JP2001076881A - Organic light-emitting device and manufacture therefor - Google Patents

Organic light-emitting device and manufacture therefor

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JP2001076881A
JP2001076881A JP25354199A JP25354199A JP2001076881A JP 2001076881 A JP2001076881 A JP 2001076881A JP 25354199 A JP25354199 A JP 25354199A JP 25354199 A JP25354199 A JP 25354199A JP 2001076881 A JP2001076881 A JP 2001076881A
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organic layer
surface tension
electrode
organic
organic light
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Application number
JP25354199A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshimasa Fujita
悦昌 藤田
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/122Pixel-defining structures or layers, e.g. banks

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance a display quality by the emitting light, and to restrain the degradation with the lapse of time by forming a barrier rib vicinal surface of a recessed cross-sectional shape in an organic layer of at least one layer. SOLUTION: This organic light-emitting device 10 is formed by laminating a polarizing plate 7, a base board 1, a first electrode 2, an organic layer 3, a second electrode 4 and a sealing film 6 in this order, and at least a barrier rib 5 is formed in a part on the periphery of the organic layer 3 to form one picture element. One layer in at least the organic layer 3 is formed by solidifying a recessed meniscus when injecting an organic layer forming painting liquid. The barrier rib 5 has critical surface tension larger than surface tension at 20 deg.C of the organic layer forming painting liquid injected inside, and this painting liquid is formed of an inorganic material and an organic material such as forming the recessed meniscus by wetting the inside of the barrier rib 5. A difference between the critical surface tension of a material of such a barrier rib 5 and surface tension of the organic layer forming painting liquid is desirably 5 dyne/cm or more (20 deg.C).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイの画
素として使用される有機発光素子及びその製造方法に関
する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an organic light emitting device used as a pixel of a display and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、湿式法による有機発光素子の形成
には、スピンコート法、ディップ法、ドクターブレード
法等の塗布法が用いられていたが、これらの方法では、
発光層のパターニングによって画素をカラー化すること
は非常に困難であった。しかし、近年、この問題に対す
る一つの解決法として、発光層を、インクジェット法
(特開平10−12377、Appl.Phys.Lett. No.72, 5
19頁,1998 年)、印刷法等の湿式法によりパターン化し
て形成する方法が提案されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a coating method such as a spin coating method, a dipping method, and a doctor blade method has been used for forming an organic light emitting device by a wet method.
It was very difficult to colorize the pixels by patterning the light emitting layer. However, in recent years, as one solution to this problem, a light-emitting layer is formed by an inkjet method (Japanese Patent Laid-Open No. 10-12377, Appl. Phys. Lett. No. 72, 5).
19, 1998), a method of forming a pattern by a wet method such as a printing method has been proposed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、湿式法による
画素のカラー化に際しては、発光層形成時に各色の発光
層が混じり合って混色したり、あるいはエネルギー移動
に伴ってエネルギーの高い色が発光しない現象が生じた
りして、表示品質を低下させるという問題がある。この
現象を防止するため、樹脂ブラックレジスト(特開平1
0−153967号公報、特開平11−40358号公
報、特開平11−54270号公報)等の隔壁で、ある
いは撥水撥油性のバンク(特開平11−87062号公
報)等の隔壁で各画素を囲む方法が提案されている。
However, when the pixels are colored by the wet method, when the light emitting layers are formed, the light emitting layers of the respective colors are mixed and mixed, or a color having a high energy is not emitted due to the energy transfer. There is a problem that a display phenomenon is deteriorated due to a phenomenon. In order to prevent this phenomenon, a resin black resist (Japanese Unexamined Patent Application Publication No.
0-153967, JP-A-11-40358, JP-A-11-54270) or a partition such as a water- and oil-repellent bank (JP-A-11-87062). A method of surrounding has been proposed.

【0004】有機発光素子の一例を図7に示す。有機発
光素子(有機LED媒体)110は、偏向板107、基
板101、陽極102、有機層103及び陰極104
が、この順に積層されてなり、隔壁105が有機層10
3の周囲を取り囲み、1つの画素(ピクセル)を形成す
る。有機層103は、陽極102上に隔壁105を形成
した後、有機発光材料および/または有機電荷輸送材料
を含む溶液あるいは分散液(以下、「有機層形成用塗
液」と略称する)を隔壁105の内側に注入することに
より形成される。陰極104は、有機層103上に直
接、あるいはさらに有機層を形成した上に(図示せず)
蒸着等により形成される。
FIG. 7 shows an example of an organic light emitting device. The organic light emitting device (organic LED medium) 110 includes a polarizing plate 107, a substrate 101, an anode 102, an organic layer 103, and a cathode 104.
Are laminated in this order, and the partition 105 is
3 to form one pixel. After forming the partition wall 105 on the anode 102, the organic layer 103 is coated with a solution or dispersion containing an organic light emitting material and / or an organic charge transporting material (hereinafter referred to as “organic layer forming coating liquid”). It is formed by injecting into the inside. The cathode 104 is formed directly on the organic layer 103 or after forming an organic layer (not shown).
It is formed by vapor deposition or the like.

【0005】有機発光材料は、通常、有機高分子材料あ
るいは有機低分子材料からなり、これらの溶液あるいは
分散液を隔壁105の内側に注入する際、これらの液が
隔壁105の内側をぬらさないので、有機層103のメ
ニスカスは凸状となる。この場合、有機層形成用塗液の
表面張力γと隔壁105の臨界表面張力γcは、γc<
γの関係となる。このような有機層形成用塗液を固化し
て有機層103が形成された有機発光素子110に電圧
を印加すると、有機層103の最も薄い部分、つまり、
有機層103と隔壁105が接する界面部分が強く発光
し、ディスプレイとしての表示品質が低下する。さら
に、局所的に電界が集中するので、有機層103の劣化
の原因にもなる。
The organic light-emitting material is usually composed of an organic polymer material or an organic low-molecular material. When a solution or a dispersion of these materials is injected into the inside of the partition wall 105, these liquids do not wet the inside of the partition wall 105. The meniscus of the organic layer 103 becomes convex. In this case, the surface tension γ of the coating liquid for forming an organic layer and the critical surface tension γc of the partition wall 105 are γc <
γ. When a voltage is applied to the organic light emitting device 110 on which the organic layer 103 is formed by solidifying such an organic layer forming coating liquid, the thinnest portion of the organic layer 103, that is,
The interface portion where the organic layer 103 and the partition wall 105 are in contact emits light strongly, and the display quality as a display is degraded. Further, since the electric field is locally concentrated, it may cause deterioration of the organic layer 103.

【0006】図8は、上記の問題を解決するために、有
機層103の比較的平坦な中央部分に陰極104を形成
した有機発光素子120を示す。有機発光素子120で
は、陰極104が隔壁105から離れて形成されている
ので、有機層103と隔壁105が接する界面部分での
発光を抑えることができるが、これによって開口率が低
下する。また、シャドウマスク等を用いてパターン化し
た陰極104を形成する際に、陰極104の形成が有機
層103の中央部分に限定されるので、シャドウマスク
の位置合わせが困難になる。
FIG. 8 shows an organic light emitting device 120 in which a cathode 104 is formed in a relatively flat central portion of an organic layer 103 in order to solve the above problem. In the organic light emitting element 120, since the cathode 104 is formed apart from the partition 105, it is possible to suppress light emission at the interface where the organic layer 103 and the partition 105 are in contact with each other, but this reduces the aperture ratio. Further, when forming the patterned cathode 104 using a shadow mask or the like, the formation of the cathode 104 is limited to the central portion of the organic layer 103, so that the alignment of the shadow mask becomes difficult.

【0007】本発明は、上記の問題点に鑑みてなされた
ものであり、発光による表示の品質が高く、かつ経時的
劣化が抑制され、製造が容易な有機発光素子及びその製
造方法を提供する。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and provides an organic light-emitting device which has high display quality by light emission, suppresses deterioration over time, and is easy to manufacture, and a method for manufacturing the same. .

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、第1電
極と、第1電極上に形成され、少なくとも隣接する画素
間の一部を区画する隔壁と、隔壁の内側に形成された有
機層と、有機層上に形成された第2電極とを有する有機
発光素子において、少なくとも1層の有機層は、隔壁近
傍の表面が、凹状の断面形状からなることを特徴とする
有機発光素子が提供される。
According to the present invention, a first electrode, a partition formed on the first electrode and partitioning at least a portion between adjacent pixels, and an organic layer formed inside the partition are provided. An organic light-emitting device having a layer and a second electrode formed on the organic layer, wherein at least one organic layer has a surface in the vicinity of a partition wall having a concave cross-sectional shape. Provided.

【0009】すなわち、本発明者らは、隔壁に対する有
機層形成用塗液の「ヌレ性」の度合いに着目し、少なく
とも1層の有機層の断面形状が、隔壁近傍の表面におい
て凹状となるよう、有機層形成用塗液及び隔壁の双方を
それぞれの材料面から鋭意検討を行った。その結果、有
機層が、有機層形成用塗液を隔壁の内側に注入した際の
凹状のメニスカスが固化されて形成される有機発光素子
を得る手法を完成するに至った。本発明により、有機層
と隔壁との界面での局所発光及びこの局所発光に伴う経
時的劣化が抑制された有機発光素子ならびにシャドウマ
スク等により有機層の表面に電極を形成する際に、シャ
ドウマスクの位置合わせが容易となる有機発光素子の製
造方法を完成するに至った。このような有機発光素子を
用いることにより、表示品質が優れ、かつ開口率の高い
有機発光ディスプレイを提供できる。
That is, the present inventors have paid attention to the degree of “wetting” of the organic layer forming coating liquid with respect to the partition walls, and have made the sectional shape of at least one organic layer concave on the surface near the partition walls. Both the coating liquid for forming an organic layer and the partition walls were intensively studied from the viewpoint of their respective materials. As a result, a method for obtaining an organic light emitting element in which an organic layer is formed by solidifying a concave meniscus when an organic layer forming coating liquid is injected into the inside of the partition wall has been completed. According to the present invention, when an electrode is formed on the surface of an organic layer using an organic light-emitting element and a shadow mask, the local light emission at the interface between the organic layer and the partition wall and the deterioration with time due to the local light emission are suppressed. Thus, a method for manufacturing an organic light-emitting device that facilitates the alignment of the organic light-emitting device has been completed. By using such an organic light emitting element, an organic light emitting display having excellent display quality and a high aperture ratio can be provided.

【0010】この発明の別の観点によれば、少なくとも
隣接する画素間の一部を区画する隔壁を第1電極上に形
成し、有機発光材料を含む溶液または分散液を隔壁の内
側に注入して有機層を形成し、次いでこの有機層上に第
2電極を形成する工程を有する有機発光素子の製造方法
において、隔壁の20℃における臨界表面張力が、隔壁
の内側に注入する有機発光材料を含む溶液または分散液
の20℃における表面張力よりも大きいことを特徴とす
る有機発光素子の製造方法が提供される。
According to another aspect of the present invention, a partition partitioning at least a part between adjacent pixels is formed on the first electrode, and a solution or dispersion containing an organic light emitting material is injected into the partition. Forming an organic layer, and then forming a second electrode on the organic layer, the critical surface tension of the partition at 20 ° C. A method for manufacturing an organic light-emitting device is provided, wherein the surface tension of the solution or dispersion containing the solution is higher than the surface tension at 20 ° C.

【0011】この発明における画素とは、単色またはゾ
ーンカラーのディスプレイの場合にはピクセルを意味
し、マルチカラー、フルカラーディスプレイの場合には
サブピクセルを意味する。画素の形状は特に限定されな
いが、多角形状、円形状、楕円形状が例示される。画素
の角部まで均一な膜を形成するためには、俯瞰したとき
に、画素の角部が中心に向かって凹状をなす円弧状のも
のが好ましい。
In the present invention, a pixel means a pixel in the case of a monochrome or zone color display, and a sub-pixel in the case of a multi-color or full-color display. Although the shape of the pixel is not particularly limited, a polygonal shape, a circular shape, and an elliptical shape are exemplified. In order to form a uniform film up to the corners of the pixels, it is preferable that the corners of the pixels be concave toward the center when viewed from above.

【0012】この発明におけるメニスカスとは、隔壁の
近傍における有機層形成用塗液の自由表面であって、有
機層形成用塗液が隔壁をぬらす場合、すなわち、有機層
形成用塗液の隔壁に対する付着力が大なる場合には、凹
状のメニスカスとなり、有機層形成用塗液が隔壁をぬら
さない場合、すなわち、有機層形成用塗液の隔壁に対す
る付着力が小なる場合には、凸状のメニスカスとなる。
In the present invention, the meniscus is a free surface of the coating liquid for forming an organic layer in the vicinity of the partition wall, and when the coating liquid for forming an organic layer wets the partition wall, that is, the meniscus relative to the partition wall of the coating liquid for forming an organic layer. When the adhesive force is large, a concave meniscus is formed, and when the organic layer forming coating liquid does not wet the partition walls, that is, when the adhesive force of the organic layer forming coating liquid to the partition walls is small, a convex meniscus is formed. It becomes a meniscus.

【0013】この発明における臨界表面張力とは、固体
の表面における液体の「ヌレ性」の度合いを規定する
「ジスマン(Zisman) の臨界表面張力」を意味する。す
なわち、低エネルギー表面をもつ大部分の有機高分子や
有機化合物等の固体の表面上に、種々の表面張力をもつ
極性の有機液体や飽和炭化水素、水等を滴下し、それら
の接触角θを測定し、これらのcosθをそれぞれの液
体の表面張力γ〔dyne/cm 〕に対してプロットし、得ら
れた近似直線が接触角θ=0°の水平線と交わる点の表
面張力の値γc 〔dyne/cm 〕が、この発明における臨界
表面張力となる。この発明における有機層形成用塗液の
表面張力とは、液体が単位面積〔cm2 〕の表面をつくる
ための仕事〔erg 〕として表示される表面張力の値γ
〔dyne/cm〕を意味する。
The critical surface tension in the present invention means the "Zisman critical surface tension" which defines the degree of "wetting" of a liquid on the surface of a solid. That is, polar organic liquids, saturated hydrocarbons, water, etc. having various surface tensions are dropped on the surface of most solids such as organic polymers and organic compounds having a low energy surface, and their contact angles θ Are measured, and these cos θ are plotted against the surface tension γ [dyne / cm 2] of each liquid, and the surface tension value γc at the point where the obtained approximate straight line intersects the horizontal line at the contact angle θ = 0 ° dyne / cm 2] is the critical surface tension in the present invention. The surface tension of the coating liquid for forming an organic layer in the present invention is a surface tension value γ expressed as a work [erg] for the liquid to form a surface having a unit area [cm 2 ].
[Dyne / cm].

【0014】隔壁の内側壁面の20℃における臨界表面
張力と有機層形成用塗液の20℃における表面張力の差
が、5dyne/cm 以上あれば、前記の問題点を解消するの
に充分な凹状のメニスカスを隔壁内側の近傍表面に形成
することができる。隔壁が、さらに、第1電極から遠位
の上部隔壁を重畳してなり、上部隔壁の内側壁面の臨界
表面張力が、有機層形成用塗液の表面張力よりも小さく
なるよう構成することにより、有機層形成用塗液を隔壁
の内側に注入する際に、上部隔壁の内側壁面が有機層形
成用塗液に対して撥水性または撥油性となるので、すな
わち、有機層形成用塗液が上部隔壁の内側をぬらさない
ので、有機層形成用塗液が隔壁を伝って隣接する画素に
またがることがなく、画素間における短絡を防止でき
る。また、隣接する画素の有機層形成用塗液による汚染
が防止されるので、混色等の問題も回避できる。また、
上部隔壁の内側壁面の20℃における臨界表面張力と有
機層形成用塗液の20℃における表面張力の差が、5dy
ne/cm 以上あれば、有機層形成用塗液が隔壁を伝って隣
接する画素にまたがることがなく、上部隔壁の効果を充
分に発揮させることができる。
If the difference between the critical surface tension of the inner wall surface of the partition wall at 20 ° C. and the surface tension of the coating liquid for forming an organic layer at 20 ° C. is 5 dyne / cm or more, a concave shape sufficient to solve the above-mentioned problem is obtained. Can be formed on the surface near the inside of the partition wall. The partition walls are further formed by superimposing an upper partition wall distal to the first electrode, and the critical surface tension of the inner wall surface of the upper partition wall is configured to be smaller than the surface tension of the organic layer forming coating liquid, When the coating liquid for forming an organic layer is injected into the inside of the partition, the inner wall surface of the upper partition becomes water-repellent or oil-repellent to the coating liquid for forming an organic layer. Since the inside of the partition is not wetted, the coating liquid for forming an organic layer does not extend along the partition to the adjacent pixels, and a short circuit between the pixels can be prevented. Further, since contamination of the adjacent pixels by the organic layer forming coating liquid is prevented, problems such as color mixing can be avoided. Also,
The difference between the critical surface tension of the inner wall surface of the upper partition wall at 20 ° C. and the surface tension of the coating solution for forming an organic layer at 20 ° C. is 5dy.
When it is at least ne / cm, the coating liquid for forming an organic layer does not extend along the partition and over adjacent pixels, and the effect of the upper partition can be sufficiently exhibited.

【0015】第1電極の20℃における臨界表面張力
が、有機層形成用塗液の20℃における表面張力よりも
大きくなるよう構成することにより、電極に対する有機
層形成用塗液のヌレ性が向上し、隔壁の内側の角部およ
び隅部にまで有機層形成用塗液を充満させることができ
る。第1電極の20℃における臨界表面張力と有機層形
成用塗液の20℃における表面張力の差が、5dyne/cm
以上あれば、電極に対する有機層形成用塗液のヌレ性が
向上し、より有効な有機層を形成できる。その結果、有
機層形成時に電極と有機層の密着性が向上し、電極から
有機層への電荷の注入効率が向上する。
By making the critical surface tension of the first electrode at 20 ° C. higher than the surface tension of the organic layer forming coating liquid at 20 ° C., the wettability of the organic layer forming coating liquid with respect to the electrode is improved. Then, the coating liquid for forming an organic layer can be filled up to the inner corners and corners of the partition walls. The difference between the critical surface tension of the first electrode at 20 ° C. and the surface tension of the organic layer forming coating solution at 20 ° C. is 5 dyne / cm.
With the above, the wettability of the coating liquid for forming an organic layer on the electrode is improved, and a more effective organic layer can be formed. As a result, the adhesion between the electrode and the organic layer is improved during the formation of the organic layer, and the efficiency of charge injection from the electrode to the organic layer is improved.

【0016】有機層形成用塗液を隔壁の内側へ注入する
方法としては、スピンコート法、印刷法、インクジェッ
トヘッドから有機層形成用塗液を吐出するインクジェッ
ト法あるいはノズル又はニードルから有機層形成用塗液
を吐出するノズル噴射法等の公知の方法を採用できる。
As a method of injecting the organic layer forming coating liquid into the inside of the partition wall, a spin coating method, a printing method, an ink jet method of discharging the organic layer forming coating liquid from an ink jet head, or a nozzle or needle for forming the organic layer forming liquid. A known method such as a nozzle injection method for discharging a coating liquid can be employed.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、図1から図6を参照して、
本発明の有機発光素子及びその製造方法の実施の形態を
説明するが、この実施の形態によって本発明は限定され
ない。図1に、本発明の有機発光素子の基本的な構造を
示す。図1において、有機発光素子10は、偏向板7、
基板1、第1電極2(陽極)、有機層3、第2電極4
(陰極)及び封止膜6が、この順に積層されてなり、少
なくとも隔壁5が有機層3の周囲の一部に形成され、1
つの画素(ピクセル)を形成する。少なくとも有機層3
のうちの1層は、有機層形成用塗液を注入した際の凹状
のメニスカスが固化されて形成される。基板1として
は、石英基板、ガラス基板、プラスチック基板等が使用
される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Referring to FIGS.
The embodiments of the organic light emitting device and the method of manufacturing the same according to the present invention will be described, but the present invention is not limited by the embodiments. FIG. 1 shows a basic structure of the organic light emitting device of the present invention. In FIG. 1, an organic light emitting device 10 includes a polarizing plate 7,
Substrate 1, first electrode 2 (anode), organic layer 3, second electrode 4
(Cathode) and the sealing film 6 are laminated in this order, and at least the partition wall 5 is formed at a part around the organic layer 3.
To form one pixel. At least organic layer 3
One of the layers is formed by solidifying a concave meniscus when the coating liquid for forming an organic layer is injected. As the substrate 1, a quartz substrate, a glass substrate, a plastic substrate, or the like is used.

【0018】第1電極2及び第2電極4は、陽陰両極を
形成する電極対であり、基板1及び第1電極2が透明で
ある場合は、有機層3からの発光が基板1側から出射さ
れるので、発光効率を高めるためには、第2電極4が反
射電極であること、あるいは第2電極4の有機層3と隣
接しない側に反射膜を有することが好ましい。逆に、第
2電極4を透明材料で構成して、有機層3からの発光を
第2電極4側から出射させることもできる。この場合に
は、第1電極2が反射電極であること、基板1が反射基
板であること、あるいは第1電極2と基板1との間に反
射膜を有することが好ましい。
The first electrode 2 and the second electrode 4 are electrode pairs forming positive and negative electrodes. When the substrate 1 and the first electrode 2 are transparent, light emitted from the organic layer 3 is emitted from the substrate 1 side. Since the light is emitted, in order to enhance the luminous efficiency, it is preferable that the second electrode 4 is a reflective electrode, or that the second electrode 4 has a reflective film on the side not adjacent to the organic layer 3. Conversely, the second electrode 4 can be made of a transparent material, and light emitted from the organic layer 3 can be emitted from the second electrode 4 side. In this case, it is preferable that the first electrode 2 is a reflective electrode, the substrate 1 is a reflective substrate, or a reflective film is provided between the first electrode 2 and the substrate 1.

【0019】透明電極としては、CuI、ITO、Sn
2 、ZnO、CuAlO2 等の透明電極が使用され
る。また、反射電極としては、アルミニウム、カルシウ
ム等の金属、マグネシウム−銀、リチウム−アルミニウ
ム等の合金、マグネシウム/銀等の金属同士の積層膜、
フッ化リチウム/アルミニウム等の絶縁体と金属との積
層膜等が使用される。偏向板7は、ディスプレイにおけ
る良好なコントラストを得るために基板1の外側に設け
られる。封止膜6(または封止基板)は、第2電極4の
損傷あるいは有機層及び電極の劣化を防止するために設
けられる。
As the transparent electrode, CuI, ITO, Sn
A transparent electrode such as O 2 , ZnO, CuAlO 2 is used. Further, as the reflective electrode, a metal such as aluminum and calcium, an alloy such as magnesium-silver and lithium-aluminum, a laminated film of metals such as magnesium / silver,
A laminated film of an insulator such as lithium fluoride / aluminum and a metal is used. The deflection plate 7 is provided outside the substrate 1 in order to obtain a good contrast in the display. The sealing film 6 (or the sealing substrate) is provided to prevent the damage of the second electrode 4 or the deterioration of the organic layer and the electrode.

【0020】隔壁5は、隔壁5の内側に注入される有機
層形成用塗液の20℃における表面張力よりも大きい臨
界表面張力を有し、有機層形成用塗液が隔壁5の内側を
ぬらすことによって、凹状のメニスカスが形成されるよ
うな無機材料もしくは有機材料で形成される。したがっ
て、隔壁5は、有機層形成用塗液の表面張力との関係で
その材料が選択される。隔壁5を形成するための好まし
い材料を以下に列挙する。なお( )内は、20℃にお
ける隔壁材料の臨界表面張力の値γc 〔dyne/cm 〕を示
す。
The partition walls 5 have a critical surface tension greater than the surface tension at 20 ° C. of the coating liquid for forming an organic layer injected into the inside of the partition walls 5, and the coating liquid for forming an organic layer wets the inside of the partition walls 5. As a result, it is formed of an inorganic material or an organic material such that a concave meniscus is formed. Therefore, the material of the partition wall 5 is selected in relation to the surface tension of the coating liquid for forming an organic layer. Preferred materials for forming the partition walls 5 are listed below. The values in parentheses indicate the critical surface tension value γc [dyne / cm 2] of the barrier rib material at 20 ° C.

【0021】隔壁5を形成するための好ましい材料とし
ては、例えば、ポリ6フッ化プロピレン(γc=16dy
ne/cm )、ポリ4フッ化エチレン(γc=18dyne/cm
)、ポリ3フッ化エチレン(γc=22dyne/cm )、
ポリフッ化ビニリデン(γc=25dyne/cm )、ポリエ
チレン(γc31dyne/cm )、ポリブタジエン(γc=
31dyne/cm )、ポリスチレン(γc=33dyne/cm
)、ポリアクリル酸エチル(γc=35dyne/cm )、
ポリビニルアルコール(γc=37dyne/cm )、クロロ
プレン(γc=38dyne/cm )、ポリ塩化ビニル(γc
=39dyne/cm )、ポリアクリル酸メチル(γc=39
dyne/cm )、ポリ塩化ビニリデン(γc=40dyne/cm
)、6ナイロン(γc=42dyne/cm )、6−6ナイ
ロン(γc=42dyne/cm )、7−7ナイロン(γc=
43dyne/cm )、ポリエチレンテレフタレート(γc=
43dyne/cm )、ポリヘキサメチレンアジバミド(γc
=46dyne/cm )、ガラス(γc=55dyne/cm )等が
挙げられる。また、ポジ型レジスト中に、信越化学社製
のKBM7103(γc=20dyne/cm )を混合したも
のも好ましい材料として挙げられる。
A preferable material for forming the partition walls 5 is, for example, poly (propylene hexafluoride) (γc = 16dy).
ne / cm), polytetrafluoroethylene (γc = 18 dyne / cm)
), Polytetrafluoroethylene (γc = 22 dyne / cm),
Polyvinylidene fluoride (γc = 25 dyne / cm), polyethylene (γc31 dyne / cm), polybutadiene (γc =
31dyne / cm), polystyrene (γc = 33dyne / cm)
), Polyethyl acrylate (γc = 35 dyne / cm),
Polyvinyl alcohol (γc = 37 dyne / cm 2), chloroprene (γc = 38 dyne / cm 2), polyvinyl chloride (γc
= 39 dyne / cm), polymethyl acrylate (γc = 39)
dyne / cm), polyvinylidene chloride (γc = 40 dyne / cm)
), 6 nylon (γc = 42 dyne / cm), 6-6 nylon (γc = 42 dyne / cm), 7-7 nylon (γc =
43dyne / cm), polyethylene terephthalate (γc =
43dyne / cm), polyhexamethylene adibamide (γc
= 46 dyne / cm 2), glass (γc = 55 dyne / cm 2) and the like. In addition, a material obtained by mixing KBM7103 (γc = 20 dyne / cm 2) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. in a positive resist is also a preferred material.

【0022】あるいは、これらの材料を用いて隔壁5を
形成した後、プラズマ処理、UV処理、ガス処理等を行
うことにより、隔壁5の表面の臨界表面張力γcの値を
制御してもよい。隔壁5は、上記のような材料を使用す
ること、あるいは上記のような処理を施すことにより、
隔壁5が構成されるが、より有効な凹状のメニスカスを
形成するには、隔壁5の材料の臨界表面張力γcと、後
述する有機層3となる有機層形成用塗液の表面張力γの
差が、少なくとも5dyne/cm 以上であることが好まし
い。
Alternatively, the value of the critical surface tension γc of the surface of the partition 5 may be controlled by performing plasma treatment, UV treatment, gas treatment, etc. after forming the partition 5 using these materials. The partition walls 5 are formed by using the above-described materials or by performing the above-described processes.
Although the partition wall 5 is formed, in order to form a more effective concave meniscus, the difference between the critical surface tension γc of the material of the partition wall 5 and the surface tension γ of the coating liquid for forming an organic layer, which will be described later, becomes the organic layer 3. Is preferably at least 5 dyne / cm or more.

【0023】図2は、第1隔壁51と第2隔壁52とか
らなる隔壁5の構成例を示す。ここでは、隔壁5が、第
1隔壁51(下部隔壁)に第1電極2から遠位の第2隔
壁52(上部隔壁)を重畳してなり、第2隔壁52の内
側壁面の20℃における臨界表面張力γc(52)が、有機
層形成用塗液の20℃における表面張力γよりも小さく
なるように構成されている。なお、第1隔壁51の材料
は、前記の隔壁5の材料と同様である。第2隔壁52の
材料は、第1隔壁51を形成する前記のような材料を用
いることができるが、第2隔壁52の内側壁面の20℃
における臨界表面張力γc(52)と有機層形成用塗液の2
0℃における表面張力γがγc(52)<γの関係を満たす
べく、第1隔壁51の内側壁面の20℃における臨界表
面張力γc(51)よりもさらに小さい臨界表面張力γcの
値を有する材料の使用が好ましい。あるいは、これらの
材料を用いて第2隔壁52を形成した後、プラズマ処
理、UV処理、ガス処理等を行うことにより、第2隔壁
52の表面の臨界表面張力γcの値を制御してもよい。
第2隔壁52の20℃における臨界表面張力γcと有機
層形成用塗液の20℃における表面張力γの差が、少な
くとも5dyne/cm 以上であれば、有機層形成用塗液によ
る第2隔壁52の内側壁面のヌレを有効に防ぐことがで
きる。
FIG. 2 shows an example of the configuration of the partition 5 composed of the first partition 51 and the second partition 52. Here, the partition 5 is formed by superimposing the second partition 52 (upper partition) distal to the first electrode 2 on the first partition 51 (lower partition), and the inner wall surface of the second partition 52 at 20 ° C. The surface tension γc (52) is configured to be smaller than the surface tension γ at 20 ° C. of the organic layer forming coating liquid. The material of the first partition 51 is the same as the material of the partition 5 described above. As the material of the second partition 52, the above-described material forming the first partition 51 can be used.
Surface tension γc (52) and coating liquid for forming organic layer
A material having a critical surface tension γc value smaller than the critical surface tension γc (51) at 20 ° C. of the inner wall surface of the first partition wall 51 so that the surface tension γ at 0 ° C. satisfies the relationship of γc (52) <γ. The use of is preferred. Alternatively, after forming the second partition wall 52 using these materials, the value of the critical surface tension γc of the surface of the second partition wall 52 may be controlled by performing plasma processing, UV processing, gas processing, or the like. .
If the difference between the critical surface tension γc of the second partition 52 at 20 ° C. and the surface tension γ of the organic layer forming coating liquid at 20 ° C. is at least 5 dyne / cm or more, the second partition 52 formed by the organic layer forming coating liquid is used. Weakness of the inner wall surface can be effectively prevented.

【0024】第1隔壁51及び第2隔壁52は、少なく
とも画素間の一部に形成されていればよく、これら隔壁
51及び52の構造は、それぞれの隔壁を重ねた多層構
造であってもよく、有機層形成用塗液の溶媒に対して不
溶もしくは難溶であることが好ましい。また、ディスプ
レイとしての表示品質を上げるために、ブラックマトリ
ックス用の材料を用いることが好ましい。第1隔壁51
及び第2隔壁52の断面形状は、特に限定されないが、
特開平11−87063号公報に開示されているような
逆テーパー状の断面形状にすることにより、陰極のパタ
ーニングを行ってもよい。
The first partition 51 and the second partition 52 need only be formed at least at a part between pixels, and the structure of the partitions 51 and 52 may be a multilayer structure in which the respective partitions are overlapped. Preferably, it is insoluble or hardly soluble in the solvent of the coating liquid for forming an organic layer. Further, in order to improve the display quality as a display, it is preferable to use a material for a black matrix. First partition 51
The cross-sectional shape of the second partition 52 is not particularly limited,
The cathode may be patterned by forming it into an inversely tapered cross-sectional shape as disclosed in JP-A-11-87063.

【0025】有機層3は、少なくとも1層の有機層を有
する構造であって、有機層のみからなる単層構造、ある
いは、電荷輸送層と有機層との多層構造であってもよ
い。電荷輸送層と有機層との多層構造とする場合には、
電荷輸送層及び有機層を各一層ずつとしてもよいし、上
記の各層を複数ずつ用いてもよい。また、有機層3を、
複数層の有機層からなる多層構造とする場合には、有機
層の少なくとも一層が湿式法により形成されていること
が必要である。このとき、他の有機層は湿式法により形
成されていてもよいし、真空蒸着法等のドライプロセス
により形成されてもよい。
The organic layer 3 has a structure having at least one organic layer, and may have a single-layer structure composed of only organic layers or a multilayer structure composed of a charge transport layer and an organic layer. In the case of a multilayer structure of the charge transport layer and the organic layer,
The charge transport layer and the organic layer may each be a single layer, or a plurality of the above layers may be used. Also, the organic layer 3
In the case of a multilayer structure including a plurality of organic layers, at least one of the organic layers needs to be formed by a wet method. At this time, the other organic layer may be formed by a wet method, or may be formed by a dry process such as a vacuum evaporation method.

【0026】有機層3は、少なくとも一層が塗液(有機
層形成用塗液)の状態から薄膜を形成できる湿式法によ
るものであれば、材料は特に限定されない。湿式法とし
ては、例えば、スピンコート法、印刷法、ディップ法、
ドクターブレード法、電着法、インクジェットヘッド、
ノズル、またはニードルから液を吐出する方法等、各種
の薄膜形成方法があるが、後述するように、使用する方
法によって適する材料(有機層形成用塗液)は若干異な
る。しかし、有機層形成用塗液の20℃における表面張
力γが、第1隔壁51の20℃における臨界表面張力γ
cより小さく、さらには電極2の20℃における臨界表
面張力γcより小さいことが条件となる。
The material of the organic layer 3 is not particularly limited as long as at least one layer is formed by a wet method capable of forming a thin film from the state of a coating liquid (coating liquid for forming an organic layer). Examples of the wet method include a spin coating method, a printing method, a dip method,
Doctor blade method, electrodeposition method, inkjet head,
Although there are various thin film forming methods such as a method of discharging a liquid from a nozzle or a needle, as described later, a suitable material (a coating liquid for forming an organic layer) is slightly different depending on a method to be used. However, the surface tension γ of the coating liquid for forming an organic layer at 20 ° C. is lower than the critical surface tension γ of the first partition wall 51 at 20 ° C.
c, and the critical surface tension γc of the electrode 2 at 20 ° C. must be smaller.

【0027】湿式法で用いられる有機層形成用塗液は、
発光層形成用塗液と電荷輸送層形成用塗液に分けること
ができる。発光層形成用塗液としては、有機LED用の
公知の高分子発光材料、例えば、ポリ〔2−デシルオキ
シ−1,4−フェニレン〕(DO−PPP)、ポリ
〔2,5−ビス〔2−(N,N,N−トリエチルアンモ
ニウム)エトキシ〕−1,4−フェニレン−アルト−
1,4−フェニレン〕ジブロマイド(PPP−NE
3 +)、ポリ〔2−(2’−エチルヘキシルオキシ)−
5−メトキシ−1,4−フェニレンビニレン〕(MEH
−PPV)、ポリ〔5−メトキシ−(2−プロパノキシ
サルフォニド)−1,4−フェニレンビニレン〕(MP
S−PPV)、ポリ〔2,5−ビス(ヘキシルオキシ)
−1,4−フェニレン−(1−シアノビニレン)〕(C
N−PPV)等を、溶解あるいは分散させた塗液、もし
くは、有機LED用の公知の低分子発光材料、例えばテ
トラフェニルブタジエン(TPB)、クマリン、ナイル
レッド、オキサジアゾール誘導体等と、公知の高分子材
料、例えばポリカーボネート(PC)、ポリメタクリル
酸メチル(PMMA)、ポリビニルカルバゾール(PV
Cz)等を溶解もしくは分散させた塗液を用いることが
できる。また、これらの塗液には、必要に応じてpH調
整用、粘度調整用、充満促進用、レベリング用、表面張
力調整用等の添加剤、有機LED用及び有機光導電体用
の公知のホール輸送材料(例えば前記のN,N’−ビス
−(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス−(フェニ
ル)−ベンジジン(TPD)、N,N’−ジ(ナフタレ
ン−1−イル)−N,N’−ジフェニル−ベンジジン
(NPD)等)、電子輸送材料(例えば、3−(4−ビ
フェニルイル−4−4−フェニレン−5−t−ブチルフ
ェニル−1,2,4−トリアゾール(TAZ)、トリス
(8−ヒドロキシキノリノナト)アルミニウム(Alq
3 )等)等の電荷輸送材料、アクセプター、ドナー等の
ドーパント等を添加してもよい。
The coating liquid for forming an organic layer used in the wet method is as follows:
It can be divided into a coating solution for forming a light emitting layer and a coating solution for forming a charge transport layer. Examples of the coating liquid for forming a light emitting layer include known polymer light emitting materials for organic LEDs, for example, poly [2-decyloxy-1,4-phenylene] (DO-PPP), poly [2,5-bis [2- (N, N, N-triethylammonium) ethoxy] -1,4-phenylene-alto-
1,4-phenylene] dibromide (PPP-NE
t 3 + ), poly [2- (2′-ethylhexyloxy)-
5-methoxy-1,4-phenylenevinylene] (MEH
-PPV), poly [5-methoxy- (2-propanoxysulfonide) -1,4-phenylenevinylene] (MP
S-PPV), poly [2,5-bis (hexyloxy)
-1,4-phenylene- (1-cyanovinylene)] (C
N-PPV) or the like, or a coating liquid in which the compound is dissolved or dispersed, or a known low-molecular light-emitting material for an organic LED such as tetraphenylbutadiene (TPB), coumarin, nile red, or an oxadiazole derivative. Polymer materials such as polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), polyvinyl carbazole (PV
A coating solution in which Cz) or the like is dissolved or dispersed can be used. In addition, these coating liquids may contain additives for pH adjustment, viscosity adjustment, filling promotion, leveling, surface tension adjustment, etc., as necessary, and well-known holes for organic LEDs and organic photoconductors. Transport materials (eg, N, N'-bis- (3-methylphenyl) -N, N'-bis- (phenyl) -benzidine (TPD), N, N'-di (naphthalen-1-yl)- N, N'-diphenyl-benzidine (NPD) and the like, electron transporting materials (for example, 3- (4-biphenylyl-4--4-phenylene-5-t-butylphenyl-1,2,4-triazole (TAZ) ), Tris (8-hydroxyquinolinonato) aluminum (Alq
3 ) A charge transporting material such as 3 ) and a dopant such as an acceptor and a donor may be added.

【0028】電荷輸送層形成用塗液としては、有機LE
D用、有機光導電体用の公知の高分子電荷輸送材料(例
えば、ポリアニリン(PANI)、3,4−ポリエチレ
ンジオキシチオフェン(PEDT)、ポリ〔トリフェニ
ルアミン誘導体〕(Poly−TPD)、ポリ〔オキサ
ジアゾール誘導体〕(Poly−OXZ等)、前記PV
Czを溶解もしくは分散させた塗液、もしくは、有機L
ED用、有機光導電体用の公知の低分子電荷輸送材料
(例えば、前記のTPD、NPD、オキサジアゾール誘
導体等)と公知の高分子材料(例えば、前記のPC、P
MMA、PVCz等)を溶解もしくは分散させた塗液を
用いることができる。また、これらの液に、必要に応じ
てpH調整用、粘度調整用、充満促進用、レベリング
用、表面張力調整用等の添加剤、アクセプター、ドナー
等のドーパント等を添加してもよい。
As the coating liquid for forming the charge transport layer, organic LE
Known polymer charge transport materials for D and organic photoconductors (for example, polyaniline (PANI), 3,4-polyethylenedioxythiophene (PEDT), poly [triphenylamine derivative] (Poly-TPD), [Oxadiazole derivative] (Poly-OXZ etc.), PV
Coating solution in which Cz is dissolved or dispersed, or organic L
Known low molecular charge transport materials for EDs and organic photoconductors (eg, TPD, NPD, oxadiazole derivatives, etc.) and known polymer materials (eg, PC, P
MMA, PVCz, etc.) can be used. If necessary, additives such as pH adjustment, viscosity adjustment, filling promotion, leveling, surface tension adjustment, and dopants such as acceptors and donors may be added to these liquids.

【0029】また、インクジェット法を用いる場合に
は、前記の高分子材料を溶解もしくは分散させる溶媒と
して、従来の溶媒を用いることができるが、これらの溶
媒中には、低蒸気圧の溶剤、例えばエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチル
エーテル、グリセリン、ホルムアミド、N−メチル−2
−ピロリドン、シクロヘキサン、1−プロパノール、オ
クタン、ノナン、デカン等が含まれることが好ましい。
固形分と溶媒の混合比率は、塗液の20℃における粘度
が10mPa・s以下になるように調整することが好ま
しく、また、表面張力γを少なくとも30dyne/cm 以上
になるように調整することが好ましい。
When the ink-jet method is used, conventional solvents can be used as a solvent for dissolving or dispersing the above-mentioned polymer material. Among these solvents, low-vapor-pressure solvents such as, for example, Ethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol,
Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, glycerin, formamide, N-methyl-2
-Pyrrolidone, cyclohexane, 1-propanol, octane, nonane, decane and the like are preferably contained.
The mixing ratio between the solid content and the solvent is preferably adjusted so that the viscosity of the coating solution at 20 ° C. becomes 10 mPa · s or less, and the surface tension γ is adjusted so as to be at least 30 dyne / cm or more. preferable.

【0030】また、従来のドライプロセス、例えば、抵
抗加熱蒸着法、EB蒸着法、イオンプレーティング法等
で有機層3中の他の有機層を電極2及び4間に形成する
こともできる。ドライプロセスで使用できる有機発光材
料としては、有機LED用の公知の発光材料が使用可能
であり、有機発光材料のみから構成されてもよいし、添
加剤等を含有していてもよい。また、電荷輸送材料とし
ては、有機LED用、有機光導電体用の公知の材料が使
用可能であり、電荷輸送材料のみから構成されてもよい
し、添加剤等を含有していてもよい。
Further, another organic layer in the organic layer 3 can be formed between the electrodes 2 and 4 by a conventional dry process, for example, a resistance heating evaporation method, an EB evaporation method, an ion plating method, or the like. As the organic light-emitting material that can be used in the dry process, a known light-emitting material for an organic LED can be used. The light-emitting material may be composed of only the organic light-emitting material, or may contain an additive or the like. As the charge transport material, known materials for organic LEDs and organic photoconductors can be used. The charge transport material may be composed of only the charge transport material, or may contain an additive or the like.

【0031】次に、図3の平面図を参照しながら有機発
光素子10を複数配置して有機LEDディスプレイを形
成するための有機層3の配置について説明する。有機層
3には、赤色(R)発光画素11、緑色(G)発光画素
12及び青色(B)発光画素13の3種類があり、本発
明の有機LEDディスプレイ20は、これら3種類の有
機層3を所定の配置パターンで、マトリックス状に配置
して構成される。
Next, the arrangement of the organic layer 3 for forming an organic LED display by arranging a plurality of organic light emitting elements 10 will be described with reference to the plan view of FIG. The organic layer 3 includes three types of red (R) light-emitting pixels 11, green (G) light-emitting pixels 12, and blue (B) light-emitting pixels 13. The organic LED display 20 of the present invention includes these three types of organic layers. 3 are arranged in a predetermined arrangement pattern in a matrix.

【0032】図3(a)は、上記した各色の発光画素が
ストライプ状に配列されてなる。図3(b)は、上記し
た各色の発光画素が隔壁5の角で隣接した斜行ストライ
プ状に配列されてなる。図3(c)は、有機層3(隔壁
5)が蛇行し、かつ上記した各色の発光画素が千鳥状に
配列されてなる。これらの発光画素の配列において、図
3(d)に示すように、赤色(R)発光画素11、緑色
(G)発光画素12及び青色(B)発光画素13の配列
数は、必ずしも、1:1:1の比でなくともよい。ま
た、各画素の面積は、同一であってもよいし、各画素で
異なっていてもよい。また、3種類(3色)でなく、1
種類(1色)であってもよい。
FIG. 3A shows a structure in which the light-emitting pixels of the respective colors described above are arranged in a stripe pattern. In FIG. 3B, the light-emitting pixels of the above-described respective colors are arranged in a diagonal stripe shape adjacent to the corner of the partition wall 5. In FIG. 3C, the organic layer 3 (partition wall 5) meanders, and the light emitting pixels of each color described above are arranged in a staggered manner. In the arrangement of these light-emitting pixels, as shown in FIG. 3D, the number of red (R) light-emitting pixels 11, green (G) light-emitting pixels 12, and blue (B) light-emitting pixels 13 is not necessarily 1: The ratio does not have to be 1: 1. Further, the area of each pixel may be the same, or may be different for each pixel. Also, instead of three types (three colors), one
The type (one color) may be used.

【0033】次に、図4及び図5の平面図を参照しなが
ら各画素に対応した第1電極2どうしと第2電極4どう
しの接続方法について説明する。本発明の有機LEDデ
ィスプレイ20は、図4に示すように、有機層3を挟持
する第1電極2と第2電極4が共通の基板1上で互いに
直交する斜行ストライプ状の電極構成としてもよい。ま
た、図5に示すように、第1電極2あるいは第2電極4
が、所定のソースバスライン22及びゲートバスライン
23で接続される薄膜トランジスタ21(TFT)を介
して共通の電極に接続していてもよい。ただし、ここで
1画素に用いるTFTは、1つでもよいし、複数個でも
よい。
Next, a method of connecting the first electrode 2 and the second electrode 4 corresponding to each pixel will be described with reference to the plan views of FIGS. As shown in FIG. 4, the organic LED display 20 of the present invention may have an oblique stripe electrode configuration in which the first electrode 2 and the second electrode 4 sandwiching the organic layer 3 are orthogonal to each other on the common substrate 1. Good. Further, as shown in FIG. 5, the first electrode 2 or the second electrode 4
May be connected to a common electrode via a thin film transistor 21 (TFT) connected by a predetermined source bus line 22 and a predetermined gate bus line 23. However, the number of TFTs used for one pixel may be one or more than one.

【0034】[0034]

【実施例】以下、実施の形態の具体例を示すが、これら
の実施例により本発明が限定されるものではない。実施例1 まず、130nmの膜厚をもつITO付きガラス基板1
を、フォトリソグラフィ法により第1電極2として24
0μmピッチで200μm幅のITO透明ストライプ電
極を形成した。次に、ITO付きガラス基板1を、例え
ばイソプロピルアルコール、アセトン、純水を用いた従
来のウェットプロセスによる洗浄法及びUVオゾン処
理、プラズマ処理等の従来のドライプロセスにより洗浄
する。このとき、ITO表面の臨界表面張力γcは、5
6dyne/cm であった。
EXAMPLES Specific examples of the embodiments will be shown below, but the present invention is not limited by these examples. Example 1 First, a glass substrate 1 with ITO having a film thickness of 130 nm
To 24 as the first electrode 2 by photolithography.
ITO transparent stripe electrodes having a width of 200 μm were formed at a pitch of 0 μm. Next, the glass substrate 1 with ITO is cleaned by a conventional wet process using, for example, isopropyl alcohol, acetone, and pure water, and a conventional dry process such as UV ozone treatment and plasma treatment. At this time, the critical surface tension γc of the ITO surface is 5
It was 6 dyne / cm.

【0035】次に、この基板1上に臨界表面張力γcが
38dyne/cm のポリイミドからなるレジストをスピンコ
ート法により塗布し、膜厚30μmのレジスト膜を形成
した。次に、マスクを用いて露光し、レジストの残渣を
洗い流し、ITOと平行の方向には540μmピッチ、
ITOと直交する方向には230μmピッチで、40μ
m幅の第1隔壁51を形成した。
Next, a polyimide resist having a critical surface tension γc of 38 dyne / cm was applied on the substrate 1 by spin coating to form a resist film having a thickness of 30 μm. Next, exposure is performed using a mask, the resist residue is washed away, and a pitch of 540 μm is set in a direction parallel to the ITO.
At a pitch of 230 μm in the direction orthogonal to ITO, 40 μm
A first partition 51 having a width of m was formed.

【0036】次に、この基板1をF2 含有ガスを用いて
乾式親水化処理を行うことでITO表面の臨界表面張力
γcを61dyne/cm にし、第1隔壁51の臨界表面張力
γcを60dyne/cm とした。次に、市販のディスペンサ
ーにより、表面張力γが33dyne/cm の3,4−ポリエ
チレンジオキシチオフェン水溶液を用い、厚さ50nm
の正孔注入層を形成した。
Next, the substrate 1 is subjected to a dry hydrophilization treatment using an F 2 -containing gas to make the critical surface tension γc of the ITO surface 61 dyne / cm and the critical surface tension γc of the first partition wall 51 to 60 dyne / cm. cm. Then, using a commercially available dispenser, an aqueous solution of 3,4-polyethylenedioxythiophene having a surface tension γ of 33 dyne / cm 2 and a thickness of 50 nm were used.
Was formed.

【0037】次に、市販のディスペンサーにより、赤、
緑、青色に発光する発光材料をパターニング塗布し、厚
さ50nmの有機層3を形成した。ここで、赤色発光材
料としては、シアノポリフェニレンビニレン前駆体、緑
色発光材料としては、ポリフェニレンビニレン前駆体、
青色発光材料として、ポリパラフェニレンを使用した。
このとき、すべての有機層形成用塗液の表面張力γは、
38dyne/cm であった。ただし、シアノポリフェニレン
ビニレン前駆体とポリフェニレンビニレン前駆体に関し
ては、膜を形成後、Ar雰囲気下で150℃、6時間の
加熱処理を行うことで、それぞれをシアノポリフェニレ
ンビニレンとポリフェニレンビニレンに変換した。
Next, using a commercially available dispenser, red,
A luminescent material that emits green and blue light was patterned and applied to form an organic layer 3 having a thickness of 50 nm. Here, as a red light emitting material, a cyanopolyphenylene vinylene precursor, as a green light emitting material, a polyphenylene vinylene precursor,
Polyparaphenylene was used as a blue light emitting material.
At this time, the surface tension γ of all the organic layer forming coating liquids is
It was 38 dyne / cm. However, the cyanopolyphenylenevinylene precursor and the polyphenylenevinylene precursor were converted into cyanopolyphenylenevinylene and polyphenylenevinylene by performing a heat treatment at 150 ° C. for 6 hours in an Ar atmosphere after forming the film.

【0038】次に、第2電極4として、厚さ0.2μ
m、幅510μm、ピッチ540μmのシャドウマスク
を用いて、AlとLiを共蒸着することにより、AlL
i合金電極を形成した。最後にエポキシ樹脂を用いて封
止を行った。以上のようにして形成した有機LEDディ
スプレイは、第1電極2と第2電極4との間、第1電極
2どうし及び第2電極4どうしでのショートは発生せ
ず、また、有機層3及び電荷輸送層の膜厚の不均一に伴
う画素部のエッジからの不均一発光は見られなかった。
また、このディスプレイに30Vのパルス電圧を印加す
ることで、すべての画素から発光が得られた。
Next, as the second electrode 4, a thickness of 0.2 μm
Al, Li are co-evaporated using a shadow mask having a width of 510 μm, a width of 510 μm, and a pitch of 540 μm.
An i-alloy electrode was formed. Finally, sealing was performed using an epoxy resin. In the organic LED display formed as described above, between the first electrode 2 and the second electrode 4, no short circuit occurs between the first electrode 2 and the second electrode 4. Non-uniform light emission from the edge of the pixel portion due to non-uniform thickness of the charge transport layer was not observed.
Further, by applying a pulse voltage of 30 V to this display, light emission was obtained from all the pixels.

【0039】実施例2 まず、130nmの膜厚をもつITO付きガラス基板1
を、フォトリソグラフィ法により第1電極2として24
0μmピッチで200μm幅のITO透明ストライプ電
極を形成した。次に、ITO付きガラス基板1を、例え
ばイソプロピルアルコール、アセトン、純水を用いた従
来のウエットプロセスによる洗浄法及びUVオゾン処
理、プラズマ処理等の従来のドライプロセスにより洗浄
する。このとき、ITO表面の臨界表面張力γcは、5
6dyne/cm であった。
Example 2 First, a glass substrate 1 with ITO having a thickness of 130 nm was used.
To 24 as the first electrode 2 by photolithography.
ITO transparent stripe electrodes having a width of 200 μm were formed at a pitch of 0 μm. Next, the glass substrate 1 with ITO is cleaned by a conventional wet process using isopropyl alcohol, acetone, and pure water, and a conventional dry process such as UV ozone treatment and plasma treatment. At this time, the critical surface tension γc of the ITO surface is 5
It was 6 dyne / cm.

【0040】次に、この基板1上に臨界表面張力γcが
43dyne/cm のポリエチレンテレフタレートを用いてス
ピンコート法により膜厚0.1μmのレジスト膜を形成
した。次に、マスクを用いて露光し、レジストの残渣を
洗い流し、ITOと平行の方向には340μmピッチ、
ITOと直交する方向には230μmピッチで、40μ
m幅の第1隔壁51を形成した。次に、第1電極2上に
臨界表面張力γc15dyne/cm のパーフルオロオクチル
エチルメタクリレートを用いてスピンコート法により膜
厚20μmのレジスト膜を形成した。次に、第1電極2
と同様のパターンのマスクを用いて露光し、レジストの
残渣を洗い流し、ITOと平行の方向には540μmピ
ッチ、ITOと直交する方向には230μmピッチで、
40μm幅の第2隔壁52を形成した。
Next, a 0.1 μm-thick resist film was formed on the substrate 1 by spin coating using polyethylene terephthalate having a critical surface tension γc of 43 dyne / cm. Next, the resist is exposed using a mask, and the resist residue is washed away, and a pitch of 340 μm is set in a direction parallel to the ITO.
At a pitch of 230 μm in the direction orthogonal to ITO, 40 μm
A first partition 51 having a width of m was formed. Next, a 20 μm-thick resist film was formed on the first electrode 2 by spin coating using perfluorooctylethyl methacrylate having a critical surface tension γc of 15 dyne / cm 2. Next, the first electrode 2
Exposure is performed using a mask having a pattern similar to that described above, and the residue of the resist is washed away.
A second partition 52 having a width of 40 μm was formed.

【0041】次に、市販のスピンコーターにより、表面
張力γが33dyne/cm の3,4−ポリエチレンジオキシ
チオフェン水溶液を用い、厚さ50nmの正孔注入層を
形成した。次に、市販のディスペンサーにより、赤、
緑、青色に発光する発光材料をパターニング塗布し、厚
さ50nmの発光層を形成した。ここで、赤色発光材料
としては、シアノポリフェニレンビニレン前駆体、緑色
発光材料としては、ポリフェニレンビニレン前駆体、青
色発光材料としてポリパラフェニレンを使用した。この
とき、すべての有機層形成用塗液の表面張力γは38dy
ne/cm であった。ただし、シアノポリフェニレンビニレ
ン前駆体とポリフェニレンビニレン前駆体に関しては、
膜を形成後、Ar雰囲気下で150℃、6時間の加熱処
理を行うことで、それぞれをシアノポリフェニレンビニ
レンとポリフェニレンビニレンに変換した。
Next, a hole injection layer having a thickness of 50 nm was formed using a 3,4-polyethylenedioxythiophene aqueous solution having a surface tension γ of 33 dyne / cm by a commercially available spin coater. Next, with a commercially available dispenser, red,
A light-emitting material that emits green and blue light was applied by patterning to form a light-emitting layer having a thickness of 50 nm. Here, a cyanopolyphenylenevinylene precursor was used as the red light-emitting material, a polyphenylenevinylene precursor was used as the green light-emitting material, and polyparaphenylene was used as the blue light-emitting material. At this time, the surface tension γ of all the coating liquids for forming an organic layer is 38 dy.
ne / cm. However, regarding the cyanopolyphenylene vinylene precursor and the polyphenylene vinylene precursor,
After forming the film, each was converted into cyanopolyphenylenevinylene and polyphenylenevinylene by performing a heat treatment at 150 ° C. for 6 hours in an Ar atmosphere.

【0042】次に、第2電極4として、厚さ0.2μ
m、幅510μm、ピッチ540μmのシャドウマスク
を用いて、AlとLiを共蒸着することにより、AlL
i合金電極を形成した。最後にエポキシ樹脂を用いて封
止を行った。以上のようにして形成した有機LEDディ
スプレイは、第1電極2と第2電極4との間、第1電極
2どうし及び第2電極4どうしでのショートは発生せ
ず、また、有機層3及び電荷輸送層の膜厚の不均一に伴
う画素部のエッジからの不均一発光は見られなかった。
また、このディスプレイに30Vのパルス電圧を印加す
ることで、すべての画素から発光が得られた。
Next, as the second electrode 4, a thickness of 0.2 μm
Al, Li are co-evaporated using a shadow mask having a width of 510 μm, a width of 510 μm, and a pitch of 540 μm.
An i-alloy electrode was formed. Finally, sealing was performed using an epoxy resin. In the organic LED display formed as described above, between the first electrode 2 and the second electrode 4, no short circuit occurs between the first electrode 2 and the second electrode 4. Non-uniform light emission from the edge of the pixel portion due to non-uniform thickness of the charge transport layer was not observed.
Further, by applying a pulse voltage of 30 V to this display, light emission was obtained from all the pixels.

【0043】実施例3 有機層形成用塗液の吐出方法として、ディスペンサーの
代わりに、市販のインクジェットプリンターを用いたこ
と以外は、実施例2と同様にして有機LEDディスプレ
イを形成した。インクジェットプリンターによる有機層
形成用塗液の吐出は、図6に示すように、所定の配置パ
ターンでマトリックス状に形成された隔壁5の間隔に対
応して3つのインクジェットヘッド24を配置し、これ
らのインクジェットヘッド24から赤色(R)発光画素
11、緑色(G)発光画素12及び青色(B)発光画素
13を隔壁5の内側の第1電極2上に吐出させ、さらに
これらのインクジェットヘッド24を平行移動させて前
記した発光画素の吐出を繰り返して有機層3を形成し
た。形成された有機LEDディスプレイは、第1電極2
と第2電極4との間、第1電極2どうし及び第2電極4
どうしでのショートは発生せず、また、有機層3及び電
荷輸送層の膜厚の不均一に伴う画素部のエッジからの不
均一発光は見られなかった。また、このディスプレイに
30Vのパルス電圧を印加することで、すべての画素か
ら発光が得られた。
Example 3 An organic LED display was formed in the same manner as in Example 2, except that a commercially available ink jet printer was used in place of the dispenser as a method of discharging the coating liquid for forming an organic layer. As shown in FIG. 6, the discharge of the coating liquid for forming an organic layer by the inkjet printer is performed by arranging three inkjet heads 24 corresponding to the intervals of the partition walls 5 formed in a matrix in a predetermined arrangement pattern. The red (R) light-emitting pixels 11, the green (G) light-emitting pixels 12, and the blue (B) light-emitting pixels 13 are ejected from the inkjet head 24 onto the first electrode 2 inside the partition wall 5, and these inkjet heads 24 are arranged in parallel. The organic layer 3 was formed by moving and repeating the above-described discharge of the luminescent pixels. The formed organic LED display has a first electrode 2
Between the first electrode 2 and the second electrode 4
No short circuit occurred between the pixels, and nonuniform light emission from the edge of the pixel portion due to nonuniform film thickness of the organic layer 3 and the charge transport layer was not observed. Further, by applying a pulse voltage of 30 V to this display, light emission was obtained from all the pixels.

【0044】実施例4 まず、ガラス基板1上に、薄膜トランジスタを形成した
後、第1電極2として、長辺が500μmで、短辺が2
20μmになるようにITO透明電極を形成した。この
ときITO表面の臨界表面張力γcは、56dyne/cm で
あった。次に、この基板上に臨界表面張力γcが43dy
ne/cm のポリエチレンテレフタレートを用いてスピンコ
ート法により膜厚0.1μmのレジスト膜を形成した。
次に、マスクを用いて露光し、レジストの残渣を洗い流
し、ITO間に40μm幅の第1隔壁51を形成した。
Example 4 First, after forming a thin film transistor on a glass substrate 1, a first electrode 2 having a long side of 500 μm and a short side of 2
An ITO transparent electrode was formed to have a thickness of 20 μm. At this time, the critical surface tension γc of the ITO surface was 56 dyne / cm 2. Next, the critical surface tension γc is 43 dy on this substrate.
A 0.1 μm-thick resist film was formed by spin coating using polyethylene terephthalate of ne / cm 2.
Next, exposure was performed using a mask, and the residue of the resist was washed away, thereby forming a first partition wall 51 having a width of 40 μm between ITO.

【0045】次に、第1電極2上に臨界表面張力γcが
15dyne/cm のパーフルオロオクチルエチルメタクリレ
ートを用いてスピンコート法により膜厚20μmのレジ
スト膜を形成した。次に、第1電極2と同様のパターン
のマスクを用いて露光し、レジストの残渣を洗い流し、
ITO間に40μm幅の第2隔壁52を形成した。次
に、実施例2と同様にして有機層3を形成した。次に、
AlとLiを共蒸着することにより第2電極4として、
AlLi合金電極を形成した。最後にエポキシ樹脂を用
いて封止を行った。
Next, a 20 μm-thick resist film was formed on the first electrode 2 by spin coating using perfluorooctylethyl methacrylate having a critical surface tension γc of 15 dyne / cm. Next, exposure is performed using a mask having the same pattern as that of the first electrode 2, and the residue of the resist is washed away.
A second partition 52 having a width of 40 μm was formed between the ITOs. Next, an organic layer 3 was formed in the same manner as in Example 2. next,
By co-evaporating Al and Li as the second electrode 4,
An AlLi alloy electrode was formed. Finally, sealing was performed using an epoxy resin.

【0046】以上のようにして形成した有機LEDディ
スプレイは、第1電極2と第2電極4との間、第1電極
2どうし及び第2電極4どうしでのショートは発生せ
ず、また、有機層3及び電荷輸送層の膜厚の不均一に伴
う各画素での発光の不均一は見られなかった。また、こ
のディスプレイに30Vのパルス電圧を印加すること
で、すべての画素から発光が得られた。
In the organic LED display formed as described above, no short circuit occurs between the first electrode 2 and the second electrode 4 and between the first electrode 2 and the second electrode 4. Non-uniform light emission in each pixel due to non-uniform thickness of the layer 3 and the charge transport layer was not observed. Further, by applying a pulse voltage of 30 V to this display, light emission was obtained from all the pixels.

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明では、有機層と隔壁との界面での
局所発光及びこの局所発光に伴う経時的劣化が抑制され
た有機発光素子ならびに、シャドウマスク等により有機
層の表面に電極を形成する際に、シャドウマスクの位置
合わせが容易となる有機発光素子の製造方法を提供でき
る。また、表示品質が優れ、かつ開口率の高い有機発光
ディスプレイを提供できる。
According to the present invention, an organic light-emitting device in which local light emission at the interface between the organic layer and the partition wall and deterioration with time due to the local light emission are suppressed, and an electrode is formed on the surface of the organic layer using a shadow mask or the like. In this case, it is possible to provide a method for manufacturing an organic light-emitting device that facilitates alignment of a shadow mask. Further, an organic light emitting display having excellent display quality and a high aperture ratio can be provided.

【0048】また、発光層の混じり合いによる混色、ま
たは、発光層の混じり合いにより発光材料間に起こるエ
ネルギー移動に伴うエネルギーの低い発光色の発光を抑
え、表示品質を著しい低下を防止できる。さらに、シャ
ドウマスクを用いて第2電極を形成した際に、シャドウ
マスクの密着による有機層へのダメージを防止すること
ができる。この場合、隔壁の形状を適切な形、例えば、
逆テーパー状とすることにより、シャドウマスクを用い
なくても、第2電極のパターニングが可能となる。
Further, it is possible to suppress color mixture due to mixing of the light emitting layers or light emission of a low energy color due to energy transfer occurring between the light emitting materials due to mixing of the light emitting layers, thereby preventing a remarkable decrease in display quality. Further, when the second electrode is formed using the shadow mask, damage to the organic layer due to close contact of the shadow mask can be prevented. In this case, the shape of the partition is an appropriate shape, for example,
With the reverse tapered shape, the second electrode can be patterned without using a shadow mask.

【0049】また、隣接する画素の材料による汚染を防
止できるため、混色等の問題を排除することができる。
また、20℃における臨界表面張力γcが、有機層形成
用塗液の20℃における表面張力γよりも大きい電極を
用いることで、電極への有機層形成用塗液のヌレ性が高
まり、画素の角部および隅部にまで有機層形成用塗液を
充満させることが可能となり、画素の全域に均一な有機
層を形成できる。また、有機層と電極との密着性が向上
し、電極から有機層への電荷の注入効率が向上する。
Further, since contamination of the material of the adjacent pixels by the material can be prevented, problems such as color mixing can be eliminated.
Further, by using an electrode whose critical surface tension γc at 20 ° C. is larger than the surface tension γ of the coating liquid for forming an organic layer at 20 ° C., the wetting property of the coating liquid for forming an organic layer on the electrode is enhanced, and The coating liquid for forming an organic layer can be filled up to the corners and corners, and a uniform organic layer can be formed over the entire area of the pixel. Further, the adhesion between the organic layer and the electrode is improved, and the efficiency of charge injection from the electrode to the organic layer is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による有機発光素子の構成例を示す概略
断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a configuration example of an organic light emitting device according to the present invention.

【図2】本発明による有機発光素子の他の構成例を示す
概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing another configuration example of the organic light emitting device according to the present invention.

【図3】本発明による有機LEDディスプレイの発光層
の配置例を示す概略部分平面図である。
FIG. 3 is a schematic partial plan view showing an arrangement example of a light emitting layer of the organic LED display according to the present invention.

【図4】本発明による有機LEDディスプレイの電極の
構成例を説明する概略部分透視平面図である。
FIG. 4 is a schematic partial perspective plan view illustrating a configuration example of an electrode of an organic LED display according to the present invention.

【図5】図4に対応する、有機LEDディスプレイの電
極の他の構成例を説明する概略部分透視平面図である。
FIG. 5 is a schematic partial perspective plan view corresponding to FIG. 4 and illustrating another configuration example of the electrodes of the organic LED display.

【図6】本発明の有機層の形成方法の一例を説明する概
念図である。
FIG. 6 is a conceptual diagram illustrating an example of a method for forming an organic layer according to the present invention.

【図7】従来の有機発光素子の構成例を示す概略断面図
である。
FIG. 7 is a schematic sectional view showing a configuration example of a conventional organic light emitting device.

【図8】従来の有機発光素子の他の構成例を示す概略断
面図である。
FIG. 8 is a schematic sectional view showing another configuration example of the conventional organic light emitting device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 第1電極 3 有機層 4 第2電極 5 隔壁 6 封止膜 7 偏向板 10 有機発光素子 11 赤色発光画素 12 緑色発光画素 13 青色発光画素 20 有機LEDディスプレイ 21 薄膜トランジスタ(TFT) 22 ソースバスライン 23 ゲートバスライン 24 インクジェットヘッド 51 第1隔壁 52 第2隔壁 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 1st electrode 3 Organic layer 4 2nd electrode 5 Partition 6 Sealing film 7 Deflection plate 10 Organic light emitting element 11 Red light emitting pixel 12 Green light emitting pixel 13 Blue light emitting pixel 20 Organic LED display 21 Thin film transistor (TFT) 22 Source bus Line 23 Gate bus line 24 Inkjet head 51 First partition 52 Second partition

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1電極と、第1電極上に形成され、少
なくとも隣接する画素間の一部を区画する隔壁と、隔壁
の内側に形成された有機層と、有機層上に形成された第
2電極とを有する有機発光素子において、 少なくとも1層の有機層は、隔壁近傍の表面が、凹状の
断面形状からなることを特徴とする有機発光素子。
1. A first electrode, a partition formed on the first electrode and partitioning at least a part between adjacent pixels, an organic layer formed inside the partition, and formed on the organic layer An organic light-emitting device comprising a second electrode and at least one organic layer, wherein a surface near a partition wall has a concave cross-sectional shape.
【請求項2】 有機層は、有機発光材料および/または
有機電荷輸送材料を含む溶液または分散液を隔壁の内側
に注入した際の凹状のメニスカスが固化されて形成され
る請求項1に記載の有機発光素子。
2. The organic layer according to claim 1, wherein the concave meniscus is solidified when a solution or dispersion containing an organic light emitting material and / or an organic charge transport material is injected into the inside of the partition. Organic light emitting device.
【請求項3】 少なくとも隣接する画素間の一部を区画
する隔壁を第1電極上に形成し、有機発光材料を含む溶
液または分散液を隔壁の内側に注入して有機層を形成
し、次いでこの有機層上に第2電極を形成する工程を有
する有機発光素子の製造方法において、 隔壁の20℃における臨界表面張力が、隔壁の内側に注
入する有機発光材料を含む溶液または分散液の20℃に
おける表面張力よりも大きいことを特徴とする有機発光
素子の製造方法。
3. A partition partitioning at least a part between adjacent pixels is formed on the first electrode, and a solution or a dispersion containing an organic light emitting material is injected into the partition to form an organic layer. In the method for manufacturing an organic light-emitting device having a step of forming a second electrode on the organic layer, the critical surface tension of the partition at 20 ° C. is set to 20 ° C. of the solution or dispersion containing the organic light-emitting material to be injected inside the partition. A method of manufacturing an organic light-emitting device, wherein the method is larger than the surface tension of the light-emitting device.
【請求項4】 隔壁の20℃における臨界表面張力と有
機発光材料を含む溶液または分散液の20℃における表
面張力の差が、少なくとも5dyne/cm 以上である請求項
3記載の有機発光素子の製造方法。
4. The production of an organic light emitting device according to claim 3, wherein the difference between the critical surface tension of the partition at 20 ° C. and the surface tension of the solution or dispersion containing the organic light emitting material at 20 ° C. is at least 5 dyne / cm or more. Method.
【請求項5】 隔壁が、さらに、第1電極から遠位の上
部隔壁を重畳してなり、上部隔壁の20℃における臨界
表面張力が、有機発光材料を含む溶液または分散液の2
0℃における表面張力よりも小さいことを特徴とする請
求項3または4に記載の有機発光素子の製造方法。
5. A partition wall further comprising an upper partition wall that is distal to the first electrode, wherein a critical surface tension at 20 ° C. of the upper partition wall is equal to that of a solution or dispersion containing an organic light emitting material.
The method according to claim 3, wherein the surface tension is lower than a surface tension at 0 ° C. 6.
【請求項6】 上部隔壁の20℃における臨界表面張力
と有機発光材料を含む溶液または分散液の20℃におけ
る表面張力の差が、少なくとも5dyne/cm 以上である請
求項5記載の有機発光素子の製造方法。
6. The organic light-emitting device according to claim 5, wherein the difference between the critical surface tension of the upper partition at 20 ° C. and the surface tension of the solution or dispersion containing the organic light-emitting material at 20 ° C. is at least 5 dyne / cm or more. Production method.
【請求項7】 第1電極の20℃における臨界表面張力
が、有機発光材料を含む溶液または分散液の20℃にお
ける表面張力よりも大きい請求項3〜6のいずれか一つ
に記載の有機発光素子の製造方法。
7. The organic light emitting device according to claim 3, wherein a critical surface tension at 20 ° C. of the first electrode is larger than a surface tension at 20 ° C. of a solution or a dispersion containing the organic light emitting material. Device manufacturing method.
【請求項8】 第1電極の20℃における臨界表面張力
と有機発光材料を含む溶液または分散液の20℃におけ
る表面張力の差が、少なくとも5dyne/cm 以上である請
求項7記載の有機発光素子の製造方法。
8. The organic light emitting device according to claim 7, wherein the difference between the critical surface tension of the first electrode at 20 ° C. and the surface tension of the solution or dispersion containing the organic light emitting material at 20 ° C. is at least 5 dyne / cm or more. Manufacturing method.
【請求項9】 少なくとも1層の有機層が、有機発光材
料を含む溶液または分散液からスピンコート法、印刷
法、インクジェット法あるいはノズル噴射法から選択さ
れるいずれかの注入方法を用いて形成される請求項3〜
8のいずれか一つに記載の有機発光素子の製造方法。
9. At least one organic layer is formed from a solution or a dispersion containing an organic light emitting material by using an injection method selected from a spin coating method, a printing method, an ink jet method, and a nozzle injection method. Claim 3-
9. The method for manufacturing an organic light-emitting device according to any one of 8.
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