JP3824765B2 - 分析用x線管 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、高出力あるいは高純度のX線を発生する分析用X線管に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の分析用X線管について、例えば、蛍光X線分析に使用される分析用X線管を例にとり、図4および図5を参照して説明する。
【0003】
図4は全体の構造を一部を切り欠いて示し、符号41は、分析用X線管を構成する真空外囲器である。真空外囲器41は、ほとんどの部分が断面が円形の円筒状部分41aで構成され、先端部は、径が徐々に小さくなる傾斜部分41bになっている。真空外囲器41の後端部には、水などの冷却用媒体を供給し排出するための入出口42が設けられている。真空外囲器41の前面には出力窓51が設けられ、真空外囲器41の内部には、陽極ターゲット52や陽極ターゲット52を支持する支持体53、収束電極54、陰極フィラメント55などが配置されている。
【0004】
次に、分析用X線管の先端部分を横方向から見た構造について、図5(a)の断面図で説明する。真空外囲器41の前面にX線の出力窓51が設けられている。真空外囲器41の内部には、出力窓51に対向して陽極ターゲット52が配置されている。陽極ターゲット52は円筒状の支持体53で支持され、支持体53の内部空間53aは、陽極部分を冷却するための冷却水などが通る冷却路になっている。また、陽極ターゲット52を囲んで収束電極54が配置され、収束電極54の外側には陰極フィラメント55が環状に張られている。
【0005】
なお、分析用X線管が動作状態に入ると、陰極フィラメント55からの輻射熱や伝導熱によって真空外囲器41の温度が上昇する。このため、真空外囲器41の一部に冷却路56を設け、真空外囲器41を冷却する水などの冷却媒体を送り込んでいる。
【0006】
次に、分析用X線管を出力窓51方向から見た構造について、図5(b)で説明する。中心部分に陽極ターゲット52が位置し、その一部に円形の焦点52aが形成される。陽極ターゲット52よりも広めに出力窓51が設けられ、出力窓51の外側には収束電極54が位置している。また、収束電極54の外側に陰極フィラメント55が位置している。
【0007】
ここで、上記した分析用X線管を用いて分析を行う方法について図6で説明する。分析用X線管60の出力窓51部分の下方に測定試料61が所定の間隔で配置され、測定試料61の斜め上方に検出器62が配置される。
【0008】
上記した配置において、分析用X線管60が動作し、陰極フィラメント55から電子Eが発生する。電子Eは陰極と陽極間の電圧で加速される。また、分析用X線管60を構成する真空外囲器41と収束電極54によって収束され、陽極ターゲット52に衝突する。衝突面には円形の焦点52a(図5(b))が形成され、衝突面からX線63が励起される。X線63は出力窓51を通して測定試料61に照射される。そして、測定試料61から励起された蛍光X線64は、スリットや分光結晶などの機構(図示せず)を通して検出器62に入力し、測定試料61を構成する物質が分析される。
【0009】
ところで、蛍光分析用X線管から放射されるX線の波長は、陽極ターゲットの材質や陽極に印加される電圧で決まる。また、蛍光分析にあたっては、高出力で高純度のX線が必要とされている。
【0010】
高出力のX線を得るためには、所定の印加電圧および高入力の電流が必要となる。その他、X線を外部に取り出す出力窓におけるX線の吸収が少ないこと、あるいは、陽極ターゲット表面から測定試料までの距離を短くしてX線の減衰を少なくすることなどが必要となる。
【0011】
出力窓のX線吸収を少なくするために、出力窓の材料としてX線吸収率の低いBeが使用され、板厚は数10〜数100μmに形成される。
【0012】
また、陽極タ一ゲットから測定試料までの距離を短くするためには、管球内部では、陽極ターゲットと出力窓間の距離を短くし、また、管球外部では、真空外囲器の管球先端と測定試料間の距離を短くすることが必要となる。しかし、陽極ターゲットと出力窓間の距離は、陽極に印加される電圧や、電子を陽極ターゲットに収束するための位置関係で決まり、短くすることには限界がある。また、真空外囲器と測定試料間の距離も、測定試料の大きさ、あるいは、X線管の先端部分の形状の影響を受ける測定試料から検出器側に取り出される蛍光X線の角度や方向で制約され、距離の短縮には限界がある。
【0013】
また、高純度のX線を出力させるためには、陽極ターゲットで発生されるX線の純度を上げること、および、陽極ターゲット以外の材料から発生するX線を少なくすることが必要となる。そのため、従来、陽極ターゲットの材料として高純度の単物質が使用されている。例えば、純度99.9%のRh材を使用し、陽極ターゲットの材質内に含まれる他物質によるX線の発生を少なくしている。しかし、X線管が動作すると、陽極ターゲットの焦点面からX線と同時に2次電子が発生する。2次電子の軌道は、印加電圧や電極構造によって相違し、到達する先には広がりがある。しかし、その多くは、陽極ターゲットと陽極ターゲットを支持する支持体との接合部近傍となっている。この場合、支持体として、陽極ターゲットの熱を逃がすために熱伝導のよいCuが使用されるため、CuによるX線が発生する。Cuが発生するX線は、X線管が発生するX線の純度を低下させ、また、分析精度を低下させる原因になる。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】
分析用X線管に対して分析精度の向上が要求され、より高出力で、より高純度のX線源が必要になっている。このため、従来、X線の出力窓を薄くし、あるいは陽極ターゲットと出力窓間の距離を短くし、あるいは管球自体を測定試料に近づける方法が検討されている。しかし、管球自体を測定試料に近づける方法は、X線管を構成する真空外囲器の構造による制約がある。
【0015】
ここで、X線管の真空外囲器の構造が、管球と測定試料間の距離の短縮化を制約する理由について図7で説明する。
【0016】
符号60がX線管、符号61が測定試料、符号62が検出器である。この配置において、X線管60を測定試料61に近づければ、測定試料61に照射されるX線63、そして、測定試料61から得られる蛍光X線64は強くなる。しかし、X線管60と測定試料61との距離Lが小さくなると、測定試料61から得られる蛍光X線64がX線管60の一部60a(丸印)で遮られ、検出器62に入力する蛍光X線64が減衰する。
【0017】
このため、X線管60と測定試料61間の距離や、蛍光X線64を測定試料61から検出器62側に取り出す角度は、分析用途などによって適性な値が決められている。蛍光X線64を取り出す角度(θ)は、測定試料にもよるが、X線管60から測定試料61にX線63が照射される方向に対し、60度前後に固定されているものが多い。
【0018】
測定試料から取り出される蛍光X線を真空外囲器が遮らないようにするために、真空外囲器の出力窓側の先端部を細くする方法が考えられる。しかし、真空外囲器の出力窓側の部分は電子を収束させるための電極にもなっている。このため、出力窓側の先端部を単純に細くすると、管球内の耐電圧が維持されず、管球の性能が低下する。また出力窓側の部分を細くした場合、陽極ターゲットのまわりに張設される陰極フィラメントに対し、陽極ターゲットに適性な焦点形状を形成するための寸法決定が困難になる。また、細くなった出力窓側の部分が高温化するという問題もある。また先細化した場合、スペースに余裕がないため、陰極の影響を受けて高温になる真空外囲器部分を冷却するための冷却機構を、陰極や出力窓部分などから離れた位置に設けなければならず、冷却効率が悪くなる。
【0019】
上記した理由から、真空外囲器の出力窓側を細くするができず、管球自体を測定試料に近づける距離が制約されている。
【0020】
また、X線管を高出力化した場合、印加電圧や電流が高入力化し陽極ターゲットの温度が上昇する。そのため、陽極ターゲット材を薄くし、あるいは、陽極ターゲットの熱を効率よく支持体に逃がす構造が必要となっている。しかし、従来のX線管の場合、陽極ターゲットを薄くすると、陽極ターゲットに電子が衝突する面と支持体との距離が短くなる。これによって、多くの2次電子が支持体に衝突し、支持体からのX線が増え、X線の純度が低下する。
【0021】
この発明は、上記した欠点を解決し、高出力あるいは高純度のX線を発生する分析用X線管を提供することを目的とする。
【0022】
【課題を解決するための手段】
この発明の分析用X線管は、X線の出力窓が一部に設けられ、少なくとも前記出力窓側の端部が、前記出力窓に平行な平面上で直交する2つの軸の第1軸方向で長く、第2軸方向で短く形成された真空外囲器と、この真空外囲器内部の前記出力窓に対向する位置に配置されたX線発生用の陽極ターゲットと、この陽極ターゲットから前記第1軸方向に離れて設けられた収束電極と、前記第1軸方向で前記収束電極よりも外側に設けられた陰極フィラメントとを具備している。
【0023】
【発明の実施の形態】
この発明の実施形態について図1を参照して説明する。図1は、分析用X線管をX線の出力窓側から見た図で、符号11は、分析用X線管を構成する真空外囲器である。真空外囲器11は、円筒状部分11aと、この円筒状部分11aを断面した場合にその断面の広がりの範囲内に入る大きさで、外形がほぼ矩形をした矩形状部分11bとから構成されている。なお、円筒状部分11aを断面にした場合のその中心と矩形状部分11bの中心は一致している。また、矩形状部分11bの長辺側の先端部分は、幅が狭くなる傾斜部分11cになっている。また矩形状部分11bの先端部にはX線の出力窓12が設けられている。
【0024】
なお、図1には、矩形状部分11bの中心で直交し、かつ、矩形状部分11bの短辺および長辺にそれぞれ平行な2つの軸A−A、B−Bが付されている。
【0025】
真空外囲器11の中央には、円筒状部分11aから矩形状部分11bにわたって円筒状の支持体(図示せず)が配置され、矩形状部分11bに位置する支持体の端面に陽極ターゲット13が設けられている。陽極ターゲット13の一部は焦点部14を形成している。なお、出力窓12は、陽極ターゲット13よりも外側に広がる大きさで、陽極ターゲット13に対向している。
【0026】
陽極ターゲット13から矩形状部分11bの長手方向、すなわち軸B−B方向に離れた位置に収束電極15が軸B−Bに直交して配置されている。また、軸B−B方向で収束電極15の外側には陰極フィラメント16が配置されている。陰極フィラメント16はらせん状に細く巻かれ、例えば、軸B−Bに直交して直線状に配置されている。また、陰極フィラメント16の近くに、陰極フィラメント16と平行に水などの冷却媒体を通すための冷却パイプ17が設けられている。冷却パイプ17は矩形状部分11bを貫通し、その両端は矩形状部分11bの外側まで延びている。
【0027】
次に、上記した分析用X線管を図1の軸A−Aで断面にした構造について図2(a)で説明する。図2(a)では、陽極ターゲット13を支持する支持体21が示されている。そして、陽極ターゲット13と支持体21の境界部分にRhのコーティング22が施されている。支持体22の内部空間22aは、陽極を冷却するための水など冷却媒体を通す冷却路になっている。
【0028】
次に、分析用X線管を図1の軸B−Bで断面にした構造について図2(b)で説明する。矩形状部分11b内部の空間端部に陰極フィラメント16が配置され、陰極フィラメント16と陽極ターゲット13間に収束電極15が設けられている。陰極フィラメント16は矩形状部分11bの壁部分11dで支持され、陰極フィラメント16から放出された電子Eは、収束電極15と矩形状部分11bの前面部との間を通るようになっている。また、冷却パイプ17は、陰極フィラメント16を支持する壁部分11dを貫通して設けられている。
【0029】
上記したように、真空外囲器11は出力窓12側が矩形状部分11bに構成され、軸A−A方向で幅が狭くなっている。そして、真空外囲器11の中心軸部分に陽極ターゲット13や出力窓12が位置している。軸A−A方向の矩形状部分11b内部には、図2(a)に示すように、支持体21と支持体21に固着された陽極ターゲット13のみが配置されている。また、軸B−B方向の真空外囲器11の内部空間は、図2(b)に示されるように幅が広く構成されており、この方向に、陽極ターゲット13および収束電極15、陰極フィラメント16などが配置されている。なお、陽極ターゲット13にはRh材が使用され、また、陽極ターゲット13周辺の支持体21との接合部近傍に厚さ5μmのRh被膜22が形成されている。
【0030】
ここで、上記した構成の分析用X線管を用いて、測定試料を分析する方法について図3を参照して説明する。なお、図3では、図1および図に対応する部分には同一の符号を付し、重複する説明は一部省略する。
【0031】
分析用X線管30の下方に所定間隔で測定試料31が配置されている。また、分析用X線管30の矩形状部分11bの長辺側の前方、すなわち図の右方向に検出器32が配置されている。
【0032】
このような配置で、分析用X線管が動作状態に入ると、陰極フィラメントから電子が放出され、真空外囲器11や収束電極の作用で陽極ターゲット13に衝突し、陽極ターゲット13からX線33が発生する。X線33は出力窓12を通しで管外に出力され、測定試料31に照射される。また、測定試料31から励起された蛍光X線34は、スリットや分光結晶などの機構(図示せず)を通して検出器32に入力し、測定試料31を構成する物質が分析される。
【0033】
上記したように、測定試料31の分析を行う場合、検出器32を矩形状部分11bの長辺側に配置し、測定試料31からの蛍光X線34を矩形状部分11bの長辺側に取り出している。蛍光X線34を取り出す側では、幅が狭い方の矩形状部分11bとなっている。このため、真空外囲器11によって蛍光X線34が遮られる領域が狭くなり、分析用X線管30と測定試料31との距離Lを近づけることができる。この結果、X線強度を向上できる。なお、矩形状部分11bの短辺側の寸法は、陽極と真空外囲器間の耐電圧などを考慮して決定される。
【0034】
また、上記した構成によれば、陰極フィラメント16および収束電極15は長い方の軸B−Bに沿って配置している。この場合、軸B−B方向は管内のスペースに余裕があるため、これらの電極を容易に配置できる。
【0035】
また、陽極ターゲットと支持体の接合部近傍に、陽極ターゲットと同じ材質の被膜をコーティングしている。このため、陽極ターゲットの2次電子による支持体からのX線の発生が少なくなり、X線の純度が向上する。なお、コーティングの厚みは、管球の使用電圧や陽極ターゲットの材質により異なってくる。しかし、分析用X線管は、通常、使用電圧が50〜75kV程度であること、また、陽極ターゲット材がRh、W、Crなどであることを考慮すれば、コーティングの厚さは5μm以上あれば、十分な効果が得られる。
【0036】
この発明の構造によれば、管球と測定試料との距離を短くでき、従来の構造に比較し、例えばX線強度は約30%向上している。また、支持体から発生するX線も、従来構造に比較して20%以下となり、X線の純度が向上する。
【0037】
なお、上記した実施形態では、一方の軸方向で長く、他方の軸方向で短い構造を矩形で構成している。しかし、このような構造は楕円形で形成することができ、この場合も同様の効果が得られる。
【0038】
【発明の効果】
この発明によれは、高出力あるいは高純度のX線を発生する分析用X線管を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態を説明するための平面図である。
【図2】本発明の実施形態を説明するための側面図である。
【図3】本発明の分析用X線管を用いた分析方法を説明するための概略の構造図である。
【図4】従来例を説明するための概略の構造図である。
【図5】従来例を説明するための概略の構造図である。
【図6】従来例による分析方法を説明するための概略の構造図である。
【図7】従来例の問題点を説明するための概略の構造図である。
【符号の説明】
11…真空外囲器
11a…真空外囲器の円筒状部分
11b…真空外囲器の矩形状部分
11c…真空外囲器の傾斜部分
12…出力窓
13…陽極ターゲット
14…陽極ターゲットの焦点部
15…収束電極
16…陰極フィラメント
17…冷却パイプ
A−A…第1軸
B−B…第2軸
Claims (5)
- X線の出力窓が一部に設けられ、少なくとも前記出力窓側の端部が、前記出力窓に平行な平面上で直交する2つの軸の第1軸方向で長く、第2軸方向で短く形成された真空外囲器と、この真空外囲器内部の前記出力窓に対向する位置に配置されたX線発生用の陽極ターゲットと、この陽極ターゲットから前記第1軸方向に離れて設けられた収束電極と、前記第1軸方向で前記収束電極よりも外側に設けられた陰極フィラメントとを具備した分析用X線管。
- 第1軸方向で長く、第2軸方向で短い部分の真空外囲器の断面形状は多角形または楕円形である請求項1記載の分析用X線管。
- 陰極フィラメントは、らせん状に巻かれて形成され、第1軸に直交して直線状に配置された請求項1記載の分析用X線管。
- 陰極を冷却するための冷却媒体を通す冷却路が陰極フィラメントの延長方向に設けられた請求項3記載の分析用X線管。
- 陽極ターゲットが支持体上に設けられ、前記陽極ターゲット周辺の前記支持体に、前記陽極ターゲットと同じ材料の被膜を厚さ5μm以上に形成した請求項1記載の分析用X線管。
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JP02459398A Expired - Lifetime JP3824765B2 (ja) | 1998-02-05 | 1998-02-05 | 分析用x線管 |
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- 1998-02-05 JP JP02459398A patent/JP3824765B2/ja not_active Expired - Lifetime
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