルムアミジン基、好ましくはベンゾイル、イソブタノイル、アセチル、フェノキシアセチル、４−（ｔ−ブチル）ベンゾイルまたは４−（メトキシ）ベンゾイル基によっておよびグアニンに対しては、また２−Ｎ−アセチルおよび６−Ｏ−ジフェニルカルバモイルの組み合わせによって保護されている）である〕の置換されたＮ−エチルグリシン誘導体およびこれらの化合物の塩、好ましくは第三級有機塩、例えばトリエチルアミンまたはピリジンとの塩を製造する新規な方法は、
【０００４】
（ａ） ペプチド化学において慣用のカップリング試薬、例えばカルボジイミド、ホスホニウム試薬、ウロニウム試薬、酸ハライドまたは活性化エステルを使用して適当な溶剤、例えばＤＭＦ、アセトニトリルまたはジクロロメタンまたはこれらの溶剤の混合物中において０〜４５℃、好ましくは室温で式II
【化８】
（式中、
Ｒは、水素またはＸ＝ＮＨである場合は、酸−不安定な保護基、例えばＢｏｃ、ＤｄｚまたはＴｒｔ、好ましくはＢｏｃであり、そして
【０００５】
Ｒ1は、酸に対して不安定でありそしてアミンに対して安定である保護基、例えば第３ブチルおよび（２−クロロフェニル）ジフェニルメチル、好ましくは第３ブチルであり、そして
Ｘは、上述した通りである）の化合物を式III
【化９】
（式中、Ｂ′は、上述した通りである）の化合物と反応させて式IV
【０００６】
【化１０】
（式中、Ｒ、Ｘ、Ｂ′およびＲ1は上述した通りである）の化合物を得、
【０００７】
（ｂ） 次に、適当である場合は陽イオン−捕捉剤、例えばアニソール、チオフェノール、トリエチルシラン等を添加して適当な酸性条件下、例えばトリフルオロ酢酸を使用して適当な溶剤、例えばジクロロメタン、酢酸エチル、ジオキサン等中で酸−不安定エステル保護基Ｒ1を除去することによってそしてＸ＝ＮＨである場合は、同時に酸−不安定保護基Ｒを除去することによって式IVの化合物を式Ｖ
【化１１】
（式中、ＸおよびＢ′は上述した通りである）の化合物に変換し〔Ｘ＝Ｏの式IVの化合物の場合においては、また、式Ｖａ、
【化１２】
のラクトンがこの除去中にある程度形成されるが、このラクトンは水性媒質中で塩基、例えばＮａＯＨまたはトリエチルアミンで処理することによって容易に式Ｖの開鎖誘導体に変換することができる〕、
【０００８】
（ｃ） 適当な溶剤、例えばＤＭＦ、ＮＭＰ、アセトニトリル、ジクロロメタンまたはこれらの溶剤の混合物中で適当な試薬、例えばｔ−Ｂｕｍｅｏｃフルオライド、Ａｄｐｏｃアジド、Ｂｐｏｃアジド、Ｄｄｚ（フェニル）カーボネート、Ｔｒｔ−Ｃｌ、Ｍｔｔ−Ｃｌ、Ｍｍｔ−Ｃｌ、Ｄｍｔ−ＣｌまたはＰｉｘｙｌ−Ｃｌを使用しそして補助塩基、例えばＮＥＭ、ＤＩＰＥＡ、ピリジンまたはトリエチルアミンを使用して式Ｖの化合物を式Ｉの化合物に変換しそしてその後、適当である場合は後者の化合物をその塩に変換することからなる。
【０００９】
ペプチド合成において慣用されている活性化方法は、例えばHouben-Weyl, Methoden der organischen Chemie 〔Methods of oorganic chemistry〕, Volume 15/2に記載されている。一方では、さらに試薬、例えばBOP(B. Castro, J.R. Dormoy, G. Evin and C. Selve, Tetrahedron Lett. 1975, 1219-1222), PyBOP(J. Coste, D. Le-Nguyen and B. Castro, Tetrahedron Lett. 1990, 205-208), BroP(J. Coste, M. -N. Dufoyr, A. Pantaloni and B. Castro, Tatrahedron Lett. 1990, 669-672), PyBroP(J. Coste, E. Frerot, P. Jouin and B. Castro, Tetrahedron Lett. 1991, 1967-1970)およびウロニウム試薬、例えばHBTU(V. Dourtoglou, B. Gross, V. Lambropoulou, C. Zioudrou, Synthesis 1984, 572-574), TBTU, TPTU, TSTU, TNTU, (R. Knorr, A. Trzeciak, W. Bannwarth and D. Gillessen, Tetrahedron Letters 1989, 1972-1930), TOTU(EP-A-0 460 446), HATU(L.A. Carpino, J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 4397-4398), HAPyU, TAPipU(A. Ehrlich, S. Rothemund, M. Brudel, M. Beyermann, L.A. Carpino and M. Bienert, Tetrahedron Lett. 1993, 4781-4784), BOI(K. Akaji, N. Kuriyama, T. Kimura, Y. Fujiwara and Y. Kiso, Tetrahedron Lett, 1992, 3177-3180), プロパンホスホン酸無水物（PPA)(H. Wissmann, H. J. Kleiner, Angew. Chem. 92, 129-130, 1990)または酸クロライドまたは酸フルオライド（L.A. Carpino, H. G. Chao, M. Beyermann and M. Bienert, J. Org. Chem., 56(1991), 2635；J. -N. Bertho, A. Loffet, C. Pinel, F. Reuther and G. Sennyey in E. Giralt and D. Andreu(Eds.) Peptides 1990, Escom Science Publishers B.V. 1991, pp. 53-54；J. Green and K. Bradley, Tetrahedron 1993, 4141-4146), 2,4,6−メシチレンスルホニル−３−ニトロ−1,2,4−トリアゾリド（MSNT)(B. Blankemeyer-Menge, M. Nimitz and R. Frank, Tetrahedron Lett. 1990, 1701-1704), 2,5−ジフェニル−2,3−ジヒドロ−３−オキソ−４−ヒドロキシチオフェンジオキシド（TDO)(R. Kirstgen, R.C. Sheppard, W. Steglich, J. Chem. Soc. Chem. Commun. 1987, 1870-1871)または活性化エステル（D. Hudson)Peptide Res. 1990, 51-55)がそれぞれの文献源に記載されている。
【００１０】
カルボジイミド、例えばジシクロヘキシルカルボジイミドまたはジイソプロピルカルボジイミドの使用が好ましい。また、ホスホニウム試薬、例えばＰｙＢＯＰまたはＰｙＢｒｏＰ、ウロニウム試薬、例えばＨＢＴＵ、ＴＢＴＵ、ＴＰＴＵ、ＴＳＴＵ、ＴＮＴＵ、ＴＯＴＵまたはＨＡＴＵ、ＢＯＩまたは酸クロライドまたは酸フルオライドおよびプロパンホスホン酸無水物（ＰＰＡ）を使用することが好ましい。
【００１１】
Ｘ＝ＮＨである式Ｉの化合物を製造する新規な方法の利点は、アミノエチルグリシンの第一級アミノ官能およびカルボキシル基に対する保護基が、単一の試薬、例えばトリフルオロ酢酸の作用によって、式IVの中間体から同時に除去されるということである。それから、保護基ＰＧを導入することによって、式Ｉの化合物を直接形成する。Ｘ＝Ｏである式Ｉの標記化合物を製造する利点は、一方においてはカルボキシル基の保護が有機溶剤におけるヒドロキシエチルグリシン誘導体の溶解度を改善しそして他方においては式IIIの化合物に対する結合を容易にするということである。
【００１２】
式IIの化合物の合成は、例えば商業的に得ることのできる１,２−ジアミノエタンまたはアミノエタノールを適当なハロ酢酸エステル、例えば商業的に入手することのできるクロロ酢酸第３ブチルまたはブロモ酢酸第３ブチルと反応させることによって行われる。それから、Ｘ＝ＮＨでありそしてＲ＝酸−不安定な保護基である場合は、アミノエチルグリシンエステルを適当な保護基試薬、例えばＤｄｚ（フェニル）カーボネート、Ｔｒｔ−Ｃｌ、ジ第３ブチルジカーボネート、Ｂｏｃ−ＯＮＳｕまたは第３ブチルフェニルカーボネートと反応させる。さらに、他の方法は、モノ保護された１,２−ジアミノエタン、例えばモノ−Ｂｏｃ−ジアミノエタンをハロ酢酸エステル、例えばクロロ酢酸第３ブチルまたはブロモ酢酸第３ブチルと反応させることからなる。
【００１３】
Ｒ＝ＢｏｃでありそしてＲ1＝第３ブチルである式IIの化合物を製造する他の方法は、還元剤としてパラジウム付炭素上の水素を使用したまたはシアノ硼水素化ナトリウムまたはトリアセトキシ硼水素化ナトリウムを使用したエチレンジアミン、モノ−Ｂｏｃ−エチレンジアミン（Ｘ＝ＮＨの場合）またはアミノエタノール（Ｘ＝Ｏの場合）によるグリオキシル酸第３ブチルの還元的アミノ化からなる。この反応に必要なグリオキシル酸第３ブチルは、例えばJ.E. Bishop, J.F. O'ConnellおよびH. Rapoport, J. Org. Chem. 1991, 5078-5091記載のように得ることができそしてモノ−Ｂｏｃ−エチレンジアミンの合成は、例えばKapcho A.P.およびKuell C.S., Synth Commun. (1990), 2559-2564に記載されている。
【００１４】
還元剤としてパラジウム付炭素上の水素またはシアノ硼水素化ナトリウムまたはトリアセトキシ硼水素化ナトリウムを使用したグリシン第３ブチルエステルによるＢｏｃ−グリシナルの還元的アミノ化もまた、同様に、Ｘ＝ＮＨである式IIの化合物を製造するのに適している。この目的に必要なＢｏｃ−グリシナルは、例えばA. Evidente, G. Picalli, A. Sisto, M. Ohba, K. Honda, T. Fujii, Chem. Pharm. Bull. 1992, 1937-1939記載のように製造されグリシン第３ブチルエステルは、商業的に入手できる。
【００１５】
式IIIのヌクレオチド塩基−酢酸誘導体は、相当するヌクレオチド塩基または環外ヒドロキシルまたはアミノ官能において保護されているヌクレオチド塩基を、クロロ酢酸、ブロモ酢酸、ヨード酢酸またはこれらのエステルでアルキル化することによって得ることができる。これに関連して、選択的アルキル化を確保するために、追加的な一時的保護基がヌクレオチド塩基上に導入される。弱酸に対して不安定である保護基ＰＧと相容性の保護基は、すべてヌクレオチド塩基に対する保護基に使用することができる。好ましくは、ベンゾイル、イソブタノイル、アセチル、フェノキシアセチル、４−（ｔ−ブチル）ベンゾイル、４−（ｔ−ブチル）フェノキシアセチル、４−（メトキシ）ベンゾイル、２−（４−ニトロフェニル）エチルオキシカルボニル、２−（２,４−ジニトロフェニル）エチルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニルまたはホルムアミジン基のような保護基が環外アミノ官能に使用される。特に好ましい保護基は、ベンゾイル、イソブタノイル、４−（ｔ−ブチル）ベンゾイル、２−（４−ニトロフェニル）エチルオキシカルボニル、２−（２,４−ジニトロフェニル）エチルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、４−（メトキシ）ベンゾイルまたはパラ−（ｔ−ブチル）フェノキシアセチルまたはパラ−ニトロフェニル−２−エチルオキシカルボニル基である。
【００１６】
さらに、本発明は、式IV〔式中、Ｒ、Ｘ、Ｂ′およびＲ1は上述した通りであるが、Ｒは好ましくは水素またはＸ＝ＮＨである場合は好ましくはＢｏｃであり、Ｒ1は好ましくは第３ブチルである〕の価値ある中間体に関するものである。
【００１７】
【実施例】
実施例１：
ヒドロキシエチルグリシン第３ブチルエステル
（Ｈ−Ｏｅｇ−ＯｔＢｕ）
アミノエタノール３０.２ml（０.５モル）を、ＤＭＦ ２００mlに溶解し、ジイソプロピルエチルアミン１７ml（０.１モル）を加え次いでブロモ酢酸第３ブチル１４.８ml（０.１モル）を滴加する。混合物を、室温で２４時間撹拌し、溶剤を真空下回転蒸発器上で蒸発除去する。残留物を、水１００mlにとり、この溶液を塩化ナトリウムで飽和し、酢酸エチル１００mlで３回抽出する。有機相を少量のＮａＣｌの飽和溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し蒸発乾固する。生成物１１.９６ｇが無色の油として得られた。
ＭＳ（ＥＳ＋)：１７６.２（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.５１（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００１８】
実施例１ａ：
ヒドロキシエチルグリシン第３ブチルエステル
（Ｈ−Ｏｅｇ−ＯｔＢｕ）
アミノエタノール３ml（０.０５モル）を、ＤＭＦ ２０mlに溶解し、ジイソプロピルエチルアミン１.７ml（０.０１モル）を加え次いでクロロ酢酸第３ブチル１.４ml（０.０１モル）を滴加する。混合物を、室温で２４時間撹拌し、溶剤を真空下回転蒸発器上で蒸発除去する。残留物を水２０mlにとりそしてこの溶液を、塩化ナトリウムで飽和し、酢酸エチル２０mlで３回抽出する。有機相を、少量のＮａＣｌの飽和溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し濃縮乾固する。生成物１.９ｇが無色の油として得られた。
ＭＳ（ＥＳ+)：１７６.２（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.５１（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００１９】
実施例２：
Ｎ−（ヒドロキシ）エチル−Ｎ−（（１−チミニル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
（Ｈ−Ｏｅｇ（Ｔ）−ＯｔＢｕ）
Ｈ−Ｏｅｇ−ＯｔＢｕ ８.９ｇ（５３ミリモル）を、ＤＭＦ １００mlに溶解し、チミニル酢酸８.８ｇ（４８ミリモル）、トリエチルアミン１９.４ml（１０６ミリモル）およびＴＯＴＵ １７.４ｇ（５３ミリモル）を順次に加える。混合物を、室温でさらに３時間撹拌し、溶剤を真空下回転蒸発器上で蒸発除去する。残留物を、少量の酢酸エチルと一緒に撹拌する。それによって、生成物が沈殿しはじめる。それから混合物を、４℃で一夜放置し、その後、沈殿した生成物を吸引濾去し、それから少量の酢酸エチルで洗浄し、真空中で乾燥する。収量：無色の物質１１.８ｇ
ＭＳ（ＥＳ+）：３４２.２（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.７５（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００２０】
実施例３：
Ｎ−（ヒドロキシ）エチル−Ｎ−（（１−チミニル）アセチル）グリシン
（Ｈ−Ｏｅｇ（Ｔ）−ＯＨ）
Ｈ−Ｏｅｇ（Ｔ）−ＯｔＢｕ ９.４７ｇ（２８ミリモル）を、ジクロロメタン１５０mlに懸濁しそして９５％トリフルオロ酢酸（水５％）１００mlを加える。形成した透明な溶液を室温で３時間撹拌する。反応混合物を、冷却（０℃）した十分に撹拌したメチル第３ブチルエーテル１リットルに滴加し、それによって生成物を沈殿させる。沈殿した粗製生成物（また、形成した少量のラクトンを含有する）を、ジオキサン１７０ml、水１７０mlおよびトリエチルアミン６.４mlからなる混合物に溶解し全体を室温で２時間撹拌する。それに関連して、ラクトンが開鎖されトリエチルアンモニウム塩が形成される。混合物を蒸発乾固し残留物を真空中で乾燥する。収量：無定形の固体１０.５１ｇ
ＭＳ（ＥＳ+）：２８６.２（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.１２（１０：２：１のジクロロメタン：メタノール：酢酸エチルおよび１％のトリエチルアミン）
【００２１】
実施例４：
Ｎ−（ジ−（４−メトキシフェニル）フェニルメチルオキシ）エチル−Ｎ−（（１−チミニル）アセチル）−グリシン
（Ｄｍｔ−Ｏｅｇ（Ｔ）−ＯＨ）
Ｈ−Ｏｅｇ（Ｔ）−ＯＨ・ＮＥｔ3 １.０ｇ（２.６ミリモル）を、ＤＭＦ １０mlに溶解しトリエチルアミン１.４ml（１０ミリモル）を加える。それから、ジクロロメタン１０ml中のＤｍｔ−Ｃｌ １.８ｇ（５.２ミリモル）を滴加し、混合物を、室温で１６時間撹拌する。溶剤を真空下回転蒸発器上で蒸発除去し、残留物を、ジクロロメタンにとる。この後者の溶液を水で洗浄し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し蒸発する。得られた粗製生成物を、溶離剤として１％のトリエチルアミンを含有する１５：１：１のジクロロメタン／メタノール／酢酸エチルを使用してシリカゲル上のカラムクロマトグラフィーによって精製する。生成物を含有するフラクションを合し濃縮する。生成物９６０mgがフォーム状物質として得られた。
ＭＳ（ＦＡＢ、ＭｅＯＨ／ＮＢＡ）：５８７.３（Ｍ)+
Ｒf＝０.２９（１０：２：１のジクロロメタン：メタノール：酢酸エチルおよび１％のトリエチルアミン）
【００２２】
実施例５：
Ｎ−（ヒドロキシ）エチル−Ｎ−（（１−（Ｎ4−（４−第３ブチルベンゾイル）シトシル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
（Ｈ−Ｏｅｇ（ＣMeOBz）−ＯｔＢｕ）
Ｈ−Ｏｅｇ−ＯｔＢｕ １.８ｇ（１１ミリモル）を、ＤＭＦ １００mlに溶解し、その後、Ｎ4−（４−メトキシベンゾイル）−Ｎ1−カルボキシメチルシトシン３.０ｇ（１０ミリモル）、トリエチルアミン３mlおよびＴＯＴＵ ３.６ｇ（１１ミリモル）を順次に加える。反応混合物を、室温でさらに４時間撹拌し、溶剤を真空下回転蒸発器上で蒸発除去する。残留物を、酢酸エチルにとりこの溶液を炭酸水素ナトリウムの溶液で２回洗浄する。これに関連して、生成物が酢酸エチル相において沈殿する。沈殿した生成物を吸引濾去し、それから少量の酢酸エチルで洗浄し真空中で乾燥する。収量：無色の物質３.０６ｇ
ＭＳ（ＦＡＢ、ＭｅＯＨ／ＮＢＡ）：４６１.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.８１（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００２３】
実施例６：
Ｎ−（ヒドロキシ）エチル−Ｎ−（（１−（Ｎ4−（４−第３ブチルベンゾイル）シトシン）アセチル）グリシン
（Ｈ−Ｏｅｇ（ＣMeOBz）−ＯＨ）
Ｈ−Ｏｅｇ（ＣMeOBz）−ＯｔＢｕ １.５ｇ（３.４ミリモル）を、アニソール２.５mlを含有するジクロロメタン３０mlおよび９５％トリフルオロ酢酸（水５％）２０mlからなる混合物に溶解する。透明な溶液を、室温で５時間撹拌し、冷却（０℃）し十分に撹拌したメチル第３ブチルエーテル５００mlに滴加する。これによって生成物が沈殿する。沈殿した粗製生成物（また、形成された少量のラクトンを含有する）を、ジオキサン２５ml、水２５mlおよびトリエチルアミン０.４４mlからなる混合物に溶解し、この溶液を、室温で３時間撹拌する。これに関連して、ラクトンは開鎖され、トリエチルアンモニウム塩が形成される。混合物を蒸発乾固し、残留物を溶離剤として１％のトリエチルアミンを含有する１０：３：２のジクロロメタン／メタノール／酢酸エチルを使用してシリカゲル上のカラムクロマトグラフィーによって精製する。収量：無定形の固体９２０mg
ＭＳ（ＥＳ+）：４０５.２（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.１６（１０：３：２のジクロロメタン：メタノール：酢酸エチルおよび１％のトリエチルアミン）
【００２４】
実施例７：
Ｎ−（ジ−（４−メトキシフェニル）フェニルメチルオキシ）エチル−Ｎ−（（１−（Ｎ4−（４−メトキシベンゾイル）シトシル）アセチル）グリシン
（Ｄｍｔ−Ｏｅｇ（ＣMeBz）−ＯＨ）
Ｈ−Ｏｅｇ（ＣMeBz）−ＯＨ・ＮＥｔ3 ９２０mg（１.８ミリモル）を、ＤＭＦ １０mlに溶解し、トリエチルアミン１ml（７.２ミリモル）を加える。それからジクロロメタン１０ml中のＤｍｔ−Ｃｌ １.２ｇ（３.６ミリモル）を滴加し、混合物を室温で１６時間撹拌する。それから、溶剤を真空下回転蒸発器上で蒸発除去し残留物をジクロロメタンにとる。この溶液を水で洗浄し有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し蒸発する。得られた粗製生成物を、溶離剤として１％のトリエチルアミンを含有する１５：１：１のジクロロメタン／メタノール／酢酸エチルを使用してシリカゲル上のカラムクロマトグラフィーにより精製する。生成物を含有するフラクションを集め濃縮する。生成物９００mgがフォーム状物質として得られた。
ＭＳ（ＦＡＢ、ＭｅＯＨ／ＮＢＡ）：７０７.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.２４（１０：３：２のジクロロメタン：メタノール：酢酸エチルおよび１％のトリエチルアミン）
【００２５】
実施例８：
Ｎ−（ヒドロキシ）エチル−Ｎ−（９−（Ｎ6−（４−メトキシベンゾイル）アデノシル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
（Ｈ−Ｏｅｇ（ＡMeOBz）−ＯｔＢｕ）
Ｈ−Ｏｅｇ−ＯｔＢｕ ５３４mg（３.３ミリモル）を、ＤＭＦ １０mlに溶解し、その後、Ｎ6−（４−メトキシベンゾイル）−Ｎ9−カルボキシメチルアデニン１.０ｇ（３.１ミリモル）、Ｎ−エチルモルホリン０.７７ml（４.５ミリモル）およびＴＯＴＵ １.０ｇ（３.１ミリモル）を順次に加える。混合物を室温で一夜撹拌し、溶剤を真空下回転蒸発器で蒸発除去する。残留物を酢酸エチルにとりそしてこの溶液を、炭酸水素ナトリウムの溶液および水で２回洗浄する。有機相を、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発により濃縮する。生成物１.３３ｇが得られた。
ＭＳ（ＦＡＢ、ＭｅＯＨ／ＮＢＡ）：４８５.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.６３（３：１：１のｎ−ブタノール：水：酢酸）
【００２６】
実施例９：
Ｎ−（ヒドロキシ）エチル−Ｎ−（９−（Ｎ6−（４−メトキシベンゾイル）アデノシル）アセチル）グリシン
（Ｈ−Ｏｅｇ（ＡMeOBz）−ＯＨ）
Ｈ−Ｏｅｇ(ＡMeOBz)−ＯｔＢｕ １.３ｇ(２.７ミリモル)を、９５％トリフルオロ酢酸(水５％)１５mlに溶解する。透明な溶液を室温で１時間撹拌し、冷却(０℃)した十分に撹拌したジエチルエーテル２５０mlに滴加し、それによって生成物を沈殿させた。沈殿した粗製生成物(また形成された少量のラクトンを含有する)を、ジオキサン１５ml、水１５mlおよびトリエチルアミン０.４mlからなる混合物に溶解し、全体を室温で２時間撹拌する。これに関連してラクトンが開鎖され、トリエチルアンモニウム塩が形成される。混合物を蒸発乾固し残留物を、ピリジンで発煙させて３回蒸発する。残留物は、次の反応に直接使用される。
ＭＳ（ＦＡＢ、ＮＢＡ／ＭｅＯＨ／ＬｉＣｌ）：４３５.２（Ｍ＋Ｌｉ)+
Ｒf＝０.３７（３：１：１のｎ−ブタノール：水：酢酸）
【００２７】
実施例１０：
Ｎ−（ジ−（４−メトキシフェニル）フェニルメチルオキシ）エチル−Ｎ−（９−（Ｎ6−（４−メトキシベンゾイル）アデノシル）アセチル）グリシン
（Ｄｍｔ−Ｏｅｇ（ＡMeOBz）−ＯＨ）
上述した反応で得られたＨ−Ｏｅｇ（ＡMeOBz）−ＯＨ・ＮＥｔ3を、ピリジン１０mlに溶解する。Ｄｍｔ−Ｃｌ １.７ｇ（５ミリモル）を加え、混合物を室温で１６時間撹拌する。溶剤を、真空下回転蒸発器で蒸発除去し、残留物をジクロロメタンにとる。この溶液を、５％水性クエン酸およびＮａＣｌの飽和水溶液で洗浄し、その後有機相を、硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮乾固する。得られた粗製生成物を、溶離剤として１％のトリエチルアミンを含有する１〜１０％のメタノールの勾配を有するジクロロメタンを使用してシリカゲル上でカラムクロマトグラフィーによって精製する。生成物を含有するフラクションを集め濃縮した。残留物を、ジクロロメタン５mlに溶解し、この溶液を十分に撹拌したジエチルエーテル１００mlに滴加し、それによって生成物を沈殿させた。生成物５８０mgが粉末として得られた。
ＭＳ（ＦＡＢ、ＭｅＯＨ／ＮＢＡ）：７３１.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.７０（３：１：１のｎ−ブタノール：水：酢酸）
【００２８】
実施例１１：
Ｎ−(第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）グリシン第３ブチルエステルＢｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ
工程１：
ジクロロメタン３００ml中の１,２−ジアミノエタン１２０ml（１.８モル）を、撹拌機、還流冷却器および滴下漏斗を具備した三頸フラスコに加える。ジクロロメタン１００ml中のクロロ酢酸第３ブチル４２.７ml（０.３モル）を、約２.５時間の間に、十分に撹拌した溶液に滴加する。反応は僅かに発熱的である。約１５分後に、混合物は濁りそして形成したジアミン塩酸塩が油相として沈降する。それから、反応混合物を、さらに約２時間室温で撹拌して反応を完了（７０：１５：１５：２のエチルメチルケトン／ピリジン／水／氷酢酸中のＴＬＣによって監視）させ、水２００mlをそれに加える。有機相を分離し、水性相を、それぞれの場合においてジクロロメタン１００mlを使用してさらに２回抽出する。合した有機相を、再び水１００mlで１回逆抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥する。乾燥剤を濾去した後、有機相を８００mlとしそして４０mlを濃縮乾固して粗製残留物２.２８ｇを得た。これは、４５.６ｇ（８６％）の全量に相当する。粗製生成物のこのジクロロメタン溶液を、Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕを形成するために、以下に記載するように直接反応させる。
ＭＳ（ＥＳ+）：１８９.１（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.３６（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００２９】
工程２：
トリエチルアミン３８ml（０.２７モル）を、Ｈ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ ０.２６モル（ジクロロメタン８００ml中の溶液）に加え、その後、ジクロロメタン１００ml中のジ第３ブチルジカーボネート５４.５ｇ（０.２５モル）の溶液を、混合物を十分に撹拌しながら、４５分の間に滴加する。これに関連して、反応溶液は、形成されるカルバメート（ＣＯ2から）のためにより粘稠となるのでジクロロメタン１００mlで希釈する。反応が完了した後、溶液は低粘性であり、僅かに濁っているにすぎない。水１００mlを加え、有機相を分離し、水性相を再びジクロロメタン１００mlで１回抽出する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し真空中で濃縮する。粗製生成物：無色の油７７.６ｇ、この粗製生成物を、溶離剤として酢酸エチルを使用してシリカゲル上のカラムクロマトグラフィーによって精製する。収量：４８.１ｇ
ＭＳ（ＥＳ+）：２７５.２（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.４６（酢酸エチル）
【００３０】
実施例１２：
Ｎ−（第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）−Ｎ−（（１−チミニル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
Ｂｏｃ−Ａｅｇ（Ｔ）−ＯｔＢｕ
Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ １.３７５ｇ（５ミリモル）を、ＤＭＦ ２０mlに溶解し、その後、チミニル酢酸９２１mg（５ミリモル）、ＴＯＴＵ １.６４ｇ（５ミリモル）およびジイソプロピルエチルアミン１.７ml（１０ミリモル）を、順次に加える。混合物を室温で一夜撹拌し真空中で蒸発する。油状の残留物を酢酸エチル７０mlにとり、この溶液をそれぞれの場合において、炭酸水素ナトリウム溶液５mlおよび硫酸水素カリウム溶液５mlを使用して５回抽出する。それを、さらに、それぞれの場合において水５mlを使用して３回洗浄する。有機相を、硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮乾固する。残った固体の残留物を、ジエチルエーテルと一緒にすりつぶし、吸引濾去し、乾燥する。収量：１.８２ｇ
ＭＳ（ＥＳ+）：４４１.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.５５（１００：１０：１のジクロロメタン：メタノール：トリエチルアミン）
【００３１】
実施例１２ａ：
Ｎ−（第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）−Ｎ−（（１−チミニル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
Ｂｏｃ−Ａｅｇ（Ｔ）−ＯｔＢｕ
Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ ６.８７５ｇ（２５ミリモル）を、ＤＭＦ １００mlに溶解し、その後、チミニル酢酸４.６ｇ（２５ミリモル）、ＴＯＴＵ ８.２ｇ（２５ミリモル）およびジイソプロピルエチルアミン８.５ml（１００ミリモル）を順次に加える。混合物を、室温で４時間撹拌し真空中で蒸発する。油状残留物を、酢酸エチル３５０mlにとり、この溶液をそれぞれの場合において、炭酸水素ナトリウム溶液５mlおよび硫酸水素カリウム溶液５mlを使用して５回抽出する。それを、さらにそれぞれの場合において水５mlを使用して３回洗浄する。これに関連して、物質がすでに有機相中で沈殿しそして吸引濾去される。濾液の有機相を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮乾固する。残った固体の残留物を、ジエチルエーテルと一緒にすりつぶし、吸引濾去し乾燥する。集めた粗製生成物を酢酸エチルから再結晶する。収量：９.７１ｇ
ＭＳ（ＥＳ+）：４４１.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.５５（１００：１０：１のジクロロメタン：メタノール：トリエチルアミン）
【００３２】
実施例１３：
Ｎ−（第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）−Ｎ−（（１−（Ｎ4−（４−メトキシベンゾイル）−シトシル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
Ｂｏｃ−Ａｅｇ（ＣMeBz）−ＯｔＢｕ
Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ １.３７５ｇ（５ミリモル）を、ＤＭＦ ２０mlに溶解し、その後、Ｎ4−（４−メトキシベンゾイル）−Ｎ1−カルボキシメチルシトシン １.５１５ｇ（５ミリモル）、ＴＯＴＵ １.６４ｇ（５ミリモル）およびジイソプロピルエチルアミン １.７ml（１０ミリモル）を順次に加える。混合物を、室温で一夜撹拌し、真空中で蒸発する。半固体の残留物をジクロロメタンにとり、この溶液を濾過し、濾液を濃縮する。残留物を酢酸エチルと一緒にすりつぶし、それによって生成物を固体物質として沈殿させる。それを、少量の酢酸エチルから結晶化させ、吸引濾去し、酢酸エチルで洗浄し真空中で乾燥する。収量：１.８９ｇ
ＭＳ（ＥＳ+）：５６０.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.５３（１００：１０：１のジクロロメタン：メタノール：トリエチルアミン）
【００３３】
実施例１４：
Ｎ−（第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）−Ｎ−（（９−（Ｎ6−４−メトキシベンゾイル）アデノシル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
Ｂｏｃ−Ａｅｇ（ＡMeBz）−ＯｔＢｕ
Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ ５４９mg（２ミリモル）を、ＤＭＦ １０mlに溶解し、その後、Ｎ6−４−（メトキシベンゾイル）−Ｎ9−カルボキシメチルアデニン６５５mg（２ミリモル）、ＴＯＴＵ ６５６mg（２ミリモル）およびジイソプロピルエチルアミン０.６８ml（４ミリモル）を順次に加える。混合物を、室温で一夜撹拌し真空中で蒸発する。この残留物を、酢酸エチル３０mlにとり、この溶液を、それぞれの場合において炭酸水素ナトリウム溶液５mlおよび水５mlを使用して２回洗浄する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮乾固する。残った固体の残留物をジエチルエーテルと一緒にすりつぶし、吸引濾去し、乾燥する。収量：７３０mg
ＭＳ（ＦＡＢ、ＭｅＯＨ／ＮＢＡ）：５８４.２（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.７４（１０：１のジクロロメタン：メタノールおよび１％のトリエチルアミン）
【００３４】
実施例１５：
Ｎ−（アミノ）エチル−Ｎ−（（１−チミニル）アセチル）グリシン
（Ｈ−Ａｅｇ（Ｔ）−ＯＨ）
９５％トリフルオロ酢酸（水５％）１１０mlを、Ｂｏｃ−Ａｅｇ（Ｔ）−ＯｔＢｕ １１.０ｇ（２５ミリモル）に加える。透明な溶液が形成される。この溶液を室温で２時間撹拌する。反応混合物を濃縮し、残留物をジエチルエーテルと一緒にすりつぶす。沈殿した粗製生成物を直接合成の次の工程に使用する。収量：無定形の固体７.１ｇ
ＭＳ（ＥＳ+）：２８５.２（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.１４（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００３５】
実施例１６：
Ｎ−（（４−メトキシフェニル）ジフェニルメチルアミノ）エチル−Ｎ−（（１−チミニル）アセチル）グリシン
（Ｍｍｔ−Ａｅｇ（Ｔ））−ＯＨ
上述した反応からのＨ−Ａｅｇ（Ｔ）−ＯＨ ７.１ｇを、ＤＭＦ ３００mlに溶解し、その後、トリエチルアミン１３.９ml（１００ミリモル）を加え、次いでＭｍｔ−Ｃｌ ８.９ｇ（２９.２ミリモル）を５回にわけて加える。混合物を一夜撹拌し、その後、溶解しない物質（未反応のＨ−Ａｅｇ（Ｔ）−ＯＨ ２.７８ｇ）を濾去し、濾液を真空中で蒸発する。残留物をジクロロメタン３００mlにとり、この溶液を水３０mlで３回洗浄する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮乾固する。残った固体の残留物を少量の酢酸エチルに溶解し、その後少量のトリエチルアミンを加え、全体をジエチルエーテル２００mlに撹拌導入する。沈殿した生成物を吸引濾去し、少量のエーテルで洗浄し真空中で乾燥する。収量：７.３ｇ
ＭＳ（ＦＡＢ、ＭｅＯＨ／ＮＢＡ／ＬｉＣｌ）：５６９.５（Ｍ＋Ｌｉ)+
Ｒf＝０.２５（１００：１０：１のジクロロメタン：メタノール：トリエチルアミン）
【００３６】
実施例１７：
Ｎ−（アミノ）エチル−Ｎ−（（１−（Ｎ4−（４−メトキシベンゾイル）シトシル）アセチル）グリシン
（Ｈ−Ａｅｇ（ＣMeBz）−ＯＨ）
ジクロロメタン３０mlおよび９５％トリフルオロ酢酸（水５％）１６mlからなる混合物を、Ｂｏｃ−Ａｅｇ（ＣMeBz）−ＯｔＢｕ １.６ｇ（２.９ミリモル）に加える。透明な溶液が形成される。この溶液を室温で３時間撹拌する。反応混合物を濃縮し、残留物をジエチルエーテルと一緒にすりつぶす。沈殿した粗製生成物を、直接合成の次の工程に使用する。収量：無定形の固体物質１.８６ｇ
Ｒf＝０.３４（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００３７】
実施例１８：
Ｎ−（（４−メトキシフェニル）ジフェニルメチルアミノ）エチル−Ｎ−（（１−（Ｎ4−（４−メトキシベンゾイル）シトシル）アセチル）グリシン
（Ｍｍｔ−Ａｅｇ（ＣMeBz）−ＯＨ）
上述した反応からのＨ−Ａｅｇ（ＣMeBz）−ＯＨ １.２６ｇを、ＤＭＦ ５０mlに溶解し、その後トリエチルアミン２.１ml（１５ミリモル）を加え次いでＭｍｔ−Ｃｌ １.０６ｇ（３.５ミリモル）を３回にわけて加える。混合物を一夜撹拌し、その後少量の溶解しない物質を濾去し、濾液を真空中で蒸発する。残留物をジクロロメタン５０mlにとり、この溶液を水１０mlで３回洗浄する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して約１０mlにする。後者を、ジエチルエーテル８０mlに撹拌導入する。沈殿した生成物を、吸引濾去し、少量のエーテルで洗浄し真空中で乾燥した。収量：１.３５ｇ
ＭＳ（ＦＡＢ、ＭｅＯＨ／ＮＢＡ）：６７６.４（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.６２（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００３８】
実施例１９：
Ｎ−（アミノ）エチル−Ｎ−（（９−（Ｎ6−４−メトキシベンゾイル）アデノシル）アセチル）グリシン
（Ｈ−Ａｅｇ（ＡMeBz）−ＯＨ）
９５％トリフルオロ酢酸（水５％）１０mlをＢｏｃ−Ａｅｇ（ＡMeBz）−ＯｔＢｕ ７２５mg（１.２ミリモル）に加える。透明な溶液が形成される。この溶液を室温で３時間撹拌する。反応混合物を濃縮し、残留物をジエチルエーテルと一緒にすりつぶす。沈殿した粗製生成物を、直接合成の次の工程に使用する。収量：無定形の固体物質８３０mg
【００３９】
実施例２０：
Ｎ−（（４−メトキシフェニル）ジフェニルメチルアミノ）エチル−Ｎ−（（９−（Ｎ6−４−メトキシベンゾイル）アデノシル）アセチル）グリシン
（Ｍｍｔ−Ａｅｇ（ＡMeBz）−ＯＨ）
上述した反応からのＨ−Ａｅｇ（ＡMeBz）−ＯＨ ６９０mgを、ＤＭＦ ２５mlに溶解し、その後トリエチルアミン０.８８ml（６.５ミリモル）を加え、次いでＭｍｔ−Ｃｌ ４９４mg（１.６ミリモル）を３回にわけて加える。混合物を一夜撹拌し、その後少量の溶解しない物質を濾去し、濾液を真空中で蒸発する。残留物を、ジクロロメタン２０mlにとり、この溶液を水５mlで３回洗浄する。有機相を、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮し残留物をジエチルエーテルと一緒にすりつぶす。沈殿した生成物を吸引濾去し、少量のエーテルで洗浄し、真空中で乾燥する。収量：４４０mg。
ＭＳ（ＥＳ+）：７００.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.５９（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００４０】
実施例２１：
Ｎ−（第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）−Ｎ−（（９−（Ｎ2−アセチル−Ｏ4−ジフェニルカルバモイル）グアノシル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
Ｂｏｃ−Ａｅｇ（Ｇ2-Ac.4-Dpc）−ＯｔＢｕ
Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ １.３７５ｇ（５ミリモル）を、ＤＭＦ ３０mlに溶解し、その後Ｎ2−アセチル−Ｏ4−ジフェニルカルバモイル−９−カルボキシメチルグアニン２.２３ｇ（５ミリモル）、ＴＯＴＵ １.６４ｇ（５ミリモル）およびジイソプロピルエチルアミン１.７ml（１０ミリモル）を順次加える。混合物を、室温で一夜撹拌し真空中で蒸発する。残留物を酢酸エチル５０mlにとり、この溶液をそれぞれの場合において炭酸水素ナトリウム溶液３ml、硫酸水素カリウム溶液３mlおよび水３mlを使用して４回抽出する。有機相を、硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤を濾去し、濾液を濃縮する。残留物をエーテルと一緒にすりつぶす。これに関連して、生成物が樹脂状の固体物質として後に残る。この生成物を、さらに精製することなしに次の反応に使用する。収量：３.１４ｇ
ＭＳ（ＦＡＢ、ＮＢＡ／ＭｅＯＨ）：７０３.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.８０（１００：１０：１のジクロロメタン：メタノール：トリエチルアミン）
【００４１】
実施例２２：
Ｎ−（アミノエチル）−Ｎ−（（９−（Ｎ2−アセチル）グアノシル）アセチル）グリシン
Ｈ−Ａｅｇ（Ｇ2-Ac）−ＯＨ
９５％トリフルオロ酢酸（水５％）２０mlを、Ｂｏｃ−Ａｅｇ（Ｇ2-Ac.4-Dpc）−ＯｔＢｕ ２.０８ｇ（２.９６ミリモル）に加える。透明な溶液が形成される。この溶液を室温で３０分撹拌する。反応混合物を濃縮し、残留物をジエチルエーテルと一緒にすりつぶす。沈殿した粗製生成物を直接合成の次の工程に使用する。収量：無定形の固体物質１.４６ｇ。
Ｒf＝０.１５（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００４２】
実施例２３：
Ｍｍｔ−Ａｅｇ（Ｇ2-Ac）−ＯＨ
上述した反応からのＨ−Ａｅｇ（Ｇ2-Ac）−ＯＨ １.４６ｇを、ＤＭＦ ３０mlに溶解し、その後、トリエチルアミン２.１ml（１５ミリモル）を加え次いでＭｍｔ−Ｃｌ ９.３９mg（３.０４ミリモル）を３回にわけて加える。混合物を一夜撹拌し、その後少量の溶解しない物質を濾過により除去し、濾液を真空中で蒸発する。残留物を酢酸エチル３０mlにとり、この溶液をそれぞれの場合において炭酸水素ナトリウム溶液３mlおよび水３mlを使用して３回抽出する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤を濾去し、濾液を濃縮する。残留物をエーテルと一緒にすりつぶす。沈殿した生成物を吸引濾去し、少量のエーテルで洗浄し真空乾燥する。収量：１.１０ｇ
ＭＳ（ＥＳ+）：６２４.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.１４（１００：１０：１のジクロロメタン：メタノール：トリエチルアミン）
【００４３】
実施例２４：
Ｎ−（第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）−Ｎ−（（１−（Ｎ4−（４−メトキシベンゾイル）シトシル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
Ｂｏｃ−Ａｅｇ（ＣMeOBz）−ＯｔＢｕ
酢酸エチル１.５リットルを、Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ １１４.６ｇ（０.４１８モル）に加え、Ｎ4−（４−メトキシベンゾイル）−Ｎ1−カルボキシメチルシトシン１２７ｇ（０.４１８モル）およびトリエチルアミン１１５ml（０.８３６モル）を撹拌懸濁液に加える。酢酸エチル中のプロピルホスホン酸無水物の５０％溶液４００ml（約０.６２８モル）を２分以内に加える。これに関連して温度が僅かに上昇する。混合物をトリエチルアミン６５ml（０.４６９モル）の添加によってpH８に調節し、さらに２.５時間撹拌する。沈殿を吸引濾去し、はじめに酢酸エチル５００mlで洗浄し、水１リットルで洗浄する。さらに、生成物を母液から沈殿させる。両方の沈殿を、再び水５００mlと一緒に１回撹拌し、吸引濾去し、水５００mlで洗浄し、真空中で乾燥する。収量：１９６.６ｇ
【００４４】
実施例２５：
Ｎ−（第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）−Ｎ−（（９−（Ｎ6−４−メトキシベンゾイル）アデノシル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
Ｂｏｃ−Ａｅｇ（ＡMeOBz）−ＯｔＢｕ
Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ ３００.０ｇ（１.０９４モル）を、ＤＭＦ ２.８リットルに溶解し、その後Ｎ6−（４−メトキシベンゾイル）−Ｎ9−カルボキシメチルアデニン３５８.２ｇ（１.０９４モル）、ＴＯＴＵ ３６０.５ｇ（２ミリモル）およびジイソプロピルエチルアミン３７３.９ml（２.１８４モル）を順次に加える。混合物を室温でさらに２時間撹拌し、水２.２リットル中の炭酸水素ナトリウム２１４.２９ｇの撹拌した氷冷溶液に滴加する。それによって生成物が沈殿する。それから、さらに、メチル第３ブチルエーテル２リットルを加える。この混合物を一夜放置する。それから、沈殿を吸引濾去し、順次に水２リットルで２回そしてメチル第３ブチルエーテル２リットル中で２回撹拌する。それから、沈殿を再び濾去し、真空中で乾燥した。収量：４３７.７ｇ
【００４５】
実施例２６：
Ｎ−(第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）グリシン第３ブチルエステルＢｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ
工程１：Ｎ−Ｂｏｃ−１,２−ジアミノエタン
１,２−ジアミノエタン５３５ml（８モル）を、ジクロロメタン２リットルに溶解する。ジクロロメタン５００ml中のジ第３ブチルジカーボネート２１８.５ｇ（１モル）の溶液を、撹拌および冷却しながら１.５時間以内に滴加する。混合物を、さらに２０時間撹拌し、その後水１リットルを加え、得られた混合物をはげしく撹拌する。相を分離し、水性相をジクロロメタン５００mlずつを使用してさらに２回抽出する。合した有機相を塩化ナトリウムの半飽和溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥する。有機相を濃縮して１リットルの容量にする。
【００４６】
工程２：Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ
トリエチルアミン１３８ml（０.９７モル）および沃化カリウムのスパーテル１さじ分を、上記のようにして得られた溶液に加える。撹拌しながら、クロロ酢酸第３ブチル１４９.５mlの溶液を滴加し、この混合物を４０℃で５０時間撹拌する。水５００mlを加え、混合物をはげしく撹拌する。有機相を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮する。得られた粗製生成物を、溶離剤として９５：５の酢酸エチル／メタノールを使用してシリカゲルで精製する。所望の生成物７８ｇが得られた。
【００４７】
実施例２７：
Ｎ−(第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）グリシン第３ブチルエステルＢｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ
工程１：Ｎ−Ｂｏｃ−１,２−ジアミノエタン
１,２−ジアミノエタン４.８リットル（７５モル）を、ジクロロメタン１８リットルに溶解する。ジクロロメタン４.５リットル中のジ第３ブチルジカーボネート１.９７kg（９.０３モル）の溶液を、撹拌および冷却しながら、２時間以内に滴加する。混合物をさらに２０時間撹拌し、その後水９リットルを加え、得られた混合物をはげしく撹拌する。相を分離し、水性相をそれぞれの場合においてジクロロメタン４.５リットルを使用してさらに２回抽出する。合した有機相を塩化ナトリウムの半−飽和溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥する。有機相を濃縮して９リットルにする。
【００４８】
工程２：Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ
トリエチルアミン１.２４リットルおよび沃化カリウム５ｇを、上記のようにして得られた溶液に加える。それから、ジクロロメタン４.５リットル中のクロロ酢酸第３ブチル１.２４５リットルの溶液を撹拌しながら滴加し、この混合物を４０℃で５０時間撹拌する。それから、水５リットルを加え、混合物をはげしく撹拌する。それから、有機相を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮する。得られた粗製生成物を、溶離剤として９５：５の酢酸エチル／メタノールを使用してシリカゲルでクロマトグラフィー的に精製する。所望の生成物１.０３kgが得られた。
【００４９】
使用された略号を、以下に記載する。
Aeg Ｎ−（２−アミノエチル）グリシル、-NH-CH2-CH2-NH-CH2-CO-
Aeg(AMeOBz)
Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−（（９−（Ｎ6−４−メトキシベンゾイル）−アデノシル）アセチル）グリシル
Aeg(CBz)
Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−（（１−（Ｎ4−ベンゾイル）−シトシル）アセチル）グリシル
Aeg(CMeOBz)
Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−（（１−（Ｎ4−メトキシベンゾイル）シトシル）アセチル）グリシル
Aeg(CtBuBz)
Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−（（１−（Ｎ4−４−第３ブチルベンゾイル）−シトシル）アセチル）グリシル
Aeg(GiBu)
Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−（（９−（Ｎ2−イソブタノイル）グアノシル）アセチル）グリシル
Aeg(G2-Ac.4-Dpc)
Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−（（９−（Ｎ2−アセチル−Ｏ4−ジフェニルカルバモイル）グアノシル）アセチル）グリシル
Aeg(G2-Ac)
Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−（（９−（Ｎ2−アセチル）グアノシル）アセチル）グリシル
Aeg(T) Ｎ−(２−アミノエチル)−Ｎ−((１−チミニル)アセチル)グリシル
Bnpeoc 2,2−〔ビス（４−ニトロフェニル）〕−エトキシカルボニル）
Boc 第３ブチルオキシカルボニル
BOI
２−（ベンゾトリアゾール−１−イル）オキシ−1,3−ジメチルイミダゾリジニウムヘキサフルオロホスフェート
BOP
ベンゾトリアゾリル−１−オキシ−トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート
BroP
ブロムトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート
BSA Ｎ,Ｏ−ビス−（トリメチルシリル）アセトアミド
But 第３ブチル
Bz ベンゾイル
Bz ベンジル
Cl-Z ４−クロロベンジルオキシカルボニル
CPG 調節された多孔性ガラス
DBU 1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデク−７−エン
DCM ジクロロメタン
Ddz 3,5−ジメトキシフェニル−２−プロピル−２−オキシカルボニル
DMF ジメチルホルムアミド
Dmt ジ−（４−メトキシフェニル）フェニルメチル
Dnpeoc ２−（2,4−ジニトロフェニル）エトキシカルボニル
Dpc ジフェニルカルバモイル
FAM フルオレセイン残基
Fm ９−フルオレニルメチル
Fmoc ９−フルオレニルメチルオキシカルボニル
H-Aeg-OH Ｎ−（２−アミノエチル）グリシン
HAPyU
Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−1,1,3,3−ビス（テトラメチレン）−ウロニウムヘキサフルオロホスフェート
HATU
Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−1,1,3,3−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート
HBTU
Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−1,1,3,3−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート
HOBt １−ヒドロキシベンゾトリアゾール
HONSu Ｎ−ヒドロキシサクシンイミド
HOObt ３−ヒドロキシ−４−オキソ−3,4−ジヒドロベンゾトリアジン
iBu イソブタノイル
MeOBz ４−メトキシベンゾイル
Mmt ４−メトキシトリフェニルメチル
Moz ４−メトキシベンジルオキシカルボニル
MSNT 2,4,6−メシチレンスルホニル−３−ニトロ−1,2,4−トリアゾリド
Mtt ４−メチルフェニル）ジフェニルメチル
NMP Ｎ−メチルピロリジン
Oeg Ｎ−（２−オキシエチル）グリシル、-O-CH2-CH2-NH-CH2-CO-
Pixyl ９−（９−フェニル）キサンテニル
PyBOP
ベンゾトリアゾリル−１−オキシ−トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート
PyBroP ブロモトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート
TAPipU
Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−1,1,3,3−ビス（ペンタメチレン）−ウロニウムテトラフルオロボレート
TBTU
Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−1,1,3,3−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート
tBu 第３ブチル
tBuBz ４−第３ブチルベンゾイル
TDBTU
Ｏ−（3,4−ジヒドロ−４−オキソ−1,2,3−ベンゾトリアジン−３−イル）−1,1,3,3−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート
TDO
2,5−ジフェニル−2,3−ジヒドロ−３−オキソ−４−ヒドロキシチオフェンジオキシド
TFA トリフルオロ酢酸
THF テトラヒドロフラン
TNTU
Ｏ−（５−ノルボネン−2,3−ジカルボキシミド）−1,1,3,3−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート
TOTU
Ｏ−〔（シアノ（エトキシカルボニル）メチレン）アミノ〕−1,1,3,3−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート
TPTU
Ｏ−（1,2−ジヒドロ−２−オキソ−１−ピリジル）−1,1,3,3−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート
Trt トリチル
TSTU
Ｏ−（Ｎ−サクシンイミジル）−1,1,3,3−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート
Ｚ ベンジルオキシカルボニル
MS(ES+) エレクトロスプレー質量スペクトル（陽性イオン）
MS(ES-) エレクトロスプレー質量スペクトル（陰性イオン）
MS(DCl) 直接イオン化質量スペクトル
MS(FAB) 高速原子衝撃質量スペクトル
NBA ニトロベンジルアルコール
本発明は、ＥＰ−Ａ ６７２ ６６１に記載されているＰＮＡおよびＰＮＡ／ＤＮＡハイブリッドを合成するための置換されたＮ−エチルグリシン誘導体を製造する新規な改善された方法に関するものである。これらの置換されたＮ−エチルグリシン誘導体は、ＥＰ−Ａ ６７２ ６７７に記載されているＰＮＡおよびＰＮＡ／ＤＮＡハイブリッドを製造するために使用される。これらの出願は、遺伝子発現の阻害剤（アンチセンスオリゴヌクレオチド、リボザイム、センスオリゴヌクレオチドおよびトリプレックス−形成オリゴヌクレオチド）としての、核酸を検出するプローブとしてのおよび分子生物学における補助剤としてのこれらの物質の使用に関するものである。
本発明の目的は、これらの置換されたＮ−エチルグリシン誘導体の簡易で経済的な製法の提供である。
【０００２】
式Ｉ
【化７】
ＰＧは、弱酸に対して不安定でありそしてウレタン型、例えば１−（１−アダマンチル）−１−メチルエトキシカルボニル（Ａｄｐｏｃ）、１−（３,５−ジ第３ブチルフェニル）−１−メチルエトキシカルボニル（ｔ−Ｂｕｍｅｏｃ）および１−メチル−１−（４−ビフェニル）エチルオキシカルボニル（Ｂｐｏｃ）および３,５−ジメトキシフェニル−２−プロピル−２−オキシカルボニル（Ｄｄｚ）またはトリチル型、例えばトリフェニルメチル（Ｔｒｔ）、（４−メトキシフェニル）ジフェニルメチル（Ｍｍｔ）、（４−メチルフェニル）ジフェニルメチル（Ｍｔｔ）、ジ（４−メトキシフェニル）フェニルメチル（Ｄｍｔ）および９−（９−フェニル）キサンテニル（Ｐｉｘｙｌ）のアミノ保護基であり、
【０００３】
Ｘは、ＮＨまたはＯであり、そして
Ｂ′は、ヌクレオチド化学において慣用の塩基、例えば天然塩基、例えばアデニン、シトシン、グアニン、チミンおよびウラシルまたは非天然塩基、例えばプリン、２,６−ジアミノプリン、７−デアザアデニンまたは７−デアザグアニン（これらの両方は、場合によっては、７−位においてハロゲン、（Ｃ1〜Ｃ10）−アルキル、（Ｃ2〜Ｃ10）−アルケニルまたは（Ｃ3〜Ｃ10）−アルキニル、好ましくは塩素、臭素または沃素、（Ｃ3〜Ｃ6）−アルキル、（Ｃ3〜Ｃ6）−アルケニルまたは（Ｃ3〜Ｃ6）アルキニルからなる群からの置換分によって置換されていてもよい）、Ｎ4Ｎ4−エタノシトシン、Ｎ6Ｎ6−エタノ−２,６−ジアミノプリン、５−メチルシトシン、５−（Ｃ3〜Ｃ6）−アルキニルウラシル、５−（Ｃ3〜Ｃ6）−アルキニルシトシン、５−フルオロウラシルまたはプソイドイソシトシン（環外のアミノおよび（または）ヒドロキシル基は、適当な既知の保護基、例えばベンゾイル、イソブタノイル、アセチル、フェノキシアセチル、４−（ｔ−ブチル）ベンゾイル、４−（ｔ−ブチル）フェノキシアセチル、４−（メトキシ）ベンゾイル、２−（４−ニトロフェニル）エチルオキシカルボニル、２−（２,４−ジニトロフェニル）エチルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニルジフェニルカルバモイルまたはホルムアミジン基、好ましくはベンゾイル、イソブタノイル、アセチル、フェノキシアセチル、４−（ｔ−ブチル）ベンゾイルまたは４−（メトキシ）ベンゾイル基によっておよびグアニンに対しては、また２−Ｎ−アセチルおよび６−Ｏ−ジフェニルカルバモイルの組み合わせによって保護されている）である〕の置換されたＮ−エチルグリシン誘導体およびこれらの化合物の塩、好ましくは第三級有機塩、例えばトリエチルアミンまたはピリジンとの塩を製造する新規な方法は、
【０００４】
（ａ） ペプチド化学において慣用のカップリング試薬、例えばカルボジイミド、ホスホニウム試薬、ウロニウム試薬、酸ハライドまたは活性化エステルを使用して適当な溶剤、例えばＤＭＦ、アセトニトリルまたはジクロロメタンまたはこれらの溶剤の混合物中において０〜４５℃、好ましくは室温で式II
【化８】
Ｒは、水素またはＸ＝ＮＨである場合は、酸−不安定な保護基、例えばＢｏｃ、ＤｄｚまたはＴｒｔ、好ましくはＢｏｃであり、そして
【０００５】
Ｒ1は、酸に対して不安定でありそしてアミンに対して安定である保護基、例えば第３ブチルおよび（２−クロロフェニル）ジフェニルメチル、好ましくは第３ブチルであり、そして
Ｘは、上述した通りである）の化合物を式III
【化９】
【０００６】
【化１０】
【０００７】
（ｂ） 次に、適当である場合は陽イオン−捕捉剤、例えばアニソール、チオフェノール、トリエチルシラン等を添加して適当な酸性条件下、例えばトリフルオロ酢酸を使用して適当な溶剤、例えばジクロロメタン、酢酸エチル、ジオキサン等中で酸−不安定エステル保護基Ｒ1を除去することによってそしてＸ＝ＮＨである場合は、同時に酸−不安定保護基Ｒを除去することによって式IVの化合物を式Ｖ
【化１１】
【化１２】
【０００８】
（ｃ） 適当な溶剤、例えばＤＭＦ、ＮＭＰ、アセトニトリル、ジクロロメタンまたはこれらの溶剤の混合物中で適当な試薬、例えばｔ−Ｂｕｍｅｏｃフルオライド、Ａｄｐｏｃアジド、Ｂｐｏｃアジド、Ｄｄｚ（フェニル）カーボネート、Ｔｒｔ−Ｃｌ、Ｍｔｔ−Ｃｌ、Ｍｍｔ−Ｃｌ、Ｄｍｔ−ＣｌまたはＰｉｘｙｌ−Ｃｌを使用しそして補助塩基、例えばＮＥＭ、ＤＩＰＥＡ、ピリジンまたはトリエチルアミンを使用して式Ｖの化合物を式Ｉの化合物に変換しそしてその後、適当である場合は後者の化合物をその塩に変換することからなる。
【０００９】
ペプチド合成において慣用されている活性化方法は、例えばHouben-Weyl, Methoden der organischen Chemie 〔Methods of oorganic chemistry〕, Volume 15/2に記載されている。一方では、さらに試薬、例えばBOP(B. Castro, J.R. Dormoy, G. Evin and C. Selve, Tetrahedron Lett. 1975, 1219-1222), PyBOP(J. Coste, D. Le-Nguyen and B. Castro, Tetrahedron Lett. 1990, 205-208), BroP(J. Coste, M. -N. Dufoyr, A. Pantaloni and B. Castro, Tatrahedron Lett. 1990, 669-672), PyBroP(J. Coste, E. Frerot, P. Jouin and B. Castro, Tetrahedron Lett. 1991, 1967-1970)およびウロニウム試薬、例えばHBTU(V. Dourtoglou, B. Gross, V. Lambropoulou, C. Zioudrou, Synthesis 1984, 572-574), TBTU, TPTU, TSTU, TNTU, (R. Knorr, A. Trzeciak, W. Bannwarth and D. Gillessen, Tetrahedron Letters 1989, 1972-1930), TOTU(EP-A-0 460 446), HATU(L.A. Carpino, J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 4397-4398), HAPyU, TAPipU(A. Ehrlich, S. Rothemund, M. Brudel, M. Beyermann, L.A. Carpino and M. Bienert, Tetrahedron Lett. 1993, 4781-4784), BOI(K. Akaji, N. Kuriyama, T. Kimura, Y. Fujiwara and Y. Kiso, Tetrahedron Lett, 1992, 3177-3180), プロパンホスホン酸無水物（PPA)(H. Wissmann, H. J. Kleiner, Angew. Chem. 92, 129-130, 1990)または酸クロライドまたは酸フルオライド（L.A. Carpino, H. G. Chao, M. Beyermann and M. Bienert, J. Org. Chem., 56(1991), 2635；J. -N. Bertho, A. Loffet, C. Pinel, F. Reuther and G. Sennyey in E. Giralt and D. Andreu(Eds.) Peptides 1990, Escom Science Publishers B.V. 1991, pp. 53-54；J. Green and K. Bradley, Tetrahedron 1993, 4141-4146), 2,4,6−メシチレンスルホニル−３−ニトロ−1,2,4−トリアゾリド（MSNT)(B. Blankemeyer-Menge, M. Nimitz and R. Frank, Tetrahedron Lett. 1990, 1701-1704), 2,5−ジフェニル−2,3−ジヒドロ−３−オキソ−４−ヒドロキシチオフェンジオキシド（TDO)(R. Kirstgen, R.C. Sheppard, W. Steglich, J. Chem. Soc. Chem. Commun. 1987, 1870-1871)または活性化エステル（D. Hudson)Peptide Res. 1990, 51-55)がそれぞれの文献源に記載されている。
【００１０】
カルボジイミド、例えばジシクロヘキシルカルボジイミドまたはジイソプロピルカルボジイミドの使用が好ましい。また、ホスホニウム試薬、例えばＰｙＢＯＰまたはＰｙＢｒｏＰ、ウロニウム試薬、例えばＨＢＴＵ、ＴＢＴＵ、ＴＰＴＵ、ＴＳＴＵ、ＴＮＴＵ、ＴＯＴＵまたはＨＡＴＵ、ＢＯＩまたは酸クロライドまたは酸フルオライドおよびプロパンホスホン酸無水物（ＰＰＡ）を使用することが好ましい。
【００１１】
Ｘ＝ＮＨである式Ｉの化合物を製造する新規な方法の利点は、アミノエチルグリシンの第一級アミノ官能およびカルボキシル基に対する保護基が、単一の試薬、例えばトリフルオロ酢酸の作用によって、式IVの中間体から同時に除去されるということである。それから、保護基ＰＧを導入することによって、式Ｉの化合物を直接形成する。Ｘ＝Ｏである式Ｉの標記化合物を製造する利点は、一方においてはカルボキシル基の保護が有機溶剤におけるヒドロキシエチルグリシン誘導体の溶解度を改善しそして他方においては式IIIの化合物に対する結合を容易にするということである。
【００１２】
式IIの化合物の合成は、例えば商業的に得ることのできる１,２−ジアミノエタンまたはアミノエタノールを適当なハロ酢酸エステル、例えば商業的に入手することのできるクロロ酢酸第３ブチルまたはブロモ酢酸第３ブチルと反応させることによって行われる。それから、Ｘ＝ＮＨでありそしてＲ＝酸−不安定な保護基である場合は、アミノエチルグリシンエステルを適当な保護基試薬、例えばＤｄｚ（フェニル）カーボネート、Ｔｒｔ−Ｃｌ、ジ第３ブチルジカーボネート、Ｂｏｃ−ＯＮＳｕまたは第３ブチルフェニルカーボネートと反応させる。さらに、他の方法は、モノ保護された１,２−ジアミノエタン、例えばモノ−Ｂｏｃ−ジアミノエタンをハロ酢酸エステル、例えばクロロ酢酸第３ブチルまたはブロモ酢酸第３ブチルと反応させることからなる。
【００１３】
Ｒ＝ＢｏｃでありそしてＲ1＝第３ブチルである式IIの化合物を製造する他の方法は、還元剤としてパラジウム付炭素上の水素を使用したまたはシアノ硼水素化ナトリウムまたはトリアセトキシ硼水素化ナトリウムを使用したエチレンジアミン、モノ−Ｂｏｃ−エチレンジアミン（Ｘ＝ＮＨの場合）またはアミノエタノール（Ｘ＝Ｏの場合）によるグリオキシル酸第３ブチルの還元的アミノ化からなる。この反応に必要なグリオキシル酸第３ブチルは、例えばJ.E. Bishop, J.F. O'ConnellおよびH. Rapoport, J. Org. Chem. 1991, 5078-5091記載のように得ることができそしてモノ−Ｂｏｃ−エチレンジアミンの合成は、例えばKapcho A.P.およびKuell C.S., Synth Commun. (1990), 2559-2564に記載されている。
【００１４】
還元剤としてパラジウム付炭素上の水素またはシアノ硼水素化ナトリウムまたはトリアセトキシ硼水素化ナトリウムを使用したグリシン第３ブチルエステルによるＢｏｃ−グリシナルの還元的アミノ化もまた、同様に、Ｘ＝ＮＨである式IIの化合物を製造するのに適している。この目的に必要なＢｏｃ−グリシナルは、例えばA. Evidente, G. Picalli, A. Sisto, M. Ohba, K. Honda, T. Fujii, Chem. Pharm. Bull. 1992, 1937-1939記載のように製造されグリシン第３ブチルエステルは、商業的に入手できる。
【００１５】
式IIIのヌクレオチド塩基−酢酸誘導体は、相当するヌクレオチド塩基または環外ヒドロキシルまたはアミノ官能において保護されているヌクレオチド塩基を、クロロ酢酸、ブロモ酢酸、ヨード酢酸またはこれらのエステルでアルキル化することによって得ることができる。これに関連して、選択的アルキル化を確保するために、追加的な一時的保護基がヌクレオチド塩基上に導入される。弱酸に対して不安定である保護基ＰＧと相容性の保護基は、すべてヌクレオチド塩基に対する保護基に使用することができる。好ましくは、ベンゾイル、イソブタノイル、アセチル、フェノキシアセチル、４−（ｔ−ブチル）ベンゾイル、４−（ｔ−ブチル）フェノキシアセチル、４−（メトキシ）ベンゾイル、２−（４−ニトロフェニル）エチルオキシカルボニル、２−（２,４−ジニトロフェニル）エチルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニルまたはホルムアミジン基のような保護基が環外アミノ官能に使用される。特に好ましい保護基は、ベンゾイル、イソブタノイル、４−（ｔ−ブチル）ベンゾイル、２−（４−ニトロフェニル）エチルオキシカルボニル、２−（２,４−ジニトロフェニル）エチルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、４−（メトキシ）ベンゾイルまたはパラ−（ｔ−ブチル）フェノキシアセチルまたはパラ−ニトロフェニル−２−エチルオキシカルボニル基である。
【００１６】
さらに、本発明は、式IV〔式中、Ｒ、Ｘ、Ｂ′およびＲ1は上述した通りであるが、Ｒは好ましくは水素またはＸ＝ＮＨである場合は好ましくはＢｏｃであり、Ｒ1は好ましくは第３ブチルである〕の価値ある中間体に関するものである。
【００１７】
【実施例】
実施例１：
ヒドロキシエチルグリシン第３ブチルエステル
（Ｈ−Ｏｅｇ−ＯｔＢｕ）
アミノエタノール３０.２ml（０.５モル）を、ＤＭＦ ２００mlに溶解し、ジイソプロピルエチルアミン１７ml（０.１モル）を加え次いでブロモ酢酸第３ブチル１４.８ml（０.１モル）を滴加する。混合物を、室温で２４時間撹拌し、溶剤を真空下回転蒸発器上で蒸発除去する。残留物を、水１００mlにとり、この溶液を塩化ナトリウムで飽和し、酢酸エチル１００mlで３回抽出する。有機相を少量のＮａＣｌの飽和溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し蒸発乾固する。生成物１１.９６ｇが無色の油として得られた。
ＭＳ（ＥＳ＋)：１７６.２（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.５１（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００１８】
実施例１ａ：
ヒドロキシエチルグリシン第３ブチルエステル
（Ｈ−Ｏｅｇ−ＯｔＢｕ）
アミノエタノール３ml（０.０５モル）を、ＤＭＦ ２０mlに溶解し、ジイソプロピルエチルアミン１.７ml（０.０１モル）を加え次いでクロロ酢酸第３ブチル１.４ml（０.０１モル）を滴加する。混合物を、室温で２４時間撹拌し、溶剤を真空下回転蒸発器上で蒸発除去する。残留物を水２０mlにとりそしてこの溶液を、塩化ナトリウムで飽和し、酢酸エチル２０mlで３回抽出する。有機相を、少量のＮａＣｌの飽和溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し濃縮乾固する。生成物１.９ｇが無色の油として得られた。
ＭＳ（ＥＳ+)：１７６.２（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.５１（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００１９】
実施例２：
Ｎ−（ヒドロキシ）エチル−Ｎ−（（１−チミニル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
（Ｈ−Ｏｅｇ（Ｔ）−ＯｔＢｕ）
Ｈ−Ｏｅｇ−ＯｔＢｕ ８.９ｇ（５３ミリモル）を、ＤＭＦ １００mlに溶解し、チミニル酢酸８.８ｇ（４８ミリモル）、トリエチルアミン１９.４ml（１０６ミリモル）およびＴＯＴＵ １７.４ｇ（５３ミリモル）を順次に加える。混合物を、室温でさらに３時間撹拌し、溶剤を真空下回転蒸発器上で蒸発除去する。残留物を、少量の酢酸エチルと一緒に撹拌する。それによって、生成物が沈殿しはじめる。それから混合物を、４℃で一夜放置し、その後、沈殿した生成物を吸引濾去し、それから少量の酢酸エチルで洗浄し、真空中で乾燥する。収量：無色の物質１１.８ｇ
ＭＳ（ＥＳ+）：３４２.２（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.７５（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００２０】
実施例３：
Ｎ−（ヒドロキシ）エチル−Ｎ−（（１−チミニル）アセチル）グリシン
（Ｈ−Ｏｅｇ（Ｔ）−ＯＨ）
Ｈ−Ｏｅｇ（Ｔ）−ＯｔＢｕ ９.４７ｇ（２８ミリモル）を、ジクロロメタン１５０mlに懸濁しそして９５％トリフルオロ酢酸（水５％）１００mlを加える。形成した透明な溶液を室温で３時間撹拌する。反応混合物を、冷却（０℃）した十分に撹拌したメチル第３ブチルエーテル１リットルに滴加し、それによって生成物を沈殿させる。沈殿した粗製生成物（また、形成した少量のラクトンを含有する）を、ジオキサン１７０ml、水１７０mlおよびトリエチルアミン６.４mlからなる混合物に溶解し全体を室温で２時間撹拌する。それに関連して、ラクトンが開鎖されトリエチルアンモニウム塩が形成される。混合物を蒸発乾固し残留物を真空中で乾燥する。収量：無定形の固体１０.５１ｇ
ＭＳ（ＥＳ+）：２８６.２（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.１２（１０：２：１のジクロロメタン：メタノール：酢酸エチルおよび１％のトリエチルアミン）
【００２１】
実施例４：
Ｎ−（ジ−（４−メトキシフェニル）フェニルメチルオキシ）エチル−Ｎ−（（１−チミニル）アセチル）−グリシン
（Ｄｍｔ−Ｏｅｇ（Ｔ）−ＯＨ）
Ｈ−Ｏｅｇ（Ｔ）−ＯＨ・ＮＥｔ3 １.０ｇ（２.６ミリモル）を、ＤＭＦ １０mlに溶解しトリエチルアミン１.４ml（１０ミリモル）を加える。それから、ジクロロメタン１０ml中のＤｍｔ−Ｃｌ １.８ｇ（５.２ミリモル）を滴加し、混合物を、室温で１６時間撹拌する。溶剤を真空下回転蒸発器上で蒸発除去し、残留物を、ジクロロメタンにとる。この後者の溶液を水で洗浄し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し蒸発する。得られた粗製生成物を、溶離剤として１％のトリエチルアミンを含有する１５：１：１のジクロロメタン／メタノール／酢酸エチルを使用してシリカゲル上のカラムクロマトグラフィーによって精製する。生成物を含有するフラクションを合し濃縮する。生成物９６０mgがフォーム状物質として得られた。
ＭＳ（ＦＡＢ、ＭｅＯＨ／ＮＢＡ）：５８７.３（Ｍ)+
Ｒf＝０.２９（１０：２：１のジクロロメタン：メタノール：酢酸エチルおよび１％のトリエチルアミン）
【００２２】
実施例５：
Ｎ−（ヒドロキシ）エチル−Ｎ−（（１−（Ｎ4−（４−第３ブチルベンゾイル）シトシル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
（Ｈ−Ｏｅｇ（ＣMeOBz）−ＯｔＢｕ）
Ｈ−Ｏｅｇ−ＯｔＢｕ １.８ｇ（１１ミリモル）を、ＤＭＦ １００mlに溶解し、その後、Ｎ4−（４−メトキシベンゾイル）−Ｎ1−カルボキシメチルシトシン３.０ｇ（１０ミリモル）、トリエチルアミン３mlおよびＴＯＴＵ ３.６ｇ（１１ミリモル）を順次に加える。反応混合物を、室温でさらに４時間撹拌し、溶剤を真空下回転蒸発器上で蒸発除去する。残留物を、酢酸エチルにとりこの溶液を炭酸水素ナトリウムの溶液で２回洗浄する。これに関連して、生成物が酢酸エチル相において沈殿する。沈殿した生成物を吸引濾去し、それから少量の酢酸エチルで洗浄し真空中で乾燥する。収量：無色の物質３.０６ｇ
ＭＳ（ＦＡＢ、ＭｅＯＨ／ＮＢＡ）：４６１.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.８１（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００２３】
実施例６：
Ｎ−（ヒドロキシ）エチル−Ｎ−（（１−（Ｎ4−（４−第３ブチルベンゾイル）シトシン）アセチル）グリシン
（Ｈ−Ｏｅｇ（ＣMeOBz）−ＯＨ）
Ｈ−Ｏｅｇ（ＣMeOBz）−ＯｔＢｕ １.５ｇ（３.４ミリモル）を、アニソール２.５mlを含有するジクロロメタン３０mlおよび９５％トリフルオロ酢酸（水５％）２０mlからなる混合物に溶解する。透明な溶液を、室温で５時間撹拌し、冷却（０℃）し十分に撹拌したメチル第３ブチルエーテル５００mlに滴加する。これによって生成物が沈殿する。沈殿した粗製生成物（また、形成された少量のラクトンを含有する）を、ジオキサン２５ml、水２５mlおよびトリエチルアミン０.４４mlからなる混合物に溶解し、この溶液を、室温で３時間撹拌する。これに関連して、ラクトンは開鎖され、トリエチルアンモニウム塩が形成される。混合物を蒸発乾固し、残留物を溶離剤として１％のトリエチルアミンを含有する１０：３：２のジクロロメタン／メタノール／酢酸エチルを使用してシリカゲル上のカラムクロマトグラフィーによって精製する。収量：無定形の固体９２０mg
ＭＳ（ＥＳ+）：４０５.２（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.１６（１０：３：２のジクロロメタン：メタノール：酢酸エチルおよび１％のトリエチルアミン）
【００２４】
実施例７：
Ｎ−（ジ−（４−メトキシフェニル）フェニルメチルオキシ）エチル−Ｎ−（（１−（Ｎ4−（４−メトキシベンゾイル）シトシル）アセチル）グリシン
（Ｄｍｔ−Ｏｅｇ（ＣMeBz）−ＯＨ）
Ｈ−Ｏｅｇ（ＣMeBz）−ＯＨ・ＮＥｔ3 ９２０mg（１.８ミリモル）を、ＤＭＦ １０mlに溶解し、トリエチルアミン１ml（７.２ミリモル）を加える。それからジクロロメタン１０ml中のＤｍｔ−Ｃｌ １.２ｇ（３.６ミリモル）を滴加し、混合物を室温で１６時間撹拌する。それから、溶剤を真空下回転蒸発器上で蒸発除去し残留物をジクロロメタンにとる。この溶液を水で洗浄し有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し蒸発する。得られた粗製生成物を、溶離剤として１％のトリエチルアミンを含有する１５：１：１のジクロロメタン／メタノール／酢酸エチルを使用してシリカゲル上のカラムクロマトグラフィーにより精製する。生成物を含有するフラクションを集め濃縮する。生成物９００mgがフォーム状物質として得られた。
ＭＳ（ＦＡＢ、ＭｅＯＨ／ＮＢＡ）：７０７.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.２４（１０：３：２のジクロロメタン：メタノール：酢酸エチルおよび１％のトリエチルアミン）
【００２５】
実施例８：
Ｎ−（ヒドロキシ）エチル−Ｎ−（９−（Ｎ6−（４−メトキシベンゾイル）アデノシル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
（Ｈ−Ｏｅｇ（ＡMeOBz）−ＯｔＢｕ）
Ｈ−Ｏｅｇ−ＯｔＢｕ ５３４mg（３.３ミリモル）を、ＤＭＦ １０mlに溶解し、その後、Ｎ6−（４−メトキシベンゾイル）−Ｎ9−カルボキシメチルアデニン１.０ｇ（３.１ミリモル）、Ｎ−エチルモルホリン０.７７ml（４.５ミリモル）およびＴＯＴＵ １.０ｇ（３.１ミリモル）を順次に加える。混合物を室温で一夜撹拌し、溶剤を真空下回転蒸発器で蒸発除去する。残留物を酢酸エチルにとりそしてこの溶液を、炭酸水素ナトリウムの溶液および水で２回洗浄する。有機相を、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発により濃縮する。生成物１.３３ｇが得られた。
ＭＳ（ＦＡＢ、ＭｅＯＨ／ＮＢＡ）：４８５.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.６３（３：１：１のｎ−ブタノール：水：酢酸）
【００２６】
実施例９：
Ｎ−（ヒドロキシ）エチル−Ｎ−（９−（Ｎ6−（４−メトキシベンゾイル）アデノシル）アセチル）グリシン
（Ｈ−Ｏｅｇ（ＡMeOBz）−ＯＨ）
Ｈ−Ｏｅｇ(ＡMeOBz)−ＯｔＢｕ １.３ｇ(２.７ミリモル)を、９５％トリフルオロ酢酸(水５％)１５mlに溶解する。透明な溶液を室温で１時間撹拌し、冷却(０℃)した十分に撹拌したジエチルエーテル２５０mlに滴加し、それによって生成物を沈殿させた。沈殿した粗製生成物(また形成された少量のラクトンを含有する)を、ジオキサン１５ml、水１５mlおよびトリエチルアミン０.４mlからなる混合物に溶解し、全体を室温で２時間撹拌する。これに関連してラクトンが開鎖され、トリエチルアンモニウム塩が形成される。混合物を蒸発乾固し残留物を、ピリジンで発煙させて３回蒸発する。残留物は、次の反応に直接使用される。
ＭＳ（ＦＡＢ、ＮＢＡ／ＭｅＯＨ／ＬｉＣｌ）：４３５.２（Ｍ＋Ｌｉ)+
Ｒf＝０.３７（３：１：１のｎ−ブタノール：水：酢酸）
【００２７】
実施例１０：
Ｎ−（ジ−（４−メトキシフェニル）フェニルメチルオキシ）エチル−Ｎ−（９−（Ｎ6−（４−メトキシベンゾイル）アデノシル）アセチル）グリシン
（Ｄｍｔ−Ｏｅｇ（ＡMeOBz）−ＯＨ）
上述した反応で得られたＨ−Ｏｅｇ（ＡMeOBz）−ＯＨ・ＮＥｔ3を、ピリジン１０mlに溶解する。Ｄｍｔ−Ｃｌ １.７ｇ（５ミリモル）を加え、混合物を室温で１６時間撹拌する。溶剤を、真空下回転蒸発器で蒸発除去し、残留物をジクロロメタンにとる。この溶液を、５％水性クエン酸およびＮａＣｌの飽和水溶液で洗浄し、その後有機相を、硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮乾固する。得られた粗製生成物を、溶離剤として１％のトリエチルアミンを含有する１〜１０％のメタノールの勾配を有するジクロロメタンを使用してシリカゲル上でカラムクロマトグラフィーによって精製する。生成物を含有するフラクションを集め濃縮した。残留物を、ジクロロメタン５mlに溶解し、この溶液を十分に撹拌したジエチルエーテル１００mlに滴加し、それによって生成物を沈殿させた。生成物５８０mgが粉末として得られた。
ＭＳ（ＦＡＢ、ＭｅＯＨ／ＮＢＡ）：７３１.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.７０（３：１：１のｎ−ブタノール：水：酢酸）
【００２８】
実施例１１：
Ｎ−(第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）グリシン第３ブチルエステルＢｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ
工程１：
ジクロロメタン３００ml中の１,２−ジアミノエタン１２０ml（１.８モル）を、撹拌機、還流冷却器および滴下漏斗を具備した三頸フラスコに加える。ジクロロメタン１００ml中のクロロ酢酸第３ブチル４２.７ml（０.３モル）を、約２.５時間の間に、十分に撹拌した溶液に滴加する。反応は僅かに発熱的である。約１５分後に、混合物は濁りそして形成したジアミン塩酸塩が油相として沈降する。それから、反応混合物を、さらに約２時間室温で撹拌して反応を完了（７０：１５：１５：２のエチルメチルケトン／ピリジン／水／氷酢酸中のＴＬＣによって監視）させ、水２００mlをそれに加える。有機相を分離し、水性相を、それぞれの場合においてジクロロメタン１００mlを使用してさらに２回抽出する。合した有機相を、再び水１００mlで１回逆抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥する。乾燥剤を濾去した後、有機相を８００mlとしそして４０mlを濃縮乾固して粗製残留物２.２８ｇを得た。これは、４５.６ｇ（８６％）の全量に相当する。粗製生成物のこのジクロロメタン溶液を、Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕを形成するために、以下に記載するように直接反応させる。
ＭＳ（ＥＳ+）：１８９.１（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.３６（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００２９】
工程２：
トリエチルアミン３８ml（０.２７モル）を、Ｈ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ ０.２６モル（ジクロロメタン８００ml中の溶液）に加え、その後、ジクロロメタン１００ml中のジ第３ブチルジカーボネート５４.５ｇ（０.２５モル）の溶液を、混合物を十分に撹拌しながら、４５分の間に滴加する。これに関連して、反応溶液は、形成されるカルバメート（ＣＯ2から）のためにより粘稠となるのでジクロロメタン１００mlで希釈する。反応が完了した後、溶液は低粘性であり、僅かに濁っているにすぎない。水１００mlを加え、有機相を分離し、水性相を再びジクロロメタン１００mlで１回抽出する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し真空中で濃縮する。粗製生成物：無色の油７７.６ｇ、この粗製生成物を、溶離剤として酢酸エチルを使用してシリカゲル上のカラムクロマトグラフィーによって精製する。収量：４８.１ｇ
ＭＳ（ＥＳ+）：２７５.２（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.４６（酢酸エチル）
【００３０】
実施例１２：
Ｎ−（第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）−Ｎ−（（１−チミニル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
Ｂｏｃ−Ａｅｇ（Ｔ）−ＯｔＢｕ
Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ １.３７５ｇ（５ミリモル）を、ＤＭＦ ２０mlに溶解し、その後、チミニル酢酸９２１mg（５ミリモル）、ＴＯＴＵ １.６４ｇ（５ミリモル）およびジイソプロピルエチルアミン１.７ml（１０ミリモル）を、順次に加える。混合物を室温で一夜撹拌し真空中で蒸発する。油状の残留物を酢酸エチル７０mlにとり、この溶液をそれぞれの場合において、炭酸水素ナトリウム溶液５mlおよび硫酸水素カリウム溶液５mlを使用して５回抽出する。それを、さらに、それぞれの場合において水５mlを使用して３回洗浄する。有機相を、硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮乾固する。残った固体の残留物を、ジエチルエーテルと一緒にすりつぶし、吸引濾去し、乾燥する。収量：１.８２ｇ
ＭＳ（ＥＳ+）：４４１.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.５５（１００：１０：１のジクロロメタン：メタノール：トリエチルアミン）
【００３１】
実施例１２ａ：
Ｎ−（第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）−Ｎ−（（１−チミニル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
Ｂｏｃ−Ａｅｇ（Ｔ）−ＯｔＢｕ
Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ ６.８７５ｇ（２５ミリモル）を、ＤＭＦ １００mlに溶解し、その後、チミニル酢酸４.６ｇ（２５ミリモル）、ＴＯＴＵ ８.２ｇ（２５ミリモル）およびジイソプロピルエチルアミン８.５ml（１００ミリモル）を順次に加える。混合物を、室温で４時間撹拌し真空中で蒸発する。油状残留物を、酢酸エチル３５０mlにとり、この溶液をそれぞれの場合において、炭酸水素ナトリウム溶液５mlおよび硫酸水素カリウム溶液５mlを使用して５回抽出する。それを、さらにそれぞれの場合において水５mlを使用して３回洗浄する。これに関連して、物質がすでに有機相中で沈殿しそして吸引濾去される。濾液の有機相を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮乾固する。残った固体の残留物を、ジエチルエーテルと一緒にすりつぶし、吸引濾去し乾燥する。集めた粗製生成物を酢酸エチルから再結晶する。収量：９.７１ｇ
ＭＳ（ＥＳ+）：４４１.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.５５（１００：１０：１のジクロロメタン：メタノール：トリエチルアミン）
【００３２】
実施例１３：
Ｎ−（第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）−Ｎ−（（１−（Ｎ4−（４−メトキシベンゾイル）−シトシル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
Ｂｏｃ−Ａｅｇ（ＣMeBz）−ＯｔＢｕ
Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ １.３７５ｇ（５ミリモル）を、ＤＭＦ ２０mlに溶解し、その後、Ｎ4−（４−メトキシベンゾイル）−Ｎ1−カルボキシメチルシトシン １.５１５ｇ（５ミリモル）、ＴＯＴＵ １.６４ｇ（５ミリモル）およびジイソプロピルエチルアミン １.７ml（１０ミリモル）を順次に加える。混合物を、室温で一夜撹拌し、真空中で蒸発する。半固体の残留物をジクロロメタンにとり、この溶液を濾過し、濾液を濃縮する。残留物を酢酸エチルと一緒にすりつぶし、それによって生成物を固体物質として沈殿させる。それを、少量の酢酸エチルから結晶化させ、吸引濾去し、酢酸エチルで洗浄し真空中で乾燥する。収量：１.８９ｇ
ＭＳ（ＥＳ+）：５６０.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.５３（１００：１０：１のジクロロメタン：メタノール：トリエチルアミン）
【００３３】
実施例１４：
Ｎ−（第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）−Ｎ−（（９−（Ｎ6−４−メトキシベンゾイル）アデノシル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
Ｂｏｃ−Ａｅｇ（ＡMeBz）−ＯｔＢｕ
Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ ５４９mg（２ミリモル）を、ＤＭＦ １０mlに溶解し、その後、Ｎ6−４−（メトキシベンゾイル）−Ｎ9−カルボキシメチルアデニン６５５mg（２ミリモル）、ＴＯＴＵ ６５６mg（２ミリモル）およびジイソプロピルエチルアミン０.６８ml（４ミリモル）を順次に加える。混合物を、室温で一夜撹拌し真空中で蒸発する。この残留物を、酢酸エチル３０mlにとり、この溶液を、それぞれの場合において炭酸水素ナトリウム溶液５mlおよび水５mlを使用して２回洗浄する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮乾固する。残った固体の残留物をジエチルエーテルと一緒にすりつぶし、吸引濾去し、乾燥する。収量：７３０mg
ＭＳ（ＦＡＢ、ＭｅＯＨ／ＮＢＡ）：５８４.２（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.７４（１０：１のジクロロメタン：メタノールおよび１％のトリエチルアミン）
【００３４】
実施例１５：
Ｎ−（アミノ）エチル−Ｎ−（（１−チミニル）アセチル）グリシン
（Ｈ−Ａｅｇ（Ｔ）−ＯＨ）
９５％トリフルオロ酢酸（水５％）１１０mlを、Ｂｏｃ−Ａｅｇ（Ｔ）−ＯｔＢｕ １１.０ｇ（２５ミリモル）に加える。透明な溶液が形成される。この溶液を室温で２時間撹拌する。反応混合物を濃縮し、残留物をジエチルエーテルと一緒にすりつぶす。沈殿した粗製生成物を直接合成の次の工程に使用する。収量：無定形の固体７.１ｇ
ＭＳ（ＥＳ+）：２８５.２（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.１４（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００３５】
実施例１６：
Ｎ−（（４−メトキシフェニル）ジフェニルメチルアミノ）エチル−Ｎ−（（１−チミニル）アセチル）グリシン
（Ｍｍｔ−Ａｅｇ（Ｔ））−ＯＨ
上述した反応からのＨ−Ａｅｇ（Ｔ）−ＯＨ ７.１ｇを、ＤＭＦ ３００mlに溶解し、その後、トリエチルアミン１３.９ml（１００ミリモル）を加え、次いでＭｍｔ−Ｃｌ ８.９ｇ（２９.２ミリモル）を５回にわけて加える。混合物を一夜撹拌し、その後、溶解しない物質（未反応のＨ−Ａｅｇ（Ｔ）−ＯＨ ２.７８ｇ）を濾去し、濾液を真空中で蒸発する。残留物をジクロロメタン３００mlにとり、この溶液を水３０mlで３回洗浄する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮乾固する。残った固体の残留物を少量の酢酸エチルに溶解し、その後少量のトリエチルアミンを加え、全体をジエチルエーテル２００mlに撹拌導入する。沈殿した生成物を吸引濾去し、少量のエーテルで洗浄し真空中で乾燥する。収量：７.３ｇ
ＭＳ（ＦＡＢ、ＭｅＯＨ／ＮＢＡ／ＬｉＣｌ）：５６９.５（Ｍ＋Ｌｉ)+
Ｒf＝０.２５（１００：１０：１のジクロロメタン：メタノール：トリエチルアミン）
【００３６】
実施例１７：
Ｎ−（アミノ）エチル−Ｎ−（（１−（Ｎ4−（４−メトキシベンゾイル）シトシル）アセチル）グリシン
（Ｈ−Ａｅｇ（ＣMeBz）−ＯＨ）
ジクロロメタン３０mlおよび９５％トリフルオロ酢酸（水５％）１６mlからなる混合物を、Ｂｏｃ−Ａｅｇ（ＣMeBz）−ＯｔＢｕ １.６ｇ（２.９ミリモル）に加える。透明な溶液が形成される。この溶液を室温で３時間撹拌する。反応混合物を濃縮し、残留物をジエチルエーテルと一緒にすりつぶす。沈殿した粗製生成物を、直接合成の次の工程に使用する。収量：無定形の固体物質１.８６ｇ
Ｒf＝０.３４（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００３７】
実施例１８：
Ｎ−（（４−メトキシフェニル）ジフェニルメチルアミノ）エチル−Ｎ−（（１−（Ｎ4−（４−メトキシベンゾイル）シトシル）アセチル）グリシン
（Ｍｍｔ−Ａｅｇ（ＣMeBz）−ＯＨ）
上述した反応からのＨ−Ａｅｇ（ＣMeBz）−ＯＨ １.２６ｇを、ＤＭＦ ５０mlに溶解し、その後トリエチルアミン２.１ml（１５ミリモル）を加え次いでＭｍｔ−Ｃｌ １.０６ｇ（３.５ミリモル）を３回にわけて加える。混合物を一夜撹拌し、その後少量の溶解しない物質を濾去し、濾液を真空中で蒸発する。残留物をジクロロメタン５０mlにとり、この溶液を水１０mlで３回洗浄する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して約１０mlにする。後者を、ジエチルエーテル８０mlに撹拌導入する。沈殿した生成物を、吸引濾去し、少量のエーテルで洗浄し真空中で乾燥した。収量：１.３５ｇ
ＭＳ（ＦＡＢ、ＭｅＯＨ／ＮＢＡ）：６７６.４（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.６２（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００３８】
実施例１９：
Ｎ−（アミノ）エチル−Ｎ−（（９−（Ｎ6−４−メトキシベンゾイル）アデノシル）アセチル）グリシン
（Ｈ−Ａｅｇ（ＡMeBz）−ＯＨ）
９５％トリフルオロ酢酸（水５％）１０mlをＢｏｃ−Ａｅｇ（ＡMeBz）−ＯｔＢｕ ７２５mg（１.２ミリモル）に加える。透明な溶液が形成される。この溶液を室温で３時間撹拌する。反応混合物を濃縮し、残留物をジエチルエーテルと一緒にすりつぶす。沈殿した粗製生成物を、直接合成の次の工程に使用する。収量：無定形の固体物質８３０mg
【００３９】
実施例２０：
Ｎ−（（４−メトキシフェニル）ジフェニルメチルアミノ）エチル−Ｎ−（（９−（Ｎ6−４−メトキシベンゾイル）アデノシル）アセチル）グリシン
（Ｍｍｔ−Ａｅｇ（ＡMeBz）−ＯＨ）
上述した反応からのＨ−Ａｅｇ（ＡMeBz）−ＯＨ ６９０mgを、ＤＭＦ ２５mlに溶解し、その後トリエチルアミン０.８８ml（６.５ミリモル）を加え、次いでＭｍｔ−Ｃｌ ４９４mg（１.６ミリモル）を３回にわけて加える。混合物を一夜撹拌し、その後少量の溶解しない物質を濾去し、濾液を真空中で蒸発する。残留物を、ジクロロメタン２０mlにとり、この溶液を水５mlで３回洗浄する。有機相を、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮し残留物をジエチルエーテルと一緒にすりつぶす。沈殿した生成物を吸引濾去し、少量のエーテルで洗浄し、真空中で乾燥する。収量：４４０mg。
ＭＳ（ＥＳ+）：７００.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.５９（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００４０】
実施例２１：
Ｎ−（第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）−Ｎ−（（９−（Ｎ2−アセチル−Ｏ4−ジフェニルカルバモイル）グアノシル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
Ｂｏｃ−Ａｅｇ（Ｇ2-Ac.4-Dpc）−ＯｔＢｕ
Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ １.３７５ｇ（５ミリモル）を、ＤＭＦ ３０mlに溶解し、その後Ｎ2−アセチル−Ｏ4−ジフェニルカルバモイル−９−カルボキシメチルグアニン２.２３ｇ（５ミリモル）、ＴＯＴＵ １.６４ｇ（５ミリモル）およびジイソプロピルエチルアミン１.７ml（１０ミリモル）を順次加える。混合物を、室温で一夜撹拌し真空中で蒸発する。残留物を酢酸エチル５０mlにとり、この溶液をそれぞれの場合において炭酸水素ナトリウム溶液３ml、硫酸水素カリウム溶液３mlおよび水３mlを使用して４回抽出する。有機相を、硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤を濾去し、濾液を濃縮する。残留物をエーテルと一緒にすりつぶす。これに関連して、生成物が樹脂状の固体物質として後に残る。この生成物を、さらに精製することなしに次の反応に使用する。収量：３.１４ｇ
ＭＳ（ＦＡＢ、ＮＢＡ／ＭｅＯＨ）：７０３.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.８０（１００：１０：１のジクロロメタン：メタノール：トリエチルアミン）
【００４１】
実施例２２：
Ｎ−（アミノエチル）−Ｎ−（（９−（Ｎ2−アセチル）グアノシル）アセチル）グリシン
Ｈ−Ａｅｇ（Ｇ2-Ac）−ＯＨ
９５％トリフルオロ酢酸（水５％）２０mlを、Ｂｏｃ−Ａｅｇ（Ｇ2-Ac.4-Dpc）−ＯｔＢｕ ２.０８ｇ（２.９６ミリモル）に加える。透明な溶液が形成される。この溶液を室温で３０分撹拌する。反応混合物を濃縮し、残留物をジエチルエーテルと一緒にすりつぶす。沈殿した粗製生成物を直接合成の次の工程に使用する。収量：無定形の固体物質１.４６ｇ。
Ｒf＝０.１５（７０：１５：１５：２の２−ブタノン：水：ピリジン：酢酸）
【００４２】
実施例２３：
Ｍｍｔ−Ａｅｇ（Ｇ2-Ac）−ＯＨ
上述した反応からのＨ−Ａｅｇ（Ｇ2-Ac）−ＯＨ １.４６ｇを、ＤＭＦ ３０mlに溶解し、その後、トリエチルアミン２.１ml（１５ミリモル）を加え次いでＭｍｔ−Ｃｌ ９.３９mg（３.０４ミリモル）を３回にわけて加える。混合物を一夜撹拌し、その後少量の溶解しない物質を濾過により除去し、濾液を真空中で蒸発する。残留物を酢酸エチル３０mlにとり、この溶液をそれぞれの場合において炭酸水素ナトリウム溶液３mlおよび水３mlを使用して３回抽出する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤を濾去し、濾液を濃縮する。残留物をエーテルと一緒にすりつぶす。沈殿した生成物を吸引濾去し、少量のエーテルで洗浄し真空乾燥する。収量：１.１０ｇ
ＭＳ（ＥＳ+）：６２４.３（Ｍ＋Ｈ)+
Ｒf＝０.１４（１００：１０：１のジクロロメタン：メタノール：トリエチルアミン）
【００４３】
実施例２４：
Ｎ−（第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）−Ｎ−（（１−（Ｎ4−（４−メトキシベンゾイル）シトシル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
Ｂｏｃ−Ａｅｇ（ＣMeOBz）−ＯｔＢｕ
酢酸エチル１.５リットルを、Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ １１４.６ｇ（０.４１８モル）に加え、Ｎ4−（４−メトキシベンゾイル）−Ｎ1−カルボキシメチルシトシン１２７ｇ（０.４１８モル）およびトリエチルアミン１１５ml（０.８３６モル）を撹拌懸濁液に加える。酢酸エチル中のプロピルホスホン酸無水物の５０％溶液４００ml（約０.６２８モル）を２分以内に加える。これに関連して温度が僅かに上昇する。混合物をトリエチルアミン６５ml（０.４６９モル）の添加によってpH８に調節し、さらに２.５時間撹拌する。沈殿を吸引濾去し、はじめに酢酸エチル５００mlで洗浄し、水１リットルで洗浄する。さらに、生成物を母液から沈殿させる。両方の沈殿を、再び水５００mlと一緒に１回撹拌し、吸引濾去し、水５００mlで洗浄し、真空中で乾燥する。収量：１９６.６ｇ
【００４４】
実施例２５：
Ｎ−（第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）−Ｎ−（（９−（Ｎ6−４−メトキシベンゾイル）アデノシル）アセチル）グリシン第３ブチルエステル
Ｂｏｃ−Ａｅｇ（ＡMeOBz）−ＯｔＢｕ
Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ ３００.０ｇ（１.０９４モル）を、ＤＭＦ ２.８リットルに溶解し、その後Ｎ6−（４−メトキシベンゾイル）−Ｎ9−カルボキシメチルアデニン３５８.２ｇ（１.０９４モル）、ＴＯＴＵ ３６０.５ｇ（２ミリモル）およびジイソプロピルエチルアミン３７３.９ml（２.１８４モル）を順次に加える。混合物を室温でさらに２時間撹拌し、水２.２リットル中の炭酸水素ナトリウム２１４.２９ｇの撹拌した氷冷溶液に滴加する。それによって生成物が沈殿する。それから、さらに、メチル第３ブチルエーテル２リットルを加える。この混合物を一夜放置する。それから、沈殿を吸引濾去し、順次に水２リットルで２回そしてメチル第３ブチルエーテル２リットル中で２回撹拌する。それから、沈殿を再び濾去し、真空中で乾燥した。収量：４３７.７ｇ
【００４５】
実施例２６：
Ｎ−(第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）グリシン第３ブチルエステルＢｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ
工程１：Ｎ−Ｂｏｃ−１,２−ジアミノエタン
１,２−ジアミノエタン５３５ml（８モル）を、ジクロロメタン２リットルに溶解する。ジクロロメタン５００ml中のジ第３ブチルジカーボネート２１８.５ｇ（１モル）の溶液を、撹拌および冷却しながら１.５時間以内に滴加する。混合物を、さらに２０時間撹拌し、その後水１リットルを加え、得られた混合物をはげしく撹拌する。相を分離し、水性相をジクロロメタン５００mlずつを使用してさらに２回抽出する。合した有機相を塩化ナトリウムの半飽和溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥する。有機相を濃縮して１リットルの容量にする。
【００４６】
工程２：Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ
トリエチルアミン１３８ml（０.９７モル）および沃化カリウムのスパーテル１さじ分を、上記のようにして得られた溶液に加える。撹拌しながら、クロロ酢酸第３ブチル１４９.５mlの溶液を滴加し、この混合物を４０℃で５０時間撹拌する。水５００mlを加え、混合物をはげしく撹拌する。有機相を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮する。得られた粗製生成物を、溶離剤として９５：５の酢酸エチル／メタノールを使用してシリカゲルで精製する。所望の生成物７８ｇが得られた。
【００４７】
実施例２７：
Ｎ−(第３ブチルオキシカルボニルアミノエチル）グリシン第３ブチルエステルＢｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ
工程１：Ｎ−Ｂｏｃ−１,２−ジアミノエタン
１,２−ジアミノエタン４.８リットル（７５モル）を、ジクロロメタン１８リットルに溶解する。ジクロロメタン４.５リットル中のジ第３ブチルジカーボネート１.９７kg（９.０３モル）の溶液を、撹拌および冷却しながら、２時間以内に滴加する。混合物をさらに２０時間撹拌し、その後水９リットルを加え、得られた混合物をはげしく撹拌する。相を分離し、水性相をそれぞれの場合においてジクロロメタン４.５リットルを使用してさらに２回抽出する。合した有機相を塩化ナトリウムの半−飽和溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥する。有機相を濃縮して９リットルにする。
【００４８】
工程２：Ｂｏｃ−Ａｅｇ−ＯｔＢｕ
トリエチルアミン１.２４リットルおよび沃化カリウム５ｇを、上記のようにして得られた溶液に加える。それから、ジクロロメタン４.５リットル中のクロロ酢酸第３ブチル１.２４５リットルの溶液を撹拌しながら滴加し、この混合物を４０℃で５０時間撹拌する。それから、水５リットルを加え、混合物をはげしく撹拌する。それから、有機相を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮する。得られた粗製生成物を、溶離剤として９５：５の酢酸エチル／メタノールを使用してシリカゲルでクロマトグラフィー的に精製する。所望の生成物１.０３kgが得られた。
【００４９】
使用された略号を、以下に記載する。
Aeg Ｎ−（２−アミノエチル）グリシル、-NH-CH2-CH2-NH-CH2-CO-
Aeg(AMeOBz)
Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−（（９−（Ｎ6−４−メトキシベンゾイル）−アデノシル）アセチル）グリシル
Aeg(CBz)
Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−（（１−（Ｎ4−ベンゾイル）−シトシル）アセチル）グリシル
Aeg(CMeOBz)
Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−（（１−（Ｎ4−メトキシベンゾイル）シトシル）アセチル）グリシル
Aeg(CtBuBz)
Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−（（１−（Ｎ4−４−第３ブチルベンゾイル）−シトシル）アセチル）グリシル
Aeg(GiBu)
Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−（（９−（Ｎ2−イソブタノイル）グアノシル）アセチル）グリシル
Aeg(G2-Ac.4-Dpc)
Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−（（９−（Ｎ2−アセチル−Ｏ4−ジフェニルカルバモイル）グアノシル）アセチル）グリシル
Aeg(G2-Ac)
Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−（（９−（Ｎ2−アセチル）グアノシル）アセチル）グリシル
Aeg(T) Ｎ−(２−アミノエチル)−Ｎ−((１−チミニル)アセチル)グリシル
Bnpeoc 2,2−〔ビス（４−ニトロフェニル）〕−エトキシカルボニル）
Boc 第３ブチルオキシカルボニル
BOI
２−（ベンゾトリアゾール−１−イル）オキシ−1,3−ジメチルイミダゾリジニウムヘキサフルオロホスフェート
BOP
ベンゾトリアゾリル−１−オキシ−トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート
BroP
ブロムトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート
BSA Ｎ,Ｏ−ビス−（トリメチルシリル）アセトアミド
But 第３ブチル
Bz ベンゾイル
Bz ベンジル
Cl-Z ４−クロロベンジルオキシカルボニル
CPG 調節された多孔性ガラス
DBU 1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデク−７−エン
DCM ジクロロメタン
Ddz 3,5−ジメトキシフェニル−２−プロピル−２−オキシカルボニル
DMF ジメチルホルムアミド
Dmt ジ−（４−メトキシフェニル）フェニルメチル
Dnpeoc ２−（2,4−ジニトロフェニル）エトキシカルボニル
Dpc ジフェニルカルバモイル
FAM フルオレセイン残基
Fm ９−フルオレニルメチル
Fmoc ９−フルオレニルメチルオキシカルボニル
H-Aeg-OH Ｎ−（２−アミノエチル）グリシン
HAPyU
Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−1,1,3,3−ビス（テトラメチレン）−ウロニウムヘキサフルオロホスフェート
HATU
Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−1,1,3,3−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート
HBTU
Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−1,1,3,3−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート
HOBt １−ヒドロキシベンゾトリアゾール
HONSu Ｎ−ヒドロキシサクシンイミド
HOObt ３−ヒドロキシ−４−オキソ−3,4−ジヒドロベンゾトリアジン
iBu イソブタノイル
MeOBz ４−メトキシベンゾイル
Mmt ４−メトキシトリフェニルメチル
Moz ４−メトキシベンジルオキシカルボニル
MSNT 2,4,6−メシチレンスルホニル−３−ニトロ−1,2,4−トリアゾリド
Mtt ４−メチルフェニル）ジフェニルメチル
NMP Ｎ−メチルピロリジン
Oeg Ｎ−（２−オキシエチル）グリシル、-O-CH2-CH2-NH-CH2-CO-
Pixyl ９−（９−フェニル）キサンテニル
PyBOP
ベンゾトリアゾリル−１−オキシ−トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート
PyBroP ブロモトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート
TAPipU
Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−1,1,3,3−ビス（ペンタメチレン）−ウロニウムテトラフルオロボレート
TBTU
Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−1,1,3,3−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート
tBu 第３ブチル
tBuBz ４−第３ブチルベンゾイル
TDBTU
Ｏ−（3,4−ジヒドロ−４−オキソ−1,2,3−ベンゾトリアジン−３−イル）−1,1,3,3−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート
TDO
2,5−ジフェニル−2,3−ジヒドロ−３−オキソ−４−ヒドロキシチオフェンジオキシド
TFA トリフルオロ酢酸
THF テトラヒドロフラン
TNTU
Ｏ−（５−ノルボネン−2,3−ジカルボキシミド）−1,1,3,3−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート
TOTU
Ｏ−〔（シアノ（エトキシカルボニル）メチレン）アミノ〕−1,1,3,3−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート
TPTU
Ｏ−（1,2−ジヒドロ−２−オキソ−１−ピリジル）−1,1,3,3−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート
Trt トリチル
TSTU
Ｏ−（Ｎ−サクシンイミジル）−1,1,3,3−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート
Ｚ ベンジルオキシカルボニル
MS(ES+) エレクトロスプレー質量スペクトル（陽性イオン）
MS(ES-) エレクトロスプレー質量スペクトル（陰性イオン）
MS(DCl) 直接イオン化質量スペクトル
MS(FAB) 高速原子衝撃質量スペクトル
NBA ニトロベンジルアルコール
Claims (4)
- （ａ） ペプチド化学において慣用のカップリング試薬を使用して適当な溶剤中において０〜４５℃で式II
Ｒは、水素またはＸ＝ＮＨである場合は、酸−不安定な保護基であり、
Ｒ1は、酸に対して不安定であり、アミンに対して安定である保護基であり、
Ｘは、後述する通りである）の化合物を式III
（ｂ） 次に、適当である場合は陽イオン−捕捉剤を加えて適当な酸性条件下で適当な溶剤中で酸−不安定エステル保護基Ｒ1を除去することによってそしてＸ＝ＮＨである場合は同時に酸−不安定保護基Ｒを除去することによって式IVの化合物を式Ｖ
（ｃ） 適当な溶剤中で適当な試薬を使用し、補助塩基を使用して、式Ｖの化合物を式Ｉの化合物に変換し、適当である場合は後者の化合物をその塩に変換することからなる式Ｉ
ＰＧは、弱酸に対して不安定であるトリチル型の保護基であり、
Ｘは、ＮＨまたはＯであり、
Ｂ′は、ヌクレオチド化学において慣用の塩基で、その環外のアミノ基および（または）ヒドロキシル基は適当な既知の保護基により保護されたものである）の置換されたＮ−エチルグリシン誘導体およびその塩の製法。 - （ａ） カルボジイミド、ホスホニウム試薬、ウロニウム試薬、酸ハライドまたは活性化エステルを使用してＤＭＦ、アセトニトリル、ジクロロメタンまたはこれらの溶剤の混合物中において室温で式II（式中、Ｒは、水素またはＸ＝ＮＨである場合は、Ｂｏｃ、ＤｄｚまたはＴｒｔであり、Ｒ1は、第３ブチルまたは（２−クロロフェニル）ジフェニルメチルであり、Ｘは上述した通りである）の化合物を式III（式中、Ｂ′は上述した通りである）の化合物と反応させて式IV（式中、Ｒ、Ｘ、Ｂ′およびＲ1は上述した通りである）の化合物を得、
（ｂ） 次に、適当である場合はアニソール、チオフェノールまたはトリエチルシランを添加してジクロロメタン、酢酸エチルまたはジオキサン中においてトリフルオロ酢酸で酸−不安定エステル保護基Ｒ1を除去することによってそしてＸ＝ＮＨである場合は同時に酸−不安定保護基Ｒを除去することによって式IVの化合物を式Ｖ（式中、ＸおよびＢ′は上述した通りである）の化合物に変換し、そして適当である場合は、Ｘ＝Ｏである式IVの化合物を追加的に水性媒質中においてＮａＯＨまたはトリエチルアミンで処理し、
（ｃ） ＮＥＭ、ＤＩＰＥＡ、ピリジンまたはトリエチルアミンを使用してＤＭＦ、ＮＭＰ、アセトニトリル、ジクロロメタンまたはこれらの溶剤の混合物中においてＴｒｔ−Ｃｌ、Ｍｔｔ−Ｃｌ、Ｍｍｔ−Ｃｌ、Ｄｍｔ−ＣｌまたはＰｉｘｙｌ−Ｃｌで式Ｖの化合物を式Ｉの化合物に変換し、適当である場合はその塩に変換することからなる請求項１記載の式Ｉの置換されたＮ−エチルグリシン誘導体の製法。 - 式IIの化合物において、Ｒが水素またはＸ＝ＮＨである場合はＢｏｃ
であり、Ｒ1が第３ブチルである請求項２記載の式Ｉの置換されたＮ−エチルグリシン誘導体の製法。 - 式IV
Ｘは、ＮＨまたはＯであり、
Ｂ′は、ヌクレオチド化学において慣用の塩基で、その環外のアミノ基および(または)ヒドロキシル基は適当な既知の保護基によって保護されたものであり、
Ｒは、水素またはＸ＝ＮＨである場合は、酸−不安定保護基であり、
Ｒ1は、酸に対して不安定であり、アミンに対して安定である保護基である）の中間体。
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