JP3799026B2 - Alkaline cleaner - Google Patents
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、電子部品、金属部品、セラミック部品などに付着している油脂類、樹脂、パーティクルなどを除去するのに使用されるアルカリ洗浄剤、更に詳しくは液晶パネルの垂直配向ポリイミド膜(とくに半焼成膜)の剥離液として使用されるアルカリ洗浄剤に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、アルカリ洗浄剤は中性洗浄剤に比べて、油脂類、樹脂、パーティクルなどを除去する能力にすぐれているので、電子部品、金属部品、セラミック部品などの生産現場において幅広く使用されている。しかしながら、アルカリ洗浄剤はアルミなどの非鉄金属を容易に腐蝕させるので、アルミが部品の一部または全部に使用されている電子部品などの洗浄には使用できないのが現状であった。
例えば、電子部品とくに液晶パネルのポリイミド配向膜はこれまで水平配向タイプであったが、広視野角の液晶パネルの要望が強くなるにつれて垂直配向タイプのポリイミド配向膜が増える趨勢にある。水平配向タイプのポリイミド配向膜ガラス基板は完全焼成(焼成温度:約180℃)前の半焼成状態(約80℃で脱溶剤した半硬化膜)であれば、その不具合品はN−メチルピロリドンなどの溶剤でアルミ薄膜(配線)を腐蝕することなく配向膜を剥離できるが、垂直配向タイプのポリイミド配向膜の場合には、該半焼成状態であっても溶剤ではポリイミド配向膜(半焼成)を剥離できないので、アルカリ洗浄剤を使用して配向膜剥離を行っている。その際、ガラス基板のアルミ薄膜(配線)は腐蝕するのでアルミ薄膜部分をワックスなどで保護して洗浄し、次に炭化水素などの溶剤でワックス除去して基板を再生させるか、配向膜と同時にアルミ薄膜を完全に剥離・溶解させてからガラス基板だけを再生させる方法がとられていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、耐アルミ腐蝕性に優れた新規な洗浄剤、洗浄方法および洗浄された電子部品を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究した結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は一般式(1)で表される有機アルカリ(A7)と、 窒素原子を含有しない分子量92〜400の3〜8価の脂肪族多価アルコール(B2)からなり、有機アルカリ(A7)と脂肪族多価アルコール(B2)との重量比が1/99〜50/50であることを特徴とする液晶パネルの配向膜剥離用アルカリ洗浄剤;並びに該洗浄剤を用いて、超音波洗浄、シャワー洗浄、スプレー洗浄、浸漬および浸漬揺動から選ばれる1種以上の方法で洗浄することを特徴とするアルミ使用部材の洗浄方法 である。
【0005】
【発明の実施の形態】
本発明における(A)としては、(A1)金属水酸化物[アルカリ金属水酸化物(水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど)、アルカリ土類金属水酸化物(水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化バリウムなど)]、(A2)炭酸塩[アルカリ金属塩(炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど)、アルカリ土類金属塩(炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウムなど)]、(A3)リン酸塩[アルカリ金属塩(ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、トリポリリン酸カリウムなど)、アルカリ土類金属塩(ピロリン酸カルシウム、ピロリン酸マグネシウム、ピロリン酸バリウム、トリポリリン酸カルシウム、トリポリリン酸マグネシウム、トリポリリン酸バリウムなど)]、(A4)ケイ酸塩[アルカリ金属塩(ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウムなど)、アルカリ土類金属塩(ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸バリウムなど)]、(A5)アンモニア、(A6)ヒドロキシルアミン、(A7)下記一般式(1)で表される有機アルカリおよびこれらの混合物などが挙げられる。
【0006】
【化3】
【化4】
〔式中、R1は炭素数1〜24の炭化水素基、R2、R3およびR4は、それぞれH、炭素数1〜24の炭化水素基または一般式(2)で表される基であり、R5は炭素数2〜4のアルキレン基、pは1〜6の整数を表す。〕
【0007】
一般式(1)において、R1としては、直鎖もしくは分岐の飽和または不飽和炭化水素基、脂環式炭化水素基および芳香環含有炭化水素基などが挙げられる。直鎖もしくは分岐の飽和炭化水素基としては、アルキル基(メチル基、エチル基、n−、i−、sec−およびt−ブチル基、オクチル基、2−エチルへキシル基、オクタデシル基など);直鎖もしくは分岐の不飽和炭化水素基としては、アルケニル基(ビニル基、プロペニル基、アリル基、ブテニル基など);脂環式炭化水素基としては、シクロアルキル基(シクロヘキシル基など)など;芳香環含有炭化水素基としては、アリール基(フェニル基、ナフチル基など);アラルキル基(ベンジル基、フェネチル基など);アルキルアリール基(メチルフェニル基、エチルフェニル基、ノニルフェニル基、メチルナフチル基、エチルナフチル基など)等が挙げられる。これらの炭化水素基の中では、洗浄性の観点から好ましいのはアルキル基、アルケニル基である。
【0008】
R1の炭素数は、通常1〜24であり、好ましくは1〜14である。R1の炭素数が24を超えると洗浄性(または剥離性、以下同じ)が悪くなる。R2、R3およびR4は、Hまたは炭素数1〜24の炭化水素基であり、炭化水素基としては、R1と同じものが挙げられる。R2、R3およびR4の炭素数が24を超えると洗浄性が悪くなる。
一般式(2)において、R5としては、例えばエチレン基、プロピレン基、ブチレン基などの炭素数2〜4のアルキレン基が挙げられる。R5の炭素数が4を超えると洗浄性が悪くなる。pは1〜6(好ましくは1〜3)の整数であり、pが6を超えると洗浄性が悪くなる。
【0009】
(A7)有機アルカリの具体例としては、少なくとも1個の炭化水素基が窒素原子に結合した下記▲1▼〜▲5▼のカチオンと、ハイドロオキサイドアニオンとの塩およびこれらの混合物が挙げられる。
【0010】
▲1▼炭化水素基を4個含む4級アンモニウムカチオン
炭素数1〜6のアルキル基を4個含むテトラハイドロカルビルアンモニウム[例えば、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラ(n−またはi−)プロピルアンモニウム、テトラ(n−、i−またはt−)ブチルアンモニウム、テトラペンチルアンモニウム、テトラヘキシルアンモニウムなど];炭素数1〜6のアルキル基を3個含むテトラハイドロカルビルアンモニウム[例えば、トリメチルへプチルアンモニウム、トリメチルオクチルアンモニウム、トリメチルデシルアンモニウム、トリメチルドデシルアンモニウム、トリメチルステアリルアンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウム、トリエチルへキシルアンモニウム、トリエチルオクチルアンモニウム、トリエチルステアリルアンモニウム、トリエチルベンジルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、トリブチルオクチルアンモニウム、トリへキシルステアリルアンモニウムなど];炭素数1〜6のアルキル基を2個含むテトラハイドロカルビルアンモニウム[例えば、ジメチルジオクチルアンモニウム、ジエチルジオクチルアンモニウム、ジメチルジベンジルアンモニウムなど]、炭素数1〜6のアルキル基を1個含むテトラハイドロカルビルアンモニウム[例えば、メチルトリオクチルアンモニウム、エチルトリオクチルアンモニウム、メチルオクチルジベンジルアンモニウムなど]など
【0011】
▲2▼炭化水素基を3個含む3級アミンカチオン
炭素数1〜6のアルキル基を3個含むトリハイドロカルビルアミンカチオン[例えば、トリメチルアミンカチオン、トリエチルアミンカチオン、トリブチルアミンカチオンなど];炭素数1〜6のアルキル基を2個含むトリハイドロカルビルアミンカチオン[例えば、ジメチルオクチルアミンカチオン、ジメチルステアリルアミンカチオン、ジエチルオクチルアミンカチオン、ジブチルオクチルアミンカチオン、ジメチルベンジルアミンカチオンなど];炭素数1〜6のアルキル基を1個含むトリハイドロカルビルアミンカチオン[例えば、メチルジオクチルアミンカチオン、エチルジオクチルアミンカチオン、メチルオクチルベンジルアミンカチオンなど]など
【0012】
▲3▼炭化水素基を2個含む2級アミンカチオン
炭素数1〜6のアルキル基を2個含むジハイドロカルビルアミンカチオン[例えば、ジメチルアミンカチオン、ジエチルアミンカチオン、ジブチルアミンカチオン、ジへキシルアミンカチオンなど];炭素数1〜6のアルキル基を1個含むジハイドロカルビルアミンカチオン[例えば、メチルオクチルアミンカチオン、エチルオクチルアミンカチオン、ブチルオクチルアミンカチオン、へキシルオクチルアミンカチオン、メチルステアリルアミンカチオン、メチルベンジルアミンカチオン、エチルベンジルアミンカチオンなど]など
▲4▼炭化水素基を1個含む1級アミンカチオン
モノハイドロカルビル(炭素数1〜6)アミンカチオン、例えばメチルアミンカチオン、エチルアミンカチオン、ブチルアミンカチオン、ヘキシルアミンカチオンなど
【0013】
▲5▼オキシアルキレン基を含むカチオン
(i)オキシアルキレン基を1個有するカチオン[例えば、ヒドロキシエチルトリメチルアミンカチオン、ヒドロキシエチルトリエチルアミンカチオン、ヒドロキシプロピルトリメチルアミンカチオン、ヒドロキシプロピルトリエチルアミンカチオン、ヒドロキシエチルジメチルエチルアミンカチオン、ヒドロキシエチルジメチルオクチルアミンカチオンなど]
(ii)オキシアルキレン基を2個有するカチオン[例えば、ジヒドロキシエチルジメチルアミンカチオン、ジヒドロキシエチルジエチルアミンカチオン、ジヒドロキシプロピルジメチルアミンカチオン、ジヒドロキシプロピルジエチルアミンカチオン、ジヒドロキシエチルメチルエチルアミンカチオン、ジヒドロキシエチルメチルオクチルアミンカチオン、ビス(2−ヒドロキシエトキシエチル)オクチルアミンカチオンなど]
(iii)オキシアルキレン基を3個有するカチオン[例えば、トリヒドロキシエチルメチルアミンカチオン、トリヒドロキシエチルエチルアミンカチオン、トリヒドロキシエチルブチルアミンカチオン、トリヒドロキシプロピルメチルアミンカチオン、トリヒドロキシプロピルエチルアミンカチオン、トリヒドロキシエチルオクチルアミンカチオンなど]
【0014】
アルカリ成分(A)のうち、洗浄性とリンス性の観点から、好ましいのは(A1)および(A7)である。
(A1)のうち洗浄性の観点から好ましいのは、アルカリ金属水酸化物、更に好ましいのは水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムである。
(A7)のうち、洗浄性とリンス性の観点から好ましいのは、上記▲1▼および▲2▼の塩、さらに好ましいのは▲1▼の塩、特に好ましいのは炭素数1〜6のアルキル基を4個含むテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド、最も好ましいのはテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイドである。
上記化合物は、混合物として使用することもできる。
【0015】
本発明における(B)としては、窒素原子を含有しない分子量62〜250、のジオール(B1)、窒素原子を含有しない分子量92〜400の3〜8価の多価アルコール(B2)、分子中にオキシアルキレン基(炭素数2〜3)を2個以上有する数平均分子量[以下Mnと略記、測定はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)による]150〜500のポリオキシアルキレングリコール(B3)およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
【0016】
(B1)としては、アルカンジオール(炭素数2〜8のアルカンジオール:エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールなど)、脂環式ジオール(炭素数6〜15のジオール:シクロヘキサン−1,2−、1,3−および1,4−ジオール、シクロペンタン−1,2−および1,3−ジオール、水素添加ビスフェノールAなど)、並びに分子中にエーテル基を1個有するジオール(ジエチレングリコールおよびジプロピレングリコールなど)が挙げられる。(B1)の分子量は好ましくは62以上150未満である。
【0017】
(B2)としては、3〜8価の脂肪族多価アルコール(グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン、トリグリセリン、テトラグリセリン、ペンタグリセリン、キシリトール、ソルビトール、シュークロースなど) などが挙げられる。
【0018】
(B3)としては、(B1)のアルキレンオキシド(炭素数2〜3)付加物(付加モル数1〜10モル)、例えばトリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリオキシエチレングリコール(数平均分子量400)、ポリオキシエチレン/プロピレン(ランダム付加および/またはブロック付加)グリコールなどが挙げられる。
【0019】
(B)の中では、洗浄性と耐腐蝕性の観点から好ましいのは、(B1)のうちのアルカンジオールおよび分子中にエーテル基を1個有するジオール、(B2)のうちの3〜8価の脂肪族多価アルコール、並びに(B3)のうちのトリエチレングリコールおよびテトラエチレングリコールであり、さらに好ましいのはエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ジグリセリンおよびトリエチレングリコールである。
【0020】
本発明の洗浄剤における(A)および(B)の含有量は、洗浄性と耐腐蝕性の観点から、洗浄剤の全重量に基づいて、(A)は好ましくは0.2〜20%、さらに好ましくは0.5〜10%であり、(B)は好ましくは5〜99.8%、さらに好ましくは20〜85%である。また、(A)と(B)の重量比は洗浄性と耐腐蝕性の観点から好ましくは1/99〜50/50、さらに好ましくは2/98〜30/70である。
【0021】
本発明の洗浄剤には、必要によりさらに界面活性剤(C)、親水性溶剤(D)、他の添加剤(E)および/または水を加えることができる。
界面活性剤(C)としては、非イオン界面活性剤(C1)、アニオン界面活性剤(C2)、カチオン界面活性剤(C3)、両性界面活性剤(C4)およびこれらの混合物が挙げられる。
【0022】
(C1)としては、例えば、アルキレンオキシド付加型非イオン界面活性剤[高級アルコール(炭素数8〜18)、アルキルフェノール(炭素数10〜24)、高級脂肪酸(炭素数12〜24)または高級アルキルアミン(炭素数8〜24)等に直接アルキレンオキシド[炭素数2〜4、例えばエチレンオキシド(以下EOと略記)、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、以下同じ]を付加させたもの(分子量158〜Mn200,000);ポリオキシアルキレングリコール(分子量150〜Mn6,000)に高級脂肪酸(炭素数12〜24)などを反応させたもの;ジオール[前記(B1)として例示したもの]または多価アルコール[前記(B2)として例示したもの]などの水酸基含有化合物に高級脂肪酸(炭素数12〜24)を反応させて得られたエステル化物にアルキレンオキシドを付加させたもの(分子量250〜Mn30,000)、高級脂肪酸(炭素数8〜24)アミドにアルキレンオキシドを付加させたもの(分子量200〜Mn30,000)、多価アルコール(前記のもの)アルキル(炭素数8〜60)エーテルにアルキレンオキシドを付加させたもの(分子量120〜Mn30,000)など]、および多価アルコール(炭素数3〜20)型非イオン界面活性剤[多価アルコール脂肪酸(炭素数8〜60)エステル、多価アルコールアルキル(炭素数8〜60)エーテル、脂肪酸(炭素数8〜60)アルカノールアミドなど]などが挙げられる。
【0023】
(C2)としては、例えば、カルボン酸(炭素数8〜22の飽和または不飽和脂肪酸)またはその塩、カルボキシメチル化物の塩[炭素数8〜16の脂肪族アルコールおよび/またはそのEO(1〜10モル)付加物などのカルボキシメチル化物の塩など]、硫酸エステル塩[高級アルコール硫酸エステル塩(炭素数8〜18の脂肪族アルコールの硫酸エステル塩など)など]、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩[炭素数8〜18の脂肪族アルコールのEO(1〜10モル)付加物の硫酸エステル塩]、硫酸化油(天然の不飽和油脂または不飽和のロウをそのまま硫酸化して中和した塩)、硫酸化脂肪酸エステル(不飽和脂肪酸の低級アルコールエステルを硫酸化して中和した塩)、硫酸化オレフィン(炭素数12〜18のオレフィンを硫酸化して中和した塩)、スルホン酸塩[アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、スルホコハク酸ジエステル型、α−オレフィン(炭素数12〜18)スルホン酸塩、イゲポンT型など]およびリン酸エステル塩[高級アルコール(炭素数8〜60)リン酸エステル塩、高級アルコール(炭素数8〜60)EO付加物リン酸エステル塩、アルキル(炭素数4〜60)フェノールEO付加物リン酸エステル塩など]が挙げられる。
上記の塩としては、アルカリ金属(ナトリウム、カリウムなど)塩、アルカリ土類金属(カルシウム、マグネシウムなど)塩、アンモニウム塩、アルキルアミン(炭素数1〜20)塩およびアルカノールアミン(炭素数2〜12、例えばモノー、ジ−およびトリエタノールアミン)塩などが挙げられる。
【0024】
(C3)としては、第4級アンモニウム塩型[テトラアルキル(炭素数4〜100)アンモニウム塩、例えばラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムブロマイド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド;トリアルキル(炭素数3〜80)ベンジルアンモニウム塩、例えばラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド(塩化ベンザルコニウム);アルキル(炭素数2〜60)ピリジニウム塩、例えばセチルピリジニウムクロライド;ポリオキシアルキレン(炭素数2〜4)トリアルキルアンモニウム塩、例えばポリオキシエチレントリメチルアンモニウムクロライド;サパミン型第4級アンモニウム塩、例えばステアラミドエチルジエチルメチルアンモニウムメトサルフェート]、アミン塩型[脂肪族高級アミン(炭素数12〜60、例えばラウリルアミン、ステアリルアミン、セチルアミン、硬化牛脂アミン、ロジンアミンなど)の無機酸(塩酸、硫酸、硝酸およびリン酸など)塩または有機酸(炭素数2〜22、例えば酢酸、プロピオン酸、ラウリル酸、オレイン酸、安息香酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸)塩;低級アミン(炭素数1〜11)の高級脂肪酸(炭素数12〜24、例えばステアリン酸、オレイン酸)塩;脂肪族アミン(炭素数1〜30)のEO付加物などの無機酸(前記のもの)塩または有機酸(前記のもの)塩;3級アミン類(トリエタノールアミンモノステアレート、ステアラミドエチルジエチルメチルエタノールアミンなど)の無機酸(前記のもの)塩または有機酸(前記のもの)塩など]などが挙げられる。
【0025】
(C4)としては、アミノ酸型両性界面活性剤[高級アルキルアミン(炭素数12〜18)のプロピオン酸ナトリウムなど]、ベタイン型両性界面活性剤[アルキル(炭素数12〜18)ジメチルベタイン、アルキル(炭素数12〜18)ジヒドロキシエチルベタイン、ヤシ油脂肪酸アミドプロピルベタインなど]、硫酸エステル塩型両性界面活性剤[高級アルキル(炭素数8〜18)アミンの硫酸エステルナトリウム塩、ヒドロキシエチルイミダゾリン硫酸エステルナトリウム塩など]、スルホン酸塩型両性界面活性剤(ペンタデシルスルフォタウリン、イミダゾリンスルホン酸など)、リン酸エステル塩型両性界面活性剤[グリセリン高級脂肪酸(炭素数8〜22)エステル化物のリン酸エステルアミン塩]などが挙げられる。
【0026】
(C1)〜(C4)の中では、洗浄性と耐腐蝕性の観点から好ましいのは(C1)、(C2)、さらに好ましいのは(C1)である。(C)の使用量は、洗浄剤の全重量に基づいて、通常30%以下、好ましくは1〜20%である。
【0027】
親水性溶剤(D)としては、20℃における水に対する溶解度(g/100gH2O)が3以上であって、分子中に水酸基を1個有するもしくは水酸基を有しない水溶性グリコールエーテル類(D1)、および水溶性アミド(D2)が挙げられる。
【0028】
(D1)としては、
(D11);エチレングリコールのアルキル(炭素数1〜4)エーテル、例えばエチレングリコールモノメチルエーテルおよびエチレングリコールモノエチルエーテル、
(D12);ジエチレングリコールのアルキル(炭素数1〜4)エーテル、例えばジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテル、
(D13);モノもしくはジプロピレングリコールまたはトリエチレングリコールのアルキル(炭素数1〜4)エーテル、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテルおよびトリエチレングリコールモノエチルエーテル、
(D14);その他のグリコールエーテル類、例えば3−メチル−3−メトキシ−1−ブタノール、
(D15);(D11)のアルキル(炭素数1〜4)エステル、例えばエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートおよびエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、
(D16);(D12)のアルキル(炭素数1〜4)エステル、例えばジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートおよびジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、
(D17);(D13)のアルキル(炭素数1〜4)エステル、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートおよびトリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、
(D18);(D14)のアルキル(炭素数1〜4)エステル、例えば3−メチル−3−メトキシ−1−ブタノールアセテート、が挙げられる。
(D1)の中では、洗浄性、リンス性および耐腐蝕性の観点から、好ましいのは(D12)、(D13)、(D14)および(D18)である。さらに好ましいのは、(D12)のうちのジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテル、(D14)並びに(D18)である。
【0029】
(D2)としては、2−ピロリドンおよびN−アルキル(炭素数1〜3)−2−ピロリドンなどが挙げられる。これらのうち、洗浄性とリンス性の観点から好ましいのはN−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピロリドン、N−n−プロピル−2−ピロリドン、N−イソプロピル−2−ピロリドン、および更に好ましいのはN−メチル−2−ピロリドンである。(D1)、(D2)は1種または2種以上の併用の何れでもよい。(D)のうち好ましいのは(D2)である。
(D)の使用量は、洗浄剤の全重量に基づいて、洗浄性、リンス性および耐腐蝕性の観点から、好ましくは30%以下、さらに好ましくは1〜20%である。
【0030】
水の使用量は、洗浄剤の全重量に基づいて、洗浄性、リンス性および耐腐蝕性の観点から、好ましくは94.8重量%以下、さらに好ましくは1〜60重量%、特に好ましくは2〜30重量%である。
【0031】
(E)としては、防錆剤[アミン(炭素数6〜30、例えばシクロヘキシルアミン、ラウリルアミン、ステアリルアミンなど)のEO(2〜10モル)付加物、クロム酸塩、亜硝酸塩、アミン(炭素数6〜30)の高級脂肪酸(炭素数8〜30)塩、ジカルボン酸(炭素数12〜24)のアルカリ金属(ナトリウム、カリウムなど)塩、ジカルボン酸(炭素数12〜24)のアルカノールアミド(例えば、ドデセニルコハク酸ジエタノールアミド)、ジカルボン酸(炭素数12〜24)のアルカノールアミドアルカリ金属塩(例えば、ドデセニルコハク酸ジエタノールアミドナトリウム塩)など]、酸化防止剤[フェノール化合物(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノールなど)、含硫化合物(ジラウリルチオジプロピオネートなど)、アミン化合物(オクチル化ジフェニルアミンなど)、リン化合物(トリフェニルホスファイトなど)など]、金属イオン封鎖剤(エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムなど)などが挙げられる。
(E)の使用量は、洗浄剤の全重量に基づいて、防錆剤は通常20%以下、好ましくは0.5〜10%、酸化防止剤は通常5%以下、好ましくは0.1〜1%、金属イオン封鎖剤は通常20%以下、好ましくは0.5〜10%である。
【0032】
本発明の洗浄剤の25℃における粘度は、通常2〜300mm2/s、洗浄性およびリンス性の観点から、好ましくは3〜100mm2/s、更に好ましくは4〜50mm2/sである。粘度はオストワルド、ウベローデなどの粘度計にて測定できる。
本発明の洗浄剤のpH(10%水溶液)は通常10〜14、洗浄性および耐腐蝕性の観点から、好ましくは10.5〜13.5である。
【0033】
本発明の洗浄剤が適用できる用途は特に限定はなく、アルミが部品の一部または全部に使用されている電子部品などの洗浄用として幅広く用いることができる。例えば液晶パネル用ガラス基板(配向膜パターン化の前の洗浄、不具合配向膜の剥離洗浄)、プリント基盤、プラズマディスプレイガラス基板、サーマルヘッドなどの電子部品、エアコン冷却フィン、空気清浄機アルミ電極板、電気カミソリ刃などの電気部品、アルミ建材等が挙げられる。また、洗浄の対象物(汚れ)は、油分、指紋、樹脂、有機パーティクルなどの有機物、無機パーティクル(例えば、ガラス粉、セラミック粉、金属粉など)などの無機物が挙げられる。本発明の洗浄剤はこれらのうち、とくに、液晶パネル用ガラス基板の洗浄(配向膜を薄膜化する前のガラス基板の洗浄、配向膜が不具合となったガラス基板の洗浄)に好適に用いることができる。
【0034】
本発明の洗浄剤を用いて、例えば液晶パネル用ガラス基板の配向膜を剥離洗浄する方法としては、超音波洗浄、シャワー洗浄、スプレー洗浄、浸漬、浸漬揺動およびこれらの組み合わせによる洗浄方法が適用できる。洗浄温度は、通常10〜70℃、好ましくは15〜60℃程度である。洗浄時間は通常0.2〜120分、好ましくは0.5〜30分である。水によるリンス温度は、通常5〜90℃、好ましくは10〜70℃であり、リンス方法としては上記洗浄方法と同じ方法が適用できる。リンス後通常50〜150℃、好ましくは60〜100℃で通常1〜120分間、好ましくは3〜60分間加熱乾燥することにより清浄な液晶パネル用ガラス基板が得られ、再生使用することができる。
【0035】
【実施例】
以下実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以下において部および%は重量部および重量%を示す。
はじめに、実施例および比較例で用いた洗浄剤成分の組成、洗浄試験、並びに腐蝕試験方法を示す。
【0036】
1.洗浄剤成分の組成
A1−1:水酸化ナトリウム(20%水溶液)
A1−2:水酸化カリウム(20%水溶液)
A7−1:テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(15%水溶液)
A7−2:テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド(15%水溶液)
A7−3:テトラ−n−ブチルアンモニウムハイドロオキサイド
B1−1:エチレングリコール
B1−2:プロピレグリコール
B1−3:ジエチレングリコール
B2−1:グリセリン
B2−2:ジグリセリン
B3−1:トリエチレングリコール
C1−1:高級アルコール(炭素数16〜18混合物)のEO9モル付加物
C2−1:スルホコハク酸ジ−2−エチルへキシルエステルのナトリウム塩
(70%水溶液)
D2−1:N−メチル−2−ピロリドン
防錆剤−1:シクロへキシルアミンのEO2モル付加物
防錆剤−2:ドデセニルコハク酸ジエタノールアミドナトリウム塩
【0037】
2.配向膜剥離性
ガラス基板上に予め形成されたITO膜(インジウム・スズ酸化膜)の上にポリイミド樹脂を塗布し、80℃で焼き付けることにより半焼性の垂直配向ポリイミド膜(膜厚1μm)が密着したガラス基板試験片(25×25mm、厚さ0.75mm)を作成し、洗浄剤(25℃)に所定時間浸漬後、試験片をステンレス網かごの上に置きイオン交換水で1分間シャワーリンスし、さらに裏側の面についても同様にリンスした。次に、試験片を70℃の循風乾燥機中で10分間乾燥後、顕微鏡で観察して配向膜剥離性を次の5段階で評価した。
【0038】
3.腐蝕性
アルミ薄膜(膜厚0.1μm)が密着したガラス基板試験片(25×25mm、厚さ0.75mm)を洗浄剤(25℃)に所定時間浸漬し、アルミ薄膜が完全になくなり試験片が透明になるまでの時間を測定して腐蝕時間とした。腐蝕時間が長いほど耐腐蝕性がよい。
【0039】
実施例1〜13、比較例1〜3
表1、2に洗浄剤の配合処方と性能評価結果を示す。
【0040】
【表1】
【0041】
【表2】
【0042】
表1の比較例1に示されるように、剥離溶剤(N−メチル−2−ピロリドン:半焼成水平配向ポリイミド膜用剥離溶剤)だけでは半焼成垂直配向ポリイミド膜は剥離できない。また、比較例2に示したように本溶剤にアルカリ剤を併用すれば配向膜剥離性は良好となるが、耐腐蝕性は極端に悪くなり(腐蝕時間は3分)、防錆剤を加えても耐腐蝕性はそれほど改善されず(比較例3)、実使用に耐えない。
表1、2に記載の本発明の洗浄剤(実施例1〜13)は、1〜2分で半焼成垂直配向ポリイミド膜が剥離でき、しかも腐蝕時間が2時間以上と耐腐蝕性が非常に良好であり、問題なく実使用できる。
【0043】
【発明の効果】
本発明の洗浄剤は、耐アルミ腐蝕性に優れているため、例えば液晶パネル用ガラス基板のアルミ配線、カラーフィルター部材にダメージを与えずに半焼成垂直配向ポリイミド膜を短時間に剥離・洗浄できる。したがって、配向膜剥離洗浄工程(ガラス基板再生工程)において従来のガラス基板の再生だけでなく、アルミ配線、カラーフィルター部材も同時に再生使用できる。
また、本発明の洗浄剤は、油分、指紋、樹脂およびパーティクルを除去する能力にも優れているので、液晶パネル用ガラス基板などの電子部品用途だけでなく、電気部品、金属部品、建材等の用途に適用が可能であり極めて有用性が高い。[0001]
[Industrial application fields]
The present invention relates to an alkaline cleaning agent used for removing oils and fats, resins, particles, etc. adhering to electronic parts, metal parts, ceramic parts, etc., more specifically, a vertically-aligned polyimide film (particularly semi-fired) for liquid crystal panels. The present invention relates to an alkaline cleaning agent used as a stripping solution for film formation.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, alkaline cleaners have better ability to remove oils, fats, resins, particles, etc. than neutral cleaners, so they are widely used in production sites for electronic parts, metal parts, ceramic parts, etc. . However, since the alkaline cleaning agent easily corrodes non-ferrous metals such as aluminum, it is currently impossible to use it for cleaning electronic parts and the like in which aluminum is used for some or all of the parts.
For example, the polyimide alignment film for electronic components, particularly liquid crystal panels, has been a horizontal alignment type so far, but the demand for a wide viewing angle liquid crystal panel is increasing, and the number of vertical alignment type polyimide alignment films is increasing. If the horizontal alignment type polyimide alignment film glass substrate is in a semi-baked state (semi-cured film desolvated at about 80 ° C.) before complete baking (baking temperature: about 180 ° C.), the defective product is N-methylpyrrolidone, etc. The alignment film can be peeled off without corroding the aluminum thin film (wiring) with the above solvent, but in the case of the vertical alignment type polyimide alignment film, the polyimide alignment film (semi-firing) is not used with the solvent even in the semi-baked state. Since the film cannot be peeled off, the alignment film is peeled off using an alkali cleaning agent. At that time, the aluminum thin film (wiring) on the glass substrate is corroded, so the aluminum thin film portion is protected and washed with wax, and then the wax is removed with a solvent such as hydrocarbon to regenerate the substrate, or at the same time with the alignment film A method has been adopted in which only the glass substrate is regenerated after the aluminum thin film has been completely peeled off and dissolved.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a novel cleaning agent excellent in aluminum corrosion resistance, a cleaning method, and a cleaned electronic component.
[0004]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has reached the present invention.
That is, the present invention comprises an organic alkali (A7) represented by the general formula (1) and a 3 to 8 valent aliphatic polyhydric alcohol (B2) having a molecular weight of 92 to 400 that does not contain a nitrogen atom. The weight ratio of A7) to aliphatic polyhydric alcohol (B2) is 1/99 to 50/50For peeling alignment film of liquid crystal panelAlkaline detergents;AndA cleaning method for an aluminum-use member, characterized in that the cleaning agent is cleaned by at least one method selected from ultrasonic cleaning, shower cleaning, spray cleaning, immersion and immersion rocking. It is.
[0005]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
(A) in the present invention includes (A1) metal hydroxide [alkali metal hydroxide (lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.), alkaline earth metal hydroxide (calcium hydroxide, water) Magnesium oxide, barium hydroxide, etc.)], (A2) carbonate [alkali metal salts (sodium carbonate, potassium carbonate, etc.), alkaline earth metal salts (calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, etc.)], (A3) phosphorus Acid salts [alkali metal salts (sodium pyrophosphate, potassium pyrophosphate, sodium tripolyphosphate, potassium tripolyphosphate, etc.), alkaline earth metal salts (calcium pyrophosphate, magnesium pyrophosphate, barium pyrophosphate, calcium tripolyphosphate, magnesium tripolyphosphate, tripolylin Barium acid)], A4) Silicate [alkali metal salt (sodium silicate, potassium silicate, etc.), alkaline earth metal salt (calcium silicate, magnesium silicate, barium silicate, etc.)], (A5) ammonia, (A6) hydroxyl Examples include amines, (A7) organic alkalis represented by the following general formula (1), and mixtures thereof.
[0006]
[Chemical Formula 3]
[Formula 4]
[In the formula, R1Is a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, R2, RThreeAnd RFourAre respectively H, a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms or a group represented by the general formula (2), and RFiveRepresents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and p represents an integer of 1 to 6. ]
[0007]
In the general formula (1), R1Examples thereof include linear or branched saturated or unsaturated hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups, and aromatic ring-containing hydrocarbon groups. As the linear or branched saturated hydrocarbon group, an alkyl group (methyl group, ethyl group, n-, i-, sec- and t-butyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, octadecyl group, etc.); Examples of the linear or branched unsaturated hydrocarbon group include an alkenyl group (vinyl group, propenyl group, allyl group, butenyl group, etc.); examples of the alicyclic hydrocarbon group include a cycloalkyl group (such as a cyclohexyl group); Examples of the ring-containing hydrocarbon group include aryl groups (phenyl group, naphthyl group, etc.); aralkyl groups (benzyl group, phenethyl group, etc.); alkylaryl groups (methylphenyl group, ethylphenyl group, nonylphenyl group, methylnaphthyl group, And ethyl naphthyl group). Of these hydrocarbon groups, alkyl and alkenyl groups are preferred from the viewpoint of detergency.
[0008]
R1The carbon number of is usually 1-24, preferably 1-14. R1If the number of carbons exceeds 24, the detergency (or releasability, the same applies hereinafter) becomes worse. R2, RThreeAnd RFourIs H or a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms.1The same thing is mentioned. R2, RThreeAnd RFourIf the number of carbons exceeds 24, the cleaning properties are deteriorated.
In the general formula (2), RFiveExamples thereof include alkylene groups having 2 to 4 carbon atoms such as ethylene group, propylene group and butylene group. RFiveIf the number of carbons exceeds 4, the detergency becomes worse. p is an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 3), and if p exceeds 6, detergency deteriorates.
[0009]
Specific examples of (A7) organic alkali include salts of the following cations (1) to (5) with at least one hydrocarbon group bonded to a nitrogen atom and a hydroxide anion, and mixtures thereof.
[0010]
(1) Quaternary ammonium cation containing four hydrocarbon groups
Tetrahydrocarbyl ammonium containing four alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms [e.g., tetramethylammonium, tetraethylammonium, tetra (n- or i-) propylammonium, tetra (n-, i- or t-) butyl Ammonium, tetrapentylammonium, tetrahexylammonium and the like]; tetrahydrocarbylammonium containing three alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms [eg, trimethylheptylammonium, trimethyloctylammonium, trimethyldecylammonium, trimethyldodecylammonium, trimethyl Stearylammonium, trimethylbenzylammonium, triethylhexylammonium, triethyloctylammonium, triethylstearylammonium, triethyl Dimethylammonium, tributylammonium, tributyloctylammonium, trihexylstearylammonium, etc.]; tetrahydrocarbylammonium containing two alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms [e.g., dimethyldioctylammonium, diethyldioctylammonium, dimethyldibenzyl Ammonium, etc.], tetrahydrocarbylammonium containing one alkyl group having 1 to 6 carbon atoms [e.g., methyltrioctylammonium, ethyltrioctylammonium, methyloctyldibenzylammonium, etc.]
[0011]
(2) Tertiary amine cation containing three hydrocarbon groups
Trihydrocarbylamine cation containing 3 alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms [e.g., trimethylamine cation, triethylamine cation, tributylamine cation, etc.]; Trihydrocarbylamine cation containing 2 alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms [ For example, a dimethyloctylamine cation, a dimethylstearylamine cation, a diethyloctylamine cation, a dibutyloctylamine cation, a dimethylbenzylamine cation, etc.]; a trihydrocarbylamine cation containing one alkyl group having 1 to 6 carbon atoms [for example, methyl Dioctylamine cation, ethyl dioctylamine cation, methyloctylbenzylamine cation, etc.]
[0012]
(3) Secondary amine cation containing two hydrocarbon groups
A dihydrocarbylamine cation [eg, dimethylamine cation, diethylamine cation, dibutylamine cation, dihexylamine cation, etc.] containing two alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms; one alkyl group having 1 to 6 carbon atoms Dihydrocarbylamine cation [for example, methyloctylamine cation, ethyloctylamine cation, butyloctylamine cation, hexyloctylamine cation, methylstearylamine cation, methylbenzylamine cation, ethylbenzylamine cation, etc.]
(4) Primary amine cation containing one hydrocarbon group
Monohydrocarbyl (C1-6) amine cations, such as methylamine cation, ethylamine cation, butylamine cation, hexylamine cation, etc.
[0013]
(5) Cations containing oxyalkylene groups
(I) Cations having one oxyalkylene group [for example, hydroxyethyltrimethylamine cation, hydroxyethyltriethylamine cation, hydroxypropyltrimethylamine cation, hydroxypropyltriethylamine cation, hydroxyethyldimethylethylamine cation, hydroxyethyldimethyloctylamine cation, etc.]
(Ii) a cation having two oxyalkylene groups [eg, dihydroxyethyldimethylamine cation, dihydroxyethyldiethylamine cation, dihydroxypropyldimethylamine cation, dihydroxypropyldiethylamine cation, dihydroxyethylmethylethylamine cation, dihydroxyethylmethyloctylamine cation, bis (2-hydroxyethoxyethyl) octylamine cation, etc.]
(Iii) a cation having three oxyalkylene groups [for example, trihydroxyethylmethylamine cation, trihydroxyethylethylamine cation, trihydroxyethylbutylamine cation, trihydroxypropylmethylamine cation, trihydroxypropylethylamine cation, trihydroxyethyloctyl Amine cations etc.]
[0014]
Of the alkali component (A), (A1) and (A7) are preferred from the viewpoints of detergency and rinsing properties.
Of (A1), from the viewpoint of detergency, preferred are alkali metal hydroxides, and more preferred are sodium hydroxide and potassium hydroxide.
Among (A7), from the viewpoints of detergency and rinsing properties, the salts (1) and (2) are preferred, the salt (1) is more preferred, and an alkyl having 1 to 6 carbon atoms is particularly preferred. A tetraalkylammonium hydroxide containing four groups, most preferably tetramethylammonium hydroxide or tetraethylammonium hydroxide.
The above compounds can also be used as a mixture.
[0015]
In the present invention, (B) includes a diol (B1) having a molecular weight of 62 to 250 that does not contain a nitrogen atom, a 3 to 8 valent polyhydric alcohol (B2) having a molecular weight of 92 to 400 that does not contain a nitrogen atom, Number average molecular weight having two or more oxyalkylene groups (2 to 3 carbon atoms) [hereinafter abbreviated as Mn, measured by gel permeation chromatography (GPC)] 150 to 500 polyoxyalkylene glycol (B3) and these The mixture of 2 or more types is mentioned.
[0016]
As (B1), alkanediol (alkanediol having 2 to 8 carbon atoms: ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neo Pentyl glycol, etc.), alicyclic diols (C6-C15 diols: cyclohexane-1,2-, 1,3- and 1,4-diol, cyclopentane-1,2- and 1,3-diol, And hydrogenated bisphenol A) and diols having one ether group in the molecule (such as diethylene glycol and dipropylene glycol). The molecular weight of (B1) is preferably 62 or more and less than 150.
[0017]
(B2) 3 to 8 valent aliphatic polyhydric alcohol (glycerin, trimethylol ethane, trimethylol propane, diglycerin, triglycerin, tetraglycerin, pentaglycerin, xylitol, sorbitol, sucrose, etc.) Etc.
[0018]
As (B3), an alkylene oxide (2 to 3 carbon atoms) adduct (added mole number 1 to 10 moles) of (B1), for example, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyoxyethylene glycol (number average molecular weight 400) , Polyoxyethylene / propylene (random addition and / or block addition) glycol and the like.
[0019]
Among (B), from the viewpoints of detergency and corrosion resistance, the alkanediol in (B1) and the diol having one ether group in the molecule, the trivalent to octavalent in (B2) And (B3) triethylene glycol and tetraethylene glycol, and more preferred are ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, glycerin, diglycerin and triethylene glycol.
[0020]
The content of (A) and (B) in the cleaning agent of the present invention is preferably 0.2 to 20% based on the total weight of the cleaning agent from the viewpoint of cleaning properties and corrosion resistance. More preferably, it is 0.5-10%, (B) becomes like this. Preferably it is 5-99.8%, More preferably, it is 20-85%. The weight ratio of (A) to (B) is preferably 1/99 to 50/50, more preferably 2/98 to 30/70, from the viewpoints of detergency and corrosion resistance.
[0021]
If necessary, a surfactant (C), a hydrophilic solvent (D), another additive (E) and / or water can be added to the cleaning agent of the present invention.
Examples of the surfactant (C) include a nonionic surfactant (C1), an anionic surfactant (C2), a cationic surfactant (C3), an amphoteric surfactant (C4), and a mixture thereof.
[0022]
Examples of (C1) include alkylene oxide addition type nonionic surfactants [higher alcohols (8 to 18 carbon atoms), alkylphenols (10 to 24 carbon atoms), higher fatty acids (12 to 24 carbon atoms) or higher alkylamines. Direct addition of alkylene oxide [carbon number 2 to 4, for example, ethylene oxide (hereinafter abbreviated as EO), propylene oxide, butylene oxide, the same shall apply hereinafter) (molecular weight 158 to Mn 200,000) A polyoxyalkylene glycol (molecular weight 150 to Mn 6,000) reacted with a higher fatty acid (carbon number 12 to 24) or the like; a diol [exemplified as (B1) above] or a polyhydric alcohol [above (B2) Higher fatty acid (carbon number 12-24) A product obtained by adding an alkylene oxide to an esterified product obtained by reacting an aldehyde (molecular weight 250 to Mn 30,000), a product obtained by adding an alkylene oxide to a higher fatty acid (carbon number 8 to 24) amide (molecular weight 200 to Mn 30, 000), polyhydric alcohol (the above), alkyl (carbon number 8 to 60) ether added with alkylene oxide (molecular weight 120 to Mn 30,000), etc.], and polyhydric alcohol (carbon number 3 to 20) Type nonionic surfactants [polyhydric alcohol fatty acid (carbon number 8 to 60) ester, polyhydric alcohol alkyl (carbon number 8 to 60) ether, fatty acid (carbon number 8 to 60) alkanolamide and the like] and the like.
[0023]
Examples of (C2) include carboxylic acids (saturated or unsaturated fatty acids having 8 to 22 carbon atoms) or salts thereof, salts of carboxymethylates [aliphatic alcohols having 8 to 16 carbon atoms and / or EO (1 to 10 mol) salts of carboxymethylated products such as adducts, etc.], sulfate esters [higher alcohol sulfate esters (such as sulfate esters of aliphatic alcohols having 8 to 18 carbon atoms)], higher alkyl ether sulfate esters [ EO (1-10 mol) adduct sulfate of aliphatic alcohol having 8 to 18 carbon atoms], sulfated oil (natural unsaturated fat or salt obtained by sulfating and neutralizing unsaturated wax as it is), Sulfated fatty acid ester (a salt obtained by sulfating and neutralizing a lower alcohol ester of an unsaturated fatty acid), sulfated olefin (olefin having 12 to 18 carbon atoms) Oxidized and neutralized salts), sulfonates [alkylbenzene sulfonate, alkylnaphthalene sulfonate, sulfosuccinic acid diester type, α-olefin (carbon number 12 to 18) sulfonate, Igepon T type, etc.] and phosphorus Acid ester salt [higher alcohol (carbon number 8 to 60) phosphate ester salt, higher alcohol (carbon number 8 to 60) EO adduct phosphate ester salt, alkyl (carbon number 4 to 60) phenol EO adduct phosphate ester Salt, etc.].
Examples of the salt include alkali metal (sodium, potassium, etc.) salt, alkaline earth metal (calcium, magnesium, etc.) salt, ammonium salt, alkylamine (C1-20) salt and alkanolamine (C2-12). For example, mono-, di- and triethanolamine) salts.
[0024]
(C3) includes quaternary ammonium salt type [tetraalkyl (4 to 100 carbon atoms) ammonium salt such as lauryltrimethylammonium chloride, didecyldimethylammonium chloride, dioctyldimethylammonium bromide, stearyltrimethylammonium bromide; 3-80) benzylammonium salts, such as lauryldimethylbenzylammonium chloride (benzalkonium chloride); alkyl (2-60 carbons) pyridinium salts, such as cetylpyridinium chloride; polyoxyalkylene (2-4 carbons) tri Alkyl ammonium salts such as polyoxyethylene trimethyl ammonium chloride; sapamine type quaternary ammonium salts such as stearamide ethyl diethyl methyl Ammonium methosulphate], amine salt type [aliphatic higher amines (12 to 60 carbon atoms, such as laurylamine, stearylamine, cetylamine, hardened tallow amine, rosinamine, etc.) Salt or organic acid (C2-C22, for example, acetic acid, propionic acid, lauric acid, oleic acid, benzoic acid, succinic acid, adipic acid, azelaic acid) salt; higher fatty acid (lower C1-C11) fatty acid ( C12-24, e.g., stearic acid, oleic acid) salts; inorganic acid (above) salts or organic acid (above) salts such as EO adducts of aliphatic amines (C1-30); 3 Inorganic acids (such as triethanolamine monostearate, stearamide ethyl diethylmethylethanolamine, etc.) ) Salts or organic acids (above one) salts], and others.
[0025]
Examples of (C4) include amino acid type amphoteric surfactants [higher alkylamine (carbon number 12 to 18) sodium propionate and the like], betaine type amphoteric surfactants [alkyl (carbon number 12 to 18) dimethyl betaine, alkyl ( Carbon number 12-18) dihydroxyethyl betaine, coconut oil fatty acid amide propyl betaine, etc.], sulfate ester type amphoteric surfactant [higher alkyl (carbon number 8-18) amine sulfate ester sodium salt, hydroxyethyl imidazoline sulfate sodium salt Salt], sulfonate-type amphoteric surfactant (pentadecylsulfotaurine, imidazoline sulfonic acid, etc.), phosphate ester-type amphoteric surfactant [glycerin higher fatty acid (carbon number 8-22) esterified phosphoric acid Ester amine salts] and the like.
[0026]
Among (C1) to (C4), (C1) and (C2) are preferable from the viewpoints of detergency and corrosion resistance, and (C1) is more preferable. The amount of (C) used is usually 30% or less, preferably 1 to 20%, based on the total weight of the cleaning agent.
[0027]
As the hydrophilic solvent (D), solubility in water at 20 ° C. (g / 100 gH2O) is 3 or more, water-soluble glycol ethers (D1) having one hydroxyl group or no hydroxyl group in the molecule, and water-soluble amide (D2).
[0028]
(D1)
(D11); an alkyl (carbon number 1-4) ether of ethylene glycol, such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether,
(D12); alkyl (C1-C4) ethers of diethylene glycol, such as diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether;
(D13); alkyl ethers of mono or dipropylene glycol or triethylene glycol (1 to 4 carbon atoms), such as propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether and triethylene glycol monoethyl ether;
(D14); other glycol ethers such as 3-methyl-3-methoxy-1-butanol,
(D15); alkyl (C1-4) esters of (D11), such as ethylene glycol monomethyl ether acetate and ethylene glycol monoethyl ether acetate,
(D16); alkyl (C1-4) esters of (D12), such as diethylene glycol monoethyl ether acetate and diethylene glycol monobutyl ether acetate,
(D17); alkyl (C1-4) esters of (D13), such as propylene glycol monomethyl ether acetate and triethylene glycol monoethyl ether acetate,
(D18); alkyl (C1-4) esters of (D14), such as 3-methyl-3-methoxy-1-butanol acetate.
Among (D1), (D12), (D13), (D14) and (D18) are preferable from the viewpoints of detergency, rinseability and corrosion resistance. More preferred are diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether, (D14) and (D18) of (D12).
[0029]
Examples of (D2) include 2-pyrrolidone and N-alkyl (C1-3) -2-pyrrolidone. Of these, N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, Nn-propyl-2-pyrrolidone, N-isopropyl-2-pyrrolidone, and More preferred is N-methyl-2-pyrrolidone. (D1) and (D2) may be used alone or in combination of two or more. Of these, (D2) is preferred.
The amount of (D) to be used is preferably 30% or less, more preferably 1 to 20%, from the viewpoints of detergency, rinse and corrosion resistance, based on the total weight of the detergent.
[0030]
The amount of water used is preferably 94.8% by weight or less, more preferably 1 to 60% by weight, particularly preferably 2 based on the total weight of the cleaning agent from the viewpoints of cleaning properties, rinsing properties and corrosion resistance. ~ 30% by weight.
[0031]
(E) includes rust inhibitors [EO (2 to 10 mol) adducts of amines (having 6 to 30 carbon atoms, such as cyclohexylamine, laurylamine, stearylamine), chromate, nitrite, amine (carbon 6-30) higher fatty acid (carbon number 8-30) salt, alkali metal (sodium, potassium, etc.) salt of dicarboxylic acid (carbon number 12-24), alkanolamide of dicarboxylic acid (carbon number 12-24) ( For example, dodecenyl succinic acid diethanolamide), alkanolamide alkali metal salt of dicarboxylic acid (carbon number 12 to 24) (for example, dodecenyl succinic acid diethanolamide sodium salt)], antioxidant [phenol compound (2,6-di-t -Butyl-4-methylphenol), sulfur-containing compounds (dilaurylthiodipropionate, etc.) , Amine compounds (such as octyl diphenylamine), and a phosphorus compound (such as triphenyl phosphite)], sequestering agents (sodium ethylenediamine tetraacetate, sodium citrate), and the like.
The amount of (E) used is usually 20% or less, preferably 0.5 to 10% for the rust inhibitor, and usually 5% or less, preferably 0.1 to 10% for the antioxidant based on the total weight of the detergent. 1%, sequestering agent is usually 20% or less, preferably 0.5 to 10%.
[0032]
The viscosity of the cleaning agent of the present invention at 25 ° C. is usually 2 to 300 mm.2/ S, preferably from 3 to 100 mm from the viewpoint of detergency and rinsability2/ S, more preferably 4 to 50 mm2/ S. The viscosity can be measured with a viscometer such as Ostwald or Ubbelohde.
The pH (10% aqueous solution) of the cleaning agent of the present invention is usually from 10 to 14, and preferably from 10.5 to 13.5 from the viewpoints of cleaning properties and corrosion resistance.
[0033]
The use to which the cleaning agent of the present invention can be applied is not particularly limited, and can be widely used for cleaning electronic parts and the like in which aluminum is used for some or all of the parts. For example, glass substrates for liquid crystal panels (cleaning before alignment film patterning, peeling cleaning of defective alignment films), printed boards, plasma display glass substrates, electronic components such as thermal heads, air conditioner cooling fins, air cleaner aluminum electrode plates, Examples include electric parts such as electric razor blades, aluminum building materials, and the like. Examples of the cleaning object (dirt) include organic substances such as oil, fingerprints, resins, and organic particles, and inorganic substances such as inorganic particles (for example, glass powder, ceramic powder, and metal powder). Among these, the cleaning agent of the present invention is particularly preferably used for cleaning a glass substrate for a liquid crystal panel (cleaning of the glass substrate before thinning the alignment film, cleaning of the glass substrate in which the alignment film becomes defective). Can do.
[0034]
For example, as a method for peeling and cleaning the alignment film of the glass substrate for a liquid crystal panel using the cleaning agent of the present invention, a cleaning method using ultrasonic cleaning, shower cleaning, spray cleaning, dipping, immersion rocking, and a combination thereof is applied. it can. The washing temperature is usually about 10 to 70 ° C, preferably about 15 to 60 ° C. The washing time is usually 0.2 to 120 minutes, preferably 0.5 to 30 minutes. The rinsing temperature with water is usually from 5 to 90 ° C., preferably from 10 to 70 ° C. As the rinsing method, the same method as the above washing method can be applied. After rinsing, a clean glass substrate for a liquid crystal panel is obtained by heating and drying at 50 to 150 ° C., preferably 60 to 100 ° C. for 1 to 120 minutes, preferably 3 to 60 minutes, and can be reused.
[0035]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples, but the present invention is not limited thereto. In the following, parts and% indicate parts by weight and% by weight.
First, the composition of the cleaning agent components used in the examples and comparative examples, the cleaning test, and the corrosion test method are shown.
[0036]
1. Composition of cleaning ingredients
A1-1: Sodium hydroxide (20% aqueous solution)
A1-2: Potassium hydroxide (20% aqueous solution)
A7-1: Tetramethylammonium hydroxide (15% aqueous solution)
A7-2: Tetraethylammonium hydroxide (15% aqueous solution)
A7-3: Tetra-n-butylammonium hydroxide
B1-1: Ethylene glycol
B1-2: propylene glycol
B1-3: Diethylene glycol
B2-1: Glycerin
B2-2: Diglycerin
B3-1: Triethylene glycol
C1-1: EO 9 mol adduct of higher alcohol (mixture of 16 to 18 carbon atoms)
C2-1: Sodium salt of di-2-ethylhexyl sulfosuccinate
(70% aqueous solution)
D2-1: N-methyl-2-pyrrolidone
Anticorrosive agent-1: EO2 molar adduct of cyclohexylamine
Rust inhibitor-2: dodecenyl succinic acid diethanolamide sodium salt
[0037]
2. Alignment film peelability
A glass substrate test in which a semi-fired vertically oriented polyimide film (film thickness 1 μm) is adhered by applying a polyimide resin on an ITO film (indium tin oxide film) formed in advance on a glass substrate and baking at 80 ° C. Create a piece (25 x 25 mm, thickness 0.75 mm), immerse it in a cleaning agent (25 ° C) for a specified time, place the test piece on a stainless steel basket, rinse with ion-exchanged water for 1 minute, and then backside The same aspect was rinsed. Next, the test piece was dried in a circulating dryer at 70 ° C. for 10 minutes and then observed with a microscope to evaluate the alignment film peelability in the following five stages.
[0038]
3. Corrosive
A glass substrate test piece (25 × 25 mm, thickness 0.75 mm) to which an aluminum thin film (thickness 0.1 μm) is adhered is immersed in a cleaning agent (25 ° C.) for a predetermined time, and the aluminum thin film is completely removed and the test piece is transparent. The time taken to become the corrosion time was measured. The longer the corrosion time, the better the corrosion resistance.
[0039]
Examples 1-13, Comparative Examples 1-3
Tables 1 and 2 show the formulation and performance evaluation results of the detergent.
[0040]
[Table 1]
[0041]
[Table 2]
[0042]
As shown in Comparative Example 1 in Table 1, the semi-fired vertical alignment polyimide film cannot be peeled only by the release solvent (N-methyl-2-pyrrolidone: release solvent for semi-fired horizontal alignment polyimide film). In addition, as shown in Comparative Example 2, when an alkaline agent is used in combination with this solvent, the peelability of the alignment film is improved, but the corrosion resistance is extremely deteriorated (corrosion time is 3 minutes), and a rust inhibitor is added. However, the corrosion resistance is not improved so much (Comparative Example 3) and it cannot withstand actual use.
The cleaning agents according to the present invention described in Tables 1 and 2 (Examples 1 to 13) can peel the semi-fired vertically-aligned polyimide film in 1 to 2 minutes, and the corrosion time is very long as 2 hours or more. It is good and can be used without problems.
[0043]
【The invention's effect】
Since the cleaning agent of the present invention is excellent in aluminum corrosion resistance, for example, the semi-fired vertically-aligned polyimide film can be peeled and cleaned in a short time without damaging the aluminum wiring of the glass substrate for liquid crystal panels and the color filter member. . Therefore, in the alignment film peeling and cleaning process (glass substrate regeneration process), not only the regeneration of the conventional glass substrate but also the aluminum wiring and the color filter member can be simultaneously recycled.
In addition, since the cleaning agent of the present invention is also excellent in the ability to remove oil, fingerprints, resins and particles, not only for electronic parts such as glass substrates for liquid crystal panels, but also for electrical parts, metal parts, building materials, etc. It can be applied to applications and is extremely useful.
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Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7442675B2 (en) * | 2003-06-18 | 2008-10-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Cleaning composition and method of cleaning semiconductor substrate |
CN101010421B (en) * | 2004-08-31 | 2011-08-03 | 三洋化成工业株式会社 | Surfactant |
JP2007107069A (en) * | 2005-10-17 | 2007-04-26 | Chuo Motor Wheel Co Ltd | Surface treatment method for aluminum-based substrate |
US20070099810A1 (en) * | 2005-10-27 | 2007-05-03 | Hiroshi Matsunaga | Cleaning liquid and cleaning method |
JP2008007660A (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Sanyo Chem Ind Ltd | Cleaning agent |
JP2008138072A (en) * | 2006-12-01 | 2008-06-19 | The Inctec Inc | Detergent for adhesive |
JP5489452B2 (en) * | 2008-12-16 | 2014-05-14 | ライオン株式会社 | Liquid crystal panel cleaning composition and liquid crystal panel cleaning method |
KR101673589B1 (en) * | 2009-10-30 | 2016-11-07 | 동우 화인켐 주식회사 | A detergent composition for a glass substrate of flat panel display device |
JP2013075950A (en) * | 2011-09-29 | 2013-04-25 | Kaneko Kagaku:Kk | Solvent composition for dissolving synthetic resin |
WO2014003112A1 (en) * | 2012-06-29 | 2014-01-03 | 花王株式会社 | Method for producing alkali detergent composition for steel plate |
JP2017026645A (en) * | 2013-12-03 | 2017-02-02 | Jsr株式会社 | Resist remover and resist removing method |
JP6370653B2 (en) * | 2014-09-16 | 2018-08-08 | 朝日化学工業株式会社 | Corrosion inhibitor composition and cleaning liquid composition |
JP6165905B2 (en) * | 2016-03-01 | 2017-07-19 | 株式会社カネコ化学 | Solvent composition for dissolving synthetic resin |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5147447B2 (en) * | 1972-11-21 | 1976-12-15 | ||
JPS5916600B2 (en) * | 1976-07-30 | 1984-04-16 | 旭電化工業株式会社 | Cleaning agent for ovens, grills, etc. |
WO1988005813A1 (en) * | 1987-02-05 | 1988-08-11 | Macdermid, Incorporated | Photoresist stripper composition |
JP2906590B2 (en) * | 1990-06-14 | 1999-06-21 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Surface treatment agent for aluminum wiring semiconductor substrate |
JPH04187788A (en) * | 1990-11-20 | 1992-07-06 | Nippon Parkerizing Co Ltd | Method for washing aluminum or aluminum alloy |
JPH06108092A (en) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Lion Corp | Strongly alkaline liquid detergent composition |
JPH07247498A (en) * | 1994-03-09 | 1995-09-26 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | Cleanser for semiconductor device and method for forming wiring pattern |
JPH07283204A (en) * | 1994-04-13 | 1995-10-27 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | Semiconductor device washing agent and wiring pattern forming method |
JPH08222574A (en) * | 1995-02-15 | 1996-08-30 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | Manufacture of semiconductor device |
JPH08325764A (en) * | 1995-05-25 | 1996-12-10 | Nippon Hyomen Kagaku Kk | Removing agent of tin oxide |
JP2949574B2 (en) * | 1997-01-09 | 1999-09-13 | 花王株式会社 | Cleaning composition for resin stains |
JPH10289891A (en) * | 1997-04-11 | 1998-10-27 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | Semiconductor circuit cleaning agent and manufacture of semiconductor circuit by use thereof |
JP4044215B2 (en) * | 1998-02-25 | 2008-02-06 | 花王株式会社 | Release agent composition |
JPH11316465A (en) * | 1998-03-03 | 1999-11-16 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Treating liquid after ashing and treating method using the same |
JP4346712B2 (en) * | 1998-11-20 | 2009-10-21 | スピードファム株式会社 | Wafer edge polishing method |
JP4283952B2 (en) * | 1999-10-12 | 2009-06-24 | 多摩化学工業株式会社 | Cleaning liquid composition for non-ferrous metal cleaning |
JP2001214200A (en) * | 2000-02-04 | 2001-08-07 | Sumitomo Chem Co Ltd | Detergent liquid for electronic part |
US6531436B1 (en) * | 2000-02-25 | 2003-03-11 | Shipley Company, L.L.C. | Polymer removal |
US6498131B1 (en) * | 2000-08-07 | 2002-12-24 | Ekc Technology, Inc. | Composition for cleaning chemical mechanical planarization apparatus |
JP2002329712A (en) * | 2001-05-02 | 2002-11-15 | Seiko Epson Corp | Method for manufacturing semiconductor device and semiconductor device |
-
2003
- 2003-03-31 JP JP2003096356A patent/JP3799026B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109267074A (en) * | 2018-11-29 | 2019-01-25 | 苏州市神顺新晨科技有限公司 | A kind of cleaning agent for metal parts |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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