JP2006233029A - Alkaline detergent - Google Patents

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JP2006233029A
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Koji Kawaguchi
幸治 川口
Kazumichi Suzuki
一充 鈴木
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Sanyo Chemical Industries Ltd
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Sanyo Chemical Industries Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an alkaline detergent which has an excellent non-corrosivity to aluminum, since the conventional alkaline detergents easily corrode non-ferrous metals such as aluminum and therefore are unable to be used for cleaning electronic parts at least for a portion of which aluminum is used. <P>SOLUTION: The alkaline detergent contains (A) an organic alkali and (B) one or more than one kind of hydrophilic organic solvent selected from the group consisting of water, (B1) a monool with a molecular weight of ≥32 to a number average molecular weight of 500, (B2) a diol with a molecular weight of ≥62 to a number average molecular weight of 250, (B3) a 3-9 valent polyol with a molecular weight of ≥92 to a number average molecular weight of 400 and (B4) an alkyl ether of (B1) or (B2). The content of an alkali metal or an alkaline earth metal of the alkaline detergent is ≤1,000 ppm. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、電子部品、電気部品、アルミ建材等に付着している油脂、樹脂、無機パーティクルなどを除去するのに使用されるアルカリ洗浄剤に関する。さらに詳しくは液晶パネルの垂直配向ポリイミド膜(とくに半焼成膜)の剥離液等として使用されるアルカリ洗浄剤に関する。   The present invention relates to an alkaline cleaner used to remove oils and fats, resins, inorganic particles and the like adhering to electronic parts, electric parts, aluminum building materials and the like. More specifically, the present invention relates to an alkali cleaning agent used as a stripping solution for a vertically aligned polyimide film (particularly a semi-baked film) of a liquid crystal panel.

従来より、アルカリ洗浄剤は中性洗浄剤に比べて、油脂、樹脂、無機パーティクル等を除去する能力に優れることから、電子部品、電気部品、アルミ建材等の生産現場において幅広く使用されている。   Conventionally, alkaline detergents have been widely used in production sites for electronic parts, electrical parts, aluminum building materials and the like because they are superior in ability to remove oils, fats, resins, inorganic particles, and the like compared to neutral detergents.

しかしながら、アルカリ洗浄剤はアルミなどの非鉄金属を容易に腐蝕させるため、アルミが部品の少なくとも一部に使用されている電子部品等の洗浄には使用できないのが現状であった。例えば、電子部品とくに液晶パネルのポリイミド配向膜は、広視野角の液晶パネルの要望の増大とともに従来の水平配向タイプに代わって垂直配向タイプのポリイミド配向膜が増える趨勢にある。水平配向タイプは完全焼成(焼成温度:約180℃)前の半焼成状態(約80℃で脱溶剤した半硬化膜)であれば、その不具合品はN−メチルピロリドンなどの溶剤でアルミ薄膜(配線)を腐蝕することなく配向膜を剥離できるが、垂直配向タイプの場合には、半焼成状態であっても溶剤では配向膜を剥離できないことから、アルカリ洗浄剤による剥離が行われている(例えば、特許文献1参照)。その際、ガラス基板のアルミ薄膜(配線)は腐蝕されるためアルミ薄膜部分をワックス等で保護した上で洗浄し、その後炭化水素等の溶剤でワックスを除去してガラス基板を再生させるか、配向膜と同時にアルミ薄膜(配線)を完全に剥離・溶解させてからガラス基板だけを再生させる方法がとられていた。   However, since the alkaline cleaning agent easily corrodes non-ferrous metals such as aluminum, it cannot be used for cleaning electronic parts and the like in which aluminum is used for at least a part of the parts. For example, polyimide alignment films for electronic parts, particularly liquid crystal panels, tend to increase in number of vertical alignment type polyimide alignment films in place of conventional horizontal alignment types as the demand for liquid crystal panels with a wide viewing angle increases. If the horizontal alignment type is a semi-baked state (semi-cured film desolvated at about 80 ° C.) before complete baking (baking temperature: about 180 ° C.), the defective product is an aluminum thin film (N-methylpyrrolidone) with a solvent such as N-methylpyrrolidone. The alignment film can be peeled off without corroding the wiring), but in the case of the vertical alignment type, since the alignment film cannot be peeled off with a solvent even in a semi-baked state, peeling with an alkaline cleaner is performed ( For example, see Patent Document 1). At that time, since the aluminum thin film (wiring) on the glass substrate is corroded, the aluminum thin film portion is protected with wax or the like and then washed, and then the wax is removed with a solvent such as hydrocarbon to regenerate the glass substrate, or orientation. At the same time as the film, the aluminum thin film (wiring) was completely peeled and dissolved, and then only the glass substrate was regenerated.

特開平6−306661号公報JP-A-6-306661

本発明の目的は、アルミ非腐蝕性に優れたアルカリ洗浄剤、洗浄方法および洗浄された電子部品等を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an alkaline cleaner excellent in non-corrosiveness of aluminum, a cleaning method, a cleaned electronic component, and the like.

本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究した結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、有機アルカリ(A)、水、並びに分子量32〜数平均分子量500のモノオール(B1)、分子量62〜数平均分子量250のジオール(B2)、分子量92〜数平均分子量400の3〜9価のポリオール(B3)、および(B1)もしくは(B3)のアルキルエーテル(B4)からなる群から選ばれる1種または2種以上の親水性有機溶剤(B)を含有し、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の含有率が1,000ppm以下であることを特徴とするアルカリ洗浄剤;該洗浄剤を用いて、超音波、シャワー、スプレー、浸漬および浸漬揺動洗浄からなる群から選ばれる1種または2種以上の方法で洗浄することを特徴とする電子部品、電気部品またはアルミ建材の洗浄方法;該洗浄方法で洗浄し、リンスした後、乾燥して得られる電子部品、電気部品またはアルミ建材である。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has reached the present invention.
That is, the present invention comprises an organic alkali (A), water, a monool (B1) having a molecular weight of 32 to a number average molecular weight of 500, a diol (B2) having a molecular weight of 62 to a number average molecular weight of 250, a molecular weight of 92 to a number average molecular weight of 400. Containing one or more hydrophilic organic solvents (B) selected from the group consisting of 3 to 9-valent polyols (B3) and alkyl ethers (B4) of (B1) or (B3), and an alkali metal Or an alkaline detergent having an alkaline earth metal content of 1,000 ppm or less; using the detergent, selected from the group consisting of ultrasonic, shower, spray, immersion and immersion rocking cleaning Cleaning method of electronic parts, electric parts or aluminum building materials characterized by cleaning by one or more kinds of methods; washing, rinsing, drying Electronic components obtained by, is an electrical component or aluminum building materials.

本発明のアルカリ洗浄剤は、下記の効果を奏する。
(1)アルミ非腐蝕性に優れる。
(2)液晶パネル用ガラス基板のアルミ配線、カラーフィルター部材にダメージを与えずに半焼成垂直配向ポリイミド膜を短時間に剥離・洗浄できる。
(3)配向膜剥離洗浄工程(ガラス基板再生工程)において従来のガラス基板の再生だけでなく、アルミ配線、カラーフィルター部材も同時に再生使用できる。
(4)油分、指紋、樹脂および無機パーティクルを除去する能力にも優れる。
The alkaline cleaner of the present invention has the following effects.
(1) Excellent aluminum non-corrosiveness.
(2) The semi-fired vertically aligned polyimide film can be peeled and washed in a short time without damaging the aluminum wiring and color filter member of the glass substrate for liquid crystal panel.
(3) In the alignment film peeling and cleaning process (glass substrate regeneration process), not only the regeneration of the conventional glass substrate but also the aluminum wiring and the color filter member can be regenerated and used simultaneously.
(4) Excellent ability to remove oil, fingerprint, resin and inorganic particles.

本発明における有機アルカリ(A)には、以下の(A1)〜(A5)およびこれらの混合物が含まれる。   The organic alkali (A) in the present invention includes the following (A1) to (A5) and mixtures thereof.

(A1)ヒドロキシルアミン[炭素数(以下、Cと略記)2〜22]
モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン等;
(A1) Hydroxylamine [carbon number (hereinafter abbreviated as C) 2-22]
Monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, N, N-dimethylethanolamine and the like;

(A2)モノアミン(C1〜24)
脂肪族アミン[1級アミン(エチルアミン、ブチルアミン、ラウリルアミン等)、2級アミン(ジエチルアミン、ジブチルアミン等)、3級アミン(トリメチルアミン、トリエチルアミン等)等]、脂環式アミン[1級アミン(シクロヘキシルアミン等)、2級アミン(ジシクロヘキシルアミン等)等]、複素環式アミン[2級アミン(モルホリン、ピペリジン、2−ピペコリン等)、3級アミン(N−メチルピペリジン、N−メチルモルホリン等)等]および芳香環含有アミン[1級アミン(アニリン、ベンジルアミン等)、2級アミン(N−メチルアニリン等)、3級アミン(N−ジメチルアニリン、ピリジン、キノリン等)等];
(A2) Monoamine (C1-24)
Aliphatic amines [primary amines (ethylamine, butylamine, laurylamine, etc.), secondary amines (diethylamine, dibutylamine, etc.), tertiary amines (trimethylamine, triethylamine, etc.), alicyclic amines [primary amine (cyclohexyl) Amines, etc.), secondary amines (dicyclohexylamine, etc.)], heterocyclic amines [secondary amines (morpholine, piperidine, 2-pipecoline, etc.), tertiary amines (N-methylpiperidine, N-methylmorpholine, etc.), etc. ] And aromatic ring-containing amines [primary amines (aniline, benzylamine, etc.), secondary amines (N-methylaniline, etc.), tertiary amines (N-dimethylaniline, pyridine, quinoline, etc.), etc.];

(A3)ポリアミン(C2〜18)
(A3−1)脂肪族ポリアミン(C2〜18)
C2〜6のアルキレンジアミン(エチレンジアミン、プロピレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等)、ポリアルキレン(C2〜6)ポリアミン[ジエチレントリアミン、イミノビスプロピルアミンビス(ヘキサメチレン)トリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン等]、これらのアルキル(C1〜4)またはヒドロキシアルキル(C2〜4)置換体[ジアルキル(C1〜3)アミノプロピルアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、アミノエチルエタノールアミン、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサメチレンジアミン、メチルイミノビスプロピルアミン等]、脂環または複素環含有脂肪族ポリアミン〔3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン等〕等
(A3−2)脂環式ポリアミン(C4〜15)
1,3−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、メンセンジアミン、4,4’−メチレンジシクロヘキサンジアミン(水添メチレンジアニリン)等
(A3−3)複素環式ポリアミン(C4〜15)
ピペラジン、N−アミノエチルピペラジン、1,4−ジアミノエチルピペラジン、1,4ビス(2−アミノ−2−メチルプロピル)ピペラジン等
(A3−4)芳香環含有ポリアミン(C6〜20)
非核置換芳香環含有ポリアミン[1,2−、1,3−および1,4−フェニレンジアミン、2,4’−および4,4’−ジフェニルメタンジアミン、クルードジフェニルメタンジアミン(ポリフェニルポリメチレンポリアミン)、ベンジジン、チオジアニリン、2,6−ジアミノピリジン、m−アミノベンジルアミン、トリフェニルメタン−4,4’,4”−トリアミン、ナフチレンジアミン等]、核置換アルキル基(C1〜4)を有する芳香環含有ポリアミン[2,4−および2,6−トリレンジアミン、ジエチルトリレンジアミン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルジフェニルメタン、1,3−ジメチル−2,4−ジアミノベンゼン、1,3−ジメチル−2,6−ジアミノベンゼン、2,4−ジアミノメシチレン、1,3,5−トリエチル−2,4−ジアミノベンゼン、1−メチル−3,5−ジエチル−2,4−ジアミノベンゼン、1−メチル−3,5−ジエチル−2,6−ジアミノベンゼン、2,3−ジメチル−1,4−ジアミノナフタレン、3,3’,5,5’−テトラメチルベンジジン、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン等]、2級アミノ基を有する芳香環含有ポリアミン〔上記の芳香環含有ポリアミンの−NH2の一部または全部が−NH−R(RはC1〜4、例えばメチル、エチル等の低級アルキル基)で置換されたもの[4,4’−ジ(メチルアミノ)ジフェニルメタン、1−メチル−2−メチルアミノ−4−アミノベンゼン等]等〕;
(A3) Polyamine (C2-18)
(A3-1) Aliphatic polyamine (C2-18)
C2-6 alkylenediamine (ethylenediamine, propylenediamine, trimethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, etc.), polyalkylene (C2-6) polyamine [diethylenetriamine, iminobispropylaminebis (hexamethylene) triamine, triethylene Tetramine, tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine, etc.], alkyl (C1-4) or hydroxyalkyl (C2-4) substitution products thereof [dialkyl (C1-3) aminopropylamine, trimethylhexamethylenediamine, aminoethylethanol Amine, 2,5-dimethyl-2,5-hexamethylenediamine, methyliminobispropylamine, etc.], alicyclic or heterocyclic-containing aliphatic polyamine [3,9-bis (3-amino) Propyl) -2,4,8,10-spiro [5,5] undecane] and the like (A3-2) alicyclic polyamines (C4~15)
1,3-diaminocyclohexane, isophoronediamine, mensendiamine, 4,4′-methylenedicyclohexanediamine (hydrogenated methylenedianiline), etc. (A3-3) heterocyclic polyamine (C4-15)
Piperazine, N-aminoethylpiperazine, 1,4-diaminoethylpiperazine, 1,4bis (2-amino-2-methylpropyl) piperazine, etc. (A3-4) Aromatic ring-containing polyamine (C6-20)
Non-nuclear substituted aromatic ring-containing polyamine [1,2-, 1,3- and 1,4-phenylenediamine, 2,4′- and 4,4′-diphenylmethanediamine, crude diphenylmethanediamine (polyphenylpolymethylenepolyamine), benzidine , Thiodianiline, 2,6-diaminopyridine, m-aminobenzylamine, triphenylmethane-4,4 ′, 4 ″ -triamine, naphthylenediamine, etc.], containing an aromatic ring having a nucleus-substituted alkyl group (C1-4) Polyamines [2,4- and 2,6-tolylenediamine, diethyltolylenediamine, 4,4′-diamino-3,3′-dimethyldiphenylmethane, 1,3-dimethyl-2,4-diaminobenzene, 1, 3-dimethyl-2,6-diaminobenzene, 2,4-diaminomesitylene, 1,3,5-trie 2,4-diaminobenzene, 1-methyl-3,5-diethyl-2,4-diaminobenzene, 1-methyl-3,5-diethyl-2,6-diaminobenzene, 2,3-dimethyl-1 , 4-diaminonaphthalene, 3,3 ′, 5,5′-tetramethylbenzidine, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, etc.] Aroma having a secondary amino group Ring-containing polyamine [in which part or all of —NH 2 of the above aromatic ring-containing polyamine is substituted with —NH—R (where R is a C 1-4 lower alkyl group such as methyl, ethyl, etc.) [4, 4 '-Di (methylamino) diphenylmethane, 1-methyl-2-methylamino-4-aminobenzene and the like]];

(A3−5)その他のポリアミン〔数平均分子量[以下、Mnと略記。測定はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)による]200〜2,000〕
ポリエーテルポリアミン[ポリエーテルポリオール(ポリアルキレングリコール等)のシアノエチル化物の水素化物等]、ポリエチレンイミン、ポリビニルアミン、ポリ(ジ)アリルアミン等;
(A3-5) Other polyamines [number average molecular weight [hereinafter abbreviated as Mn. Measurement is by gel permeation chromatography (GPC)] 200-2,000]
Polyether polyamine [hydride of cyanoethylated product of polyether polyol (polyalkylene glycol, etc.), polyethyleneimine, polyvinylamine, poly (di) allylamine, etc .;

(A4)アミジン骨格を含有する化合物
グアニジン化合物〔グアニジン、メチルグアニジン、テトラメチルグアニジン、エチルグアニジン、1,3,4,6,7,8−ヘキサヒドロ−2H−ピリミド[1,2−a]ピリミジン、1,3,4,6,7,8−ヘキサヒドロ−1−メチル−2H−ピリミド[1,2−a]ピリミジン等〕、環式および非環式アミジン化合物〔1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン−7、1,6−ジアザビシクロ[4,3,0]ノネン−5等〕等;
(A4) Compound containing amidine skeleton Guanidine compound [guanidine, methylguanidine, tetramethylguanidine, ethylguanidine, 1,3,4,6,7,8-hexahydro-2H-pyrimido [1,2-a] pyrimidine, 1,3,4,6,7,8-hexahydro-1-methyl-2H-pyrimido [1,2-a] pyrimidine etc.], cyclic and acyclic amidine compounds [1,8-diazabicyclo [5,4 , 0] undecene-7,1,6-diazabicyclo [4,3,0] nonene-5 etc.] and the like;

(A5)下記一般式(1)で表される有機アルカリ

Figure 2006233029
(A5) Organic alkali represented by the following general formula (1)
Figure 2006233029

式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ同一でも異なっていてもよいC1〜24、好ましくは1〜14の炭化水素基または−(A1O)pHで表される基であり、A1はC2〜4のアルキレン基、pは1〜6の整数を表す。
C1〜24の炭化水素基としては、直鎖もしくは分岐の脂肪族飽和または不飽和炭化水素基、脂環式炭化水素基および芳香環含有炭化水素基等が挙げられる。
直鎖もしくは分岐の脂肪族飽和炭化水素基としては、アルキル(メチル、エチル、n−、i−、sec−およびt−ブチル、オクチル、2−エチルへキシル、オクタデシル等)基;直鎖もしくは分岐の脂肪族不飽和炭化水素基としては、アルケニル(ビニル、プロペニル、アリル、ブテニル等)基;脂環式炭化水素基としては、シクロアルキル基(シクロヘキシル基等);芳香環含有炭化水素基としては、アリール(フェニル、ナフチル等)基、アラルキル(ベンジル、フェネチル等)基、アルキルアリール(メチルフェニル、エチルフェニル、ノニルフェニル、メチルナフチル、エチルナフチル)基等が挙げられる。
これらの炭化水素基のうち洗浄性の観点から好ましいのは直鎖もしくは分岐の脂肪族炭化水素基、さらに好ましいのはアルキル基およびアルケニル基である。
1〜R4のCが24以下であると洗浄性(または剥離性、以下同じ)に優れる。
In the formula, each of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is the same or different and is represented by C1-24, preferably 1-14 hydrocarbon group or — (A 1 O) p H. A 1 represents a C2-4 alkylene group, and p represents an integer of 1-6.
Examples of the C1-24 hydrocarbon group include linear or branched aliphatic saturated or unsaturated hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups, and aromatic ring-containing hydrocarbon groups.
As the linear or branched aliphatic saturated hydrocarbon group, an alkyl (methyl, ethyl, n-, i-, sec- and t-butyl, octyl, 2-ethylhexyl, octadecyl, etc.) group; linear or branched As the aliphatic unsaturated hydrocarbon group, an alkenyl (vinyl, propenyl, allyl, butenyl, etc.) group; an alicyclic hydrocarbon group, a cycloalkyl group (cyclohexyl group, etc.); an aromatic ring-containing hydrocarbon group as An aryl (phenyl, naphthyl, etc.) group, an aralkyl (benzyl, phenethyl, etc.) group, an alkylaryl (methylphenyl, ethylphenyl, nonylphenyl, methylnaphthyl, ethylnaphthyl) group and the like.
Of these hydrocarbon groups, a linear or branched aliphatic hydrocarbon group is preferable from the viewpoint of detergency, and an alkyl group and an alkenyl group are more preferable.
When C of R 1 to R 4 is 24 or less, the cleaning property (or peelability, the same applies hereinafter) is excellent.

式中、A1としては、エチレン基、プロピレン基およびブチレン基等のC2〜4のアルキレン基が挙げられる。
1のCが4以下であると洗浄性が良好である。pは1〜6(好ましくは1〜3)の整数であり、pが6以下であると洗浄性が良好である。
In the formula, examples of A 1 include C2-4 alkylene groups such as an ethylene group, a propylene group, and a butylene group.
When C of A 1 is 4 or less, the detergency is good. p is an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 3), and if p is 6 or less, the detergency is good.

一般式(1)におけるカチオンの例としては、下記[1]〜[4]のテトラハイドロカルビルアンモニウムカチオン、下記[5]のオキシアルキレン基を有するアンモニウムカチオンおよびこれらの混合物が挙げられる。
[1]C1〜6のアルキル基を4個含むカチオン
テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラ(n−およびi−)プロピルアンモニウム、テトラ(n−、i−およびt−)ブチルアンモニウム、テトラペンチルアンモニウム、テトラヘキシルアンモニウム、トリメチルエチルアンモニウムおよびテトラエチルアンモニウム等;
[2]C1〜6のアルキル基を3個とC7〜24のハイドロカルビル基を1個含むカチオン
トリメチルへプチルアンモニウム、トリメチルオクチルアンモニウム、トリメチルデシルアンモニウム、トリメチルドデシルアンモニウム、トリメチルステアリルアンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウム、トリエチルへキシルアンモニウム、トリエチルオクチルアンモニウム、トリエチルステアリルアンモニウム、トリエチルベンジルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、トリブチルオクチルアンモニウムおよびトリへキシルステアリルアンモニウム等;
[3]C1〜6のアルキル基を2個とC7〜24のハイドロカルビル基を2個含むカチオン
ジメチルジオクチルアンモニウム、ジエチルジオクチルアンモニウムおよびジメチルジベンジルアンモニウム等;
[4]C1〜6のアルキル基を1個とC7〜24のハイドロカルビル基を3個含むカチオン
メチルトリオクチルアンモニウム、エチルトリオクチルアンモニウムおよびメチルオクチルジベンジルアンモニウム等;
Examples of the cation in the general formula (1) include tetrahydrocarbyl ammonium cations of the following [1] to [4], ammonium cations having an oxyalkylene group of the following [5], and mixtures thereof.
[1] A cation containing four C1-6 alkyl groups Tetramethylammonium, tetraethylammonium, tetra (n- and i-) propylammonium, tetra (n-, i- and t-) butylammonium, tetrapentylammonium, Tetrahexylammonium, trimethylethylammonium, tetraethylammonium and the like;
[2] Cation containing three C1-6 alkyl groups and one C7-24 hydrocarbyl group Trimethylheptylammonium, trimethyloctylammonium, trimethyldecylammonium, trimethyldodecylammonium, trimethylstearylammonium, trimethylbenzylammonium , Triethylhexylammonium, triethyloctylammonium, triethylstearylammonium, triethylbenzylammonium, tributylammonium, tributyloctylammonium, trihexylstearylammonium and the like;
[3] Cations containing two C1-6 alkyl groups and two C7-24 hydrocarbyl groups, such as dimethyldioctylammonium, diethyldioctylammonium and dimethyldibenzylammonium;
[4] Cations containing one C1-6 alkyl group and three C7-24 hydrocarbyl groups, such as methyltrioctylammonium, ethyltrioctylammonium and methyloctyldibenzylammonium;

[5]オキシアルキレン基を有するアンモニウム
(i)オキシアルキレン基を1個有するカチオン
ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウム、ヒドロキシエチルトリエチルアンモニウム、ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウム、ヒドロキシプロピルトリエチルアンモニウム、ヒドロキシエチルジメチルエチルアンモニウムおよびヒドロキシエチルジメチルオクチルアンモニウム等;
(ii)オキシアルキレン基を2個有するカチオン
ジヒドロキシエチルジメチルアンモニウム、ジヒドロキシエチルジエチルアンモニウム、ジヒドロキシプロピルジメチルアンモニウム、ジヒドロキシプロピルジエチルアンモニウム、ジヒドロキシエチルメチルエチルアンモニウム、ジヒドロキシエチルメチルオクチルアンモニウムおよびビス(2−ヒドロキシエトキシエチル)オクチルアンモニウム等;
(iii)オキシアルキレン基を3個有するカチオン
トリヒドロキシエチルメチルアンモニウム、トリヒドロキシエチルエチルアンモニウム、トリヒドロキシエチルブチルアンモニウム、トリヒドロキシプロピルメチルアンモニウム、トリヒドロキシプロピルエチルアンモニウムおよびトリヒドロキシエチルオクチルアンモニウム等;
[5] Ammonium having oxyalkylene group (i) Cation having one oxyalkylene group Hydroxyethyltrimethylammonium, hydroxyethyltriethylammonium, hydroxypropyltrimethylammonium, hydroxypropyltriethylammonium, hydroxyethyldimethylethylammonium and hydroxyethyldimethyloctyl Ammonium and the like;
(Ii) Cations having two oxyalkylene groups Dihydroxyethyldimethylammonium, dihydroxyethyldiethylammonium, dihydroxypropyldimethylammonium, dihydroxypropyldiethylammonium, dihydroxyethylmethylethylammonium, dihydroxyethylmethyloctylammonium and bis (2-hydroxyethoxyethyl) ) Octyl ammonium, etc.
(Iii) Cations having three oxyalkylene groups Trihydroxyethylmethylammonium, trihydroxyethylethylammonium, trihydroxyethylbutylammonium, trihydroxypropylmethylammonium, trihydroxypropylethylammonium, trihydroxyethyloctylammonium and the like;

一般式(1)におけるカチオンのうち、洗浄性とリンス性の観点から好ましいのはテトラハイドロカルビルアンモニウム、さらに好ましいのは、上記[1]および[2]、特に好ましいのは[1]、最も好ましいのはテトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウムおよびこれらの併用である。   Of the cations in general formula (1), tetrahydrocarbylammonium is preferred from the viewpoints of detergency and rinsability, more preferred are [1] and [2] above, and [1] is most preferred. Preference is given to tetramethylammonium, tetraethylammonium and combinations thereof.

本発明における(B1)には、C1〜12の脂肪族アルコール、C3〜12の脂環式アルコール、C6〜12の芳香環含有アルコール、これらのアルコールのアルキレンオキシド(以下、AOと略記)[C2〜4、例えばエチレンオキシド(以下EOと略記)、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、以下同じ。]付加物およびこれらの混合物が含まれる。
C1〜12の脂肪族アルコールとしてはメタノール、エタノール、n−およびi−プロパノールおよびn−、i−、sec−およびt−ブタノール等が挙げられ、該アルコールのAO付加物としてはエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびジエチレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
C3〜12の脂環式アルコールとしては、シクロヘキサノールおよび2−メチルシクロヘキサノール等が挙げられ、該アルコールのAO付加物としては、エチレングリコールシクロヘキシルエーテル、ジエチレングリコールシクロヘキシルエーテルおよびプロピレングリコールシクロヘキシルエーテル等が挙げられる。
C6〜12の芳香環含有アルコールとしては、ベンジルアルコール等が挙げられ、該アルコールのAO付加物としては、ベンジルアルコールのAO1〜5モル付加物等が挙げられる。該アルコールには、フェノール化合物[C6〜20、例えばフェノール、o−、m−およびp−クレゾール]のAO付加物、例えばエチレングリコールモノフェニルエーテルおよびジエチレングリコールモノフェニルエーテルも含まれる。
これらのうち洗浄性とアルミ非腐蝕性の観点から好ましいのは、エチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、およびさらに好ましいのはジエチレングリコールモノメチルエーテルである。
(B1) in the present invention includes a C1-12 aliphatic alcohol, a C3-12 alicyclic alcohol, a C6-12 aromatic ring-containing alcohol, an alkylene oxide of these alcohols (hereinafter abbreviated as AO) [C2 -4, for example, ethylene oxide (hereinafter abbreviated as EO), propylene oxide, butylene oxide, and so on. And adducts and mixtures thereof.
Examples of the C1-12 aliphatic alcohol include methanol, ethanol, n- and i-propanol, and n-, i-, sec- and t-butanol. Examples of the AO adduct of the alcohol include ethylene glycol monomethyl ether, Examples include diethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, and diethylene glycol monobutyl ether.
Examples of the C3-12 alicyclic alcohol include cyclohexanol and 2-methylcyclohexanol. Examples of the AO adduct of the alcohol include ethylene glycol cyclohexyl ether, diethylene glycol cyclohexyl ether, and propylene glycol cyclohexyl ether. .
Examples of the C6-12 aromatic ring-containing alcohol include benzyl alcohol, and examples of the AO adduct of the alcohol include an AO 1-5 mol adduct of benzyl alcohol. The alcohols also include AO adducts of phenolic compounds [C6-20, such as phenol, o-, m- and p-cresol], such as ethylene glycol monophenyl ether and diethylene glycol monophenyl ether.
Of these, ethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, and more preferably diethylene glycol monomethyl ether are preferable from the viewpoint of detergency and aluminum non-corrosiveness.

(B1)の分子量は、分子量32〜Mn500、好ましくは分子量56〜Mn400、さらに好ましくは分子量76〜Mn350である。分子量32未満のものは存在せず、Mnが500を超えると洗浄性およびリンス性がが悪くなる。   The molecular weight of (B1) is a molecular weight of 32 to Mn500, preferably a molecular weight of 56 to Mn400, more preferably a molecular weight of 76 to Mn350. Those having a molecular weight of less than 32 do not exist, and if Mn exceeds 500, the cleaning properties and rinsing properties deteriorate.

本発明における(B2)には、アルカンジオール(C2〜8、例えばエチレングリコール、1,2−および1,3−プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオールおよびネオペンチルグリコール)、脂環式ジオール(C6〜15、例えばシクロヘキサン−1,2−、1,3−および1,4−ジオール、シクロペンタン−1,2−および1,3−ジオール並びに水素添加ビスフェノールA)、分子中にエーテル基を1個有するジオール(C2〜8、例えばジエチレングリコールおよびジプロピレングリコール)、並びにこれらの混合物が含まれる。
これらのうち洗浄性とアルミ非腐蝕性の観点から好ましいのは、ジエチレングリコール、およびさらに好ましいのはエチレングリコールおよびプロピレングリコールである。
In the present invention, (B2) includes alkanediol (C2-8, such as ethylene glycol, 1,2- and 1,3-propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol and neopentyl glycol). , Cycloaliphatic diols (C6-15, eg cyclohexane-1,2-, 1,3- and 1,4-diol, cyclopentane-1,2- and 1,3-diol and hydrogenated bisphenol A), molecules Diols having one ether group therein (C2-8, such as diethylene glycol and dipropylene glycol), and mixtures thereof are included.
Of these, diethylene glycol is preferable from the viewpoint of detergency and non-corrosive aluminum, and ethylene glycol and propylene glycol are more preferable.

(B2)の分子量は、分子量62〜数平均分子量250、好ましくは分子量62〜150、さらに好ましくは分子量62〜Mn120である。分子量62未満のものは存在せず、Mnが250を超えると洗浄性およびリンス性が悪くなる。   The molecular weight of (B2) is a molecular weight of 62 to a number average molecular weight of 250, preferably a molecular weight of 62 to 150, and more preferably a molecular weight of 62 to Mn120. Those having a molecular weight of less than 62 do not exist, and if Mn exceeds 250, the detergency and rinsing properties deteriorate.

本発明における(B3)には、3〜9価の多価アルコール、例えば(シクロ)アルカンポリオールおよびそれらの分子内もしくは分子間脱水物[グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトールおよびジペンタエリスリトール、1,2 ,6−ヘキサントリオール、エリスリトール、シクロヘキサントリオール、マンニトール、キシリトール、ソルビタン、ジグリセリン、トリグリセリンその他のポリグリセリン等]、糖類およびその誘導体[例えばショ糖、グルコース、フラクトース、マンノース、ラクトース、およびグリコシド(メチルグルコシド等)]、並びにこれらのAO付加物(付加モル数1〜7モル)が含まれる。
これらのうちで洗浄性とリンス性の観点から好ましいのは、ジグリセリン、トリグリセリンおよびキシリトール、およびさらに好ましいのはグリセリンおよびソルビトールである。
In the present invention, (B3) includes 3 to 9 valent polyhydric alcohols such as (cyclo) alkane polyols and their intramolecular or intermolecular dehydrates [glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, sorbitol and Dipentaerythritol, 1,2,6-hexanetriol, erythritol, cyclohexanetriol, mannitol, xylitol, sorbitan, diglycerin, triglycerin and other polyglycerins, etc.], saccharides and derivatives thereof (eg sucrose, glucose, fructose, mannose) , Lactose, and glycoside (such as methyl glucoside)], and AO adducts thereof (addition mole number: 1 to 7 mol).
Of these, diglycerin, triglycerin and xylitol are preferred from the viewpoints of detergency and rinsing properties, and glycerin and sorbitol are more preferred.

(B3)の分子量は、分子量92〜Mn400、好ましくは分子量92〜Mn350、さらに好ましくは分子量92〜Mn300である。分子量92未満のものは存在せず、Mnが400を超えるとリンス性が悪くなる。   The molecular weight of (B3) is a molecular weight of 92 to Mn400, preferably a molecular weight of 92 to Mn350, and more preferably a molecular weight of 92 to Mn300. Those having a molecular weight of less than 92 do not exist, and when Mn exceeds 400, the rinsing property is deteriorated.

本発明における(B4)は、(B1)、もしくは(B3)のアルキル(C1〜8、好ましくは1〜2)エーテルである。
(B4)としては、(B1)のアルキルエーテル(B4−1)および(B3)のモノ−およびポリ(2価〜9価)アルキルエーテル(B4−2)等が挙げられる。
(B4−1)は下記の一般式(2)で表される。

5O(A1O)n−R6 (2)

[式中、R5およびR6は同一または異なっていてもよいC1〜8の炭化水素基、A1は前記に同じ、nは1〜4の整数を表す。]
(B4−1)の具体例としては、ジエチレングリコールジメチル−およびジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチル−およびジエチルエーテル等が挙げられる。
(B4−2)のうちモノアルキルエーテルとしては、グリセリンモノメチルエーテル、ジグリセリンモノメチルエーテルおよびソルビトールモノメチルエーテル等、ジアルキルエーテルとしては、グリセリン1,2−ジメチルエーテル、グリセリン1,3−ジメチルエーテル、グリセリン1,3−ジエチルエーテルおよびグリセリン1−エチル−2−プロピルエーテル等、およびポリ(3価〜9価)アルキルエーテルとしては、該当する数の水酸基がアルキルエーテル基に置換されたものが挙げられる。
これらのうち洗浄性とアルミ非腐蝕性の観点から好ましいのは、ジエチレングリコールジメチルエーテル、およびさらに好ましいのはジエチレングリコールジエチルエーテルである。
(B4) in the present invention is an alkyl (C1-8, preferably 1-2) ether of (B1) or (B3).
Examples of (B4) include (B1) alkyl ethers (B4-1) and (B3) mono- and poly (divalent to 9-valent) alkyl ethers (B4-2).
(B4-1) is represented by the following general formula (2).

R 5 O (A 1 O) n -R 6 (2)

[Wherein, R 5 and R 6 are the same or different C1-8 hydrocarbon groups, A 1 is the same as above, and n is an integer of 1-4. ]
Specific examples of (B4-1) include diethylene glycol dimethyl- and diethyl ether, triethylene glycol dimethyl- and diethyl ether.
Among (B4-2), as monoalkyl ether, glycerol monomethyl ether, diglycerol monomethyl ether, sorbitol monomethyl ether, etc., and as dialkyl ether, glycerol 1,2-dimethyl ether, glycerol 1,3-dimethyl ether, glycerol 1,3 Examples of diethyl ether and glycerin 1-ethyl-2-propyl ether, and poly (trivalent to 9-valent) alkyl ethers include those in which a corresponding number of hydroxyl groups are substituted with alkyl ether groups.
Of these, diethylene glycol dimethyl ether is preferable from the viewpoint of detergency and non-corrosive aluminum, and diethylene glycol diethyl ether is more preferable.

上記(B)のうち洗浄性とアルミ非腐蝕性の観点から好ましいのは、(B2)/(B3)の併用、および(B1)/(B3)/(B4)の併用、およびさらに好ましいのは(B1)/(B3)の併用である。
併用する場合、洗浄性とアルミ非腐蝕性の観点から、(B1)、(B2)および(B4)の合計と(B3)との重量比は、好ましくは70〜99/1〜30、さらに好ましくは80〜98/2〜20である。
Of the above (B), preferred from the viewpoints of detergency and non-corrosive aluminum are (B2) / (B3), (B1) / (B3) / (B4), and more preferably This is a combination of (B1) / (B3).
When used in combination, the weight ratio of the sum of (B1), (B2) and (B4) to (B3) is preferably 70 to 99/1 to 30, more preferably from the viewpoint of detergency and non-corrosive aluminum. Is 80-98 / 2-20.

本発明における水としてはとくに限定されず、イオン交換水、水道水または蒸留水のいずれでもよい。水道水を使用する場合は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の含有率は、好ましくはそれぞれ100ppm以下である。   It does not specifically limit as water in this invention, Any of ion-exchange water, a tap water, or distilled water may be sufficient. When tap water is used, the content of alkali metal or alkaline earth metal is preferably 100 ppm or less, respectively.

本発明のアルカリ洗浄剤の全重量に基づく(A)、水および(B)の割合は、洗浄性とアルミ非腐蝕性の観点から、(A)は、好ましくは0.1〜25%、さらに好ましくは0.2〜15%、水は、好ましくは2〜50%、さらに好ましくは3〜40%、(B)は好ましくは11〜95%、さらに好ましくは20〜90%である。
また、(B)の重量に基づく(B1)〜(B4)の割合は、(B1)は、好ましくは10〜90%、さらに好ましくは15〜85%、(B2)は、好ましくは0〜80%、さらに好ましくは0〜70%、(B3)は、好ましくは1〜20%、さらに好ましくは2〜15%、(B4)は好ましくは0〜50%、さらに好ましくは0〜40%である
The ratio of (A), water and (B) based on the total weight of the alkaline cleaner of the present invention is preferably 0.1 to 25% from the viewpoint of detergency and non-corrosive aluminum, Preferably 0.2 to 15%, water is preferably 2 to 50%, more preferably 3 to 40%, (B) is preferably 11 to 95%, more preferably 20 to 90%.
The ratio of (B1) to (B4) based on the weight of (B) is preferably (B1) is 10 to 90%, more preferably 15 to 85%, and (B2) is preferably 0 to 80%. %, More preferably 0-70%, (B3) is preferably 1-20%, more preferably 2-15%, and (B4) is preferably 0-50%, more preferably 0-40%.

本発明の洗浄剤には、(A)、(B)および水以外に、必要によりさらに他の親水性有機溶剤(C)、界面活性剤(D)およびその他の添加剤(E)を含有させてもよい。   In addition to (A), (B) and water, the cleaning agent of the present invention may further contain other hydrophilic organic solvent (C), surfactant (D) and other additives (E) as necessary. May be.

他の親水性有機溶剤(C)としては、種々の溶剤、例えば窒素原子含有溶剤[C5〜12、例えばピロリドン化合物(N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、2−ピロリドン等)、およびホルムアミド化合物(N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド等)];ラクトン[C3〜12、例えばプロピオラクトン、ブチロラクトン];ケトン[C3〜12、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール];環状エーテル[C3〜12、例えばテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン];エステル[C3〜12、例えば酢酸エチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、アセト酢酸エチル]が挙げられる。
これらのうちで好ましいのは、窒素原子含有溶剤およびラクトン、さらに好ましいのはN−メチルピロリドンおよびブチロラクトンである。
(C)の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて通常50%以下、好ましくは10〜30%である。
Examples of other hydrophilic organic solvents (C) include various solvents such as nitrogen atom-containing solvents [C5-12, such as pyrrolidone compounds (N-methylpyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, 2-pyrrolidone, etc.), and formamide compounds ( N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, etc.)]; Lactone [C3-12, such as propiolactone, butyrolactone]; Ketone [C3-12, such as methylethylketone, cyclohexanone, diacetone alcohol]; Cyclic ether [C3-3 12, for example tetrahydrofuran, tetrahydropyran]; esters [C3-12, for example ethyl acetate, ethyl lactate, butyl lactate, ethyl acetoacetate].
Of these, nitrogen atom-containing solvents and lactones are preferred, and N-methylpyrrolidone and butyrolactone are more preferred.
The content of (C) is usually 50% or less, preferably 10 to 30%, based on the total weight of the cleaning agent.

界面活性剤(D)としては、非イオン界面活性剤(D1)、アニオン界面活性剤(D2)、カチオン界面活性剤(D3)、両性界面活性剤(D4)およびこれらの混合物が挙げられる。但し、(D1)には、上記の(B)は含まれず、(D3)には一般式(1)で示される有機アルカリは含まれない。   Examples of the surfactant (D) include a nonionic surfactant (D1), an anionic surfactant (D2), a cationic surfactant (D3), an amphoteric surfactant (D4), and a mixture thereof. However, (D1) does not include the above (B), and (D3) does not include the organic alkali represented by the general formula (1).

(D1)としては、AO付加型非イオン界面活性剤〔高級アルコール(C8〜18)、アルキルフェノール(C10〜24)、高級脂肪酸(C8〜30、以下同じ)または高級アルキルアミン(C8〜24)等に直接AOを付加させたもの(Mn158〜200,000);ポリオキシアルキレン(Mn150〜6,000)に高級脂肪酸等を反応させたもの;ジオール[前記(B2)として例示したもの等]または3〜9価のポリオール[前記(B3)として例示したもの]等の水酸基含有化合物に高級脂肪酸を反応させて得られたエステル化物にAOを付加させたもの(Mn250〜30,000)、高級脂肪酸アミドにAOを付加させたもの(Mn200〜30,000)、多価アルコール(前記のもの)アルキル(C8〜60)エーテルにAOを付加させたもの(Mn120〜30,000)等〕、および多価アルコール(C3〜20)型非イオン界面活性剤[多価アルコール脂肪酸(C8〜60)エステル、多価アルコールアルキル(C8〜60)エーテル、脂肪酸(C8〜60)アルカノールアミド等]等が挙げられる。   As (D1), AO addition type nonionic surfactant [higher alcohol (C8-18), alkylphenol (C10-24), higher fatty acid (C8-30, the same below) or higher alkylamine (C8-24), etc. Directly added with AO (Mn 158 to 200,000); polyoxyalkylene (Mn 150 to 6,000) reacted with a higher fatty acid or the like; diol [such as those exemplified as the above (B2)] or 3 A compound obtained by adding AO to an esterified product obtained by reacting a higher fatty acid with a hydroxyl group-containing compound such as a 9-valent polyol [as exemplified above for (B3)], a higher fatty acid amide To which AO is added (Mn 200 to 30,000), polyhydric alcohol (the above) alkyl (C8 to 60) AO added to AO (Mn120 to 30,000, etc.)] and polyhydric alcohol (C3-20) type nonionic surfactant [polyhydric alcohol fatty acid (C8-60) ester, polyhydric alcohol alkyl ( C8-60) ether, fatty acid (C8-60) alkanolamide, etc.] and the like.

(D2)としては、例えば、カルボン酸(C8〜22の飽和または不飽和脂肪酸)またはその塩、カルボキシメチル化物の塩[C8〜16の脂肪族アルコールおよび/またはそのEO(1〜10モル)付加物などのカルボキシメチル化物の塩等]、硫酸エステル塩[高級アルコール硫酸エステル塩(C8〜18の脂肪族アルコールの硫酸エステル塩等)等]、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩[C8〜18の脂肪族アルコールのEO(1〜10モル)付加物の硫酸エステル塩等]、硫酸化油(天然の不飽和油脂または不飽和のロウをそのまま硫酸化して中和した塩)、硫酸化脂肪酸エステル(不飽和脂肪酸の低級アルコールエステルを硫酸化して中和した塩)、硫酸化オレフィン(C12〜18のオレフィンを硫酸化して中和した塩)、スルホン酸塩[アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、スルホコハク酸ジエステル型、α−オレフィン(C12〜18)スルホン酸塩、イゲポンT型等]およびリン酸エステル塩[高級アルコール(C8〜60)リン酸エステル塩、高級アルコール(C8〜60)EO付加物リン酸エステル塩、アルキル(C4〜60)フェノールEO付加物リン酸エステル塩等]が挙げられる。
上記の塩としては、アンモニウム塩、アルキルアミン(C1〜20)塩およびアルカノールアミン(C2〜12、例えばモノー、ジ−およびトリエタノールアミン)塩等が挙げられる。
Examples of (D2) include carboxylic acid (saturated or unsaturated fatty acid of C8-22) or a salt thereof, a salt of carboxymethylated product [addition of aliphatic alcohol of C8-16 and / or EO (1-10 mol) thereof. Salts of carboxymethylated products, etc.], sulfate esters [higher alcohol sulfate esters (such as C8-18 aliphatic alcohol sulfate salts)], etc., higher alkyl ether sulfate salts [C8-18 aliphatic] EO (1-10 mol) adducts of alcohol, etc.], sulfated oil (natural unsaturated oil or salt obtained by sulfating and neutralizing unsaturated wax as it is), sulfated fatty acid ester (unsaturated) A salt obtained by sulfating and neutralizing a lower alcohol ester of a fatty acid), a sulfated olefin (a salt obtained by sulfating and neutralizing an olefin of C12-18), Sulfonates [alkyl benzene sulfonate, alkyl naphthalene sulfonate, sulfosuccinic acid diester type, α-olefin (C12-18) sulfonate, Igepon T type, etc.] and phosphate ester salts [higher alcohol (C8-60) Phosphate ester salt, higher alcohol (C8-60) EO adduct phosphate ester salt, alkyl (C4-60) phenol EO adduct phosphate ester salt, etc.].
Examples of the salts include ammonium salts, alkylamine (C1-20) salts and alkanolamine (C2-12, for example, mono-, di- and triethanolamine) salts.

(D3)としては、第4級アンモニウムのハロゲン塩型[テトラアルキル(C4〜100)アンモニウムクロライド、例えばラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムブロマイド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド;トリアルキル(C3〜80)ベンジルアンモニウムクロライド、例えばラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド(塩化ベンザルコニウム);アルキル(C2〜60)ピリジニウム塩、例えばセチルピリジニウムクロライド;ポリオキシアルキレン(C2〜4)トリアルキルアンモニウムクロライド、例えばポリオキシエチレントリメチルアンモニウムクロライド;サパミン型第4級アンモニウム塩、例えばステアラミドエチルジエチルメチルアンモニウムメトサルフェート]、アミン塩型[高級脂肪族アミン(C12〜60、例えばラウリルアミン、ステアリルアミン、セチルアミン、硬化牛脂アミン、ロジンアミン)の無機酸(塩酸、硫酸、硝酸およびリン酸等)塩または有機酸(C2〜22、例えば酢酸、プロピオン酸、ラウリル酸、オレイン酸、安息香酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸)塩;脂肪族アミン(C1〜30)のEO付加物等の無機酸(前記のもの)塩または有機酸(前記のもの)塩;3級アミン(トリエタノールアミンモノステアレート、ステアラミドエチルジエチルメチルエタノールアミン等)の無機酸(前記のもの)塩または有機酸(前記のもの)塩など]などが挙げられる。   (D3) is a quaternary ammonium halogen salt type [tetraalkyl (C4-100) ammonium chloride such as lauryltrimethylammonium chloride, didecyldimethylammonium chloride, dioctyldimethylammonium bromide, stearyltrimethylammonium bromide; C3-80) benzylammonium chloride, such as lauryldimethylbenzylammonium chloride (benzalkonium chloride); alkyl (C2-60) pyridinium salts, such as cetylpyridinium chloride; polyoxyalkylene (C2-4) trialkylammonium chloride, such as poly Oxyethylenetrimethylammonium chloride; sapamine-type quaternary ammonium salts such as stearamide Tildiethylmethylammonium methosulfate], amine salt type [higher aliphatic amines (C12-60, such as laurylamine, stearylamine, cetylamine, hardened tallow amine, rosinamine) inorganic acids (hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, etc.) Salts or organic acids (C2-22, such as acetic acid, propionic acid, lauric acid, oleic acid, benzoic acid, succinic acid, adipic acid, azelaic acid) salts; inorganics such as EO adducts of aliphatic amines (C1-30) Acid (above) salt or organic acid (above) salt; inorganic acid (above) salt or organic acid of tertiary amine (triethanolamine monostearate, stearamide ethyl diethyl methylethanolamine, etc.) And the like).

(D4)としては、アミノ酸型両性界面活性剤[高級アルキルアミン(C12〜18)のプロピオン酸アンモニウム等]、ベタイン型両性界面活性剤[アルキル(C12〜18)ジメチルベタイン、アルキル(C12〜18)ジヒドロキシエチルベタイン、ヤシ油脂肪酸アミドプロピルベタイン等]、硫酸エステル塩型両性界面活性剤[高級アルキル(C8〜18)アミンの硫酸エステルアミン塩、ヒドロキシエチルイミダゾリン硫酸エステルアミン塩等]、スルホン酸塩型両性界面活性剤(ペンタデシルスルホタウリン、イミダゾリンスルホン酸等)、リン酸エステル塩型両性界面活性剤[グリセリン高級脂肪酸(C8〜22)エステル化物のリン酸エステルアミン塩]等が挙げられる。   Examples of (D4) include amino acid type amphoteric surfactant [higher alkylamine (C12-18) ammonium propionate, etc.], betaine type amphoteric surfactant [alkyl (C12-18) dimethylbetaine, alkyl (C12-18) Dihydroxyethyl betaine, coconut oil fatty acid amide propyl betaine, etc.], sulfate ester type amphoteric surfactant [sulfuric ester amine salt of higher alkyl (C8-18) amine, hydroxyethyl imidazoline sulfate amine amine etc.], sulfonate type Examples include amphoteric surfactants (pentadecyl sulfotaurine, imidazoline sulfonic acid, etc.), phosphate ester salt type amphoteric surfactants [phosphate ester amine salts of glycerol higher fatty acid (C8-22) esterified products], and the like.

(D1)〜(D4)のうちでは、洗浄性とアルミ非腐蝕性の観点から好ましいのは(D2)、およびさらに好ましいのは(D1)である。
(D)の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、通常30%以下、好ましくは1〜20%である。
Among (D1) to (D4), (D2) is preferable from the viewpoint of detergency and non-corrosive aluminum, and (D1) is more preferable.
The content of (D) is usually 30% or less, preferably 1 to 20%, based on the total weight of the cleaning agent.

その他の添加剤(E)としては、防錆剤[アミン(C6〜30、例えばシクロヘキシルアミン、ラウリルアミン、ステアリルアミン)のEO(2〜10モル)付加物、クロム酸塩、亜硝酸塩、アミン(C6〜30)の高級脂肪酸塩、ジカルボン酸(C12〜24)のアミン(モノエタノールアミン、ジエタノールアミン等)塩、ジカルボン酸(C12〜24)のアルカノールアミド(ドデセニルコハク酸ジエタノールアミド等)、ジカルボン酸(C12〜24)のアルカノールアミドアミン塩(ドデセニルコハク酸ジエタノールアミドジエタノールアミン塩等)等]、酸化防止剤[フェノール化合物(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール等)、含硫化合物(ジラウリルチオジプロピオネート等)、リン化合物(トリフェニルホスファイト等)等]、金属イオン封鎖剤(エチレンジアミン四酢酸アミン塩、クエン酸アミン塩等)等が挙げられる。
(E)の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、防錆剤は通常20%以下、好ましくは0.5〜10%、酸化防止剤は通常5%以下、好ましくは0.1〜1%、金属イオン封鎖剤は通常20%以下、好ましくは0.5〜10%である。
本発明の洗浄剤の重量に基づく、(C)、(D)および(E)の合計の含有量は、通常40%以下、好ましくは30%以下、さらに好ましくは20%以下である。
Other additives (E) include rust inhibitors [amine (C6-30, for example, cyclohexylamine, laurylamine, stearylamine) EO (2-10 mol) adduct, chromate, nitrite, amine ( C6-30) higher fatty acid salt, dicarboxylic acid (C12-24) amine (monoethanolamine, diethanolamine etc.) salt, dicarboxylic acid (C12-24) alkanolamide (dodecenyl succinic acid diethanolamide etc.), dicarboxylic acid (C12) -24) alkanolamidoamine salts (such as dodecenyl succinic acid diethanolamide diethanolamine salts)], antioxidants [phenol compounds (2,6-di-t-butyl-4-methylphenol etc.), sulfur compounds (dilaurylthio) Dipropionate, etc.), phosphorus compounds (triphenylphos) Aito etc.), etc.], sequestering agents (ethylenediaminetetraacetic acid amine salts include citric acid amine salts, etc.) and the like.
The content of (E) is usually 20% or less, preferably 0.5 to 10% for the rust inhibitor, and usually 5% or less, preferably 0.1 to 10% for the antioxidant based on the total weight of the detergent. 1%, sequestering agent is usually 20% or less, preferably 0.5 to 10%.
The total content of (C), (D) and (E) based on the weight of the cleaning agent of the present invention is usually 40% or less, preferably 30% or less, more preferably 20% or less.

本発明の洗浄剤は、(A)、水、(B)および必要により(C)〜(E)を配合して、撹拌、混合して製造される。配合の順序はとくに限定されず、(A)、(B)および水をまず一括配合して撹拌、混合し、その後必要により(C)〜(E)を添加する方法、(A)、(B)、水および必要により(C)〜(E)を一括配合して撹拌、混合する方法のいずれでもよい。   The cleaning agent of the present invention is produced by blending (A), water, (B) and, if necessary, (C) to (E), stirring and mixing. The order of blending is not particularly limited, and (A), (B) and water are first blended together, stirred and mixed, and then (C) to (E) are added if necessary, (A), (B ), Water, and if necessary, (C) to (E) may be mixed together and stirred and mixed.

本発明の洗浄剤中のアルカリ金属またはアルカリ土類金属の含有率は1,000ppm以下、好ましくは800ppm以下、さらに好ましくは0〜500ppmである。該含有率が1,000ppmを超えるとアルミ非腐蝕性が悪くなる。洗浄剤中のアルカリ金属またはアルカリ土類金属の含有率は、原子吸光分析法、プラズマ発光分析法または蛍光X線分析法等のいずれかの方法で分析できる。   The content of alkali metal or alkaline earth metal in the cleaning agent of the present invention is 1,000 ppm or less, preferably 800 ppm or less, more preferably 0 to 500 ppm. If the content exceeds 1,000 ppm, the non-corrosiveness of aluminum deteriorates. The content of alkali metal or alkaline earth metal in the cleaning agent can be analyzed by any method such as atomic absorption analysis, plasma emission analysis, or fluorescent X-ray analysis.

本発明の洗浄剤は、通常、固体または液状であり、使いやすさの観点から好ましいのは液状で、液状の場合は透明または白濁液状のいずれでもよい。本発明の洗浄剤が液状の場合の25℃における粘度(mm2/s)は、通常2〜300、洗浄性およびリンス性の観点から、好ましくは3〜100mm2/s、さらに好ましくは4〜50mm2/sである。粘度はオストワルドまたはウベローデなどの粘度計にて測定できる。
本発明の洗浄剤のpH(洗浄剤として10重量%水溶液)は通常10〜14、洗浄性およびアルミ非腐蝕性の観点から、好ましくは10.5〜13.5である。
The cleaning agent of the present invention is usually solid or liquid, and is preferably liquid from the viewpoint of ease of use, and in the case of liquid, it may be either transparent or cloudy. When the cleaning agent of the present invention is liquid, the viscosity (mm 2 / s) at 25 ° C. is usually from 2 to 300, preferably from 3 to 100 mm 2 / s, more preferably from 4 to 300, from the viewpoints of cleaning properties and rinsing properties. 50 mm 2 / s. The viscosity can be measured with a viscometer such as Ostwald or Ubbelohde.
The pH of the cleaning agent of the present invention (10% by weight aqueous solution as the cleaning agent) is usually 10 to 14, and preferably 10.5 to 13.5 from the viewpoint of cleaning properties and aluminum non-corrosiveness.

本発明の洗浄剤を用いて、例えば液晶パネル用ガラス基板の配向膜を剥離洗浄する方法としては、超音波、シャワー、スプレー、浸漬および浸漬揺動洗浄からなる群から選ばれる1種または2種以上の洗浄方法が適用できる。
洗浄時の本発明の洗浄剤は、必要によりさらに水で稀釈されて使用されてもよいが、好ましいのは上記の水の含有量の範囲内である。
For example, the method for peeling and cleaning the alignment film of the glass substrate for a liquid crystal panel using the cleaning agent of the present invention is one or two selected from the group consisting of ultrasonic, shower, spray, immersion, and immersion rocking cleaning. The above cleaning method can be applied.
The cleaning agent of the present invention at the time of washing may be further diluted with water if necessary, but is preferably within the above water content range.

洗浄温度は、通常10〜70℃、好ましくは15〜60℃程度である。洗浄時間は通常0.2〜120分、好ましくは0.5〜30分である。水によるリンス温度は、通常5〜90℃、好ましくは10〜70℃であり、リンス方法としては上記洗浄方法と同じ方法が適用できる。リンス後通常50〜150℃、好ましくは60〜100℃で通常1〜120分間、好ましくは3〜60分間加熱乾燥することにより清浄な液晶パネル用ガラス基板が得られ、再生使用することができる。   The washing temperature is usually about 10 to 70 ° C, preferably about 15 to 60 ° C. The washing time is usually 0.2 to 120 minutes, preferably 0.5 to 30 minutes. The rinsing temperature with water is usually 5 to 90 ° C., preferably 10 to 70 ° C. As the rinsing method, the same method as the above washing method can be applied. After rinsing, a clean glass substrate for a liquid crystal panel is obtained by heating and drying usually at 50 to 150 ° C., preferably 60 to 100 ° C. for 1 to 120 minutes, preferably 3 to 60 minutes, and can be reused.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以下において部は重量部を示す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to this. In addition, a part shows a weight part below.

実施例1〜9、比較例1〜3
表1に記載の部数(純分表示)の各成分を、1Lのビーカー中で室温で十分に撹拌、混合して実施例および比較例の洗浄剤を作成した。
表1中の略号は下記の通りである。
A−1 :テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド
A−2 :テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド
A−3 :水酸化カリウム
B1−1:ジエチレングリコールモノメチルエーテル
B1−2:トリエチレングリコールモノメチルエーテル
B2−1:プロピレングリコール
B2−2:エチレングリコール
B3−1:グリセリン
B3−2:ソルビトール
B4−1:ジエチレングリコールジエチルエーテル
Examples 1-9, Comparative Examples 1-3
The cleaning agents of Examples and Comparative Examples were prepared by thoroughly stirring and mixing each component (indicated by pure content) shown in Table 1 in a 1 L beaker at room temperature.
Abbreviations in Table 1 are as follows.
A-1: Tetramethylammonium hydroxide A-2: Tetraethylammonium hydroxide A-3: Potassium hydroxide B1-1: Diethylene glycol monomethyl ether B1-2: Triethylene glycol monomethyl ether B2-1: Propylene glycol B2-2: Ethylene glycol B3-1: Glycerin B3-2: Sorbitol B4-1: Diethylene glycol diethyl ether

実施例および比較例で得られた洗浄剤の評価方法を以下に示し、評価結果を表1に示す。   The evaluation methods for the cleaning agents obtained in Examples and Comparative Examples are shown below, and the evaluation results are shown in Table 1.

1.配向膜剥離性
予めITO膜(インジウム・スズ酸化膜)を形成されたガラス基板(25×25mm、厚さ0.75mm)の上にポリイミド樹脂を塗布し、80℃で焼き付ける作業を3回繰り返し、半焼成の垂直配向ポリイミド膜(膜厚5μm)が密着したガラス基板試験片を作成した。試験片を洗浄剤(25℃)に所定時間浸漬後、試験片をステンレス網かごの上に置きイオン交換水で1分間シャワーリンスし、さらに裏側の面についても同様にリンスした。次に、試験片を70℃の循風乾燥機中で10分間乾燥後、顕微鏡で観察して配向膜剥離性を次の5段階で評価した。
<評価基準>
5:ガラス基板面に配向膜が全くなし。
4:ガラス基板面に配向膜が痕跡程度残っている。
3:ガラス基板面の一部に配向膜が少し残っている。
2:ガラス基板面の大部分に配向膜が残っている。
1:ガラス基板全面に配向膜が残っている。
1. Alignment film peelability A polyimide resin is applied on a glass substrate (25 × 25 mm, thickness 0.75 mm) on which an ITO film (indium tin oxide film) has been formed in advance, and the operation of baking at 80 ° C. is repeated three times. A glass substrate test piece in which a semi-fired vertically oriented polyimide film (film thickness 5 μm) was adhered was prepared. After immersing the test piece in a cleaning agent (25 ° C.) for a predetermined time, the test piece was placed on a stainless steel basket and rinsed with ion-exchanged water for 1 minute, and the back side was similarly rinsed. Next, the test piece was dried in a circulating dryer at 70 ° C. for 10 minutes and then observed with a microscope to evaluate the alignment film peelability in the following five stages.
<Evaluation criteria>
5: There is no alignment film on the glass substrate surface.
4: The trace of the alignment film remains on the glass substrate surface.
3: A little alignment film remains on a part of the glass substrate surface.
2: The alignment film remains on most of the glass substrate surface.
1: An alignment film remains on the entire surface of the glass substrate.

2.腐蝕性
アルミ薄膜(膜厚0.1μm)が密着したガラス基板試験片(25×25mm、厚さ0.75mm)を洗浄剤(40℃)に所定時間浸漬し、アルミ薄膜が完全になくなり試験片が透明になるまでの時間を測定して腐蝕時間とした。腐蝕時間が長いほどアルミ非腐蝕性が良いことを示す。
2. A glass substrate test piece (25 × 25 mm, thickness 0.75 mm) to which a corrosive aluminum thin film (thickness 0.1 μm) is adhered is immersed in a cleaning agent (40 ° C.) for a predetermined time, and the aluminum thin film is completely removed. Was measured as the time for the corrosion to become transparent. The longer the corrosion time, the better the non-corrosiveness of aluminum.

3.アルカリ金属またはアルカリ土類金属含量の測定
プラズマ発光分析法により、以下の測定条件にて分析した。
<測定条件>
測定機器:ICPS−8000[島津製作所(株)製]
試 料 :実施例および比較例の洗浄剤を1%硝酸水溶液にて10倍希釈
3. Measurement of Alkali Metal or Alkaline Earth Metal Content A plasma emission analysis was performed under the following measurement conditions.
<Measurement conditions>
Measuring instrument: ICPS-8000 [manufactured by Shimadzu Corporation]
Sample: The cleaning agents of Examples and Comparative Examples were diluted 10 times with 1% nitric acid aqueous solution.

Figure 2006233029
Figure 2006233029

表1に示されるように、本発明の洗浄剤(実施例1〜9)は、1〜2分で半焼成垂直配向ポリイミド膜が剥離でき、しかも腐蝕時間が24時間以上とアルミ非腐蝕性が非常に良好である。   As shown in Table 1, the cleaning agents of the present invention (Examples 1 to 9) can release the semi-fired vertically-aligned polyimide film in 1 to 2 minutes, and have a corrosion time of 24 hours or more and aluminum non-corrosiveness. Very good.

本発明の洗浄剤は、アルミ非腐蝕性に優れることから、各種の電子部品、電気部品およびアルミ建材などの洗浄に使用され、好ましくは電子部品の洗浄、特にアルミニウムが部品の少なくとも一部に使用されている電子部品等の洗浄用として幅広く用いることができる。例えば液晶パネル用ガラス基板(配向膜パターン化の前の洗浄、不具合配向膜の剥離洗浄)、プリント基盤、プラズマディスプレイガラス基板、サーマルヘッド等の電子部品、エアコン冷却フィン、空気清浄機アルミ電極板、電気カミソリ刃等の電気部品、アルミ建材等が挙げられる。また、洗浄の対象物(汚れ)は、油分、指紋、樹脂、有機パーティクル等の有機物、無機パーティクル(ガラス粉、セラミック粉、金属粉等)等の無機物が挙げられる。本発明の洗浄剤はこれらのうち、とくに、液晶パネル用ガラス基板の洗浄(配向膜を薄膜化する前のガラス基板の洗浄、または配向膜が不具合となったガラス基板の洗浄)に好適に用いることができ、極めて有用性が高い。   Since the cleaning agent of the present invention is excellent in non-corrosive aluminum, it is used for cleaning various electronic parts, electrical parts, aluminum building materials, etc., preferably cleaning electronic parts, particularly aluminum is used for at least a part of the parts. It can be widely used for cleaning electronic parts and the like. For example, glass substrates for liquid crystal panels (cleaning before alignment film patterning, peeling cleaning of defective alignment films), printed boards, plasma display glass substrates, electronic components such as thermal heads, air conditioner cooling fins, air cleaner aluminum electrode plates, Examples include electric parts such as electric razor blades, aluminum building materials, and the like. Examples of the object to be cleaned (dirt) include organic substances such as oil, fingerprints, resins, and organic particles, and inorganic substances such as inorganic particles (glass powder, ceramic powder, metal powder, and the like). Among these, the cleaning agent of the present invention is particularly suitable for cleaning a glass substrate for a liquid crystal panel (cleaning of a glass substrate before thinning the alignment film or cleaning of a glass substrate in which the alignment film becomes defective). Can be very useful.

Claims (9)

有機アルカリ(A)、水、並びに分子量32〜数平均分子量500のモノオール(B1)、分子量62〜数平均分子量250のジオール(B2)、分子量92〜数平均分子量400の3〜9価のポリオール(B3)、および(B1)もしくは(B3)のアルキルエーテル(B4)からなる群から選ばれる1種または2種以上の親水性有機溶剤(B)を含有し、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の含有率が1,000ppm以下であることを特徴とするアルカリ洗浄剤。 Organic alkali (A), water, monool (B1) having a molecular weight of 32 to number average molecular weight 500, diol (B2) having a molecular weight of 62 to number average molecular weight 250, and 3 to 9-valent polyol having a molecular weight of 92 to number average molecular weight of 400 (B3) and one or more hydrophilic organic solvents (B) selected from the group consisting of alkyl ethers (B4) of (B1) or (B3), and an alkali metal or alkaline earth metal Alkaline detergent characterized by content rate being 1,000 ppm or less. (A)を0.1〜25重量%、水を2〜50重量%および(B)を11〜95重量%含有してなる請求項1記載のアルカリ洗浄剤。] The alkaline cleaner according to claim 1, comprising 0.1 to 25% by weight of (A), 2 to 50% by weight of water, and 11 to 95% by weight of (B). ] (B1)、(B2)および(B4)の合計と(B3)との重量比が70〜99/1〜30である請求項1または2記載の洗浄剤。 The cleaning agent according to claim 1 or 2, wherein the weight ratio of the sum of (B1), (B2) and (B4) to (B3) is 70 to 99/1 to 30. (A)が、下記一般式(1)で示される化合物である請求項1〜3のいずれか記載のアルカリ洗浄剤。
Figure 2006233029
[式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ同一でも異なっていてもよい炭素数1〜24の1価の炭化水素基または−(A1O)PHで表される基、A1は炭素数2〜4のアルキレン基、pは1〜6の整数を表す。]
The alkali cleaning agent according to claim 1, wherein (A) is a compound represented by the following general formula (1).
Figure 2006233029
[Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same or different and each represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms or — (A 1 O) PH]. Group, A 1 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and p represents an integer of 1 to 6. ]
さらに、(B)以外のその他の親水性有機溶剤(C)、界面活性剤(D)およびその他の添加剤(E)を含有してなる請求項1〜4のいずれか記載のアルカリ洗浄剤。 Furthermore, the alkali cleaning agent in any one of Claims 1-4 formed by containing other hydrophilic organic solvents (C) other than (B), surfactant (D), and another additive (E). 請求項1〜5のいずれか記載のアルカリ洗浄剤を用いて、超音波、シャワー、スプレー、浸漬および浸漬揺動洗浄からなる群から選ばれる1種または2種以上の方法で洗浄することを特徴とする電子部品、電気部品またはアルミ建材の洗浄方法。 Washing | cleaning by the 1 type (s) or 2 or more types of methods chosen from the group which consists of ultrasonic, shower, spray, immersion, and immersion rocking | fluctuation washing | cleaning using the alkali cleaning agent in any one of Claims 1-5. Cleaning method for electronic parts, electrical parts and aluminum building materials. 電子部品が、ガラス基板である請求項6記載の洗浄方法。 The cleaning method according to claim 6, wherein the electronic component is a glass substrate. ガラス基板が、少なくとも一部にアルミニウムを使用したガラス基板である請求項7記載の洗浄方法。 The cleaning method according to claim 7, wherein the glass substrate is a glass substrate using aluminum at least in part. 請求項6〜8のいずれか記載の洗浄方法で洗浄し、リンスした後、乾燥して得られる電子部品、電気部品またはアルミ建材。 An electronic component, an electrical component, or an aluminum building material obtained by washing with the washing method according to claim 6, rinsing, and drying.
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