JP2006306968A - Detergent for electronic part - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶パネルや半導体の表面に付着している油脂類、樹脂、パーティクルなどを除去や配線パターン等の作成に用いられるレジストの剥離、レジスト残渣の洗浄など電子部品の洗浄用に用いられる洗浄剤に関する。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is used for cleaning electronic components such as removing resists used to remove oils and fats, resins, particles, etc. adhering to the surface of liquid crystal panels and semiconductors and creating wiring patterns, and cleaning resist residues. It relates to cleaning agents.
従来より、電子部品用洗浄剤の主成分としては、アルカリ金属化合物、第四級アンモニウムハイドロオキサイドまたは非イオン性界面活性剤などが提案されている。
しかしながら、アルカリ金属化合物は洗浄性には優れているが電子部品内のアルミ配線を腐蝕させることがあり導通不良や動作不良などを引きおこし易く、第四級アンモニウムハイドロオキサイドもアルミ配線を腐食させることがあった。
一方、非イオン性界面活性剤としては、アルコールもしくは脂肪酸ポリオキシアルキレンアルキルエーテルなどのアルキレンオキシド付加物(特許文献−1〜3)、およびアルキルアミンのアルキレンオキシド付加物の併用(特許文献−4)などが提案されているが、洗浄性が不足であるとともにアルミ配線の腐蝕による導通不良の問題もあった。
However, alkali metal compounds are excellent in cleaning properties, but may corrode aluminum wiring in electronic components and easily cause poor conduction and malfunction. Quaternary ammonium hydroxide also corrodes aluminum wiring. was there.
On the other hand, as nonionic surfactants, combined use of alkylene oxide adducts such as alcohols or fatty acid polyoxyalkylene alkyl ethers (Patent Documents 1 to 3) and alkylamine alkylene oxide adducts (Patent Document 4) However, there was a problem of poor conduction and poor conduction due to corrosion of aluminum wiring.
本発明の課題は、優れた洗浄力を有し、かつ、アルミ配線などの導通不良を起こさない電子部品用洗浄剤を提供することにある。 The subject of this invention is providing the cleaning agent for electronic components which has the outstanding detergency and does not raise | generate conduction | electrical_connection defects, such as aluminum wiring.
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究した結果、本発明に到達した。すなわち、本発明は、アミノ化合物のアルキレンオキサイド付加物(A)を含有する電子部品用洗浄剤であって、該(A)の重量に基づくアルカリ金属原子(B)の含有量が1ppm以下である電子部品用洗浄剤である。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has reached the present invention. That is, the present invention is a cleaning agent for electronic parts containing an alkylene oxide adduct (A) of an amino compound, and the content of alkali metal atoms (B) based on the weight of (A) is 1 ppm or less. It is a cleaning agent for electronic parts.
本発明の洗浄剤は、アルミ配線等などへの非腐蝕性に優れているため、例えば液晶パネル用ガラス基板のアルミ配線、カラーフィルター部材に、導通不良などのダメージを与えずに洗浄できる。
また、本発明の洗浄剤は、油分、指紋、樹脂およびパーティクルを除去する能力にも優れている。
Since the cleaning agent of the present invention is excellent in non-corrosiveness to aluminum wiring or the like, it can be cleaned without damaging the aluminum wiring or color filter member of the glass substrate for a liquid crystal panel, for example, with poor conduction.
The cleaning agent of the present invention is also excellent in the ability to remove oil, fingerprints, resin and particles.
本発明の電子部品用洗浄剤は、アミノ化合物のアルキレンオキサイド付加物(A)を含有し、該(A)の重量に基づくアルカリ金属原子(B)の含有量が1ppm以下、好ましくは0.3ppm以下であることを発明の要旨とする(以下において、ppmは、重量ppmを表す)。
アルカリ金属原子(B)が1ppmを超えると、導通不良または動作不良をおこし易い。
The electronic component cleaning agent of the present invention contains an alkylene oxide adduct (A) of an amino compound, and the content of alkali metal atoms (B) based on the weight of (A) is 1 ppm or less, preferably 0.3 ppm. The gist of the invention is as follows (in the following, ppm represents ppm by weight).
When the alkali metal atom (B) exceeds 1 ppm, conduction failure or malfunction is likely to occur.
本発明におけるアルカリ金属原子(B)としては、リチウム、ナトリウムおよびカリウムなどが挙げられ、アルカリ金属原子は、通常、その化合物の形態で(A)中に含まれる。アルカリ金属原子の化合物としては、具体的には水酸化リチウム、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩リン酸塩、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウムおよびトリポリリン酸カリウムなアルカリ金属リン酸塩、ケイ酸ナトリウムおよびケイ酸カリウムなどアルカリ金属ケイ酸塩、酢酸カリウム、酢酸ナトリウム、乳酸カリウム、乳酸ナトリウムなど有機酸アルカリ金属塩およびこれらの混合物などが挙げられ、アルキレンオキサイド(A)のアルカリ金属アルコラートの形態で含まれていてもよい。
アルキレンオキサイド付加物(A)中のアルカリ金属原子(B)の含有量は、原子吸光分析装置により測定することができる。
Examples of the alkali metal atom (B) in the present invention include lithium, sodium and potassium. The alkali metal atom is usually contained in (A) in the form of the compound. Specific examples of the alkali metal atom compounds include alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkali metal carbonate phosphates such as sodium carbonate and potassium carbonate, sodium pyrophosphate, Alkali metal silicates such as potassium pyrophosphate, sodium tripolyphosphate and potassium tripolyphosphate, sodium silicate and potassium silicate, organic acid alkali metal salts such as potassium acetate, sodium acetate, potassium lactate and sodium lactate and These mixtures may be mentioned, and may be contained in the form of an alkali metal alcoholate of alkylene oxide (A).
The content of the alkali metal atom (B) in the alkylene oxide adduct (A) can be measured by an atomic absorption analyzer.
本発明におけるアミノ化合物のアルキレンオキサイド付加物(A)を構成するアミノ化合物は、アミノ基中に活性水素原子を有するアミノ化合物であり、1級および2級アミノ基を有する化合物が挙げられる。
1級アミノ基を有する化合物としては、炭素数1〜24の脂肪族モノアルキルアミン、炭素数2〜24のヒドロキシアルキルモノアミンおよび炭素数6〜24の芳香族モノアミンなどが挙げられる。
2級アミノ基を有する化合物としては、アルキル基の炭素数1〜24の脂肪族ジアルキルアミン、炭素数4〜24のジ(ヒドロキシアルキル)アミンおよび総炭素数7〜24のアルキルアリールアミンなどが挙げられる。
アミノ化合物のうち好ましいのは洗浄性の観点から1級アミノ基を有するアミノ化合物(以下、1級アミノ化合物と略記)である。
The amino compound constituting the alkylene oxide adduct (A) of the amino compound in the present invention is an amino compound having an active hydrogen atom in the amino group, and includes compounds having a primary and secondary amino group.
Examples of the compound having a primary amino group include aliphatic monoalkylamines having 1 to 24 carbon atoms, hydroxyalkyl monoamines having 2 to 24 carbon atoms, and aromatic monoamines having 6 to 24 carbon atoms.
Examples of the compound having a secondary amino group include an aliphatic dialkylamine having 1 to 24 carbon atoms in an alkyl group, a di (hydroxyalkyl) amine having 4 to 24 carbon atoms, and an alkylarylamine having 7 to 24 carbon atoms. It is done.
Of the amino compounds, amino compounds having a primary amino group (hereinafter abbreviated as primary amino compounds) are preferred from the viewpoint of detergency.
(A)を構成するアルキレンオキサイドとしては、炭素数2〜12、例えばエチレンオキシド(以下EOと略記)、1,2−プロピレンオキシド(以下、POと略記)、ブチレンオキシド、1,2−ドデセンオキサイドおよびこれらのうちの2種以上の併用が挙げられる。
アルキレンオキサイドのうち好ましいのは、炭素数2〜8のもの、特にEOおよびPOであり、さらに好ましいのはEO単独およびEOとPOのランダムもしくはブロック付加である。
アルキレンオキサイドの付加モル数は、洗浄性の観点から、好ましくは1〜50モル、さらに好ましくは2〜40モルである。
Examples of the alkylene oxide constituting (A) include 2 to 12 carbon atoms such as ethylene oxide (hereinafter abbreviated as EO), 1,2-propylene oxide (hereinafter abbreviated as PO), butylene oxide, and 1,2-dodecene oxide. And a combination of two or more of these.
Among the alkylene oxides, those having 2 to 8 carbon atoms, particularly EO and PO, are preferred, and EO alone and random or block addition of EO and PO are more preferred.
The number of added moles of alkylene oxide is preferably 1 to 50 moles, more preferably 2 to 40 moles from the viewpoint of detergency.
1級アミノ化合物のアルキレンオキサイド付加物のうち、好ましいのは洗浄性の観点から一般式(1)で表される付加物である。 Of the alkylene oxide adducts of the primary amino compound, the adduct represented by the general formula (1) is preferable from the viewpoint of detergency.
式中、Rは炭素数1〜24の炭化水素基、炭素数2〜4の末端ヒドロキシルアルキル基または水素原子、Aは炭素数2〜12のアルキレン基であり、mおよびnは0または1〜10の整数であって、m+nは1〜20の整数である。 In the formula, R is a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, a terminal hydroxylalkyl group having 2 to 4 carbon atoms or a hydrogen atom, A is an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms, and m and n are 0 or 1 to 1 It is an integer of 10 and m + n is an integer of 1-20.
一般式(1)におけるRのうち、炭素数1〜24の炭化水素基としては、直鎖もしくは分岐の飽和または不飽和炭化水素基、脂環式炭化水素基および芳香環含有炭化水素基などが挙げられる。
直鎖もしくは分岐の飽和炭化水素基としては、アルキル基(メチル基、エチル基、n−、i−、sec−およびt−ブチル基、オクチル基、2−エチルへキシル基並びにオクタデシル基など);直鎖もしくは分岐の不飽和炭化水素基としては、アルケニル基(ビニル基、プロペニル基、アリル基およびブテニル基など);脂環式炭化水素基としては、シクロアルキル基(シクロヘキシル基など);芳香環含有炭化水素基としては、アリール基(フェニル基およびナフチル基など)、アラルキル基(ベンジル基およびフェネチル基など)、アルキルアリール基(メチルフェニル基、エチルフェニル基、ノニルフェニル基、メチルナフチル基およびエチルナフチル基など)等が挙げられる。
これらの炭化水素基の中では、洗浄性の観点から好ましいのはアルキル基、アルケニル基およびシクロアルキル基であり、さらに好ましいのは洗浄剤の外観安定性の観点から炭素数が2〜8のものである。
Rの炭素数が24以下であれば洗浄性が優れている。
Of R in the general formula (1), the hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms includes a linear or branched saturated or unsaturated hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, and an aromatic ring-containing hydrocarbon group. Can be mentioned.
Examples of the linear or branched saturated hydrocarbon group include alkyl groups (such as methyl group, ethyl group, n-, i-, sec- and t-butyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, and octadecyl group); Linear or branched unsaturated hydrocarbon groups include alkenyl groups (such as vinyl, propenyl, allyl, and butenyl groups); alicyclic hydrocarbon groups include cycloalkyl groups (such as cyclohexyl groups); aromatic rings Containing hydrocarbon groups include aryl groups (such as phenyl and naphthyl groups), aralkyl groups (such as benzyl and phenethyl groups), alkylaryl groups (such as methylphenyl, ethylphenyl, nonylphenyl, methylnaphthyl and ethyl). Naphthyl group, etc.).
Among these hydrocarbon groups, alkyl groups, alkenyl groups and cycloalkyl groups are preferable from the viewpoint of detergency, and more preferable are those having 2 to 8 carbon atoms from the viewpoint of appearance stability of the detergent. It is.
If the carbon number of R is 24 or less, the detergency is excellent.
一般式(1)におけるRのうち、炭素数2〜4の末端ヒドロキシルアルキル基としては、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドキシブチルなどが挙げられ、好ましいのはヒドロキシエチルである。 Among R in the general formula (1), examples of the terminal hydroxylalkyl group having 2 to 4 carbon atoms include hydroxyethyl, hydroxypropyl, and hydroxybutyl, and hydroxyethyl is preferable.
一般式(1)におけるAは、炭素数2〜12のアルキレン基、例えばエチレン基、1,2−プロピレン基、ブチレン基および1,2−ドデシレン基などが挙げられる。
Aの炭素数が2〜8であれば、さらに洗浄性が良好に発揮できる。
mおよびnは0または1〜10の整数であり、m+nは1〜20の整数でありm+nが20以下であれば洗浄性が良好である。
A in the general formula (1) includes an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms, such as an ethylene group, a 1,2-propylene group, a butylene group, and a 1,2-dodecylene group.
If the carbon number of A is 2-8, the detergency can be further improved.
m and n are 0 or an integer of 1 to 10, m + n is an integer of 1 to 20, and if m + n is 20 or less, the detergency is good.
本発明におけるアミノ化合物のアルキレンオキサイド付加物(A)の製造方法は、触媒の存在下または非存在下にアミノ化合物にアルキレンオキサイドを開環反応させる方法である。触媒としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどが挙げられる。反応温度は80℃から180℃、圧力は0〜5気圧である。
本発明のアルキレンオキサイド付加物(A)の重量に基づくアルカリ金属原子(B)の含有量を1ppm以下とするためには、触媒の非存在下に反応させることが好ましい。
また、触媒としてアルカリ金属化合物を使用した場合は、反応後に吸着剤等でアルカリ金属化合物を除去して1ppm以下とすることが好ましい。
吸着剤としては、キョーワード(協和化学(株)製)などが挙げられる。
The method for producing an alkylene oxide adduct (A) of an amino compound in the present invention is a method in which an alkylene oxide is subjected to a ring-opening reaction in the presence or absence of a catalyst. Examples of the catalyst include potassium hydroxide and sodium hydroxide. The reaction temperature is 80 ° C. to 180 ° C., and the pressure is 0 to 5 atm.
In order to make the content of the alkali metal atom (B) based on the weight of the alkylene oxide adduct (A) of the present invention 1 ppm or less, the reaction is preferably carried out in the absence of a catalyst.
Moreover, when an alkali metal compound is used as a catalyst, it is preferable to remove the alkali metal compound with an adsorbent or the like after the reaction to make it 1 ppm or less.
Examples of the adsorbent include KYOWARD (manufactured by Kyowa Chemical Co., Ltd.).
本発明の洗浄剤の重量に基づく(A)の含有割合は、10重量%以上、好ましくは20%以上(以下において、特に限定しない限り、%は重量%を表す)、さらに好ましくは30%以上である。 The content ratio of (A) based on the weight of the cleaning agent of the present invention is 10% by weight or more, preferably 20% or more (in the following, unless otherwise specified,% represents% by weight), more preferably 30% or more. It is.
本発明の洗浄剤には、(A)および(B)以外に、必要によりさらに他の界面活性剤(C)、アミド基含有親水性溶剤(D)、他の添加剤(E)および/または水を含有することができる。
他の界面活性剤(C)としては、非イオン界面活性剤(C1)、アニオン界面活性剤(C2)、カチオン界面活性剤(C3)、両性界面活性剤(C4)およびこれらの混合物が挙げられる。
In addition to (A) and (B), the detergent of the present invention may further contain other surfactant (C), amide group-containing hydrophilic solvent (D), other additives (E) and / or if necessary. It can contain water.
Other surfactants (C) include nonionic surfactant (C1), anionic surfactant (C2), cationic surfactant (C3), amphoteric surfactant (C4) and mixtures thereof. .
(C1)としては、例えば、アルキレンオキシド付加型非イオン界面活性剤[高級アルコール(炭素数8〜18)、アルキルフェノール(炭素数10〜24)、高級脂肪酸(炭素数12〜24)に直接アルキレンオキシド[炭素数2〜4、例えばEO、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、以下同じ]を付加させたもの(Mn158〜200,000);ポリオキシアルキレングリコール(Mn150〜6,000)に高級脂肪酸(炭素数12〜24)などを反応させたもの;ジオールまたは3〜8価の多価アルコールなどの水酸基含有化合物に高級脂肪酸(炭素数12〜24)を反応させて得られたエステル化物にアルキレンオキシドを付加させたもの(Mn250〜30,000)、高級脂肪酸(炭素数8〜24)アミドにアルキレンオキシドを付加させたもの(Mn200〜30,000)、多価アルコール(前記のもの)アルキル(炭素数8〜60)エーテルにアルキレンオキシドを付加させたもの(Mn120〜30,000)など]、および多価アルコール(炭素数3〜20)型非イオン界面活性剤[多価アルコール脂肪酸(炭素数8〜60)エステル、多価アルコールアルキル(炭素数8〜60)エーテル、脂肪酸(炭素数8〜60)アルカノールアミドなど]などが挙げられる。 Examples of (C1) include alkylene oxide addition type nonionic surfactants [higher alcohol (8 to 18 carbon atoms), alkylphenol (10 to 24 carbon atoms), higher fatty acid (12 to 24 carbon atoms) directly alkylene oxide. [C2-C4, such as EO, propylene oxide, butylene oxide, the same shall apply hereinafter] (Mn158-200,000); polyoxyalkylene glycol (Mn150-6,000) and higher fatty acids (C12 To 24); an alkylene oxide is added to an esterified product obtained by reacting a higher fatty acid (12 to 24 carbon atoms) with a hydroxyl group-containing compound such as a diol or a tri- to 8-valent polyhydric alcohol. (Mn 250-30,000), higher fatty acid (carbon number 8-24) amide and alkyl An oxide added (Mn 200 to 30,000), a polyhydric alcohol (the above) an alkyl (carbon number 8 to 60) ether added with an alkylene oxide (Mn 120 to 30,000), and the like], and Polyhydric alcohol (carbon number 3-20) type nonionic surfactant [polyhydric alcohol fatty acid (carbon number 8-60) ester, polyhydric alcohol alkyl (carbon number 8-60) ether, fatty acid (carbon number 8-60) ) Alkanolamide etc.].
(C2)としては、例えば、カルボン酸(炭素数8〜22の飽和または不飽和脂肪酸)塩、カルボキシメチル化物の塩[炭素数8〜16の脂肪族アルコールおよび/またはそのEO(1〜10モル)付加物などのカルボキシメチル化物の塩など]、硫酸エステル塩[高級アルコール硫酸エステル塩(炭素数8〜18の脂肪族アルコールの硫酸エステル塩など)など]、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩[炭素数8〜18の脂肪族アルコールのEO(1〜10モル)付加物の硫酸エステル塩]、硫酸化油(天然の不飽和油脂または不飽和のロウをそのまま硫酸化して中和した塩)、硫酸化脂肪酸エステル(不飽和脂肪酸の低級アルコールエステルを硫酸化して中和した塩)、硫酸化オレフィン(炭素数12〜18のオレフィンを硫酸化して中和した塩)、スルホン酸塩[アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、スルホコハク酸ジエステル型、α−オレフィン(炭素数12〜18)スルホン酸塩、イゲポンT型など]およびリン酸エステル塩[高級アルコール(炭素数8〜60)リン酸エステル塩、高級アルコール(炭素数8〜60)EO付加物リン酸エステル塩、アルキル(炭素数4〜60)フェノールEO付加物リン酸エステル塩など]が挙げられる。
上記の塩としては、アルカリ金属(ナトリウム、カリウムなど)塩、アルカリ土類金属(カルシウム、マグネシウムなど)塩、アンモニウム塩、アルキルアミン(炭素数1〜20)塩およびアルカノールアミン(炭素数2〜12、例えばモノー、ジ−およびトリエタノールアミン)塩などが挙げられる。
Examples of (C2) include carboxylic acid (saturated or unsaturated fatty acid having 8 to 22 carbon atoms) salt, carboxymethylated salt [aliphatic alcohol having 8 to 16 carbon atoms and / or EO thereof (1 to 10 mol). ) Salts of carboxymethylated products such as adducts], sulfate esters [higher alcohol sulfate esters (sulfate esters of aliphatic alcohols having 8 to 18 carbon atoms, etc.)], higher alkyl ether sulfate esters [carbon number Sulfuric acid ester salt of EO (1 to 10 mol) adduct of 8-18 aliphatic alcohol], sulfated oil (salt obtained by sulfating and neutralizing natural unsaturated fat or unsaturated wax as it is), sulfated Fatty acid ester (salt obtained by sulfating and neutralizing lower alcohol ester of unsaturated fatty acid), sulfated olefin (sulfating olefin having 12 to 18 carbon atoms) Hydrated salts), sulfonates [alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, sulfosuccinic acid diester types, α-olefins (12 to 18 carbon atoms) sulfonates, Igepon T type, etc.] and phosphate ester salts [ Higher alcohol (carbon number 8 to 60) phosphoric acid ester salt, higher alcohol (carbon number 8 to 60) EO adduct phosphoric acid ester salt, alkyl (carbon number 4 to 60) phenol EO adduct phosphoric acid ester salt, etc.] Can be mentioned.
Examples of the salt include alkali metal (sodium, potassium, etc.) salt, alkaline earth metal (calcium, magnesium, etc.) salt, ammonium salt, alkylamine (C1-20) salt and alkanolamine (C2-12). For example, mono-, di- and triethanolamine) salts.
(C3)としては、第4級アンモニウム塩型[テトラアルキル(炭素数4〜100)アンモニウム塩、例えばラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムブロマイド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド;トリアルキル(炭素数3〜80)ベンジルアンモニウム塩、例えばラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド(塩化ベンザルコニウム);アルキル(炭素数2〜60)ピリジニウム塩、例えばセチルピリジニウムクロライド;ポリオキシアルキレン(炭素数2〜4)トリアルキルアンモニウム塩、例えばポリオキシエチレントリメチルアンモニウムクロライド;サパミン型第4級アンモニウム塩、例えばステアラミドエチルジエチルメチルアンモニウムメトサルフェート]、アミン塩型[脂肪族高級アミン(炭素数12〜60、例えばラウリルアミン、ステアリルアミン、セチルアミン、硬化牛脂アミン、ロジンアミンなど)の無機酸(塩酸、硫酸、硝酸およびリン酸など)塩または有機酸(炭素数2〜22、例えば酢酸、プロピオン酸、ラウリル酸、オレイン酸、安息香酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸)塩;低級アミン(炭素数1〜11)の高級脂肪酸(炭素数12〜24、例えばステアリン酸、オレイン酸)塩;脂肪族アミン(炭素数1〜30)のEO付加物などの無機酸(前記のもの)塩または有機酸(前記のもの)塩;3級アミン類(トリエタノールアミンモノステアレート、ステアラミドエチルジエチルメチルエタノールアミンなど)の無機酸(前記のもの)塩または有機酸(前記のもの)塩など]などが挙げられる。 (C3) includes quaternary ammonium salt type [tetraalkyl (4 to 100 carbon atoms) ammonium salt such as lauryltrimethylammonium chloride, didecyldimethylammonium chloride, dioctyldimethylammonium bromide, stearyltrimethylammonium bromide; 3-80) benzylammonium salts, such as lauryldimethylbenzylammonium chloride (benzalkonium chloride); alkyl (2-60 carbons) pyridinium salts, such as cetylpyridinium chloride; polyoxyalkylene (2-4 carbons) tri Alkyl ammonium salts such as polyoxyethylene trimethyl ammonium chloride; sapamine type quaternary ammonium salts such as stearamide ethyl diethyl methyl Ammonium methosulphate], amine salt type [aliphatic higher amines (12 to 60 carbon atoms, such as laurylamine, stearylamine, cetylamine, hardened tallow amine, rosinamine, etc.) Salt or organic acid (C2-C22, for example, acetic acid, propionic acid, lauric acid, oleic acid, benzoic acid, succinic acid, adipic acid, azelaic acid) salt; higher fatty acid (lower C1-C11) fatty acid ( C12-24, e.g., stearic acid, oleic acid) salts; inorganic acid (above) salts or organic acid (above) salts such as EO adducts of aliphatic amines (C1-30); 3 Inorganic acids (such as triethanolamine monostearate, stearamide ethyl diethylmethylethanolamine, etc.) ) Salts or organic acids (above one) salts], and others.
(C4)としては、アミノ酸型両性界面活性剤[高級アルキルアミン(炭素数12〜18)のプロピオン酸ナトリウムなど]、ベタイン型両性界面活性剤[アルキル(炭素数12〜18)ジメチルベタイン、アルキル(炭素数12〜18)ジヒドロキシエチルベタイン、ヤシ油脂肪酸アミドプロピルベタインなど]、硫酸エステル塩型両性界面活性剤[高級アルキル(炭素数8〜18)アミンの硫酸エステルナトリウム塩、ヒドロキシエチルイミダゾリン硫酸エステルナトリウム塩など]、スルホン酸塩型両性界面活性剤(ペンタデシルスルフォタウリン、イミダゾリンスルホン酸など)、リン酸エステル塩型両性界面活性剤[グリセリン高級脂肪酸(炭素数8〜22)エステル化物のリン酸エステルアミン塩]などが挙げられる。 Examples of (C4) include amino acid type amphoteric surfactants [higher alkylamine (carbon number 12 to 18) sodium propionate and the like], betaine type amphoteric surfactants [alkyl (carbon number 12 to 18) dimethyl betaine, alkyl ( Carbon number 12-18) dihydroxyethyl betaine, coconut oil fatty acid amide propyl betaine, etc.], sulfate ester type amphoteric surfactant [higher alkyl (carbon number 8-18) amine sulfate ester sodium salt, hydroxyethyl imidazoline sulfate sodium salt Salt], sulfonate-type amphoteric surfactant (pentadecylsulfotaurine, imidazoline sulfonic acid, etc.), phosphate ester-type amphoteric surfactant [glycerin higher fatty acid (carbon number 8-22) esterified phosphoric acid Ester amine salts] and the like.
(C1)〜(C4)の中では、洗浄性と非腐蝕性の観点から好ましいのは(C1)および(C2)、さらに好ましいのは(C1)である。(C)の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、30%以下、好ましくは1〜20%である。 Among (C1) to (C4), (C1) and (C2) are preferable from the viewpoint of detergency and non-corrosiveness, and (C1) is more preferable. The content of (C) is 30% or less, preferably 1 to 20%, based on the total weight of the cleaning agent.
アミド基含有親水性溶剤(D)は、20℃における水に対する溶解度(g/100gH2O)が3以上であって、分子中にアミド基を1個以上含有するおよび水溶性アミドであり、2−ピロリドンおよびN−アルキル(炭素数1〜3)−2−ピロリドンなどが挙げられる。これらのうち、洗浄性とリンス性の観点から好ましいのはN−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピロリドン、N−n−プロピル−2−ピロリドンおよびN−イソプロピル−2−ピロリドン、更に好ましいのはN−メチル−2−ピロリドンである
(D)の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、洗浄性、リンス性および耐腐蝕性の観点から、好ましくは30%以下、さらに好ましくは1〜20%である。
The amide group-containing hydrophilic solvent (D) is a water-soluble amide having a water solubility at 20 ° C. (g / 100 g H 2 O) of 3 or more and containing one or more amide groups in the molecule, and 2-pyrrolidone And N-alkyl (C1-C3) -2-pyrrolidone and the like. Of these, N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, Nn-propyl-2-pyrrolidone and N-isopropyl-2-pyrrolidone are preferable from the viewpoints of detergency and rinsing properties. The content of (D), which is preferably N-methyl-2-pyrrolidone, is preferably 30% or less, more preferably from the viewpoints of detergency, rinse and corrosion resistance, based on the total weight of the detergent. Is 1-20%.
その他の添加剤(E)としては、防錆剤[クロム酸塩、亜硝酸塩、アミン(炭素数6〜30)の高級脂肪酸(炭素数8〜30)塩、ジカルボン酸(炭素数12〜24)のアルカリ金属(ナトリウム、カリウムなど)塩、ジカルボン酸(炭素数12〜24)のアルカノールアミド(例えば、ドデセニルコハク酸ジエタノールアミド)、ジカルボン酸(炭素数12〜24)のアルカノールアミドアルカリ金属塩(例えば、ドデセニルコハク酸ジエタノールアミドナトリウム塩)など]、酸化防止剤[フェノール化合物(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノールなど)、含硫化合物(ジラウリルチオジプロピオネートなど)、アミン化合物(オクチル化ジフェニルアミンなど)、リン化合物(トリフェニルホスファイトなど)など]、金属イオン封鎖剤(エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムなど)などが挙げられる。
(E)の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、防錆剤は通常20%以下、好ましくは0.5〜10%、酸化防止剤は通常5%以下、好ましくは0.1〜1%、金属イオン封鎖剤は通常20%以下、好ましくは0.5〜10%である。
Other additives (E) include rust inhibitor [chromate, nitrite, higher fatty acid (carbon number 8-30) salt of amine (carbon number 6-30), dicarboxylic acid (carbon number 12-24) Alkali metal (sodium, potassium, etc.) salts, alkanolamides (e.g., dodecenyl succinic acid diethanolamide) of dicarboxylic acids (e.g., 12-24 carbon atoms), alkanolamide alkali metal salts of dicarboxylic acids (e.g., 12-24 carbon atoms) (e.g., Dodecenyl succinic acid diethanolamide sodium salt)], antioxidant [phenol compound (2,6-di-t-butyl-4-methylphenol etc.), sulfur-containing compound (dilauryl thiodipropionate etc.), amine compound ( Octylated diphenylamine), phosphorus compounds (such as triphenyl phosphite)], metals On sequestering agent (sodium ethylenediamine tetraacetate, sodium citrate), and the like.
The content of (E) is usually 20% or less, preferably 0.5 to 10% for the rust inhibitor, and usually 5% or less, preferably 0.1 to 10% for the antioxidant based on the total weight of the detergent. 1%, sequestering agent is usually 20% or less, preferably 0.5 to 10%.
水の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、洗浄性、リンス性および非腐蝕性の観点から、好ましくは90%以下、さらに好ましくは1〜80%、特に好ましくは2〜70%である。 The water content is preferably 90% or less, more preferably 1 to 80%, particularly preferably 2 to 70% from the viewpoints of detergency, rinsing properties and non-corrosive properties based on the total weight of the cleaning agent. is there.
本発明の洗浄剤の重量に基づく、(C)、(D)および(E)の合計の含有量は、40%以下、好ましくは30%以下、さらに好ましくは20%以下である。 Based on the weight of the cleaning agent of the present invention, the total content of (C), (D) and (E) is 40% or less, preferably 30% or less, and more preferably 20% or less.
本発明の洗浄剤の25℃における粘度は、通常2〜300mm2/s、洗浄性およびリンス性の観点から、好ましくは3〜100mm2/s、更に好ましくは4〜50mm2/sである。粘度はオストワルドまたはウベローデなどの粘度計にて測定できる。
本発明の洗浄剤のpH(10%水溶液)は通常8〜14、洗浄性および非腐蝕性の観点から、好ましくは9〜13である。
Viscosity at 25 ° C. of the cleaning agent of the present invention is usually 2~300mm 2 / s, from the viewpoint of detergency and rinsing properties, preferably 3~100mm 2 / s, more preferably 4~50mm 2 / s. The viscosity can be measured with a viscometer such as Ostwald or Ubbelohde.
The pH (10% aqueous solution) of the cleaning agent of the present invention is usually 8 to 14, and preferably 9 to 13 from the viewpoints of cleaning properties and non-corrosive properties.
本発明の洗浄剤は、通常、電子部品の洗浄に使用され、特にアルミニウムが部品の一部または全部に使用されている電子部品の洗浄用として幅広く用いることができる。例えば液晶パネル用ガラス基板(配向膜パターン化の前の洗浄、不具合配向膜の剥離洗浄)、プリント基盤、プラズマディスプレイガラス基板、半導体集積回路、サーマルヘッドなどの電子部品等が挙げられる。また、洗浄の対象物(汚れ)は、油分、指紋、レジスト樹脂、有機パーティクルなどの有機物、無機パーティクル(例えば、ガラス粉、セラミック粉、金属粉など)などの無機物が挙げられる。 The cleaning agent of the present invention is usually used for cleaning electronic parts, and can be widely used for cleaning electronic parts in which aluminum is used for some or all of the parts. Examples thereof include glass substrates for liquid crystal panels (cleaning before alignment film patterning, peeling cleaning of defective alignment films), printed boards, plasma display glass substrates, semiconductor integrated circuits, electronic components such as thermal heads, and the like. Examples of the object to be cleaned (dirt) include organic substances such as oil, fingerprints, resist resins, and organic particles, and inorganic substances such as inorganic particles (for example, glass powder, ceramic powder, and metal powder).
本発明の洗浄剤を用いて、例えば液晶パネル用ガラス基板を洗浄する方法としては、超音波洗浄、シャワー洗浄、スプレー洗浄、浸漬、浸漬揺動およびこれらの組み合わせによる洗浄方法が適用できる。
洗浄時の本発明の洗浄剤は、必要によりさらに水で稀釈されて使用されていてもよいが、好ましいのは上記の水の含有量の範囲内である。
As a method for cleaning a glass substrate for a liquid crystal panel using the cleaning agent of the present invention, for example, a cleaning method using ultrasonic cleaning, shower cleaning, spray cleaning, immersion, immersion rocking, or a combination thereof can be applied.
The cleaning agent of the present invention at the time of washing may be further diluted with water if necessary, but is preferably within the above-mentioned water content range.
洗浄温度は、通常10〜70℃、好ましくは15〜60℃程度である。洗浄時間は通常0.2〜120分、好ましくは0.5〜30分である。水によるリンス温度は、通常5〜90℃、好ましくは10〜70℃であり、リンス方法としては上記洗浄方法と同じ方法が適用できる。リンス後通常50〜150℃、好ましくは60〜100℃で通常1〜120分間、好ましくは3〜60分間加熱乾燥することにより清浄な液晶パネル用ガラス基板が得られる。 The washing temperature is usually about 10 to 70 ° C, preferably about 15 to 60 ° C. The washing time is usually 0.2 to 120 minutes, preferably 0.5 to 30 minutes. The rinsing temperature with water is usually 5 to 90 ° C., preferably 10 to 70 ° C. As the rinsing method, the same method as the above washing method can be applied. After rinsing, a clean glass substrate for a liquid crystal panel can be obtained by heating and drying at 50 to 150 ° C., preferably 60 to 100 ° C. for 1 to 120 minutes, preferably 3 to 60 minutes.
<実施例>
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以下において部は重量部を示す。
<Example>
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to this. In addition, a part shows a weight part below.
実施例1
1Lのステンレス製オートクレーブにシクロヘキシルアミン297g(3モル)を仕込み、80〜180℃の範囲でEO264gを滴下し反応させシクロヘキシルアミンEO2モル付加物を得た。原子吸光分析でアルカリ金属原子含有量を測定した結果、ナトリウムを0.002ppm含有していた。この生成物を、実施例1の洗浄剤(A−1)とした。
Example 1
Into a 1 L stainless steel autoclave, 297 g (3 mol) of cyclohexylamine was charged, and 264 g of EO was added dropwise at a temperature in the range of 80 to 180 ° C. to react to obtain a 2 mol adduct of cyclohexylamine EO. As a result of measuring the alkali metal atom content by atomic absorption analysis, it contained 0.002 ppm of sodium. This product was designated as the cleaning agent (A-1) of Example 1.
実施例2
市販品のジエタノールアミン(和光純薬製)のアルカリ金属原子含有量を測定した結果1.25ppmであった。
該ジエタノールアミンに、処理剤としてキョウワード600を2%添加して、70〜120で窒素通気下の条件で処理して、濾過した結果、アルカリ金属原子含有量がカリウムとして0.04ppmの精製物が得られた。この精製物を実施例2の洗浄剤(A−2)とした。
Example 2
It was 1.25 ppm as a result of measuring alkali metal atom content of commercial diethanolamine (made by Wako Pure Chemical Industries).
As a result of adding 2% of Kyoward 600 as a treating agent to the diethanolamine, treating it under conditions of nitrogen aeration at 70 to 120, and filtering, a purified product having an alkali metal atom content of 0.04 ppm as potassium was obtained. Obtained. This purified product was used as the cleaning agent (A-2) of Example 2.
実施例3
触媒として水酸化カリウム160ppmを使用したこと以外は実施例1と同様の方法で粗シクロヘキシルアミンEO2モル付加物を得た。この粗シクロヘキシルアミンEO2モル付加物に処理剤としてキョウワード600を2%添加して、70〜120で窒素通気下の条件で処理して、濾過することを3回繰り返し行った結果、アルカリ金属原子含有量がカリウムとして0.15ppmの精製物が得られた。この精製物を実施例3の洗浄剤(A−3)とした。
Example 3
A crude cyclohexylamine EO 2 mol adduct was obtained in the same manner as in Example 1 except that 160 ppm of potassium hydroxide was used as a catalyst. As a result of adding 3% of Kyoward 600 as a treating agent to this crude cyclohexylamine EO 2 mol adduct, treating it under conditions of 70 to 120 under aeration of nitrogen, and performing filtration three times, an alkali metal atom was obtained. A purified product having a potassium content of 0.15 ppm was obtained. This purified product was used as the cleaning agent (A-3) of Example 3.
比較例1
市販品のジエタノールアミン(アルカリ金属原子含有量を測定した結果1.25ppmであった。)を比較例の洗浄剤(B−1)とした。
Comparative Example 1
Commercially available diethanolamine (the result of measuring the alkali metal atom content was 1.25 ppm) was used as the cleaning agent (B-1) of the comparative example.
比較例2
市販品のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド5水和物(アルカリ金属原子含有量を測定した結果0.01ppmであった。)を比較例の洗浄剤(B−2)とした。
Comparative Example 2
Commercially available tetramethylammonium hydroxide pentahydrate (which was 0.01 ppm as a result of measuring the alkali metal atom content) was used as the cleaning agent (B-2) of the comparative example.
実施例および比較例で得られた洗浄剤の評価試験方法を以下に示し、評価結果を表1に示す。 The evaluation test methods for the cleaning agents obtained in Examples and Comparative Examples are shown below, and the evaluation results are shown in Table 1.
1.ガラス基板洗浄性
ガラス基板(25×25mm、厚さ0.75mm)を試験片とした。試験片を固形分濃度(固形分とは、水以外の成分を言う。以下同様。)として40%となるよう調整した洗浄剤希釈液(25℃)に3分間浸漬後、試験片をステンレス網かごの上に置きイオン交換水で1分間シャワーリンスし、さらに裏側の面についても同様にリンスした。次に、試験片を70℃の循風乾燥機中で10分間乾燥後、顕微鏡で観察して1cm2あたりのパーティクルの数を確認し除去性を次の5段階で評価した。洗浄前のパーティクルはいずれも100〜120個であった。
<評価基準>
5:ガラス基板面にパーティクルが全くなし。
4:ガラス基板面にパーティクルが1〜5個程度残っている。
1. Glass substrate washability A glass substrate (25 × 25 mm, thickness 0.75 mm) was used as a test piece. The test piece was immersed for 3 minutes in a detergent diluent (25 ° C.) adjusted to a solid content concentration (solid content means a component other than water; the same applies hereinafter) of 40%, and then the test piece was stainless steel mesh. It was placed on a basket and rinsed with ion-exchanged water for 1 minute, and the back side surface was rinsed in the same manner. Next, the test piece was dried for 10 minutes in an air circulation dryer at 70 ° C., and then observed with a microscope to confirm the number of particles per 1 cm 2, and the removability was evaluated in the following five stages. The number of particles before washing was 100 to 120.
<Evaluation criteria>
5: No particles at all on the glass substrate surface.
4: About 1 to 5 particles remain on the glass substrate surface.
2.導通性
アルミ配線(膜厚0.1μm 線巾10μm)を蒸着したガラス基板試験片(25×25mm、厚さ0.75mm、線数10本)を固形分濃度として40%となるよう調整した洗浄剤希釈液(40℃)に3分間浸漬し試験片をステンレス網かごの上に置きイオン交換水で1分間シャワーリンスし、さらに裏側の面についても同様にリンスした。次に、試験片を70℃の循風乾燥機中で10分間乾燥後、アルミ配線について導通を確認し、表中に(導通のあった配線数/総配線数)を記載した。
2. Conductivity Cleaning with a glass substrate test piece (25 × 25 mm, thickness 0.75 mm, number of lines 10) deposited with aluminum wiring (film thickness 0.1 μm, line width 10 μm) adjusted to a solid content concentration of 40% The specimen was immersed in an agent diluent (40 ° C.) for 3 minutes, placed on a stainless steel basket, rinsed with ion-exchanged water for 1 minute, and the back side was rinsed in the same manner. Next, after the test piece was dried for 10 minutes in a circulating air dryer at 70 ° C., conduction was confirmed for the aluminum wiring, and (number of wiring with conduction / total number of wiring) was described in the table.
表1の比較例1に示されるようにアルカリ金属原子含量が1ppmを超えると、またアルカリ成分として第四級アンモニウムを使用した場合では導通不良を起こす配線が認められたが、本発明の洗浄剤(実施例1〜3)は、すべてのアルミ配線で導通不良が認められなかった。 As shown in Comparative Example 1 of Table 1, when the alkali metal atom content exceeded 1 ppm, and when quaternary ammonium was used as the alkali component, wiring that caused poor conduction was observed, the cleaning agent of the present invention In Examples 1 to 3, no conduction failure was observed in all the aluminum wirings.
本発明の洗浄剤は、導通不良を引き起こさず、かつ、油分、指紋、樹脂およびパーティクルを除去する能力にも優れているので、液晶パネル用ガラス基板などの電子部品の洗浄用途に適用が可能であり極めて有用性が高い。 Since the cleaning agent of the present invention does not cause poor conduction and has an excellent ability to remove oil, fingerprints, resin and particles, it can be applied to cleaning electronic parts such as glass substrates for liquid crystal panels. Very useful.
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