JP3895077B2 - Manufacturing method of organic LED display - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表示品位の優れた有機LEDディスプレイの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
有機LED素子(画素)は、基本的に発光層もしくは発光層と電荷輸送層からなる有機層とこの有機層を挟持する電極から構成される。
従来、高分子材料を用いた有機LED素子では、スピンコート法、ディップ法およびドクターブレード法などの湿式法で塗布することにより有機層を形成していた。しかし、これらの塗布法では有機層のパターニングが難しく、3原色を発光する有機層を画素毎に配置する必要があるフルカラーの有機LEDディスプレイの実現は困難であった。
【0003】
そこで、近年、有機層をインクジェット方式によりパターン化して形成する方法が提案された〔特開平10−12377号公報およびAppl. Phys. Lett. 72巻、5519頁(1998年)参照〕。
しかしながら、インクジェット方式により形成した有機層の膜は、スピンコート法により形成した膜に比べて表面形状が粗いという欠点がある(図5参照)。図中、1は基板、2は第1電極、3は有機層、5は隔壁、14はインクジェットヘッド、ノズルまたはニードルをそれぞれ示している。
【0004】
この様に有機層の膜の表面形状が粗いと、発光時に発光ムラを生じ、有機LEDディスプレイとしての表示品位が低下するという問題が生じる。また、このような表面形状の粗い膜上には、均一な電極膜の形成が非常に困難になるという問題も生じる。
さらに、有機層形成用の塗液をインクジェト方式により複数回吐出して有機層を形成する場合には、吐出毎に形成される膜間で界面が形成されるので(図6参照、図中の図番は図5と同じ)、この界面が有機LED素子の電気的特性に悪影響を及ぼすという問題が生じる。
【0005】
他方、前記のような塗液を用いた方法で有機層を塗布形成して複数の画素を有する有機LEDディスプレイを作製する場合には、各有機層の混合を防止するために、各画素間に隔壁を形成する必要がある。しかし、用いる有機層形成用塗液の表面張力により、画素の角部および隅部に塗液が充満しないまま有機層が形成されることがあり、この場合には電極間で短絡(ショート)が起こってしまう(図8参照)。図中、1は基板、2は第1電極、3は有機層、4は第2電極、5は隔壁、15は塗液が充満しない部分をそれぞれ示している。
【0006】
そこで、電極間での短絡を防止するために、電極の幅を細くして画素の隅部を避けた形で電極を配置する方法が考えられるが、この場合には発光領域を互いに近づけることが困難となり、開口率が低くなるという問題が生じる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、発光時の発光ムラや電極間の短絡がなく、表示品位および電気特性に優れた高開口率の有機LEDディスプレイを提供することを課題とする。
【0008】
【発明が解決するための手段】
本発明者らは、かかる観点から鋭意研究を行った結果、高分子材料を含む有機層形成用の塗液より形成する方法で有機層を形成した後、有機層を構成する高分子材料の軟化温度以上で、好ましくは隔壁を構成する材料の軟化温度以下の温度で加熱処理することにより、有機層が平坦化されること(図7参照、図中の図番は図5と同じ)、かつ画素の角部および隅部にまで均一に、隙間なく有機層を形成することができること(図9参照、図中の図番は図8と同じ)を見出し、本発明を完成するに到った。
【0009】
かくして、本発明によれば、発光層もしくは発光層と電荷輸送層からなる有機層を含む有機LED素子(画素)が複数配置され、かつその画素間の少なくとも一部に隔壁を有する有機LEDディスプレイの製造方法であって、高分子材料を含む塗液を用いて形成する方法で少なくとも1層の有機層を形成した後、該有機層を構成する高分子材料のガラス転移温度(ガラス転移温度を示さない場合には融点)よりも高く、かつ隔壁を構成する材料のガラス転移温度(ガラス転移温度を示さない場合には融点)よりも低い温度で加熱処理する工程を含み、高分子材料を含む塗液が20℃において10mPa・s以下の粘度を有することを特徴とする有機LEDディスプレイの製造方法が提供される
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明の好適な実施の形態について図面を参照して以下に説明する。
有機LED素子(画素)は、図1に示されるように、通常、基板1、第1電極2、有機層3および第2電極4から構成される。本発明の有機LEDディスプレイは、このような画素が複数配置されて構成される。このような複数の画素を塗液より形成する方法で形成する場合には、有機層の重なり、膜厚分布および加熱乾燥時の有機層の流れを防止するために、各画素間に隔壁5を形成する。また、有機LEDディスプレイの表示品位、例えば、コントラストの観点からは、基板の外側には偏向板7が設けられているのが好ましく、さらに有機LEDディスプレイの信頼性の観点からは、第2電極4上には、封止膜または封止基板6が設けられているのが好ましい。
【0011】
基板1としては、石英基板、ガラス基板およびプラスチック基板などいずれも用いることができ、特にこれらに限定されない。
【0012】
有機層3は、発光層もしくは発光層と電荷輸送層からなり、発光層および電荷輸送層はそれぞれ単層構造および多層構造のいずれであってもよい。
有機LEDディスプレイとして多色発光を可能とするためには、有機層3中の少なくとも1層は、塗液より形成する方法で膜を形成することが必要である。よって、有機層3が多層構造の場合には、有機層の少なくとも1層は塗液より形成する方法で膜を形成する必要がある。例えば、印刷法、インクジェットヘッド、ノズルまたはニードルにより吐出する方法等が挙げられるが、特にインクジェットヘッドまたはニードルにより吐出する方法が好ましい。しかし、その他の有機層は公知の他の方法、例えば、真空蒸着法のような乾式法(ドライプロセス)やスピンコート法およびドクターブレード法などの湿式法により形成してもよい。
【0013】
有機層3を挟持する第1電極2と第2電極4の材質は、有機LEDディスプレイの構成により選定される。すなわち、有機LEDディスプレイにおいて、基板1が透明基板で、かつ第1電極2が透明電極である場合には、有機層からの発光が基板1側から放出されるので、発光効率を高めるために、第2電極4を反射電極とするか、もしくは第2電極4の有機層3と隣接しない面に反射膜(図示しない)を設けるのが好ましい。
逆に、第2電極4が透明電極である場合には、有機層からの発光が第2電極4側から放出されるので、第1電極2を反射電極とするか、もしくは第1電極2と基板1との間に反射膜(図示しない)を設けるのが好ましい。
【0014】
透明電極の材質としては、例えば、CuI、ITO(インジウム錫酸化物)、SnO2 、ZnOおよびCuAlO2 などが挙げられ、反射電極の材質としては、例えば、アルミニウムおよびカルシウムなどの金属、マグネシウム−銀およびリチウム−アルミニウムなどの合金、マグネシウム/銀のような金属同士の積層膜、ならびにフッ化リチウム/アルミニウムのような絶縁体と金属との積層膜などが挙げられる。
【0015】
隔壁5は、単層構造でも多層構造でもよく、各画素間に配置されていてもよく、異なる発光色間に配置されていてもよい。隔壁の材質としては発光材料、電荷輸送材料や高分子材料を溶解もしくは分散した溶媒、すなわち有機層形成用の塗液の溶媒に不溶もしくは難溶であるものが好ましい。有機LEDディスプレイとしての表示品位を向上させる意味で、ブラックマトリックス用の材料(例えば、液晶用樹脂ブラックなど)を用いるのが特に好ましい。
【0016】
次に、有機LEDディスプレイの有機層の配置について説明する。
本発明の有機LEDディスプレイは、発光層もしくは発光層と電荷輸送層からなる有機層を含む有機LED素子(画素)が複数配置され、かつその画素間の少なくとも一部に隔壁を有するものである。その配置としては、例えば、図2(a)に示されるように、複数の有機LED素子が隔壁5を介してマトリックス状に配置された構造(ストライプ配列)が挙げられる。これらの画素は、赤色(R)発光画素8、緑色(G)発光画素9および青色(B)発光画素10から構成されているのが好ましい。また、画素の配置は、図2(b)、2(c)および2(d)にそれぞれ示されるようなモザイク配列、デルタ配列およびスクウェア配列であってもよい。R発光画素、G発光画素およびB発光画素それぞれの割合は、図2(d)に示されるように、必ずしも1:1:1である必要はなく、各画素の占有面積は、同一であっても、各画素によって異なっていてもよい。
【0017】
次に、各画素に対応した第1電極間と第2電極間の接続方法について説明する。
本発明の有機LEDディスプレイは、図3(a)に示されるように有機層3を挟持する第1電極2と第2電極4が共通の基板1上で互いに直交するストライプ状の電極になるように構成されていてもよく、あるいは図3(b)に示されるように第1電極2もしくは第2電極4が薄膜トランジスタ(TFT)11を介して共通の電極に接続されていてもよい。図中、12はソースバスライン、13はゲートバスラインをそれぞれ示す。
【0018】
次に、有機層形成用塗液について説明する。
有機層形成用塗液は、有機層の層構造にもよるが、多層構造の場合には、発光層形成用塗液と電荷輸送層形成用塗液に分けることができる。ここで、電荷輸送層とは、電子輸送層、電子注入層および正孔輸送層、正孔注入層を意味する。
【0019】
発光層形成用塗液としては、有機LED用の公知の高分子発光材料を溶媒に溶解もしくは分散させたもの、あるいは有機LED用の公知の低分子発光材料と公知の高分子材料とを溶媒に溶解もしくは分散させたものが挙げられる。
【0020】
高分子発光材料としては、例えば、ポリ(2−デシルオキシ−1,4−フェニレン)(DO−PPP)、ポリ[2,5−ビス〔2−(N,N,N−トリエチルアンモニウム)エトキシ〕−1,4−フェニレン−アルト−1,4−フェニレン]ジブロマイド(PPP−NEt3 + )、ポリ〔2−(2’−エチルヘキシルオキシ)−5−メトキシ−1,4−フェニレンビニレン〕(MEH−PPV)、ポリ〔5−メトキシ−(2−プロパノキシサルフォニド)−1,4−フェニレンビニレン〕(MPS−PPV)およびポリ〔2,5−ビス(ヘキシルオキシ)−1,4−フェニレン−(1−シアノビニレン)〕(CN−PPV)などが挙げられるが、本発明においては特に限定されない。
【0021】
また、低分子発光材料としては、例えば、ジシアノメチレン誘導体(DCM2)、2−(4−t−ブチルフェニル)−5−(4−ビフェニルイル)−1,3,4−オキサジアゾール(PBD)、テトラフェニルブタジエン(TPB)、クマリン(例えば、Coumarin 6)、ナイルレッドおよびオキサジアゾール誘導体などが挙げられるが、本発明においては特に限定されない。
【0022】
高分子材料は、上記の発光材料自体がフィルム形成能がないか、あるいは低い場合に、その有機層の形成を助ける。
高分子材料としては、例えば、ポリカーボネート(PC、mp=163℃)、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA、mp=99℃)、ポリメチルメタクリレート(PMMA、Tg=114℃、mp>300℃)およびポリビニルカルバゾール(PVCz、Tg=150〜180℃、mp>300℃)などが挙げられるが、本発明においては特に限定されない。
【0023】
上記の高分子発光材料、低分子発光材料および高分子材料を溶解もしくは分散させる溶媒としては、当該分野で用いられる溶剤をいずれも用いることができる。中でも、ジクロロメタン、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、グリセリン、ホルムアミド、N-メチル−2−ピロリドン、シクロヘキサノン、メタノール、1−プロパノール、オクタン、ノナンおよびデカンなどの低蒸気圧の溶剤が好ましい。
【0024】
発光層形成用塗液には、必要に応じてpH調整用、粘度調整用および充満促進用などの添加剤、有機LED用および有機光導電体用の公知の正孔輸送材料および電荷輸送材料、アクセプターおよびドナーなどのドーパントが添加されていてもよい。正孔輸送材料としては、例えば、N,N’−ビス−(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス−(フェニル)−ベンジジン(TPD)およびN,N’−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ジフェニル−ベンジジン(NPD)などが挙げられ、電子輸送材料としては、例えば、3−(4−ビフェニルイル)−4−フェニレン−5−t−ブチルフェニル−1,2,4−トリアゾール(TAZ)およびトリス(8−ヒドロキシナト)アルミニウム(Alq3)などが挙げられる。
【0025】
電荷輸送層形成用塗液としては、有機LED用または有機光導電体用の公知の高分子電荷輸送材料を溶媒に溶解もしくは分散させたもの、あるいは有機LED用または有機光導電体用の公知の低分子電荷輸送材料と公知の高分子材料とを溶媒に溶解もしくは分散させたものが挙げられる。
【0026】
高分子電荷輸送材料としては、例えば、ポリアニリン(PANI)、3,4−ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDT)、ポリカルバゾール(PVCz)、ポリ(トリフェニルアミン誘導体)(Poly−TPD)およびポリ(オキサジアゾール誘導(Poly−OXZ)などが挙げられる。
【0027】
また、低分子電荷輸送材料としては、例えば、N,N’−ビス−(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス−(フェニル)−ベンジジン(TPD)、N,N’−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ジフェニル−ベンジジン(NPD)およびオキサジアゾール誘導体などが挙げられる。
【0028】
高分子材料、ならびに上記の高分子電荷輸送材料、低分子電荷輸送材料および高分子材料を溶解もしくは分散させる溶媒としては、発光層形成用塗液で例示した高分子材料および溶剤が挙げられる。
また、電荷輸送層形成用塗液には、必要に応じてpH調整用、粘度調整用および充満促進用などの添加剤、アクセプターおよびドナーなどのドーパントが添加されていてもよい。
【0029】
発光層形成用塗液および電荷輸送層形成用塗液のような有機層形成用塗液は、20℃における粘度が10mPa・s以下になるように、固形分と溶剤の混合比率を調整するのが好ましい。また、塗液はその表面張力が40dyn/cm以上になるように調製されるのが好ましい。
【0030】
本発明の方法では、有機層形成用塗液より形成する方法で有機層を形成した後、該有機層を構成する高分子材料の軟化温度よりも高い温度で加熱処理する。
【0031】
図4は、本発明の方法における有機層の形成工程を示す概略図である。図中、1は基板、2は第1電極、5は隔壁、14はインクジェットヘッド、ノズルまたはニードルをそれぞれ示している。
インクジェットヘッド、ノズルまたはニードル14から塗液を吐出させて、第1電極2上もしくは先に形成された有機層上に有機層を形成する。この工程は、1画素に対して、1種の塗液を用いた1回の吐出であってもよく、あるいは複数種の塗液を用いた複数回の吐出であってもよい。
【0032】
塗液より形成する方法としては、公知の方法がいずれも適用できるが、有機層形成用塗液の熱による変質を考慮して、熱の影響の少ないピエゾ方式および圧縮気体による吐出方式が好ましい。中でも、インクジェット、ノズルまたはニードルから塗液を吐出する方法が特に好ましい。
さらに、生産効率の観点から、塗液を吐出するインクジェットヘッド、ノズルまたはニードルは、発光色の異なる塗液毎に分けて、複数用いるのが好ましい。有機層は1μmよりも薄い膜厚で形成されるのが好ましく、この膜厚が1μmよりも厚い場合には、有機層の抵抗により駆動電圧が著しく上昇してしまうので好ましくない。
【0033】
有機層を上記の方法で形成した後、好ましくは有機層の形成直後に、公知の方法で加熱処理する。
加熱温度は、有機層を構成する高分子材料の軟化温度よりも高い温度で、好ましくは、隔壁を構成する材料の軟化温度以下の温度で行うのが好ましい。ここで、軟化温度とは、高分子材料が軟化する温度であり、融点もしくはガラス転移温度を意味する。
【0034】
また、有機層を多層構造とする場合には、複数の有機層が加熱処理により溶融して混じり合うことを防止するために、先に形成する有機層を構成する高分子材料の軟化温度は、後から形成する有機層を構成する高分子材料の軟化温度よりも高いことが好ましい。この場合の加熱温度は、前者の軟化温度を上限とし、後者の軟化温度を下限とする範囲が好ましい。
【0035】
加熱時間は、加熱温度により変化するが、少なくとも有機層が平坦化する時間であればよく、通常、5分〜8時間程度で充分である。
加熱方法としては、例えば、ホットプレートおよびオーブンなどが挙げられる。また加熱するときの環境としては、特に限定されるものではないが、高分子材料の酸化等の劣化を防止するため、不活性ガス中もしくは真空下で行うことが好ましい。
【0036】
【実施例】
本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、これらの実施例により本発明が限定されるものではない。
【0037】
実施例1
膜厚130nmのITO(インジウム錫酸化物)付きガラス基板をフォトリソグラフィ法により、第1電極として幅200μm、ピッチ220μmのITO透明ストライプ電極を形成した。次に、この基板を、イソプロピルアルコール、アセトンおよび純水を用いてそれぞれ10分間超音波洗浄し、さらにUVオゾン処理およびO2 プラズマ処理をそれぞれ10分間行なった。
次に、この基板上にスピンコート法により膜厚20μmのネガ型感光体ポリイミド膜(日立化成デュポン社製、Tg=260℃)を形成した。次いで、マスク露光し、レジスト残渣を洗い流し、ITO電極と平行する方向にはピッチ340μm、ITO電極と直交する方向にはピッチ220μmで、幅40μmの隔壁をフォトレジスト法により形成した。
【0038】
市販のインクジェットプリンタにより正孔輸送層形成用塗液を吐出させて、基板上に膜厚75nmの正孔輸送層を形成した。正孔輸送層形成用塗液としては、重量比70:30のポリカーボネート(PC、mp=163℃)とN,N’−ビス−(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス−(フェニル)−ベンジジン(TPD)とをジクロロメタンに分散させたものを用いた。正孔輸送層を形成した直後に、得られた基板を170℃で1時間加熱処理した。
【0039】
次に、市販のインクジェットプリンタにより発光層形成用塗液を吐出させて、正孔輸送層上にパターニング塗布して、膜厚100nmの発光層を形成した。発光層形成用塗液は、赤色発光層用として重量比70:20:10のエチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA、mp=99℃)とジシアノメチレン誘導体(DCM2)と2−(4−t−ブチルフェニル)−5−(4−ビフェニルイル)−1,3,4−オキサジアゾール(PBD)とをメタノールに分散させたもの、緑色発光層用として重量比70:20:10のEVAとクマリン6(Coumarin 6)とPBDとをジクロロメタンに分散させたもの、そして青色発光層用として重量比70:20:10のEVAとテトラフェニルブタジエン(TPB)とPBDとをメタノールに分散させたものを用いた。発光層を形成した直後に、得られた基板を110℃で1時間加熱処理した。
【0040】
次に、発光層上に蒸着法により膜厚0.9nmのLiF膜を形成し、さらにシャドウマスクを用いた蒸着法により、第2電極として膜厚0.2μm、幅330μm、ピッチ340μmのAl電極を形成した。最後に得られた素子をエポキシ樹脂で封止した。
以上のようにして作製した有機LEDディスプレイは、第1電極と第2電極との間でのショートは観測されなかった。また、この有機LEDディスプレイに40Vのパルス電圧を印加したところ、赤、緑および青の発光が観測された。
この素子の開口率は72%であった。
【0041】
比較例1
正孔輸送層および発光層を形成した直後に加熱処理しないこと以外は実施例1と同様にして、有機LEDディスプレイを作製した。
得られた有機LEDディスプレイでは、第1電極と第2電極との間でショートが観測された。
【0042】
比較例2
正孔輸送層および発光層を形成した直後に加熱処理しないこと、ならびにシャドウマスクを用いた蒸着法により、第2電極として膜厚0.2μm、幅240μm、ピッチ340μmのAl電極を形成すること以外は実施例1と同様にして、有機LEDディスプレイを作製した。
得られた有機LEDディスプレイは、第1電極と第2電極との間でのショートは観測されなかった。また、この有機LEDディスプレイに40Vのパルス電圧を印加したところ、赤、緑および青の発光が観測された。
この素子の開口率は48%であった。
【0043】
実施例2
膜厚130nmのITO付きガラス基板をフォトリソグラフィ法により、第1電極として幅200μm、ピッチ220μmのITO透明ストライプ電極を形成した。次に、この基板を、イソプロピルアルコール、アセトンおよび純水を用いてそれぞれ10分間超音波洗浄し、さらにUVオゾン処理およびO2 プラズマ処理をそれぞれ10分間行なった。
次に、この基板上にスピンコート法により膜厚30μmのポジ型レジスト膜(JSR社製、Tg=250℃)を形成した。次いで、マスク露光し、レジスト残渣を洗い流し、ITO電極と平行する方向にはピッチ340μm、ITO電極と直交する方向にはピッチ220μmで、幅40μmの隔壁をフォトレジスト法により形成した。
【0044】
市販のディスペンサにより正孔輸送層形成用塗液を吐出させて、基板上に膜厚75nmの正孔輸送層を形成した。正孔輸送層形成用塗液としては、重量比70:30のPC(mp=163℃)とTPDとをジクロロメタンに分散させたものを用いた。正孔輸送層を形成した直後に、得られた基板を170℃で1時間加熱処理した。
【0045】
次に、市販のディスペンサにより発光層形成用塗液を吐出させて、正孔輸送層上にパターニング塗布して、膜厚100nmの発光層を形成した。発光層形成用塗液は、赤色発光層用として重量比70:20:10のEVA(mp=99℃)とDCM2とPBDとをメタノールに分散させたもの、緑色発光層用として重量比70:20:10のEVAとCoumarin 6とPBDとをジクロロメタンに分散させたもの、そして青色発光層用として重量比70:20:10のEVAとTPBとPBDとをメタノールに分散させたものを用いた。発光層を形成した直後に、得られた基板を110℃で1時間加熱処理した。
【0046】
次に、発光層上に蒸着法により膜厚0.9nmのLiF膜を形成し、さらにシャドウマスクを用いた蒸着法により、第2電極として膜厚0.2μm、幅330μm、ピッチ340μmのAl電極を形成した。最後に得られた素子をエポキシ樹脂で封止した。
以上のようにして作製した有機LEDディスプレイは、第1電極と第2電極との間でのショートは観測されなかった。また、この有機LEDディスプレイに40Vのパルス電圧を印加したところ、赤、緑および青の発光が観測された。
この素子の開口率は72%であった。
【0047】
比較例3
正孔輸送層および発光層を形成した直後に加熱処理しないこと以外は実施例2と同様にして、有機LEDディスプレイを作製した。
得られた有機LEDディスプレイでは、第1電極と第2電極との間でショートが観測された。
【0048】
比較例4
正孔輸送層および発光層を形成した直後に加熱処理しないこと、ならびにシャドウマスクを用いた蒸着法により、第2電極として膜厚0.2μm、幅240μm、ピッチ340μmのAl電極を形成すること以外は実施例2と同様にして、有機LEDディスプレイを作製した。
得られた有機LEDディスプレイは、第1電極と第2電極との間でのショートは観測されなかった。また、この有機LEDディスプレイに40Vのパルス電圧を印加したところ、赤、緑および青の発光が観測された。
この素子の開口率は48%であった。
【0049】
【発明の効果】
本発明の有機LEDディスプレイの製造方法は、発光層もしくは発光層と電荷輸送層からなる有機層を含む有機LED素子(画素)が複数配置され、かつその画素間の少なくとも一部に隔壁を有する有機LEDディスプレイの製造方法であって、高分子材料を含む塗液より形成する方法で少なくとも1層の有機層形成した後、該有機層を構成する高分子材料の軟化温度よりも高い温度で加熱処理する工程を含むことを特徴とする。
したがって、有機層を平坦化でき、かつ画素の角部および隅部にまで均一に隙間なく有機層を形成することができるので、発光時の発光ムラや電極間の短絡がなく、表示品位および電気特性に優れた高開口率の有機LEDディスプレイを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の有機LEDディスプレイの概略断面図である。
【図2】本発明の有機LEDディスプレイの発光層の配置の概略部分平面図である。
【図3】本発明の有機LEDディスプレイの概略部分平面透視図である。
【図4】本発明による有機層の形成工程の概略図である。
【図5】従来のインクジェット方式で作製した有機層の概略断面図である。
【図6】従来のインクジェット方式で作製した有機層の概略断面図である。
【図7】本発明の方法で作製した有機層の概略断面図である。
【図8】従来のインクジェット方式で作製した有機層の概略部分平面図である。
【図9】本発明の方法で作製した有機層の概略部分平面図である。
【符号の説明】
1 基板
2 第1電極
3 有機層
4 第2電極
5 隔壁
6 封止膜または封止基板
7 偏光板
8 赤色発光画素
9 緑色発光画素
10 青色発光画素
11 薄膜トランジスタ(TFT)
12 ソースバスライン
13 ゲートバスライン
14 インクジェットヘッド、ノズルまたはニードル
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
  The present invention provides an organic LED display with excellent display quality.Lee'sIt relates to a manufacturing method.
[0002]
[Prior art]
An organic LED element (pixel) is basically composed of a light emitting layer or an organic layer composed of a light emitting layer and a charge transport layer and an electrode sandwiching the organic layer.
Conventionally, in an organic LED element using a polymer material, an organic layer is formed by applying a wet method such as a spin coating method, a dip method, or a doctor blade method. However, these coating methods make it difficult to pattern the organic layer, and it has been difficult to realize a full-color organic LED display in which an organic layer emitting three primary colors needs to be arranged for each pixel.
[0003]
Therefore, in recent years, a method for forming an organic layer by patterning by an ink jet method has been proposed (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-12377 and Appl. Phys. Lett. 72, 5519 (1998)).
However, the organic layer film formed by the ink jet method has a defect that the surface shape is rough as compared with the film formed by the spin coat method (see FIG. 5). In the figure, 1 is a substrate, 2 is a first electrode, 3 is an organic layer, 5 is a partition, and 14 is an inkjet head, nozzle or needle.
[0004]
Thus, when the surface shape of the film of the organic layer is rough, there occurs a problem that unevenness of light emission occurs during light emission and the display quality as an organic LED display is lowered. In addition, there is a problem that it is very difficult to form a uniform electrode film on such a rough film.
Further, when an organic layer is formed by discharging a coating liquid for forming an organic layer a plurality of times by an inkjet method, an interface is formed between the films formed for each discharge (see FIG. 6, The figure number is the same as FIG. 5), and this interface has a problem of adversely affecting the electrical characteristics of the organic LED element.
[0005]
On the other hand, in the case of producing an organic LED display having a plurality of pixels by applying and forming an organic layer by the method using the coating liquid as described above, in order to prevent mixing of the organic layers, It is necessary to form a partition wall. However, due to the surface tension of the coating liquid for forming the organic layer used, an organic layer may be formed without filling the corners and corners of the pixels. In this case, a short circuit occurs between the electrodes. It happens (see FIG. 8). In the figure, 1 is a substrate, 2 is a first electrode, 3 is an organic layer, 4 is a second electrode, 5 is a partition, and 15 is a portion not filled with coating liquid.
[0006]
Therefore, in order to prevent a short circuit between the electrodes, a method of arranging the electrodes so as to avoid the corners of the pixels by narrowing the width of the electrodes can be considered, but in this case, the light emitting regions may be brought closer to each other. It becomes difficult and the problem that an aperture ratio becomes low arises.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
It is an object of the present invention to provide an organic LED display having a high aperture ratio that is free from uneven light emission during light emission and short-circuiting between electrodes, and has excellent display quality and electrical characteristics.
[0008]
[Means for Solving the Invention]
As a result of intensive research from such a viewpoint, the present inventors have formed an organic layer by a method of forming from a coating liquid for forming an organic layer containing a polymer material, and then softened the polymer material constituting the organic layer. The organic layer is planarized by heat treatment at a temperature equal to or higher than the temperature, preferably equal to or lower than the softening temperature of the material constituting the partition wall (see FIG. 7, the figure number in the figure is the same as FIG. 5), and It has been found that an organic layer can be formed evenly at the corners and corners of the pixel without any gap (see FIG. 9, the figure numbers in the figure are the same as those in FIG. 8), and the present invention has been completed. .
[0009]
  Thus, according to the present invention, there is provided an organic LED display in which a plurality of organic LED elements (pixels) including a light emitting layer or an organic layer composed of a light emitting layer and a charge transport layer are arranged and a partition is provided at least in part between the pixels. After forming at least one organic layer by a method using a coating liquid containing a polymer material, the glass transition temperature of the polymer material constituting the organic layer (showing the glass transition temperature) In the absence of a glass transition temperature, and a temperature lower than the glass transition temperature of the material constituting the partition wall (the melting point if the glass transition temperature is not indicated). Provided is a method for producing an organic LED display, wherein the liquid has a viscosity of 10 mPa · s or less at 20 ° C..
[0010]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
As shown in FIG. 1, the organic LED element (pixel) is generally composed of a substrate 1, a first electrode 2, an organic layer 3, and a second electrode 4. The organic LED display of the present invention is configured by arranging a plurality of such pixels. When forming such a plurality of pixels by a method of forming from a coating liquid, in order to prevent the organic layer from overlapping, the film thickness distribution, and the flow of the organic layer during heating and drying, a partition wall 5 is provided between the pixels. Form. In addition, from the viewpoint of display quality of the organic LED display, for example, contrast, it is preferable that the deflection plate 7 is provided outside the substrate. Further, from the viewpoint of reliability of the organic LED display, the second electrode 4 is provided. A sealing film or a sealing substrate 6 is preferably provided on the top.
[0011]
As the substrate 1, any of a quartz substrate, a glass substrate, a plastic substrate, and the like can be used, and the substrate 1 is not particularly limited thereto.
[0012]
The organic layer 3 includes a light emitting layer or a light emitting layer and a charge transport layer, and the light emitting layer and the charge transport layer may have either a single layer structure or a multilayer structure, respectively.
In order to enable multicolor light emission as an organic LED display, it is necessary to form a film by a method in which at least one layer in the organic layer 3 is formed from a coating liquid. Therefore, when the organic layer 3 has a multilayer structure, it is necessary to form a film by a method in which at least one organic layer is formed from a coating liquid. For example, a printing method, an inkjet head, a method of discharging with a nozzle or a needle, and the like can be mentioned, and a method of discharging with an inkjet head or a needle is particularly preferable. However, other organic layers may be formed by other known methods, for example, a dry method such as a vacuum deposition method, a wet method such as a spin coating method and a doctor blade method.
[0013]
The materials of the first electrode 2 and the second electrode 4 that sandwich the organic layer 3 are selected according to the configuration of the organic LED display. That is, in the organic LED display, when the substrate 1 is a transparent substrate and the first electrode 2 is a transparent electrode, light emission from the organic layer is emitted from the substrate 1 side. The second electrode 4 is preferably a reflective electrode, or a reflective film (not shown) is preferably provided on the surface of the second electrode 4 that is not adjacent to the organic layer 3.
Conversely, when the second electrode 4 is a transparent electrode, light emitted from the organic layer is emitted from the second electrode 4 side, so that the first electrode 2 is used as a reflective electrode, or A reflective film (not shown) is preferably provided between the substrate 1 and the substrate 1.
[0014]
As a material of the transparent electrode, for example, CuI, ITO (indium tin oxide), SnO2ZnO and CuAlO2Examples of the material of the reflective electrode include metals such as aluminum and calcium, alloys such as magnesium-silver and lithium-aluminum, laminated films of metals such as magnesium / silver, and lithium fluoride / aluminum. And a laminated film of an insulator and a metal.
[0015]
The partition wall 5 may have a single layer structure or a multilayer structure, and may be disposed between pixels or may be disposed between different emission colors. As a material for the partition wall, a material in which a light emitting material, a charge transport material or a polymer material is dissolved or dispersed, that is, a material which is insoluble or hardly soluble in a solvent of an organic layer forming coating solution is preferable. In order to improve display quality as an organic LED display, it is particularly preferable to use a black matrix material (for example, resin black for liquid crystal).
[0016]
Next, the arrangement of the organic layer of the organic LED display will be described.
In the organic LED display of the present invention, a plurality of organic LED elements (pixels) including a light emitting layer or an organic layer composed of a light emitting layer and a charge transport layer are disposed, and a partition is provided at least at a part between the pixels. As the arrangement, for example, as shown in FIG. 2A, a structure (striped arrangement) in which a plurality of organic LED elements are arranged in a matrix via partition walls 5 can be mentioned. These pixels are preferably composed of a red (R) light emitting pixel 8, a green (G) light emitting pixel 9, and a blue (B) light emitting pixel 10. Further, the pixel arrangement may be a mosaic arrangement, a delta arrangement, and a square arrangement as shown in FIGS. 2 (b), 2 (c), and 2 (d), respectively. The ratio of each of the R light emitting pixel, the G light emitting pixel, and the B light emitting pixel is not necessarily 1: 1: 1 as shown in FIG. 2D, and the occupied area of each pixel is the same. May be different for each pixel.
[0017]
Next, a connection method between the first electrodes and the second electrodes corresponding to each pixel will be described.
In the organic LED display of the present invention, as shown in FIG. 3A, the first electrode 2 and the second electrode 4 sandwiching the organic layer 3 are formed as stripe-shaped electrodes orthogonal to each other on a common substrate 1. Alternatively, the first electrode 2 or the second electrode 4 may be connected to a common electrode via a thin film transistor (TFT) 11 as shown in FIG. In the figure, 12 indicates a source bus line, and 13 indicates a gate bus line.
[0018]
Next, the organic layer forming coating solution will be described.
The organic layer forming coating liquid depends on the layer structure of the organic layer, but in the case of a multilayer structure, it can be divided into a light emitting layer forming coating liquid and a charge transport layer forming coating liquid. Here, the charge transport layer means an electron transport layer, an electron injection layer, a hole transport layer, and a hole injection layer.
[0019]
As the light emitting layer forming coating solution, a known polymer light emitting material for organic LED dissolved or dispersed in a solvent, or a known low molecular weight light emitting material for organic LED and a known polymer material are used as a solvent. Those dissolved or dispersed may be mentioned.
[0020]
Examples of the polymer light-emitting material include poly (2-decyloxy-1,4-phenylene) (DO-PPP), poly [2,5-bis [2- (N, N, N-triethylammonium) ethoxy]- 1,4-phenylene-alt-1,4-phenylene] dibromide (PPP-NEtThree +), Poly [2- (2′-ethylhexyloxy) -5-methoxy-1,4-phenylenevinylene] (MEH-PPV), poly [5-methoxy- (2-propanoxysulfonide) -1,4 -Phenylene vinylene] (MPS-PPV) and poly [2,5-bis (hexyloxy) -1,4-phenylene- (1-cyanovinylene)] (CN-PPV). It is not limited.
[0021]
Examples of the low-molecular light-emitting material include dicyanomethylene derivatives (DCM2), 2- (4-t-butylphenyl) -5- (4-biphenylyl) -1,3,4-oxadiazole (PBD). , Tetraphenylbutadiene (TPB), coumarin (for example, Coumarin 6), Nile red, oxadiazole derivatives, and the like, but are not particularly limited in the present invention.
[0022]
The polymer material assists the formation of the organic layer when the light emitting material itself has no or low film forming ability.
Examples of the polymer material include polycarbonate (PC, mp = 163 ° C.), ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA, mp = 99 ° C.), polymethyl methacrylate (PMMA, Tg = 114 ° C., mp> 300 ° C.). And polyvinyl carbazole (PVCz, Tg = 150 to 180 ° C., mp> 300 ° C.) and the like, but are not particularly limited in the present invention.
[0023]
As the solvent for dissolving or dispersing the above-described polymer light-emitting material, low-molecular light-emitting material, and polymer material, any solvent used in the art can be used. Among them, dichloromethane, ethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, glycerin, formamide, N-methyl-2-pyrrolidone, Low vapor pressure solvents such as cyclohexanone, methanol, 1-propanol, octane, nonane and decane are preferred.
[0024]
In the light emitting layer forming coating solution, additives for pH adjustment, viscosity adjustment and filling acceleration, as required, known hole transport materials and charge transport materials for organic LEDs and organic photoconductors, A dopant such as an acceptor and a donor may be added. Examples of the hole transport material include N, N′-bis- (3-methylphenyl) -N, N′-bis- (phenyl) -benzidine (TPD) and N, N′-di (naphthalene-1- Yl) -N, N′-diphenyl-benzidine (NPD) and the like, and examples of the electron transport material include 3- (4-biphenylyl) -4-phenylene-5-t-butylphenyl-1,2 , 4-triazole (TAZ) and tris (8-hydroxynato) aluminum (Alq3).
[0025]
As a coating liquid for forming a charge transport layer, a known polymer charge transport material for organic LED or organic photoconductor dissolved or dispersed in a solvent, or a known solution for organic LED or organic photoconductor A low molecular charge transport material and a known polymer material dissolved or dispersed in a solvent can be used.
[0026]
Examples of the polymer charge transport material include polyaniline (PANI), 3,4-polyethylenedioxythiophene (PEDT), polycarbazole (PVCz), poly (triphenylamine derivative) (Poly-TPD), and poly (oxadi). An azole derivative (Poly-OXZ) etc. are mentioned.
[0027]
Examples of the low molecular charge transport material include N, N′-bis- (3-methylphenyl) -N, N′-bis- (phenyl) -benzidine (TPD), N, N′-di (naphthalene). -1-yl) -N, N′-diphenyl-benzidine (NPD) and oxadiazole derivatives.
[0028]
Examples of the polymer material and the solvent for dissolving or dispersing the polymer charge transport material, the low molecular charge transport material, and the polymer material described above include the polymer materials and solvents exemplified in the light emitting layer forming coating solution.
Further, the charge transport layer forming coating solution may be added with additives such as pH adjusting agent, viscosity adjusting agent and filling promoting agent, and dopants such as acceptor and donor as required.
[0029]
The organic layer forming coating solution such as the light emitting layer forming coating solution and the charge transport layer forming coating solution is adjusted to adjust the mixing ratio of the solid content and the solvent so that the viscosity at 20 ° C. is 10 mPa · s or less. Is preferred. The coating liquid is preferably prepared so that its surface tension is 40 dyn / cm or more.
[0030]
In the method of the present invention, an organic layer is formed by a method of forming from a coating liquid for forming an organic layer, and then heat treatment is performed at a temperature higher than the softening temperature of the polymer material constituting the organic layer.
[0031]
FIG. 4 is a schematic view showing an organic layer forming step in the method of the present invention. In the figure, 1 is a substrate, 2 is a first electrode, 5 is a partition, and 14 is an inkjet head, nozzle or needle.
The coating liquid is ejected from the inkjet head, nozzle or needle 14 to form an organic layer on the first electrode 2 or on the organic layer previously formed. This step may be a single discharge using one kind of coating liquid for one pixel, or a plurality of times of discharging using a plurality of kinds of coating liquids.
[0032]
As a method of forming from the coating liquid, any of the known methods can be applied, but taking into consideration the alteration of the coating liquid for forming the organic layer due to heat, a piezo method with less influence of heat and a discharge method using compressed gas are preferable. Among these, a method of discharging the coating liquid from an ink jet, a nozzle or a needle is particularly preferable.
Furthermore, from the viewpoint of production efficiency, it is preferable to use a plurality of inkjet heads, nozzles or needles that discharge the coating liquid, for each coating liquid having a different emission color. The organic layer is preferably formed with a film thickness of less than 1 μm. If the film thickness is thicker than 1 μm, the driving voltage is remarkably increased due to the resistance of the organic layer, which is not preferable.
[0033]
After the organic layer is formed by the above method, it is preferably heat-treated by a known method immediately after the formation of the organic layer.
The heating temperature is preferably higher than the softening temperature of the polymer material constituting the organic layer, preferably at a temperature equal to or lower than the softening temperature of the material constituting the partition wall. Here, the softening temperature is a temperature at which the polymer material softens and means a melting point or a glass transition temperature.
[0034]
Further, when the organic layer has a multilayer structure, in order to prevent the plurality of organic layers from being melted and mixed by heat treatment, the softening temperature of the polymer material constituting the organic layer formed earlier is It is preferable that the temperature is higher than the softening temperature of the polymer material constituting the organic layer to be formed later. The heating temperature in this case is preferably in the range where the former softening temperature is the upper limit and the latter softening temperature is the lower limit.
[0035]
Although the heating time varies depending on the heating temperature, it may be at least a time for flattening the organic layer, and usually about 5 minutes to 8 hours is sufficient.
Examples of the heating method include a hot plate and an oven. The heating environment is not particularly limited, but it is preferably performed in an inert gas or under vacuum in order to prevent deterioration of the polymer material such as oxidation.
[0036]
【Example】
Examples The present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
[0037]
Example 1
An ITO transparent stripe electrode having a width of 200 μm and a pitch of 220 μm was formed as a first electrode on a glass substrate with a thickness of 130 nm with ITO (indium tin oxide) by photolithography. Next, the substrate was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, acetone and pure water for 10 minutes, respectively, and further subjected to UV ozone treatment and O 2.2Each plasma treatment was performed for 10 minutes.
Next, a negative photosensitive polyimide film having a film thickness of 20 μm (manufactured by Hitachi Chemical DuPont, Tg = 260 ° C.) was formed on the substrate by spin coating. Next, mask exposure was performed to wash away the resist residue, and a partition having a pitch of 340 μm in the direction parallel to the ITO electrode and a pitch of 220 μm in the direction perpendicular to the ITO electrode and a width of 40 μm was formed by a photoresist method.
[0038]
A hole transport layer forming coating liquid was discharged by a commercially available inkjet printer to form a hole transport layer having a thickness of 75 nm on the substrate. As a coating solution for forming a hole transport layer, polycarbonate (PC, mp = 163 ° C.) having a weight ratio of 70:30 and N, N′-bis- (3-methylphenyl) -N, N′-bis- (phenyl) ) -Benzidine (TPD) dispersed in dichloromethane was used. Immediately after forming the hole transport layer, the obtained substrate was heat-treated at 170 ° C. for 1 hour.
[0039]
Next, a light emitting layer forming coating solution was discharged by a commercially available ink jet printer, and was applied by patterning on the hole transport layer to form a light emitting layer having a thickness of 100 nm. The coating solution for forming the light emitting layer was an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA, mp = 99 ° C.) having a weight ratio of 70:20:10, a dicyanomethylene derivative (DCM2), and 2- (4-t) for the red light emitting layer. -Butylphenyl) -5- (4-biphenylyl) -1,3,4-oxadiazole (PBD) dispersed in methanol, EVA having a weight ratio of 70:20:10 for a green light emitting layer Coumarin 6 and PBD dispersed in dichloromethane, and 70:20:10 weight ratio EVA, tetraphenylbutadiene (TPB) and PBD dispersed in methanol for blue light emitting layer Using. Immediately after forming the light emitting layer, the obtained substrate was heat-treated at 110 ° C. for 1 hour.
[0040]
Next, an LiF film having a thickness of 0.9 nm is formed on the light emitting layer by vapor deposition, and further, an Al electrode having a thickness of 0.2 μm, a width of 330 μm, and a pitch of 340 μm is formed as a second electrode by vapor deposition using a shadow mask. Formed. Finally, the obtained element was sealed with an epoxy resin.
In the organic LED display produced as described above, no short circuit between the first electrode and the second electrode was observed. Further, when a pulse voltage of 40 V was applied to the organic LED display, red, green and blue light emission was observed.
The aperture ratio of this element was 72%.
[0041]
Comparative Example 1
An organic LED display was produced in the same manner as in Example 1 except that heat treatment was not performed immediately after forming the hole transport layer and the light emitting layer.
In the obtained organic LED display, a short circuit was observed between the first electrode and the second electrode.
[0042]
Comparative Example 2
Other than not performing heat treatment immediately after forming the hole transport layer and the light emitting layer, and forming an Al electrode having a film thickness of 0.2 μm, a width of 240 μm, and a pitch of 340 μm as the second electrode by vapor deposition using a shadow mask. Produced an organic LED display in the same manner as in Example 1.
In the obtained organic LED display, no short circuit between the first electrode and the second electrode was observed. Further, when a pulse voltage of 40 V was applied to the organic LED display, red, green and blue light emission was observed.
The aperture ratio of this element was 48%.
[0043]
Example 2
An ITO transparent stripe electrode having a width of 200 μm and a pitch of 220 μm was formed as a first electrode on a glass substrate with ITO having a thickness of 130 nm by photolithography. Next, the substrate was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, acetone and pure water for 10 minutes, respectively, and further subjected to UV ozone treatment and O 2.2Each plasma treatment was performed for 10 minutes.
Next, a positive resist film (manufactured by JSR, Tg = 250 ° C.) having a film thickness of 30 μm was formed on this substrate by spin coating. Next, mask exposure was performed to wash away the resist residue, and a partition having a pitch of 340 μm in the direction parallel to the ITO electrode and a pitch of 220 μm in the direction perpendicular to the ITO electrode and a width of 40 μm was formed by a photoresist method.
[0044]
A hole transport layer forming coating solution was discharged by a commercially available dispenser to form a hole transport layer having a thickness of 75 nm on the substrate. As a coating liquid for forming a hole transport layer, a dispersion of PC (mp = 163 ° C.) having a weight ratio of 70:30 and TPD in dichloromethane was used. Immediately after forming the hole transport layer, the obtained substrate was heat-treated at 170 ° C. for 1 hour.
[0045]
Next, the light emitting layer forming coating solution was discharged by a commercially available dispenser, and was applied by patterning onto the hole transport layer to form a light emitting layer having a thickness of 100 nm. The light-emitting layer forming coating solution was prepared by dispersing EVA (mp = 99 ° C.), DCM2 and PBD in a weight ratio of 70:20:10 in methanol for the red light-emitting layer, and weight ratio of 70:20 for the green light-emitting layer. 20:10 EVA, Coumarin 6 and PBD dispersed in dichloromethane, and 70:20:10 EVA, TPB and PBD dispersed in methanol were used for the blue light emitting layer. Immediately after forming the light emitting layer, the obtained substrate was heat-treated at 110 ° C. for 1 hour.
[0046]
Next, an LiF film having a thickness of 0.9 nm is formed on the light emitting layer by vapor deposition, and further, an Al electrode having a thickness of 0.2 μm, a width of 330 μm, and a pitch of 340 μm is formed as a second electrode by vapor deposition using a shadow mask. Formed. Finally, the obtained element was sealed with an epoxy resin.
In the organic LED display produced as described above, no short circuit between the first electrode and the second electrode was observed. Further, when a pulse voltage of 40 V was applied to the organic LED display, red, green and blue light emission was observed.
The aperture ratio of this element was 72%.
[0047]
Comparative Example 3
An organic LED display was produced in the same manner as in Example 2 except that the heat treatment was not performed immediately after forming the hole transport layer and the light emitting layer.
In the obtained organic LED display, a short circuit was observed between the first electrode and the second electrode.
[0048]
Comparative Example 4
Other than not performing heat treatment immediately after forming the hole transport layer and the light emitting layer, and forming an Al electrode having a film thickness of 0.2 μm, a width of 240 μm, and a pitch of 340 μm as the second electrode by vapor deposition using a shadow mask. Produced an organic LED display in the same manner as in Example 2.
In the obtained organic LED display, no short circuit between the first electrode and the second electrode was observed. Further, when a pulse voltage of 40 V was applied to the organic LED display, red, green and blue light emission was observed.
The aperture ratio of this element was 48%.
[0049]
【The invention's effect】
The organic LED display manufacturing method of the present invention includes an organic LED element (pixel) having a plurality of organic LED elements (pixels) including a light emitting layer or an organic layer composed of a light emitting layer and a charge transport layer, and having a partition wall at least partially between the pixels. A method of manufacturing an LED display, wherein at least one organic layer is formed by a method of forming from a coating liquid containing a polymer material, and then heat treatment is performed at a temperature higher than the softening temperature of the polymer material constituting the organic layer Including the step of:
Therefore, the organic layer can be flattened, and the organic layer can be formed evenly at the corners and corners of the pixel without any gaps. Therefore, there is no uneven light emission or short-circuit between electrodes, and display quality and electrical properties are eliminated. An organic LED display having a high aperture ratio and excellent characteristics can be provided.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an organic LED display of the present invention.
FIG. 2 is a schematic partial plan view of the arrangement of the light emitting layer of the organic LED display of the present invention.
FIG. 3 is a schematic partial plan perspective view of an organic LED display of the present invention.
FIG. 4 is a schematic view of an organic layer forming process according to the present invention.
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of an organic layer produced by a conventional inkjet method.
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of an organic layer produced by a conventional inkjet method.
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of an organic layer produced by the method of the present invention.
FIG. 8 is a schematic partial plan view of an organic layer produced by a conventional inkjet method.
FIG. 9 is a schematic partial plan view of an organic layer produced by the method of the present invention.
[Explanation of symbols]
1 Substrate
2 First electrode
3 Organic layer
4 Second electrode
5 Bulkhead
6 Sealing film or sealing substrate
7 Polarizing plate
8 Red light emitting pixels
9 Green light emitting pixels
10 Blue light emitting pixels
11 Thin film transistor (TFT)
12 Source bus line
13 Gate bus line
14 Inkjet head, nozzle or needle

Claims (3)

発光層もしくは発光層と電荷輸送層からなる有機層を含む有機LED素子(画素)が複数配置され、かつその画素間の少なくとも一部に隔壁を有する有機LEDディスプレイの製造方法であって、高分子材料を含む塗液を用いて形成する方法で少なくとも1層の有機層を形成した後、該有機層を構成する高分子材料のガラス転移温度(ガラス転移温度を示さない場合には融点)よりも高く、かつ隔壁を構成する材料のガラス転移温度(ガラス転移温度を示さない場合には融点)よりも低い温度で加熱処理する工程を含み、高分子材料を含む塗液が20℃において10mPa・s以下の粘度を有することを特徴とする有機LEDディスプレイの製造方法。  A method for manufacturing an organic LED display in which a plurality of organic LED elements (pixels) including a light emitting layer or an organic layer composed of a light emitting layer and a charge transport layer are arranged and having a partition wall at least at a part between the pixels. After forming at least one organic layer by a method using a coating solution containing a material, the glass transition temperature of the polymer material constituting the organic layer (melting point if no glass transition temperature is shown) And a heat treatment at a temperature lower than the glass transition temperature of the material constituting the partition walls (or the melting point when no glass transition temperature is shown), and the coating liquid containing the polymer material is 10 mPa · s at 20 ° C. The manufacturing method of the organic LED display characterized by having the following viscosity. 塗液からの有機層の形成が、インクジェット、ノズルまたはニードルから塗液を吐出する方法により行われる請求項1に記載の製造方法。  The manufacturing method according to claim 1, wherein the organic layer is formed from the coating liquid by a method of discharging the coating liquid from an inkjet, a nozzle, or a needle. 有機層が1μmよりも薄い膜厚で形成される請求項1または2に記載の製造方法。  The manufacturing method according to claim 1, wherein the organic layer is formed with a film thickness thinner than 1 μm.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW468283B (en) * 1999-10-12 2001-12-11 Semiconductor Energy Lab EL display device and a method of manufacturing the same
JP4854840B2 (en) * 1999-10-12 2012-01-18 株式会社半導体エネルギー研究所 Method for manufacturing light emitting device
JP4048687B2 (en) * 2000-04-07 2008-02-20 セイコーエプソン株式会社 ORGANIC EL ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING ORGANIC EL ELEMENT
JP2003022892A (en) 2001-07-06 2003-01-24 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Manufacturing method of light emitting device
JP4988107B2 (en) * 2001-09-10 2012-08-01 ブラザー工業株式会社 Display composition-forming coating liquid, organic EL element, display device, and display device manufacturing method
WO2004023573A2 (en) * 2002-09-03 2004-03-18 Cambridge Display Technology Limited Optical device
US7368145B2 (en) 2002-09-19 2008-05-06 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method and apparatus for manufacturing organic EL display and color filter by ink jet method
JP4459521B2 (en) 2002-10-17 2010-04-28 大日本印刷株式会社 Electroluminescence display device
KR100528910B1 (en) * 2003-01-22 2005-11-15 삼성에스디아이 주식회사 Polymer organic light emitting diode
TWI402539B (en) * 2003-12-17 2013-07-21 Semiconductor Energy Lab Display device and manufacturing method thereof
JP4752303B2 (en) * 2005-03-29 2011-08-17 セイコーエプソン株式会社 EL device manufacturing method, EL device, and electronic apparatus
WO2006117914A1 (en) * 2005-04-27 2006-11-09 Konica Minolta Holdings, Inc. Method for manufacturing organic electroluminescent device
JP2007005444A (en) * 2005-06-22 2007-01-11 Konica Minolta Holdings Inc Organic electroluminescent element, its manufacturing method, display device and lighting device
JP4251330B2 (en) 2005-12-22 2009-04-08 カシオ計算機株式会社 Display device manufacturing apparatus and display device manufacturing method
JP2009146691A (en) * 2007-12-13 2009-07-02 Mitsubishi Chemicals Corp Method of manufacturing organic electroluminescent element, and organic electroluminescent display
JP2009042766A (en) * 2008-09-08 2009-02-26 Seiko Epson Corp Display device with input function and electronic device using it
JP7091735B2 (en) * 2018-03-15 2022-06-28 住友ベークライト株式会社 Method for manufacturing photosensitive resin composition and organic electroluminescence device
CN114121914A (en) * 2021-12-07 2022-03-01 京东方科技集团股份有限公司 Display panel, manufacturing method thereof and display device

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