JP3806109B2 - 低電圧増幅回路 - Google Patents

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本発明はMOSトランジスタを用いた全差動増幅回路に関するものである。例えば、リニア増幅回路集積回路において好適に使用され、電池等の低電圧電源の使用が可能であり、また高速動作が可能な全差動増幅回路に関するものである。
近年携帯用電子機器や家電機器等において、動作電源として電池の使用が一般的になってきている。また、これら電子機器に使用される半導体集積回路は、大容量化、高集積化のために使用されるトランジスタのサイズが微細化されてきている。これに伴い、印加電圧の一層の低電圧化が要求されてきている。従来、低電圧アナログ回路の電源電圧は、1.2〜1.8V程度で動作するように設計されてきたが、さらに低電圧化し、1V以下でも安定して動作する回路が要求されている。
従来より、音声信号処理装置や光ディスク等の映像信号処理装置等に使用されるトランジスタ増幅回路として全差動増幅回路が使用されている。全差動増幅回路においては差動対を構成する2つのトランジスタの一方のトランジスタに供給される第1の入力信号と他方のトランジスタに供給される第2入力信号との差を増幅して出力する。MOSトランジスタを用いた従来の全差動増幅回路の例を図1(a)〜(c)に示す。例えば、Behzad Razavi 著Design of Analog CMOS Integrated Circuits McGRAW-HILL 190 頁 図6.29(a)、124頁4.32、134頁図4.45を参照。
図1(a)に示す全差動増幅回路は負荷としてトランジスタで構成された電流源を用いるものであり、図1(b)に示す全差動増幅回路は負荷としてトランジスタで構成されたダイオードを用いるものであり、図1(c)に示す全差動増幅回路は負荷としてトランジスタで構成された抵抗を用いるものである。
(i)図1(a)に示す電流源負荷の全差動増幅回路について
この差動増幅回路はトランジスタで構成される負荷を電流源動作させる。このため、従来のかかる差動増幅回路においては、図2に示されるような通常のトランジスタの静特性における飽和領域(Veff以上の部分)が使われてきた。このように、トランジスタを飽和領域で使う場合は、Veffだけ非飽和領域が存在するため、出力電圧Voutの振幅はVDD−Veffまでしか使うことができない。従って、最大の信号振幅はVeffにより抑制されてしまう。1V程度の低電源を使用する通常の条件では、Veffは100〜300mV程度である。
また、図1(a)に示す電流源負荷の全差動増幅回路においては、コモンモードのバイアスが不定になるという問題点がある。このため、例えば図3に示すように、出力電圧の動作点を決めるためにコモンモードフィードバック(CMFB:COMMON-MODE Feed Back)回路を追加した全差動増幅回路が開発された。しかし、このようなCMFB回路を付加すると、回路が複雑化するだけでなく、出力ノードVoutに余分な複数の素子が接続されるため、これら素子の寄生容量により信号帯域を劣化させてしまうという問題が生じている。
(ii)図1(b)に示すダイオード負荷の全差動増幅回路について
図1(b)に示すようなダイオード負荷の全差動増幅回路においては、負荷がダイオード接続されているため、あまり大きな利得は期待できず、また、出力ノードVoutに対して負荷ダイオードとして使用されているMOSトランジスタのゲート容量が存在するため、信号帯域が劣化するという問題がある。また、ダイオードとして作用する負荷トランジスタのドレインソース間電圧VDSがしきい値Vの変動に依存するため、V変動を考慮した設計マージンを持つ必要がある。
(iii)図1(c)に示す抵抗負荷の全差動増幅回路について
図1(c)に示すような抵抗負荷を有する全差動増幅回路においては、抵抗負荷として使用されるMOSトランジスタのゲート電圧Vが、入力段トランジスタのゲートに入力される信号のコモンモードバイアスに異存するため、負荷抵抗が変動してしまうという問題がある。また、負荷トランジスタのドレイン−ソース間電圧VDSが電源電圧VDDの変動に依存するため、設計マージンを持つ必要がある。加えて、負荷トランジスタのドレイン−ソース間電圧VDSがさらにしきい値Vの変動に依存するため、同様に設計マージンを持つ必要がある。
また、低電圧アナログ回路においてMOSトランジスタに固有の特性に関連する問題点について、図1(a)に示すような電流源負荷を有する全差動増幅回路を例にとり説明する。図4に、この全差動増幅回路の構成と、それぞれの構成要素における印加電圧および信号領域との関係の概念を示す。図4において、A(Veff_load)は電流源負荷にかかる電圧であり、B(Signal)が信号増幅に係る電圧であり、C(Veff_inputおよびVeff_cc)は差動入力回路を動作させるのに必要な電圧である。即ち、Veff inputは入力段のトランジスタに係る電圧であり、Veff ccはカレントミラー回路の電流源に係る電圧である。
かかる電流源負荷の全差動増幅回路の電源を低電圧化した場合の概略の電圧配分を図5に示す。なおkeffは図4のA領域に相当し、keffは図4のC領域に相当する。実際の全差動増幅回路においては、必然的にノイズが発生するので、この部分をNoise領域として示している。
MOSトランジスタで構成される負荷を電流源として動作させるため、かかる全差動増幅回路においては、図2に示されるような通常のトランジスタの静特性におけるいわゆる飽和領域が使われてきた。このように、MOSトランジスタを飽和領域で使う場合は、図2に示すようにVeff分だけ非飽和領域が存在するため、出力電圧Voutの振幅はVDD−Veffまでしか使うことができない。従って、最大の信号振幅はVeff(およびノイズ部分)により抑制されてしまう。
電源を低電圧化した場合においても、通常、keff、Noise、およびkeffは電源の低電圧化に応じて低下することがないため、図5に示すように、信号領域のみが減少する結果となる。このため、信号/ノイズ比(S/N比)は低下する。従って、全差動増幅回路の低電圧化のためには、回路設計的にVeffをより小さくなるようにする必要がある。
Behzad Razavi 著Design of Analog CMOS Integrated Circuits McGRAW-HILL 190 頁 図6.29(a)、124頁4.32、134頁図4.45
例えば1V以下等の低電圧で動作する全差動増幅回路においては、電源電圧例えば電池電圧の変動、環境温度や動作温度または製造条件等に基づくMOSトランジスタのしきい値の変動などに対して、安定した信号振幅を確保することが重要になる。本発明は、従来飽和領域で使用されてきたアクティブロードを線形領域で使うため、アクティブロードを形成するMOSトランジスタとバイアス回路を形成するMOSトランジスタの設計条件を定めることにより、電源電圧、しきい値の変動に対して安定した出力を得ることができる全差動増幅回路を形成することを目的とする。
本発明の全差動増幅回路の事例を図6に示す。図6の回路構成は、一対の負荷トランジスタと差動対トランジスタとそして差動対トランジスタに共通の第1の定電流源とが直列に接続された差動増幅部と、差動増幅部と並列接続され、ゲートとドレインが接続されたバイアストランジスタと第2の定電流源とが直列に接続されたバイアス回路とを有し、
一対の負荷トランジスタの各ゲートがバイアストランジスタのゲートに接続されており、第1の定電流源と第2の定電流源を流れる電流の比が2:nの電流比で動作する全差動増幅回路であって、
一対の負荷トランジスタ(各ゲート長:Ll、各ゲート幅:Wl)とバイアストランジスタ(ゲート長:Lr、ゲート幅:Wr)のゲート長およびゲート幅を、(1/2)(Wr/Lr)(Ll/Wl)<nとした全差動増幅回路である。
また本発明の事例として図8に示す全差動増幅回路は、一対の負荷トランジスタと差動対トランジスタとそして差動対トランジスタに共通の第1の定電流源とが直列に接続された差動増幅部と、
記差動増幅部と並列接続され、バイアストランジスタと第2の定電流源とが直列に接続されたバイアス回路と、
差動増幅部およびバイアス回路と並列接続され、第3の定電流源とリファレンストランジスタとが直列に接続されたリファレンス回路とを有し、
一対の負荷トランジスタの各ゲートがバイアストランジスタのゲートに接続されており、第1の定電流源と第2の定電流源を流れる電流の比が2:nの電流比で動作し、第1の定電流源、前記第2の定電流源、そして前記リファレンストランジスタがカレントミラー回路を形成する全差動増幅回路であって、
一対の負荷トランジスタ(各ゲート長:Ll、各ゲート幅:Wl)とバイアストランジスタ(ゲート長:Lr、ゲート幅:Wr)のゲート長およびゲート幅を、(1/2)(Wr/Lr)(Ll/Wl)<nとした全差動増幅回路である。
また本発明の事例として図11に示す全差動増幅回路は、第1および第2の定電流源からなる一対の定電流源と、これら定電流源のそれぞれの出力とそれぞれ接続された第1の差動対トランジスタと、そして第1の差動対トランジスタに共通の第3の定電流源とが直列に接続された第1段の差動増幅部と、
第1段の差動増幅部と並列接続され、第4および第5の定電流源からなる一対の定電流源と、これらの定電流源の出力対とそれぞれ接続された第2の差動対トランジスタと、そして一対の負荷トランジスタとが直列に接続された第2段の差動増幅部と、
ここで第1の定電流源の出力と第4の定電流源の出力とが接続されており、また第2の定電流源の出力と第5の定電流源の出力とが接続されており、
第1段および第2段の差動増幅部と並列接続され、第6の定電流源とゲートとドレインが接続されたバイアストランジスタとが直列に接続されたバイアス回路とを有し、
一対の負荷トランジスタの各ゲートがバイアストランジスタのゲートに接続されており、第2の差動対トランジスタをそれぞれ流れる電流と、第6の定電流源を流れる電流の比が、1:nの電流比で動作する全差動増幅回路であって、
負荷トランジスタ(ゲート長:Ll、ゲート幅:Wl)とバイアストランジスタ(ゲート長:Lr、ゲート幅:Wr)のゲート長およびゲート幅を、(1/2)(Wr/Lr)(Ll/Wl)<nとした全差動増幅回路である。
本発明に係る全差動増幅回路は、差動増幅回路の出力に出力電圧の動作点を決めるためのCMFB回路が不要のため、余分の寄生容量が付加されないので高速化に適している。また、負荷トランジスタの寄生容量として、ゲート容量が見えないため、高速化に適している。後に説明するように、(1/2)(Wr/Lr)(Ll/Wl)<nの条件を満足することにより、負荷トランジスタが線形領域で動作する抵抗負荷として動作するため、最大で、電源電圧までの出力振幅を得ることができる。また、負荷トランジスタに掛る電圧VDSlは、
VDSl=(1/2n)(Wr/Lr)(Ll/Wl)Veffr=(1/2)(Wr/Lr)(Ll/Wl){2IDr/(μpCox(Wr/Lr))}1/2
として表され、出力信号の最大振幅が、VDD変動の影響を受けず、また、しきい値電圧V変動の受けない。
なお、上記2つの式において、W、WはバイアストランジスタMおよび負荷トランジスタMのゲート幅、L、LはトランジスタM、Mの実質的ゲート長、nは定電流源の電流比、VDSlは負荷トランジスタMのドレインソース間電圧、VeffrはVGSrとVTとの差、即ち(VGSr-VT)、IDrはバイアストランジスタMのドレイン電流、μはトランジスタM、Mの移動度、CoxはトランジスタM、Mのゲート酸化膜容量である。
本発明は特に全差動増幅回路の低電源電圧化および高速化において大きな効果が得られる。即ち、アナログ回路を標準CMOSで実現することにより、ロジック用CMOSトランジスタで実現される高速特性を活用することができる。なお、このメリットを生かすためには、本発明のように寄生容量が付加されない回路構成が重要となる。また、従来の全差動増幅回路においては低電源電圧では安定した信号振幅を確保することが困難になっているが、電源変動やしきい値変動に依存せずに信号振幅を確保することが重要となる。本発明は低電源電圧の使用を可能にし、さらに適用する回路の高速化を達成するものである。
[実施例1]
図6に本発明の事例としての全差動増幅回路に係る実施例1を示す。第1の電源VDD1に負荷抵抗として動作する1対の第1および第2のPMOSトランジスタ2、3のソースが接続されており、これらのトランジスタの各ゲートは共通のノード4に接続されている。第1および第2のPMOSトランジスタ2、3を総称してトランジスタMlという。第1および第2のPMOSトランジスタ2、3の各ドレインはそれぞれ差動増幅回路の出力端子Vout-5およびVout+6に接続されている。
出力端子5および6は差動増幅回路を構成する1対の第1および第2のnMOSトランジスタ7、8のドレインが接続されている。そして第1および第2のnMOSトランジスタ7、8のドレインはそれぞれ共通のノード9に接続されている。第1および第2のnMOSトランジスタ7、8を総称してトランジスタMinという。そして共通のノード9は第1の定電流源10の一方の端子に接続されている。
この定電流源10は半導体集積回路において通常使用されているものであり、特に限定しないが、例えばPMOSトランジスタまたはnMOSトランジスタにより形成することが可能である。定電流源10の他方の端子は例えば接地電位にある第2の電位VSS11に接続されている。入力信号は第1および第2のnMOSトランジスタ7、8のゲートにそれぞれ接続されている入力端子Vout+12および入力端子Vout-13に入る。
本発明においては図1に示すように、負荷抵抗として動作するPMOSトランジスタ2、3のゲート電圧を制御するために、さらに、直列接続された第3のPMOSトランジスタ14および第2の定電流源15を含むバイアス回路が設けられている。第3のPMOSトランジスタ14のソースは第1の電源VDD1に接続され、ゲートおよびドレインは互いに接続されて共通ノード4に接続されている。第3のPMOSトランジスタ14のゲートおよびドレインはさらに第2の定電流源15の一方の端子に接続されている。なお、第3のPMOSトランジスタ14をトランジスタMlおよびMinと対応させて説明する場合にはトランジスタMrとして記載する。定電流源15の他方の端子は第2の電位VSS11に接続されている。この定電流源15も半導体集積回路において通常使用されているものであり、例えばPMOSトランジスタまたはnMOSトランジスタにより形成することが可能である。
図6に示す本発明の実施例1の回路においては、定電流源の電流比をn、即ち、差動対の定電流源10とバイアストランジスタの定電流源15を流れる電流の比を2:nとしている。
図6の回路構成において、トランジスタMlを線形領域で動作するようにするため、MlおよびMrの各トランジスタの形状(ゲート長L、ゲート幅W)を(1)式の範囲になるように設定する。ここで、定電流源の電流比nは、例えば本発明の実施例2に係る図8に図示するカレントミラー回路等で構成されるトランジスタのW/L比を設定することにより決めることができる。図8のカレントミラー回路は、リファレンストランジスタM1と、M2およびM3のトランジスタサイズW/L比を設定することにより、この比と同様の電流比になる電流値を得ることのできる回路である。
以下に示す(1)式の条件を満足する場合、トランジスタMrは飽和領域で、トランジスタMlは線形領域で動作する。トランジスタMlが線形領域で動作するとき、出力信号の振幅はトランジスタMlのドレイン―ソース間電圧VDSlまで使用することができる。トランジスタMlのドレイン―ソース間電圧VDSlは以下に示す(2)式で規定されるように、電源電圧およびしきい値変動の影響を全く受けることがないため、安定に動作する信号振幅の最大値を容易に設定することができる。
なお、図6、図7および図8においては入力段トランジスタがnMOSの場合について説明しているが、これらの回路についてnMOSとpMOSを入れ換えて構成した場合にも同様の効果を得ることができる。
(1/2)(Wr/Lr)(Ll/Wl)<n
(1)
VDSl=(1/2n)(Wr/Lr)(Ll/Wl)Veffr=(1/2)(Wr/Lr)(Ll/Wl){2IDr/(μpCox(Wr/Lr))}1/2>(Voutの振幅)
(2)
なおVeffrはMの有効電圧である。
以下上記(1)式および(2)式の導出過程について説明する。
図9にnMOSトランジスタの一般的構造を示す。ゲートに正の電圧V、ドレインに正の電圧Vを加えた場合について説明する。チャネル電圧はソースの0電位からドレイン電圧Vまで変化し、このため、ゲートとチャネル間の電圧は場所によってVからV−Vまで変わる。このためチャネルの位置xにおける電荷密度Qd(x)は、チャネル幅をW、単位面積あたりのゲート容量をCOX、ゲートソース間電位VGS、位置nにおけるチャネル電位をV(x)、n形に反転したときのゲート電圧をVTHとすると、
Qd(x)=WCOX[VGS−V(x)−VTH」となる。
一方、チャネル電流Iとチャネル領域の電荷Qdとの関係は、電荷の速度をvm/秒とすると、一般的にI=Qd×vとして与えられる。従って、ドレイン電流Iは、
=−WCOX[VGS−V(x)−VTH]×vとなる。
一般的に、チャネル領域でのキャリア移動度をμ、電界強度をEとすると、v=μEであり、またE=−dv/dxであるから、
=−WCOX[VGS−V(x)−VTH」×μdv(x)/dxとなる。
両辺にdxを掛け、境界条件をv(0)=0、V(L)=VDSとして上式を積分すると、
x=0dx=∫vDS v=0WCOXμ[VGS−V(x)−VTH]dvとなる。
の値はチャネルnの位置xのどこでも同じであるから、
=(W/L)COXμ[(VGS−VTH)VDS−(1/2)VDS
(3)
となる。
GSを変えて上式を計算すると図10に示す2次曲線(放物線)が得られる。斜線で示す部分がいわゆる3極管領域の部分である。
各放物線の頂点はVDS=VGS−VTHであるから、頂点での電流値は、
D、max=(1/2)μnCox(W/L)(VGS−VTH (4)
となる。
DSが増加した図10に示す頂点より右側の電圧では、チャネルがピンチオフするため(3)式の特性からはずれ、一点鎖線で示すようにIがほぼ一定となる飽和特性を示す。(4)式が一般に飽和領域での電流値を与える。
一方、VDS が小さい領域、即ちVDS<2(VGS−VTH)の場合、(3)式は、(1/2)VDS の項を省略して、
=(W/L)COXμ(VGS−VTH)VDS (5)
と書ける。ドレイン電流はVDSの線形関数となり、この式が一般に線形領域での電圧−電流特性を与える。以上は図9に示すnMOSトランジスタを例に計算したが、pMOSトランジスタの場合も同様である。
従って、図6の回路構成においてMが飽和領域、Mが線形領域で動作しているとすると、各トランジスタを流れる電流は次のように表される。
IDr=nI=(1/2)μpCox(Wr/Lr)(VGSr-VT)2 (6)
IDl=I=μpCox(Wl/Ll)(VGSl-VT)2VDSl (7)
ここで
Dr、IDlはトランジスタM、Mのドレイン電流、
μはトランジスタM、Mの移動度、
oxはトランジスタM、Mのゲート酸化膜容量、
、WはトランジスタM、Mのゲート幅、
、LはトランジスタM、Mの実質的ゲート長、
GSr、VGSlはトランジスタM、Mのゲートソース間電圧、
はトランジスタM、Mのしきい値電圧、
DSlはトランジスタMのドレインソース間電圧、
nは定電流源の電流比
である。
図6の回路構成において、第1の定電流源10および第2の定電流源15に対して(6)式および(7)式を適用し、(6)式および(7)式の電流Iを等しいとおくと、次式が得られる。
(1/2n)μpCox(Wr/Lr)(VGSr-VT)2pCox(Wl/Ll)(VGSl-VT)VDSl (8)
図6の回路構成においてはトランジスタM、Mのゲートは短絡されており、ソースが共通なので、それぞれのトランジスタのゲートソース間電圧VGSr、VGSlは等しいため、(VGSr−V)=(VGSl−V)である。従って(8)式は次ぎのようになる。
(1/2n)μpCox(Wr/Lr)(VGSr-VT)=μpCox(Wl/Ll)VDSl (9)
(6)式を変形すると
(VGSr-VT)={2IDr/(μpCox(Wr/Lr))}1/2
が得られので、
(9)式をVDSlについて展開し、上記(VGSr-VT)を代入すると次のようになる。
VDSl=(1/2n)(Wr/Lr)(Ll/Wl)(VGSr-VT)=(1/2n)(Wr/Lr)(Ll/Wl){2IDr/(μpCox(Wr/Lr))}1/2
(10)
(10)式より、図6の回路構成による全差動増幅回路から出力される信号の最大振幅に相当するVDSlは、電源電圧、しきい値電圧Vが変動しても常に一定の値を得ることができる。
次に図6の回路構成においてMが線形領域で動作するための条件を求める。
一般的にトランジスタの静特性を示す図2から明らかなように、トランジスタMのドレインソース間電圧VDSlが以下の条件のとき、トランジスタMは線形領域で動作する。
VDSl<Veffl
ここで、Veffr=(VGSl-VT)なので、
VDSl<(VGSl-VT) (11)
つぎに、(11)式に(10)式を代入すると次式が得られる。
(1/2n)(Wr/Lr)(Ll/Wl)(VGSr-VT)<(VGSl-VT) (12)
GSr=VGSlなので、
(1/2)(Wr/Lr)(Ll/Wl)<n
(1)
が得られる。
(1)式の条件になるように、図6の全差動増幅回路の定数(Wr/Lr)、(Ll/Wl)、およびnを定めることによって、差動増幅回路の出力に現れるVOUTは、(7)式で与えられる最大の出力振幅を得ることができる。(1)式は、Wr、Lr、Ll、Wl、およびnのみの関数であり、設計段階において定電流源の動作条件nと負荷トランジスタおよびバイアストランジスタの構造(ゲート幅およびゲート長)を所定の範囲に設定することにより、全差動増幅回路の負荷トランジスタを線形領域にて動作させることが可能であることがわかる。
図7は図6に示す本発明による全作動増幅回路に係る実施例1の回路において、特に定電流源10および15をMOSトランジスタM1、M2を用いて構成した例について示す図である。MOSトランジスタM2およびM1のサイズを、n:2の電流比が得られるように設計する。
[実施例2]
実施例1において、n倍の電流比を実現する具体的な回路として、定電流源をカレントミラー回路で構成した実施例2を図8に示す。カラントミラー回路は、カレントミラー部を構成するMOSトランジスタとしてM1、M2、M3を有し、ゲートとドレインが接続されたリファレンストランジスタM3のゲートに、各ゲートがそれぞれ接続されたM1、M2のトランジスタにより構成されている。
実施例2を示す図8において、図6の回路との相違は、図6の第1の定電流源10に代えて第3のnMOSトランジスタ16(上記トランジスタM1)がノード9と第2の電位VSS11に接続されていることであり、また、図6の第2の定電流源15に代えて、第4のnMOSトランジスタ17(上記トランジスタM2)が第3のpMOSトランジスタ14と第2の電位VSS11の間に接続されていることである。そして、さらに、一方の端子が第1の電源VDD1に接続された定電流源18を有し、定電流源18の他方の端子が第5のnMOSトランジスタ19(上記トランジスタM3)のドレインに接続されており、第5のnMOSトランジスタ19のソースは第2の電位VSS11に接続されており、第5のnMOSトランジスタ19のドレインおよびゲートは互いに接続されていることである。そして、第3、第4および第5のnMOSトランジスタ16、17、19の各ゲートが互いに接続されていることである。
実施例2においては、M1とM2、M3のゲートのサイズW/L(W、Lはそれぞれトランジスタのゲート幅とゲート長)の比を任意に設定することにより、この比と同様の電流比になる電流値を得ることができる。図8に示す実施例2の回路においては、M3のサイズ(W/L)に対し、M2のサイズ(W/L)をn×(W/L)に、M1のサイズ(W/L)を2×(W/L)に設定し、それぞれ1:n:2の電流比を得る事例について示している。なお、実施例7の回路に関しても、nMOSとpMOSを入れ換えて構成した場合において同様の効果を得ることができる。
[実施例3]
実施例1に対し、1段からなる全差動増幅回路だけでなく、フォールデッドカスコード回路の負荷に本発明を適用することにより、上記効果と同様の効果を得ることのできる全差動増幅回路の実施例3を図11に示す。
図11において、左側の点線の枠で示した回路が第1段の全差動増幅回路20、右側の点線の枠で示した回路がフォールデッドカスコード回路における第2段の増幅回路21、中央の点線の枠で示した回路が実施例1で説明した線形領域で動作するように設定された負荷回路22(一部22と共通する)をそれぞれ示している。
第1段の全差動増幅回路20は、一対の差動増幅nMOSトランジスタ35、36(Min)と、このnMOSトランジスタ35、36のドレインとVDDとの間にそれぞれ位置する定電流源31、32(CC4、CC5)、そしてnMOSトランジスタ35、36の各ソースとVSSとの間に配置された定電流源39を有する。
フォールデッドカスコード回路の構成は以下の通りである。第1段の全差動増幅回路20の出力23、24が第2段の増幅回路21のpMOSトランジスタ25、26(M1、M2)のソースに接続される。このpMOSトランジスタ25、26のドレインに第2段の増幅回路において負荷となる一対のnMOSトランジスタ27、28(総称してMlという)が接続されている。また上記pMOSトランジスタ25、26のソースには定電流源29、30(CC2、CC3)が接続されており、pMOSトランジスタ25、26にバイアス電流を供給している。なお図11の実施例においては、pMOSトランジスタ25、26のバイアス電流は定電流源31、32(CC4、CC5)からも供給することができるため、定電流源29、30(CC2、CC3)は必ずしも必要ではない。言い換えれば、定電流源31と定電流源29は共通の1つの定電流源とし、定電流源32と定電流源も共通の1つの定電流源として構成することも可能である(図示せず)。なお、pMOSトランジスタ25、26の各ゲートはこのトランジスタを飽和領域で動作させる電圧Vbiasに接続されている。
図11の回路は、さらにVDDおよびVSS間において定電流源CC1と直列接続されているバイアス用のnMOSトランジスタ37(Mr)からなる、フォールデッドカスコード回路の負荷トランジスタ27、28に対するバイアス回路を有する。
図11に示すフォールデッドカスコード回路において、pMOSトランジスタ25、26を流れる電流の値がIとなるように、カラントミラー回路等で構成された定電流源CC2、CC3、CC4、CC5を選び、そしてバイアス用のnMOSトランジスタ37(Mr)を流れる電流がnIとなるように設定する。かかる場合に、トランジスタMrおよびトランジスタMlのゲート長L、ゲート幅Wを(1)式の条件になるように設定する。
このとき実施例1で説明したように、符号27、28で示される負荷トランジスタMlのドレインソース間電圧VDSlは(2)式で表されるように、電源電圧やしきい値の変動に影響されることなく、最大の出力振幅を得ることが可能となり、そして線形領域で動作するようになる。実施例3の回路に関しても、nMOSとpMOSを入れ換えて構成した場合においても同様の効果を得ることができる。
図12に本発明による全差動増幅回路、定電流源負荷差動増幅回路、そしてダイオード負荷差動増幅回路の入出力特性のシュミレーションの結果を示す。本発明による全差動増幅回路の入出力特性iが他の回路に比べ出力振幅を大きく取ることができ、また良い線形性を有することがわかる。
図13に同様に本発明による全差動増幅回路、定電流源負荷差動増幅回路、そしてダイオード負荷差動増幅回路のVDSの温度依存性のシュミレーションの結果を示す。本発明による全差動増幅回路のVDSの温度依存性iが他の回路に比べ小さいことがわかる。
従来技術における電流負荷、ダイオード負荷、および抵抗負荷の全差動増幅回路の事例を示す図である。 MOSトランジスタの電圧電流(Vds−Id)特性を示す図である。 コモンモードフィードバック回路を有する、従来の全差動増幅回路を示す図である。 一般的な全差動増幅回路における印加電圧と、回路要素に掛かる電圧および信号領域に適用される電圧の関係の概念を示す図である。 全差動増幅回路の電源を低電圧化した場合の概略の電圧配分、特に信号/ノイズ(S/N)の変化を示す図である。 本発明による全作動増幅回路に係る実施例1の回路を示す図である。 本発明による全作動増幅回路に係る実施例1の回路において、特に定電流源をMOSトランジスタで構成した回路を示す図である。 本発明による全作動増幅回路において、カレントミラー回路を構成する実施例2の回路を示す図である。 MOSトランジスタの一般的構造を示す図である。 本願明細書記載の(3)式に基づくnMOSトランジスタの電圧電流特性を示す図である。 フォールデッドカスコード回路の負荷に本発明を適用した、本発明の実施例3の回路を示す図である。 本発明に係る全差動増幅回路と、従来の定電流源負荷差動増幅回路およびダイオード負荷差動増幅回路の入出力特性のシュミレーションの結果を示す比較図である。 本発明に係る全差動増幅回路と、従来の定電流源負荷差動増幅回路およびダイオード負荷差動増幅回路のVDSの温度特性のシュミレーションの結果を示す比較図である。
符号の説明
1 … 第1の電源、 2 … 第1のPMOSトランジスタ、 3 … 第2のPMOSトランジスタ、 4 … ノード、 5 … 出力端子Vout-、 6 … 出力端子Vout+、 7 … 第1のnMOSトランジスタ、 8 … 第2のnMOSトランジスタ、 9 … ノード、 10 … 第1の定電流源、11 … 第2の電位、 12 … 入力端子Vout+、 13 … 入力端子Vout-、 14 … 第3のPMOSトランジスタ、 15 … 第2の定電流源、 16 … 第3のnMOSトランジスタ、 17 … 第4のnMOSトランジスタ、 18 … 定電流源、 19 … 第5のnMOSトランジスタ、 20 … 差動増幅回路、 21 … フォールデッドカスコード回路、 22 … 線形領域で動作を行う負荷回路、 23、24 … 差動増幅回路の出力、 25 … pMOSトランジスタM1、 26 … pMOSトランジスタM2、 25 … nMOSトランジスタ、 28 … nMOSトランジスタ、 29 … 定電流源CC2、 30 … 定電流源CC3、 31 … 定電流源CC4、 32 … 定電流源CC5、 33 … 制御用のMOSトランジスタMr、 34 … 定電流源CC1、35 … nMOSトランジスタ、 36 … nMOSトランジスタ、 37 … nMOSトランジスタ、 38 … 定電流源CC1、 ・・・ 定電流源

Claims (13)

  1. 一対の負荷トランジスタと差動対トランジスタとそして前記差動対トランジスタに共通の第1の定電流源とが直列に接続された差動増幅部と、
    前記差動増幅部と並列接続され、ゲートとドレインが接続されたバイアストランジスタと第2の定電流源とが直列に接続されたバイアス回路とを有し、
    前記一対の負荷トランジスタの各ゲートが前記バイアストランジスタのゲートに接続されており、前記第1の定電流源と前記第2の定電流源を流れる電流の比が2:nの電流比で動作する全差動増幅回路であって、
    前記一対の負荷トランジスタ(各ゲート長:Ll、各ゲート幅:Wl)と前記バイアストランジスタ(ゲート長:Lr、ゲート幅:Wr)のゲート長およびゲート幅を、
    (1/2)(Wr/Lr)(Ll/Wl)<n
    とした全差動増幅回路。
  2. 前記一対の負荷トランジスタおよび前記バイアストランジスタはnMOSトランジスタであり、前記差動対トランジスタはpMOSトランジスタである請求項1記載の全差動増幅回路。
  3. 前記一対の負荷トランジスタおよび前記バイアストランジスタはpMOSトランジスタであり、前記差動対トランジスタはnMOSトランジスタである請求項1記載の全差動増幅回路。
  4. 前記第1および第2の定電流源がそれぞれMOSトランジスタで構成されている請求項1乃至3のいずれか1項に記載の全差動増幅回路。
  5. 一対の負荷トランジスタと差動対トランジスタとそして前記差動対トランジスタに共通の第1の定電流源とが直列に接続された差動増幅部と、
    前記差動増幅部と並列接続され、バイアストランジスタと第2の定電流源とが直列に接続されたバイアス回路と、
    前記差動増幅部および前記バイアス回路と並列接続され、第3の定電流源とリファレンストランジスタとが直列に接続されたリファレンス回路とを有し、
    前記一対の負荷トランジスタの各ゲートが前記バイアストランジスタのゲートに接続されており、前記第1の定電流源と前記第2の定電流源を流れる電流の比が2:nの電流比で動作し、前記第1の定電流源、前記第2の定電流源、そして前記リファレンストランジスタがカレントミラー回路を形成する全差動増幅回路であって、
    前記一対の負荷トランジスタ(各ゲート長:Ll、各ゲート幅:Wl)とバイアストランジスタ(ゲート長:Lr、ゲート幅:Wr)のゲート長およびゲート幅を、
    (1/2)(Wr/Lr)(Ll/Wl)<n
    とした全差動増幅回路。
  6. 前記第1および第2の定電流源はそれぞれMOSトランジスタで構成され、前記第1の定電流源を構成するMOSトランジスタと第2の定電流源を構成するMOSトランジスタにおける各ゲート長の各ゲート幅に対する比(L/W)を、2:nとした請求項5に記載の全差動増幅回路。
  7. 前記第1および第2の定電流源はそれぞれMOSトランジスタで構成され、これらMOSトランジスタの各ゲートが前記リファレンストランジスタのゲートに接続されている請求項5に記載の全差動増幅回路。
  8. 前記一対の負荷トランジスタおよびバイアストランジスタはnMOSトランジスタであり、前記差動対トランジスタはpMOSトランジスタである請求項5乃至7のいずれか1に記載の全差動増幅回路。
  9. 前記一対の負荷トランジスタおよびバイアストランジスタはpMOSトランジスタであり、前記差動対トランジスタはnMOSトランジスタである請求項5乃至7のいずれか1に記載の全差動増幅回路。
  10. 第1および第2の定電流源からなる一対の定電流源と、これらの定電流源のそれぞれの出力とそれぞれ接続された第1の差動対トランジスタと、そして前記第1の差動対トランジスタに共通の第3の定電流源とが直列に接続された第1段の差動増幅部と、
    前記第1段の差動増幅部と並列接続され、第4および第5の定電流源からなる一対の定電流源と、これらの定電流源の出力対とそれぞれ接続された第2の差動対トランジスタと、そして一対の負荷トランジスタとが直列に接続された第2段の差動増幅部と、
    ここで前記第1の定電流源の出力と前記第4の定電流源の出力とが接続されており、また前記第2の定電流源の出力と前記第5の定電流源の出力とが接続されており、
    前記第1段および第2段の差動増幅部と並列接続され、第6の定電流源とゲートとドレインが接続されたバイアストランジスタとが直列に接続されたバイアス回路とを有し、
    前記一対の負荷トランジスタの各ゲートが前記バイアストランジスタのゲートに接続されており、前記第2の差動対トランジスタをそれぞれ流れる電流と、前記第6の定電流源を流れる電流の比が、1:nの電流比で動作する全差動増幅回路であって、
    前記負荷トランジスタ(ゲート長:Ll、ゲート幅:Wl)と前記バイアストランジスタ(ゲート長:Lr、ゲート幅:Wr)のゲート長およびゲート幅を、
    (1/2)(Wr/Lr)(Ll/Wl)<n
    とした全差動増幅回路。
  11. 前記第1の差動対トランジスタ、前記一対の負荷トランジスタおよび前記バイアストランジスタはnMOSトランジスタであり、前記第2の差動対トランジスタはpMOSトランジスタである請求項10記載の全差動増幅回路。
  12. 前記第1の差動対トランジスタ、前記一対の負荷トランジスタおよび前記バイアストランジスタはpMOSトランジスタであり、前記第2の差動対トランジスタはnMOSトランジスタである請求項10記載の全差動増幅回路。
  13. 前記第1および第4の定電流源が共通の1つの定電流源として形成され、そして前記第2および第5の定電流源が共通の他の1つの定電流源として形成されている請求項10乃至12のいずれか1項に記載の全差動増幅回路。
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