JP3800701B2 - ガス比例制御装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガス量を比例制御し、しかも閉止機能を有するガス比例制御装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来のガス比例制御弁、電磁弁の構成図を図7に示す。図8は比例制御弁の局部拡大図である。図において、供給する電流の強さにより発生する磁界の強さを変化させる電磁コイル1と、この電磁コイル1の内側に設けられた鉄心2がある。鉄心2の下方に配置する永久磁石3はこの電磁コイル1に通電することにより鉄心2に発生した磁界に反発して移動する。
【0003】
この永久磁石3を上端で保持し下部に鍔状の突起5aを有する筒状の弁体5がある。弁体5の永久磁石3の下側に取りつけられ大気とガス通路14を遮断し、しかもガス一次圧が変動しても大気とバランスをとるダイヤフラム6がある。受け金具7はダイヤフラム6を支える弁体5に固定されている。弁ゴム4は弁体5の上方より突起5a上に挿入して固定されている。
【0004】
弁ゴム4を弁体5に押さえ固定するために、下端の弁ゴム4と上端の受け金具7との間に取りつけられた弁スプリング8がある。この弁スプリング8は、平ワッシャ9を介して弁ゴム4を押さえている。比例制御弁の外郭であるボディー10にはボディー10の一部である弁ゴム4が当接する弁座11が設けられている。弁体5を下部から弁座11へ押す、弁体5の下側に設けられたスプリング12がボデー10との間に取りつけられている。
【0005】
この比例制御弁のガス入口側INには、ガスを遮断する機能を有する電磁弁13があり、この電磁弁13の出口側から弁座11に通じたボディー10に穿設したガス通路14がある。この比例制御弁には閉止機能を有しているため、電磁弁13と合わせて2つの閉止機能を備えている。
【0006】
次に、その動作について説明する。電磁コイル1に電流が供給されていないときには、鉄心2に磁界が発生していないため、永久磁石3は鉄心2に引き付けられる。よって永久磁石3をホールド保持している弁体5は鉄心2のある上方向に引っ張られる。
【0007】
そして、弁体5に取りつけられている弁ゴム4は、弁座11に押えつけられる。さらに弁体5の下部に設けられたスプリング12が弁体5を上方向に押しているため、弁ゴム4と弁座11とのシールはより強くなり、ガスの閉止機能を有することができる。
【0008】
電磁コイル1に電流が供給されると、鉄心2に弁ゴム4を下方向へ押す磁界が発生する。この供給する電流の強さにより発生する磁界の強さは変化する。永久磁石3は、常に弁ゴム4を上に押す磁界を持っている。電磁コイル1により発生する磁界とこの永久磁石3による磁界は反発する方向にあるため、永久磁石3の取りつけられた弁体5は電磁コイル1の磁界が強くなると下方向に移動する。
【0009】
このとき弁ゴム4も下方向に移動するため、弁座11と隙間があきガスが流れる。電磁コイル1に流す電流の強さを強くするほど発生する磁界が強くなり、永久磁石3が反発して弁体5が下方向に移動し、弁ゴム4と弁座11の間隔が大きくなりガスが多く流れる。
【0010】
弁ゴム4は、弁スプリング8により弁体5に押えつけられている。弁ゴム4を板等で単に圧縮固定した別の方法で強制的に固定すると、弁スプリング8で押させるよりも多目に変形して弁座11との接触部の角度が変わったり、あるいは偏心することが多い。すると弁ゴム4が弁座11から離脱するときに均一に隙間が開かなかったり、あるいは一部分だけ接触した状態になる。
【0011】
図9に電磁コイル1の電流−ガス2次圧のグラフを示す。強制的に固定すると電磁コイル1の電流に対するガス2次圧の関係においてヒステリシスが大きくなる。つまり、電磁コイル1の電流を徐々に大きくしていくとガス2次圧は十分安定な定常時よりは低目で逆に下げたとき同じガス2次圧にはならず、定常時より高目となり、その差であるヒステリシスが大きくなる。
【0012】
また、弁ゴム4を固定しないと、弁ゴム4が弁体5上を自由に上下に移動するため、ため一定の電流を供給しても弁ゴム4と弁座11との間隔は一定にならない。このため同じ電磁コイル1の電流であってもガス流量が変化してしまう。従って弁ゴム4を弁スプリング8により押さえる理由は、弁ゴム4を常に同一圧力で変形させず、しかも弁体5上を移動しないように適度の強度で固定できるからである。
【0013】
非燃焼時においては、電磁弁13と比例制御弁ともに閉弁してガスを遮断している。すると、電磁弁13と比例制御弁の弁座11との間のガス通路14にガスが閉じ込められる。時間が経過すると、このガスがダイヤフラム6を通して大気側に通じた上部へ放出され、徐々に内圧が低下して減圧になる。
【0014】
ガスはゴムを通す性質があり、ダイヤフラム6はゴムでできているためこのような現象になる。減圧になるとダイヤフラム6が下方向に引っ張られる状態で放置され上への膨み6aが下向きに崩れて変形してしまう。このダイヤフラム6が自由に変形する受け金具7の無いときには、弁ゴム4の締付力が強く、所定の電流を電磁コイル1に印可しても弁座11と弁ゴム4の間隔が小さくなり、ガスの流量が低下してしまい、最小燃焼時に燃焼量が低下してガスバーナが立ち消えすることがある。そのためダイヤフラム6が下部に引っ張られても、受け金具7によりその変形を防止する。
【0015】
図8において、ガス通路の減圧をΔPとし、弁座11の径をDv,受け金具11の外径をDp,スプリング12と永久磁石3の上方向の力をFとする。減圧になると、ダイヤフラム6は下方向に引っ張られ、弁ゴム4は弁座11に接触している面積の部分(πDv2/4)が上方向に引っ張られる。下方向に変形したダイヤフラム6の圧力を受ける面積は受け金具7と同等の面積(πDp2/4)となり、弁座11の面積よりも広い。従って、弁ゴム4が弁座11から離脱する開弁減圧ΔPは次式で表される。
【0016】
【数1】
【0017】
そして、下方向に働く力の方が上方向に働く力より強くなり、弁体5は下方向に移動する。弁ゴム4は弁スプリング8により弁体5に押えつけられているが、減圧ΔPのほうが弁スプリング8により押さえつけられる力よりも強いため、弁体5は下っても弁ゴム4は弁スプリング8を押して弁座11に接触したままで残る。そのため、隙間が開くことはなくますます減圧が促進される。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の比例制御装置では、ガス通路14のガスが抜け減圧になってもそれを解消する手段がなく、減圧の現象が進行するという問題点がある。そうなると、受け金具7があっても強い圧力でダイヤフラム6が下部に引っ張られるため、ダイヤフラム6の一部に変形が起こる。
【0019】
また減圧により、弁ゴム4が弁座11にはまり込むような現象になり、電磁コイル1に通電しても開弁しないため、ガスを流すことができない。
【0020】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するために、弁ゴムと受け金具の間にスペーサーを設けている。そのスペーサーは、弁ゴムを強制的に固定するのではなく、隙間を組立誤差を吸収できる程度に0から微小寸法だけ設けるようになっている。
【0021】
上記発明によれば、閉弁状態で放置されガス通路からガスが放出されて減圧になったとき、弁体が下方向に移動した際に弁ゴムも同じように移動して弁座から離れ隙間が発生するため、減圧が解消される。よってダイヤフラムの変形を防止でき、長期間放置されても所定の電流を供給したら設定通りのガス流量を得ることができる。
【0022】
【発明の実施の形態】
上記の課題を解決するために請求項1に記載の発明は、鉄心を囲う電流の強さに応じて鉄心より下方の磁界の強さを制御する電磁コイルと、この磁界に反発する磁界を持ち、前期鉄心の下方に配置する永久磁石と、この永久磁石を上端で保持して下部に鍔状の突起を有する筒状の弁体と、この弁体の前記永久磁石の下側に気密に固定し、上方の大気圧と下方のガス一次圧のバランスをとるダイヤフラムと、このダイヤフラムを下方で支える受け金具と、前記弁体の上方より前記突起上に挿入してガスを遮断する弁ゴムと、この弁ゴムが当接する弁座を有したボディーと、このボディーのガス入口でガスを遮断する電磁弁とこの電磁弁の出口側から前記弁座に通じた前記ボディーに穿設したガス通路と、前記受け金具に上端を当接し下端は平ワッシャを介して前記弁ゴムに当接して付勢する弁スプリングと、この弁スプリングが閉止時の設定長さに対し、組み立て誤差を吸収できるレベルに短い長さを有し、前記スプリングと並列に前記弁体に嵌入したスペーサーを有しているものである。
【0023】
そして、閉弁時ガス通路からガスが抜けて減圧になっても、開弁するため減圧状態が促進されることはなく、ダイヤフラムの変形を防止して最小燃焼時に設定のガス流量を流すことが可能になり、ガスバーナの立ち消えの心配もなくなる。
【0024】
請求項2に記載の発明は、前記平ワッシャに代えて前記弁ゴムの上端の位置で前記弁体に溝を設けて摺動自在に嵌入したスプリング受けを有し、このスプリング受けが溝の下端に当接したときは前記弁スプリングが閉止時の設定長さとなり、溝の上端に当接したときは前記スペーサーと同一寸法の前記受け金具からの位置となり、前記スペーサーを除外したものである。
【0025】
これにより、スペーサーを削減することができ、安価にこの構成を実現できる。スペーサーを設ける必要がないため、微少な隙間を精度よく確保でき、減圧になってもより確実に解消できる。
【0026】
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する。
(実施例1)
図1は本発明の実施例1の比例制御装置の電磁弁の構成図である。図2は比例制御装置の要部拡大図である。図において、供給する電流の強さにより発生する磁界の強さを変化させる電磁コイル1と、電磁コイル1の内側に設けられている鉄心2がある。鉄心2の下方に配置する永久磁石3はこの電磁コイル1に通電することにより鉄心2に発生した磁界に反発して下方へ移動する。
【0027】
この永久磁石3を上端で保持し下部に鍔状の突起5aを有する筒状の弁体5がある。弁体5の永久磁石3の下側に取りつけられた大気とガス通路を遮断ししかもガス一次圧が変動しても大気とバランスをとるダイヤフラム6がある。受け金具7はダイヤフラム6を支える弁体5に固定されている。弁ゴム4は弁体5の上方より突起5a上に挿入している。
【0028】
弁ゴム4を突起5aに押さえ固定するために下端に平ワッシャ9を介して弁ゴム4に当接し、上端は受け金具7に当接して付勢する弁スプリング8がある。
【0029】
また、弁スプリング8と並列に、しかも弁ゴム4と受け金具7との間にこの弁スプリング8が閉止時の設定長さに対し、組み立て誤差を吸収できるレベルに短い長さを有するスペーサー20が設けられている。
【0030】
図3はスペーサー20の断面を示している。スペーサー20は、弁ゴム4が突起5aに密着し、平ワッシャ9が弁ゴム4に接触した状態で隙間0から微小の間隔が開くような寸法になっている。比例制御弁の外郭であるボディー10にはボディー10の一部である弁ゴム4が当接する弁座11が設けられている。弁体5を下部から弁座11側に押すスプリング12がボデー10との間に取りつけられている。
【0031】
この比例制御弁のガス入口IN側には、ガスを遮断する機能を有する電磁弁13があり、この電磁弁13の出口側から弁座11に通じるボディー10に穿設したガス通路14がある。従って比例制御弁とともに2つの閉止機能を備えている。
【0032】
次に、その動作について説明する。電磁コイル1に電流が供給されていないときには、鉄心2に磁界が発生していないため、永久磁石3は鉄心2に引き付けられる。よって永久磁石3をホールドしている弁体5は鉄心2の方向に引っ張られる。
【0033】
弁体5に取りつけられている弁ゴム4は、弁座11に押えつけられる。さらに弁体5の下部に設けられたスプリング12が弁体5を上方向に押しているため、さらに弁ゴム4と弁座11とのシールは強くなり、ガスの閉止機能を有することができる。
【0034】
図2において、ガス通路の減圧をΔPとし、弁座11の径をDv受け金具11の外径をDp、スプリング12と永久磁石3の上方向の力をFとする。減圧になると、ダイヤフラム6は下方向に引っ張られ、弁ゴム4は弁座11に接触している面積の部分(πDv2/4)が上方向に引っ張られる。下方向に変形したダイヤフラム6の圧力を受ける面積は受け金具7と同等の面積(πDp2/4)となり、弁座11の面積よりも広い。従って、弁ゴム4が弁座11から離脱する開弁減圧ΔPは次式で表される。
【0035】
【数2】
【0036】
そして、下方向に働く力の方が上方向に働く力より強くなり、弁体5は下方向に移動する。弁ゴム4は弁スプリング8により弁体5に押えつけられているため、弁体5は下方向に移動する際、同時にスペーサー20も移動する。スペーサー20、平ワッシャ9と弁ゴム4の隙間が0から微小に設定されている。
【0037】
つまり、この寸法は弁スプリング8が閉止時の設定長さに対して組み立て誤差を吸収できるレベルに短い長さを有しているため、スペーサー20により弁ゴム4、平ワッシャ9が下方向に押され、弁ゴム4は弁座11から離れ、隙間が発生して弁ゴム4の下流側からガス通路14に大気が侵入して減圧は解消される。
【0038】
図4は、実施例1の比例制御装置の第2の方法の要部拡大図である。図5はスペーサー21の断面図である。実施例1と異なる点は、スペーサー21に弁スプリング8の受け部22を設けたところである。図4において、スペーサー20の外側に弁スプリング8を設け、スペーサー21の受け部22を介して弁ゴム4を弁体5に押さえつける。従って平ワッシャ9とスペーサー20が一体になっている。
【0039】
動作は、減圧になると、ダイヤフラム6は下部に引っ張られ、弁ゴム4は弁座11の面積の部分が上方向に引っ張られる。ダイヤフラム6の受圧面積は弁座11の面積よりも広いため、下方向に働く力が強くなり、弁体5は下方向に移動する。
【0040】
同時にスペーサー21も移動し、スペーサー21と弁ゴム4の隙間が組立誤差を吸収して0から微小なため、弁スプリング8の付勢を受けたスペーサー21に弁ゴム4が下方向に押され、弁ゴム4は弁座11から離れ、隙間があき減圧は解消される。
【0041】
平ワッシャ9がスペーサ20と一体なために、全長H寸法は誤差が少なくなり、前記隙間をより少なくできる。従って、弁ゴム4が突起5aから浮き上る量を少なくでき、最小燃焼時に設定のガス流量の減小を抑えることができる。
【0042】
(実施例2)
図6は、本発明の実施例2の比例制御装置の要部拡大図である。弁体25の弁ゴム4の上端の位置に溝25a設け、溝幅Wの中で摺動自在に嵌入したスプリング受け26を有している。このスプリング受け26が溝25aの下端に当接したときは前記弁スプリング8が閉止時の設定長さとなり、溝25aの上端に当接したときは前記スペーサー21と同一寸法の受け金具7からの位置となり、前記スペーサー21を除外している。
【0043】
動作は、ガス通路14が減圧になると弁体25は下方向に移動する。このとき弁ゴム4は減圧により上方向の力が働き弁座11に残る。さらに減圧が進むと弁体25の溝25aの上端にスプリング受け26が移動し、この溝25aの上端がスプリング受け26、弁ゴム4を押して、弁ゴム4が弁座11から離脱して、ガス通路14に大気が侵入して減圧が解消される。
【0044】
溝25aの大きさWはスプリング受け26の肉厚Bに組み立てばらつき(W−B)を考慮して加えた程度であり、溝幅Wとスプリング受け26の肉厚Bの寸法管理をより精密にでき、小さな隙間(W−B)によって低い減圧で開弁させることができる。
【0045】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明の請求項1記載の発明の比例制御装置によれば、次の効果が得られる。
【0046】
ガスを使用したあと長期間放置され、ダイヤフラムからガスが抜けてガス通路が減圧になっても、スペーサーと弁ゴムの隙間が微小なため、弁ゴムがスペーサーによって下方向に押されて弁座から離れ、隙間が発生して減圧は解消される。よってダイヤフラムの変形が防止され、電磁コイルに所定の電流を供給すると設定通りのガス量を得られる。特に微小な隙間で制御する最小燃焼においても、ガス流量の低下はなく、立ち消えを防止できる。
【0047】
また請求項2記載の発明によれば、弁体に溝を設けこの溝にスプリング受けを挿入している。従ってスペーサーに比べて小寸法の溝幅やスプリング受けのより精密な寸法管理ができ、減圧になっても確実に早い段階でダイヤフラムの変形を抑えて解消できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1の比例制御装置の断面図
【図2】同装置の局部拡大断面図
【図3】同装置のスペーサーの断面図
【図4】 同装置の他の局部拡大断面図
【図5】同装置のスペーサーの断面図
【図6】本発明の実施例2の比例制御装置の局部拡大断面図
【図7】従来の比例制御装置の断面図
【図8】同装置の局部拡大断面図
【図9】同装置の電磁コイルの電流とガス2次圧との関係を示す特性図
【符号の説明】
1 電磁コイル
3 永久磁石
4 弁ゴム
5、25 弁体
6 ダイヤフラム
7 受け金具
8 弁スプリング
9 平ワッシャ
10 ボディー
13 電磁弁
14 ガス通路
20、21 スペーサ
25a 溝
26 スプリング受け
Claims (2)
- 鉄心を囲う電流の強さに応じて鉄心より下方の磁界の強さを制御する電磁コイルと、この磁界に反発する磁界を有し、前記鉄心の下方に配置する永久磁石と、この永久磁石を上端で保持して下部に鍔状の突起を有する筒状の弁体と、この弁体の前記永久磁石の下側に気密に固定し、上方の大気圧と下方のガス一次圧のバランスをとるダイヤフラムと、このダイヤフラムを下側で支える受け金具と、前記弁体の上方より前記突起上に挿入してガスを遮断する弁ゴムと、この弁ゴムが当接する弁座を有したボディーと、このボディーのガス入口でガスを遮断する電磁弁とこの電磁弁の出口側から前記弁座に通じた前記ボディーに穿設したガス通路と、前記受け金具に上端を当接し下端は平ワッシャを介して前記弁ゴムに当接して付勢する弁スプリングと、この弁スプリングが閉止時の設定長さに対し、組み立て誤差を吸収できるレベルに短い長さを有し、前記スプリングと並列に前記弁体に嵌入したスペーサーを備えるガス比例制御装置。
- 平ワッシャに代えて弁ゴムの上端の位置で弁体に溝を設けて摺動自在に嵌入したスプリング受けを有し、このスプリング受けが溝の下端に当接したときは弁スプリングが閉止時の設定長さとなり、溝の上端に当接したときはスペーサーと同一寸法の受け金具からの位置となり、前記スペーサーを除外した請求項1記載のガス比例制御装置。
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