JP3817232B2 - 変位測定装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、被測定物体の変位量を非接触で測定できる変位測定装置に係り、特に反射率が領域によって大きく異なるような被測定物上の変位量を正確に測定でき、また被測定物の凸部分の陰にあたる測定不能領域を減らせるために、被測定物の面積や体積がより正確に測定できる変位測定装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
下記の特許文献1には、図7に示すような構造の変位測定装置が開示されている。
この変位測定装置は、光を用いて測定対象面の高さ変位(凹凸)を測定する装置である。図7に示すように、投光部において、光源121から出力されたレーザビームを回転ミラー型または振動ミラー型等の偏向装置122によって偏向し、この偏向した光をレンズ123によって同一平面上の所定範囲内を光軸が平行に移動するビームとする。このビームは、基準面200上の測定対象物100の表面100aに出射され、測定対象物100の表面100a上に定められたビームの照射点Sは、直線的(実際には被測定対象表面の凹凸により蛇行する)に片道あるいは往復走査される。
【0003】
この照射点Sからの反射光を受ける受光部は、レンズアレイ125、結像レンズ126および受光素子127によって構成されている。
【0004】
レンズアレイ125は、等しい焦点距離を有する複数(図7では5個)の集光レンズ部125a〜125eが一列に並ぶように合成樹脂あるいはガラスで一体成形されている。
【0005】
結像レンズ126は、投光部から出射されるビームの走査幅寸法より大きい径を有し、光軸と直交する一方の面が球面状に形成されており、レンズアレイ125からのビームを集束して、受光素子127の受光面127aに照射点Sの像を結像させる。
【0006】
受光素子127は矩形状の受光面127aを有し、受光面127aに照射された光の位置のうち、受光面127aの縦方向に沿った位置に対応する信号を出力するように構成されている。
【0007】
なお、投光部からのビームの光軸と受光部のレンズアレイ125の光軸とは、受光量を確保するために、基準面2の法線をはさんで等しい角度、即ち正反射の向きとなるように予め設定されている。
【0008】
この変位測定装置によれば、測定対象物100に向かって出射されるビームの照射点Sは、被測定対象物100の表面100a上を一定方向に走査される。この照射点からの光は、レンズアレイ125の球面集束型の各集光レンズ部125a〜125eによってほぼ平行なビームに集束されて球面集束型の結像レンズ126に入射し、結像レンズ126によって偏向集束されて受光素子127の受光面127aに照射点Sの像を点状に結像させる。この発明によれば、被測定面が粗く照射点からの光が広がっている場合でも、精度の高い測定が高速に行なえる。
【0009】
【特許文献1】
特開平11−83426号公報
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
図8(a)は、前記変位測定装置の被測定物であるプリント基板1を示す。このプリント基板1の上にはパッド2が設けられており、該パッド2の上にはんだ3が設けられている。このはんだ3の周囲にはパッド2の一部を覆ってレジスト4が設けられている。
【0011】
はんだ3はプリント基板1及びパッド2の表面からある程度の高さを有する凸形状に形成されており、光学的には反射率が相対的に低い低反射率領域となっている。はんだ3の周囲を取り巻くパッド2及びレジスト4は、反射率がはんだ3に比べて相対的に高く、ほぼ鏡面に近い反射率を有する高反射率領域となっている。
【0012】
従って、正反射光のみを用いる前記変位測定装置でこのプリント基板1を測定すると、図8(b)に示すように、はんだ3の部分では十分な反射光量が得られず、受光素子の受光量は低くなるが、その周囲のパッド2及びレジスト4の領域は高い反射率で測定光を正反射するので、受光素子の受光量は非常に高くなる。
【0013】
図7に示した従来の変位測定装置によれば、図9に示すように、光源からの測定光が被測定物のはんだ3で正反射して受光素子127に入射した場合、はんだ3の反射率は前述したように小さいので受光素子127での受光量は小さい。ところが、光源から来るレーザービームは図示のように中央が高く裾野にかけて広がり (フレア)を有する強度分布を有しているので、測定光がはんだ3を走査している時、そのフレアの部分ははんだ3の周囲の反射率の高いレジスト4等で正反射し、はんだ3からの正反射光とともに受光素子127に到達する。従って、はんだ3で正反射した光によって受光素子127で得られる信号は、その周囲からの正反射光による信号に比べて十分な強度を有するとはいえない。つまり、はんだ3からの正反射光とその周囲のレジスト4等によるフレア光の正反射光との相対的な強度差が小さいので、はんだ3からの正反射光を用いてはんだ3の変位を正確に測定することは困難であるという問題があった。
【0014】
また、図10に示すように、プリント基板1上のはんだ3は基板及びパッドの表面からある程度の高さを有する凸形状に形成されているため、法線に対して等しい入射角と反射角で測定光が入反射する場合、凸形状であるはんだ3の周囲にはんだ3の陰となる領域Wができて被測定物(はんだ3)の正確な測定ができないという問題があった。
【0015】
すなわち、図10において、はんだ3の右側の領域Wで正反射した測定光ははんだ3の陰となって受光素子には到達しない。また、はんだ3の左側の領域Wには測定光が到達しないので受光素子に反射光が到達することはない。
【0016】
そこで、本願発明者等は、前記プリント基板における測定光の反射率を再度検討したところ、図8(c)に示すように乱反射については正反射の場合と異なる結果が得られることに気づき、被測定物の反射率に応じて正反射と乱反射を使い分けるという発想を得るに至った。
【0017】
すなわち、図8(c)に示すように、乱反射の場合には、はんだ3の周囲のパッド2及びレジスト4での乱反射による受光素子の受光量は相対的に大きいが、はんだ3の部分でも、レジスト4等ほどではないが、乱反射によって受光素子ではある程度の受光量を得ることができる。つまり、受光素子に入射する光量は、前述したように正反射の場合には、はんだ3とレジスト4等とで差が大きいが、乱反射の場合にはその差が小さくなる。
【0018】
そこで本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、被測定物体が、反射率が相対的に低い低反射率領域と、前記低反射率領域の周囲にある反射率が相対的に高い高反射率領域とを有している場合にも、正反射と乱反射を使い分けて正確な変位測定 (高さ測定)ができる変位測定装置を提供することを目的としている。
【0019】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載された変位測定装置10は、
被測定物体5に測定光を照射する投光部12と、前記被測定物体5からの正反射光を受光して正反射変位信号Aと正反射光量信号Bを出力する正反射受光部13と、前記被測定物体5からの乱反射光を受光して乱反射変位信号Cと乱反射光量信号Dを出力する乱反射受光部14と、前記正反射受光部13からの正反射変位信号A及び正反射光量信号Bと前記乱反射受光部14からの乱反射変位信号C及び乱反射光量信号Dとを用いて前記被測定物体5の変位信号Hを出力する信号処理部15を有する変位測定装置10において、
前記信号処理部は、
前記正反射光量信号のしきい値Eと前記乱反射光量信号の第1のしきい値Fとが予め設定され、前記正反射光量信号Bが前記正反射光量信号Bのしきい値Eより大きいと判定した場合には、前記正反射光量信号Bがブライトを示す上限値より大きい場合に前記乱反射変位信号Cを選択する選択信号Sを生成し、また前記正反射光量信号Bが前記上限値よりも小さい場合に前記正反射変位信号Aを選択する選択信号Sを生成し、さらに前記正反射光量信号Bが前記正反射光量信号Bのしきい値Eより小さいと判定した場合には、前記乱反射光量信号Dが前記乱反射光量信号Dの第1のしきい値Fより大きい場合に前記乱反射変位信号Cを選択する選択信号Sを生成し、また前記乱反射光量信号Dが前記乱反射光量信号Dのしきい値Fより小さい場合には測定不能を示す選択信号Sを生成するデータ判定部25と、
前記正反射受光部13からの前記正反射変位信号Aと、前記乱反射受光部14からの前記乱反射変位信号Cと、前記データ判定部25からの前記選択信号Sとが入力され、前記正反射変位信号Aと前記乱反射変位信号Cと測定不能を示す前記選択信号Sのいずれか一つを選択して出力する変位選択部26と、
を有することを特徴としている。
【0020】
請求項1に記載された変位測定装置10によれば、前記信号処理部15が、前記正反射受光部13からの正反射変位信号A及び正反射光量信号Bと、前記乱反射受光部14からの乱反射変位信号C及び乱反射光量信号Dを用いることにより、前記被測定物体5の反射率に対応して正反射と乱反射を使い分けて信号を選択することにより、当該被測定物5の正確な変位測定 (高さ測定)を非接触で行なうことができる。
また、前記正反射光量信号Bをそのしきい値Eと比較し、前記乱反射光量信号Dをその第1のしきい値Fと比較し、その結果に基づいて前記正反射変位信号Aと前記乱反射変位信号Cのいずれか一方を選択して出力することができるので、前記被測定物体5の反射率に対応して正反射と乱反射を使い分けて信号を選択することにより、当該被測定物5の正確な変位測定 ( 高さ測定)を非接触で行なうことができる。
さらに、前記正反射光量信号Bが前記正反射光量信号Bのしきい値Eより大きいと判定した場合において、前記正反射光量信号Bがその上限値より大きい場合には前記乱反射変位信号Cを選択するとともに、前記正反射光量信号Bがその上限値よりも小さい場合には前記正反射変位信号Aを選択し、選択信号Sを出力し、前記正反射光量信号Bが前記正反射光量信号Bのしきい値Eより小さいと判定した場合において、前記乱反射光量信号Dがその第1のしきい値Fより大きい場合には前記乱反射変位信号Cを選択するとともに、前記乱反射光量信号Dがその第1のしきい値Fより小さい場合には測定不能とするので、前記被測定物体5の反射率に対応して正反射と乱反射を使い分けて信号を選択することにより、当該被測定物5の正確な変位測定 ( 高さ測定)を非接触で行なうことができる。
【0021】
請求項2に記載された変位測定装置10は、請求項1に記載の変位測定装置において、前記投光部12は前記被測定物体に対して単一の測定光を照射し、前記正反射受光部13と前記乱反射受光部14は、前記単一の測定光による前記被測定物体5の同一箇所からの正反射光及び乱反射光をそれぞれの受光部で同時に受けることを特徴とする。
【0025】
請求項3に記載された変位測定装置10は、請求項1又は2に記載の変位測定装置において、
前記被測定物体5が、反射率が相対的に低い低反射率領域3と、前記低反射率領域3の周囲にある反射率が相対的に高い高反射率領域2,4とを有しており、
前記データ判定部25は、前記高反射率領域2,4からの乱反射光によって前記乱反射受光部14が出力する乱反射光量信号Dの第2のしきい値Gを入力され、前記乱反射光量信号Dが該第2のしきい値Gより大きいと判定した場合には高反射率領域認識信号Jを出力することを特徴としている。
【0026】
請求項3に記載された変位測定装置10によれば、被測定物体5の被測定面において反射率が相対的に高い高反射率領域2,4を確実に検知することができる。
【0027】
請求項4に記載された変位測定装置10は、請求項1〜3のいずれか一つに記載の変位測定装置において、前記正反射受光部13と前記乱反射受光部14が、位置検出素子22と位置調整自在な結像レンズ21をそれぞれ有しており、前記正反射受光部13の前記結像レンズ21と前記乱反射受光部14の前記結像レンズ21とが解除可能な固定手段30によって互いに連結されていることを特徴としている。
【0028】
請求項4に記載された変位測定装置10によれば、正反射系と乱反射系の2つの受光系を独立して動かないように互いに固定できるので、たとえ温度変化等に起因する外力が加わっても、各受光系の位置検出素子22,22における変位のゼロ点がずれることがなく、正確な測定を行なうことができる。
【0029】
請求項5に記載された変位測定装置10は、請求項1〜4のいずれか一つに記載の変位測定装置において、前記正反射受光部13の光路内に、前記乱反射受光部14の光路内には存在しない減衰フィルター20が設けられていることを特徴としている。
【0030】
請求項5に記載された変位測定装置10によれば、相対的に反射光の強度が高い正反射受光部13の光路内には減衰フィルター20を設け、相対的に反射光の強度が低い乱反射受光部14の光路内には設けていないので、反射光の強度に差のある2つの受光系をバランスを保持しつつ選択的に使用することができる。
【0031】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を図1〜図6を参照して説明する。
図1は、本実施の形態に係る変位測定装置の概略構成図であり、図2は同変位測定装置の信号処理における信号の入出力状態を示すブロック図であり、図3は同変位測定装置の信号処理部のブロック図であり、図4は同信号処理部における処理手順を示す流れ図であり、図5は同変位測定装置における2系統の受光部の各結像レンズが連結された状態を示す図であり、図6は同変位測定装置における2系統の受光部の各結像レンズの位置調整を示す模式図である。
【0032】
図1に示すように、本例の変位測定装置10は、簡略化して図示した筐体11を本体としている。この筐体11の内部には、被測定物体5に測定光を照射する投光部12と、被測定物体5からの正反射光を受光して正反射変位信号と正反射光量信号を出力する正反射受光部13と、被測定物体5からの乱反射光を受光して乱反射変位信号と乱反射光量信号を出力する乱反射受光部14と、これら2つの受光部13,14からの信号が入力されて後述する所定の処理を行なう信号処理部15を有している。
【0033】
本変位測定装置10は、上記の構成において被測定物体5に測定用のレーザー光を照射して該被測定物体5上の測定箇所の変位量を三角測量の原理を利用して非接触で測定するものである。本変位測定装置10は、図8(a)を参照して説明したように、反射率が相対的に低い低反射率領域(例えば前記はんだ3)と、その周囲にある反射率が相対的に高い高反射率領域(例えば前記パッド2及びレジスト4)とを有する被測定物体5(例えば前記プリント基板1等)の測定に適している。
【0034】
投光部12は、レーザービームを出射するレーザー光源16と、駆動されて回転することによりレーザー光源16からのビームを所定方向に走査する走査手段としてのポリゴンミラー17と、ポリゴンミラー17からの走査ビームを被測定物体5の基準面上の所定範囲内で光軸が平行に移動するように偏向させるレンズ18とを有している。
【0035】
正反射受光部13は、被測定物体5の基準面に対し、前記投光部12のレンズ18から入射するビームの入射角と同一の反射角で反射する正反射光を受光する第1の受光系である。この正反射受光部13は、被測定物体5に近い側から光軸に沿って、集光レンズ19(アレイ)と、減衰フィルターとしてのND(neutral density) フィルター20と、結像レンズ21と、位置検出素子22とが順に配置されて固定された構造とされている。
【0036】
乱反射受光部14は、被測定物体5の基準面に対して垂直な光路を有しており、投光部12からのビームが被測定物体5で乱反射した乱反射光を受光する第2の受光系であり、本例の光路配置によれば垂直受光部とも指称しうる。この乱反射受光部14は、前記正反射受光部13と同様、被測定物体5に近い側から光軸に沿って、集光レンズ19(アレイ)と、結像レンズ21と、位置検出素子22とを有しているが、NDフィルター20は設けられていない。
【0037】
NDフィルター20が正反射受光部13のみに設けられ、乱反射受光部14に設けられていないのは、反射光の強度は散乱光よりも正反射光の方が大きいので、異なる反射光を利用する2系統の受光部を備えた本変位測定装置10において各受光部13,14が受ける反射光の強度のバランスを取るためである。
【0038】
従って、本変位測定装置10によれば、被測定物体5における散乱光と正反射光の強度比に応じて、最適の減衰率を有する減衰フィルターを採用することができ、被測定物体5の光学的性質に対応した本変位測定装置10による最適な変位測定を実現することができる。
【0039】
2つの受光系13,14の各結像レンズ21,21は、投光部12におけるビームの走査幅寸法より大きい径を有し、光軸と直交する一方の面が球面状に形成されており、集光レンズ(アレイ)19,19からのビームを集束して、各受光素子22,22の受光面に被測定物体5における照射点の像を結像させる。
【0040】
2つの受光系13,14の各受光素子22,22は矩形状の受光面を有し、受光面に照射された光の位置のうち、受光面の縦方向に沿った位置に対応する信号 (変位信号)と、受光面に照射された光の強度に対応する信号(光量信号)を出力するように構成されている。ここで、正反射受光部13が出力する変位信号を正反射変位信号、正反射受光部13が出力する光量信号を正反射光量信号、乱反射受光部14が出力する変位信号を乱反射変位信号、乱反射受光部14が出力する光量信号を乱反射光量信号と呼ぶ。
【0041】
図1に示すように、2つの受光系13,14の各受光素子22,22は共通の信号処理部15に接続されている。信号処理部15は、前記正反射受光部13からの正反射変位信号及び正反射光量信号と前記乱反射受光部14からの乱反射変位信号及び乱反射光量信号とを用いて前記被測定物体5の変位信号を出力する。この信号処理部15は図示しない画像処理部に接続され、前記変位信号等を処理することによって被測定物体5の画像を合成することができる。
【0042】
さらに具体的には、信号等の入出力状態を表す図2のブロック図に示すように、本例の信号処理部15においては、前述したように、前記正反射受光部13からの正反射変位信号A及び正反射光量信号Bと前記乱反射受光部14からの乱反射変位信号C及び乱反射光量信号Dが入力される他、前記正反射光量信号のしきい値Eと、前記乱反射光量信号の第1のしきい値Fと、前記乱反射光量信号の第2の第2のしきい値Gも入力され、後述する所定のアルゴリズムに従った信号処理によって、これらの信号としきい値から変位信号Hと光量信号Iとパッド認識信号Jを得ている。
【0043】
ここで、前記正反射光量信号のしきい値Eは、反射率の低いはんだ3を認識するために設定される正反射はんだ輝度を表すものであり、可変パラメータである。また、前記乱反射光量信号の第1のしきい値Fは、反射率の低いはんだ3を認識するために設定される乱反射はんだ輝度を表すものであり、また乱反射光での測定不能レベルであるダークレベルを認識するための値であり、可変パラメータである。また、前記乱反射光量信号の第2のしきい値Gは、乱反射光でパッド2を認識するための値であり、可変パラメータである。
【0044】
上記各しきい値E,F,Gは上述したようにいずれも可変パラメータであり、被測定物体5の測定面の反射率に応じて最適に設定することができるので、本変位測定装置10は測定対象の光学的性質に対応した最適の設定で正反射と乱反射を使い分けて正確な変位測定を行なうことができる。
【0045】
図2に示した信号等の入出力状態を示すブロック図において、各信号と各しきい値を用いて行う信号処理のアルゴリズムは、図3に示すブロック構成の信号処理部15によって実行される。
【0046】
図3に示すように、信号処理部15はデータ判定部25を有している。データ判定部25は、前記正反射光量信号のしきい値Eと、前記乱反射光量信号の第1の第1のしきい値Fと、前記乱反射光量信号の第2のしきい値Gと、前記正反射光量信号Bと、前記乱反射光量信号Dとを入力され、前記正反射変位信号Aと前記乱反射変位信号Cのいずれか一方を選択するための選択信号Sを生成する。
【0047】
また、データ判定部25は、前記乱反射光量信号Dが第2のしきい値G以上であれば、パッド認識信号Jを1とし、第2のしきい値G以下ならばJを0とする。
【0048】
また、図3に示すように、信号処理部15は変位選択部26を有している。変位選択部26は、前記正反射変位信号Aと前記乱反射変位信号Cと前記データ判定部25からの前記選択信号Sが入力され、前記正反射変位信号Aと前記乱反射変位信号Cのいずれか一方を選択して変位信号Hとして出力する。
【0049】
また、図3に示すように、信号処理部15は光量選択部27を有している。この光量選択部27は、予め行なう設定により前記正反射光量信号Bを光量信号Iとして出力する。なお、設定を変更することにより、乱反射光量信号Dを光量信号Iとして出力できる。さらに、正反射光量信号Bと乱反射光量信号Dとデータ判定部25からの選択信号Sとが入力されることで、正反射光量信号Bと乱反射光量信号Dのいずれか一方を選択して、光量信号Iとして出力することができるように設定することができる。
【0050】
図3に示す構成の信号処理部15における処理手順を図4の流れ図を参照して説明する。まず、前記データ判定部25は、正反射光量信号Bが正反射光量信号のしきい値Eより大きいか否かを判定する(ST1)。大きいと判定した場合(ST1でYES)には、前記正反射光量信号Bがその上限値より大きいか否か(「ブライト」か否か)を判定する(ST2)。ブライトである場合(ST2でYES、すなわち正反射が限度を越えて明るい場合)は、乱反射による変位信号Cを採用する(K1)。ブライトでない場合(ST2でNO、すなわち正反射が明るさの限度を越えていない場合)は、正反射による変位信号Aを採用する(K2)。
【0051】
正反射光量信号Bが正反射光量信号のしきい値Eより大きいと判定しなかった場合(ST1でNO)には、乱反射光量信号Dが乱反射光量の第1のしきい値Fより大きいか否かを判定する(ST3)。大きいと判定した場合(ST3でYES)は、乱反射による変位信号Cを採用する(K1)。大きいと判定しなかった場合(ST3でNO、正反射も乱反射もしきい値より光量が小さい場合、すなわち「ダーク」の場合)は、正反射、乱反射のいずれの変位信号も採用できず、測定不能となる(K3)。
【0052】
また、本例の信号処理部15では、上記の信号処理手順において、乱反射光量信号Dが第2のしきい値G以上であれば、高反射率領域であるパッド2を認識したことを示す信号として、パッド認識信号Jを1として出力する。第2のしきい値G以下ならば、高反射率領域であるパッド2を認識していないことを示す信号として、Jを0として出力する。
【0053】
このように、本変位測定装置10によれば、特に検出したい高反射率領域について適当なしきい値を設定しておけば、乱反射光量信号Dが当該しきい値以上であるか否かによって、当該高反射率領域を正確に検出して直ちに信号として出力し、種々の用途で有効に利用することができる。例えば、前記パッド認識信号Jは、基準面としてレジスト面でなくパッド面を使用する場合に有効に使用することができる。
【0054】
次に、本変位測定装置10では、正反射受光部13の結像レンズ21と乱反射受光部14の結像レンズ21は、図1中に模式的に示す固定手段30によって互いに連結されている。
図5に構造の詳細を示すように、いずれの受光部の結像レンズ21も、それぞれ略L字形の取り付け具31を介してそれぞれ独立に、ねじ32等の締結手段で位置調整自在に筐体11に取り付けられている。すなわち、取り付け具31のフランジ31aには長孔31bが設けられ、この長孔31bを相通したねじ32が筐体11にねじ込まれ、取り付け具31を筐体11に固定している。
【0055】
従って、ねじ32を緩めれば筐体11に対して取り付け具31を動かすことができ、図6及び図5(b)中に矢印で示すように、各受光部13,14ともに光軸方向についての結像レンズ21の位置を調整することができ、位置検出素子22の受光面に垂直な方向についての結像位置を適宜調整することができる。
【0056】
なお、位置検出素子22の受光面に平行な方向についての結像位置の調整は、位置検出素子22が出力する反射光の受光信号を検出しながら、当該位置検出素子22を同方向に移動させて行なうことができる。
【0057】
このようにして2つの結像レンズ21,21の位置を調整し、ねじ32を締め付けて筐体11に対して固定したあとで、図5に示すように2つの取り付け具31,31同士をを共通の固定手段30で連結する。本例の固定手段30は剛性を有する連結板であり、各取り付け具31,31にねじ32等の締結手段で固定する。
【0058】
本変位測定装置10は、正反射受光部13と乱反射受光部14の2つの受光部を有しており、被測定物体5からの反射光の光量に応じてこれら2つの受光系13,14から最適な受光系を選択し、正反射又は乱反射の受光信号を選択して利用するという原理を採用しているので、これら2つの受光系13,14において各結像レンズ21,21の位置がずれると各受光素子22,22での受光位置がずれて検出される変位に受光系間で誤差が生じることとなる。このような結像レンズ21の位置ずれの原因としては、例えば温度の変化による部品の膨張や収縮によって部品に加わる応力が挙げられ、その結果、位置がすれてしまうことがある。しかしながら、本変位測定装置10によれば、調整後の2受光系の各結像レンズ21,21は固定手段30で強固に結合されて相互の位置関係が所期の状態に安定して保持されるので、位置検出素子22上の反射光の受光位置が調整後の所期の位置からずれるおそれがない。
【0059】
従って、2つの受光系13,14を選択的に用いることにより正反射光と乱反射光を使い分けて変位測定 (高さ測定)を行なう本変位測定装置10の特長を損なうことがなく、低反射率領域と高反射率領域を有する被測定物体5についての変位測定の正確性が十分に担保されるという効果がある。
【0060】
本変位測定装置10によれば、被測定物体5において測定用のレーザー光のビームを所定方向 (X方向)に沿って走査し、これに同期して同走査方向と直交する方向 (Y方向)について本変位測定装置10と被測定物体5を相対移動させることにより、被測定物体5の測定面の全面を走査することができる。そして、その走査において上述のように適当に選択した変位信号と光量信号を出力し、これを図示しない画像処理部において本変位測定装置10の図示しない制御装置からの信号とともに適当に処理すれば、被測定物体5の測定面の面積や被測定物体5の体積等が正確に再現でき、被測定物体5の精密な距離画像を生成することもできる。
【0061】
以上説明した実施の形態では、乱反射受光部14が被測定物体5の測定面に対して垂直な光軸を有する垂直受光部であったが、乱反射受光部14は被測定物体5の測定面に対して必ずしも垂直に配置する必要はない。
【0062】
また、以上説明した実施の形態では、乱反射受光部14は1つであったが、2以上設けて相対的に光量の大きい方の乱反射光の変位信号及び光量信号を用いるようにする等、適宜使い分けても良いし、2つの乱反射受光部14からの乱反射光による信号を合成する等、何らかの演算を加えて使用しても良い。例えば、はんだの部分の測定精度を向上させるために、2つの乱反射受光部の変位信号を平均して使用してもよい。また、はんだの投光側壁面については、垂直受光部は迷光の影響を受ける可能性があるため、この垂直受光部以外の他の乱反射受光部の変位を使用してもよい。なお、ここで迷光とは測定物体に当たった光が散乱することにより、別の物体に当たって受光部に到達してしまった光を言う。
【0063】
また、以上説明した実施の形態の変位測定装置は、低反射率領域と高反射率領域とを有していたり、測定面に測定光の陰になる領域が生じるような被測定物の変位測定に特に有用であったが、本発明の変位測定装置の測定対象がこれに限定されるものでないことはもちろんである。
【0064】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の変位測定装置によれば、2以上の受光系を有し、被測定物の反射率に対応して正反射と乱反射を使い分けることができるので、被測定物が低反射率領域と高反射率領域とを有している場合にも、測定光のフレアの影響を受けにくく、また測定面から突出した部分の陰のような測定不能領域を可及的に減少させることにより、被測定物の面積、体積がより正確に測定できるという効果が得られる。
【0065】
特に、請求項1に記載された変位測定装置によれば、信号処理部が、被測定物の反射率に対応して正反射と乱反射を使い分けて信号を選択できるので、被測定物の正確な変位測定 (高さ測定)を非接触で行なうことができる。
【0066】
また、正反射光量信号をそのしきい値と比較し、乱反射光量信号をそのしきい値と比較し、その結果に基づいて正反射変位信号と乱反射変位信号のいずれか一方を選択して出力できるので、被測定物の反射率に対応して正反射と乱反射を使い分けて信号を選択することにより、当該被測定物の正確な変位測定 (高さ測定)を非接触で行なうことができる。
【0067】
さらに、正反射光量信号が正反射光量信号のしきい値より大きいと判定した場合において、正反射光量信号がその上限値より大きい場合には乱反射変位信号を選択し、正反射光量信号がその上限値よりも小さい場合には正反射変位信号を選択し、また正反射光量信号が正反射光量信号のしきい値より小さいと判定した場合において、乱反射光量信号がそのしきい値より大きい場合には乱反射変位信号を選択し、乱反射光量信号がそのしきい値より小さい場合には測定不能とするので、被測定物の反射率に対応して正反射と乱反射を使い分けて信号を選択することにより、当該被測定物の正確な変位測定 (高さ測定)を非接触で行なうことができる。
【0068】
また、請求項3に記載された変位測定装置によれば、被測定物の被測定面において反射率が相対的に高い高反射率領域を確実に検知することができる。
【0069】
また、請求項4に記載された変位測定装置によれば、正反射系と乱反射系の2つの受光系を独立して動かないように互いに固定できるので、たとえ温度変化等に起因する外力が加わっても、各受光系の位置検出素子における変位のゼロ点がずれることがなく、上述した測定をさらに正確に行なうことができる。
【0070】
また、請求項5に記載された変位測定装置によれば、相対的に反射光の強度が高い正反射受光部の光路内には減衰フィルターを設け、相対的に反射光の強度が低い乱反射受光部の光路内には設けていないので、反射光の強度に差のある2つの受光系をバランスを保持しつつ選択的に使用して上述した効果をさらに確実に達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本実施の形態に係る変位測定装置の概略構成図である。
【図2】図2は同変位測定装置の信号処理における信号の入出力状態を示すブロック図である。
【図3】図3は同変位測定装置の信号処理部のブロック図である。
【図4】図4は同信号処理部における処理手順を示す流れ図である。
【図5】図5は同変位測定装置における2系統の受光部の各結像レンズが連結された状態を示す図である。
【図6】図6は同変位測定装置における2系統の受光部の各結像レンズの位置調整を示す模式図である。
【図7】図7は従来の変位測定装置の光学系の構造を示す概略斜視図である。
【図8】はんだ等が設けられたプリント基板と、該プリント基板の各部における正反射光の強度と、乱反射光の強度を対比して示す図である。
【図9】従来の変位測定装置において光源からの測定光が被測定物のはんだで正反射して受光素子に入射した場合の問題点を示す図であって、入射光及び反射光の波形図を重ねて示す光路図である。
【図10】従来の変位測定装置において光源からの測定光が被測定物のはんだで正反射して受光素子に入射する場合に測定できない陰が生じることを示す図である。
【符号の説明】
2…高反射率領域を構成するパッド、3…低反射率領域を構成するはんだ、
4…高反射率領域を構成するレジスト、5…被測定物体、
10…変位測定装置、12…投光部、13…正反射受光部、
14…乱反射受光部、15…信号処理部、
20…減衰フィルターとしてのNDフィルター、21…結像レンズ、
22…位置検出素子、25…データ判定部、26…変位選択部、
30…固定手段、
A…正反射変位信号、B…正反射光量信号、C…乱反射変位信号、
D…乱反射光量信号、E…正反射光量信号のしきい値、
F…乱反射光量信号の第1のしきい値、
G…乱反射光量信号の第2のしきい値、
H…変位信号、I…光量信号、
J…高反射率領域認識信号としてのパッド認識信号、S…選択信号。
Claims (5)
- 被測定物体(5)に測定光を照射する投光部(12)と、前記被測定物体からの正反射光を受光して正反射変位信号(A)と正反射光量信号(B)を出力する正反射受光部(13)と、前記被測定物体からの乱反射光を受光して乱反射変位信号(C)と乱反射光量信号(D)を出力する乱反射受光部(14)と、前記正反射受光部からの正反射変位信号及び正反射光量信号と前記乱反射受光部からの乱反射変位信号及び乱反射光量信号とを用いて前記被測定物体の変位信号(H)を出力する信号処理部(15)を有する変位測定装置(10)において、
前記信号処理部は、
前記正反射光量信号のしきい値(E)と前記乱反射光量信号の第1のしきい値(F)とが予め設定され、前記正反射光量信号が前記正反射光量信号のしきい値より大きいと判定した場合には、前記正反射光量信号がブライトを示す上限値より大きい場合に前記乱反射変位信号を選択する選択信号(S)を生成し、また前記正反射光量信号が前記上限値よりも小さい場合に前記正反射変位信号を選択する選択信号を生成し、さらに前記正反射光量信号が前記正反射光量信号のしきい値より小さいと判定した場合には、前記乱反射光量信号が前記乱反射光量信号の第1のしきい値より大きい場合に前記乱反射変位信号を選択する選択信号を生成し、また前記乱反射光量信号が前記乱反射光量信号のしきい値より小さい場合には測定不能を示す選択信号を生成するデータ判定部(25)と、
前記正反射受光部からの前記正反射変位信号と、前記乱反射受光部からの前記乱反射変位信号と、前記データ判定部からの前記選択信号とが入力され、前記正反射変位信号と前記乱反射変位信号と測定不能を示す前記選択信号のいずれか一つを選択して出力する変位選択部(26)と、
を有することを特徴とする変位測定装置。 - 前記投光部(12)は前記被測定物体に対して単一の測定光を照射し、前記正反射受光部(13)と前記乱反射受光部(14)は、前記単一の測定光による前記被測定物体(5)の同一箇所からの正反射光及び乱反射光をそれぞれの受光部で同時に受けることを特徴とする請求項1に記載の変位測定装置(10)。
- 前記被測定物体(5)が、反射率が相対的に低い低反射率領域と、前記低反射率領域の周囲にある反射率が相対的に高い高反射率領域とを有しており、
前記データ判定部(25)は、前記高反射率領域からの乱反射光によって前記乱反射受光部(14)が出力する乱反射光量信号(D)の第2のしきい値(G)を入力され、前記乱反射光量信号が該しきい値より大きいと判定した場合には高反射率領域認識信号(J)を出力することを特徴とする請求項1又は2に記載の変位測定装置(10)。 - 前記正反射受光部(13)と前記乱反射受光部(14)が、位置検出素子(22)と位置調整自在な結像レンズ(21)をそれぞれ有しており、前記正反射受光部の前記結像レンズと前記乱反射受光部の前記結像レンズとが解除可能な固定手段(30)によって互いに連結されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の変位測定装置(10)。
- 前記正反射受光部(13)の光路内に、前記乱反射受光部(14)の光路内には存在しない減衰フィルター(20)が設けられたことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の変位測定装置(10)。
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