JP3788973B2 - 推力制御バルブ - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、飛翔体の軌道制御および姿勢制御を行うスラスタ(thruster)などの2次推進系エンジンの推力(推進力ともいう)および飛翔体の速度を制御するための推力制御バルブの構造に関する。
【0002】
【従来の技術】
たとえば、大気圏内を高高度で飛翔する飛翔体は、操舵翼によって発生する操舵力だけでは充分な姿勢制御または軌道制御(ダイバート)を行うことができないため、推薬(推進薬ともいう)を収容したチャンバから導かれる高圧の推進用ガスを噴射して推力を発生するスラスタが搭載されている。このスラスタには、前記推進用ガスの噴射によって発生する推力を制御するために、推薬弁とも呼ばれる推力制御バルブが備えられている。
【0003】
図6は、従来の技術のピントルバルブ方式の推力制御バルブ1を模式的に示す断面図であり、図6(1)は推力制御バルブ1が開放した状態を示し、図6(2)は推力制御バルブ1が閉鎖した状態を示す。このピントルバルブ方式の推力制御バルブ1は、推進用ガスが供給されるガス供給室2と、前記推進用ガスを噴出するガス噴射室3と、ガス供給室2およびガス噴射室3を共通な軸線上で連通するガス通路4とが形成されるノズル5と、ノズル5の前記ガス供給室2、ガス通路4およびガス噴射室3にわたって前記軸線方向に移動自在に挿入され、この軸線方向の移動によって、ガス通路4の内周面6と、この内周面6に対向する円錐状の外周面7との間に流路8を形成するプラグ9とを含む。
【0004】
前記プラグ9は、図示しないモータを備える駆動系によって前記軸線方向に変位駆動される、このプラグ9の変位によって、流路8の流路断面積を変化させて、推進用ガスの噴射による推力を制御する。ガス供給室2内の推進用ガスの圧力P1とプラグ9の外周面7における受圧面積Aとの積が、プラグ9を軸線に沿って前記内周面6から離反する方向に作用する負荷力Fとなる。この負荷力Fは、要求される推力に応じて増大し、プラグ9を制御する前記モータを含む駆動系が長大なものとなる(たとえば、特許文献1参照)。
【0005】
図7は、他の従来の技術の差動方式の推力制御バルブ11を模式的に示す断面図である。この差動方式の推力制御バルブ11は、推進用ガスが供給される一対のガス供給室12a,12bと、前記推進用ガスを噴出する一対のガス噴射室13a,13bと、ガス供給室12a,12bおよびガス噴射室13a,13bを共通な軸線上でそれぞれ連通する一対のガス通路14a,14bとが形成されるノズル15と、ノズル15の前記ガス供給室12a,12b、ガス通路14a,14bおよびガス噴射室13a,13bにわたって前記軸線方向に移動自在に挿入され、この軸線方向の移動によって、ガス供給室12a,12bに臨む内周面16a,16bと、これらの内周面16a,16bに対向する円錐状の外周面17a,17bとの間に流路18a,18bをそれぞれ形成し、相互に同軸に連なる一対のプラグ19a,19bとを含む。
【0006】
このような差動方式の推力制御バルブ11では、モータによって一対のプラグ19a,19bの位置を制御し、推力を線形に変化させることができる。また一対のプラグ19a,19bへの推進力が相殺される構成であるので、前記モータに要求されるトルクは、図6に示される前記従来の技術のピントルバルブ方式の推力制御バルブ1に比べて小さくなるが、推力を必要としない場合であっても、両側から同じ推力を発生して相殺させるため、必要な推進用ガスの流量が増加する(たとえば、特許文献2参照)。
【0007】
図8は、さらに他の従来の技術のフローティングポペット方式の推力制御バルブ21を模式的に示す断面図であり、図8(1)は推力制御バルブ21が開放した状態を示し、図8(2)は推力制御バルブ21が閉鎖した状態を示す。このフローティングポペット方式の推力制御バルブ21は、推進用ガスが供給されるガス供給室22と、前記推進用ガスを噴出するガス噴射室23と、ガス供給室22およびガス噴射室23を共通な軸線上で連通するガス通路24とが形成されるノズル25と、ノズル25の前記ガス供給室22、ガス通路24およびガス噴射室23にわたって前記軸線方向に移動自在に挿入され、この軸線方向の移動によって、ガス通路24の開閉を行うプラグ29と、プラグ29が固定されるポペット30と、ポペット30に作用する背後側の空間32の圧力を制御する電磁弁31とを含む。
【0008】
この推力制御バルブ21では、ガス供給室22と、ポペット30によって仕切られる背後側の空間32とは、ポペット30に形成される透孔33を介して連通し、背後側の空間32の圧力を電磁弁31の開度を調整することによって、プラグ29に作用する負荷力を増減させてプラグ29を変位させ、これによってガス通路24の開閉を行い、推力を制御する。
【0009】
このようなフローティングポペット方式の推力制御バルブ21では、発生推力を線形に制御することができないため、パルス幅変調(略称PWM)駆動方式によって前記電磁弁31の制御を行っている。このため、前記電磁弁31への制御信号が飛翔体への誘導信号にノイズとして捕捉されてしまい、飛翔体の誘導精度を劣化させる可能性がある(たとえば、特許文献3参照)。
【0010】
【特許文献1】
欧州特許出願公開第489 712号明細書
【特許文献2】
特開平11−83396号公報
【特許文献3】
特開2000−283301号公報
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、推進用ガスによるプラグへの負荷力を低減させ、消費する推進用ガスの流量を低減し、飛翔体の誘導精度を劣化させるノイズの発生を抑制することができる推力制御バルブを提供することである。
【0012】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の本発明は、推進用ガスが供給されるガス供給室と、前記推進用ガスを噴出するガス噴射室と、ガス供給室およびガス噴射室を共通な軸線上で連通するガス通路とが形成されるノズルと、
ノズルヘッドの前記ガス供給室、ガス通路およびガス噴射室にわたって前記軸線方向に移動自在に挿入され、この軸線方向の移動によって、ガス供給室に臨む内周面と、この内周面に対向する外周面との間に形成されるガス供給室側流路、およびガス噴射室に臨む内周面と、この内周面に対向する外周面との間に形成されるガス噴射室側流路の各流路断面積を同時に変化させて、推進用ガスの噴射による推力を制御するプラグとを含むことを特徴とする推力制御バルブである。
【0013】
本発明に従えば、ノズル内に形成されるガス供給室、ガス噴射室およびガス通路には、プラグが軸線方向に移動自在に挿入され、ノズルの前記ガス供給室に臨む内周面と、この内周面に対向する前記プラグの外周面との間には、ガス供給室側流路が形成される。また、ノズルの前記ガス噴射室に臨む内周面と、この内周面に対向する前記プラグの外周面との間には、ガス噴射室側流路が形成される。前記プラグが軸線方向に移動することによって、前記ガス供給室側流路およびガス噴射室側流路の各流路断面積を変化させることができ、これによってガス供給室へ供給された推進用ガスは、ガス供給室側流路、ガス通路およびガス噴射室側流路をこの順序に通過し、各流路の流路断面積に応じて推進用ガスの流量を変化させ、推力を制御することができる。
【0014】
前記プラグのガス供給室側流路を形成する部位には、ガス供給室内の推進用ガスの圧力によって、前記プラグを軸線に沿って、ガス噴射室からガス供給室へ向かって移動させる方向に負荷力が発生し、前記プラグのガス噴射室側流路が形成される部位には、ガス噴射室内の推進用ガスの圧力によって、前記プラグを軸線に沿って、ガス供給室からガス噴射室へ向かって移動させる方向に負荷力が発生する。したがって前記プラグには、各負荷力が互いに逆方向に作用することになり、これらの負荷力は相殺し、各負荷力の差に相当する力だけが、総合的な負荷力としてプラグに作用する。このように簡単な構成で、推力を必要としないときまでも推進用ガスを噴射することなく、無駄な推進用ガスの使用を可及的に少なくし、飛翔体の誘導精度を劣化させるノイズを発生せずに、推進用ガスによるプラグへの負荷力を低減し、推力制御に対する応答性が向上された推力制御バルブが実現される。
【0015】
請求項2記載の本発明は、前記プラグには、ガス噴射室およびガス通路間で移動自在に配置され、推進用ガスの圧力によってガス供給室からガス噴射室へ移動する方向に負荷力を発生する受圧面が形成されるガス噴射室側受圧部と、ガス供給室およびガス通路間で移動自在に配置され、推進用ガスの圧力によってガス噴射室からガス供給室へ移動する方向に負荷力を発生する受圧面が形成されるガス供給室側受圧部とが設けられることを特徴とする。
【0016】
本発明に従えば、プラグにはガス噴射室側受圧部とガス供給室側受圧部とが設けられるので、各受圧部の受圧面の大きさおよび形状によってプラグの移動量および移動方向に対する負荷力の変化を調整することが可能となり、推力制御の応答性を、連続作動噴射およびパルス作動噴射などの各種の噴射状態に対して要求される推力が得られるように、容易に最適化することができる。
【0017】
請求項3記載の本発明は、前記プラグには、ガス噴射室およびガス通路間で移動自在に配置され、推進用ガスの圧力によってガス供給室からガス噴射室へ移動する方向に負荷力を発生する受圧面が形成されるガス噴射室側受圧部と、ガス供給室およびガス通路間で移動自在に配置され、推進用ガスの圧力によってガス噴射室からガス供給室へ移動する方向に負荷力を発生する受圧面が形成されるガス供給室側受圧部とが設けられ、
前記ガス噴射室側受圧部の受圧面は、ガス供給室側受圧部から軸線方向に離反するにつれてガス噴射室の内周面に近接する方向に傾斜する第1受圧面と、ガス供給室側受圧部から軸線方向に離反するにつれてガス噴射室の内周面から離反する方向に傾斜する第2受圧面とを有することを特徴とする。
【0018】
本発明に従えば、前記プラグのガス噴射室側受圧部には、第1受圧面と第2受圧面とが形成されるので、これらの第1および第2受圧面の軸線方向の長さ、半径方向の長さおよび形状などを個別に調整して、プラグに作用する負荷力を高精度で調整することが可能となる。このようにプラグの負荷力を高精度で調整することができることによって、推力制御の応答性を、連続作動噴射およびパルス作動噴射などの各種の噴射状態に対して要求される推力が得られるように、容易にかつ高精度で最適化することができる。
【0019】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の実施の一形態の推力制御バルブ41を示す簡略化した断面図であり、図2は図1に示される推力制御バルブ41の動作を示す簡略化した断面図であり、図2(1)は推力制御バルブ41が開放した状態を示し、図2(2)は推力制御バルブ41が閉鎖した状態を示す。飛翔体の軌道制御および姿勢制御を行うスラスタ(thruster)などの2次推進系エンジンの推力(推進力ともいう)を制御するため、および飛翔体の速度を制御するために搭載される推力制御バルブ41は、推進用ガスが供給されるガス供給室42と、前記推進用ガスを噴出するガス噴射室43と、ガス供給室42およびガス噴射室43を共通な軸線44上で連通するガス通路45とが形成されるノズル46と、ノズル46の前記ガス供給室42、ガス通路45およびガス噴射室43にわたって前記軸線44に沿う移動方向C1,C2に移動自在に挿入されるプラグ53とを含む。
【0020】
前記プラグ53は、移動方向C1,C2方向の移動によって、ガス供給室42に臨む内周面47と、この内周面47に対向する外周面48との間に形成されるガス供給室側流路49、およびガス噴射室43に臨む内周面50と、この内周面50に対向する外周面51との間に形成されるガス噴射室側流路52の各流路断面積A1,A2を、同時に変化させて、推進用ガスの噴射による推力を制御する。
【0021】
前記プラグ53は、図示しないアクチュエータによって軸線44方向に駆動され、線形制御による指令に応答して直線的に変位動作する。前記アクチュエータは、たとえばサーボモータおよびこのサーボモータの出力軸の回転を直線運動に変換して前記プラグに伝達する回転/直線運動変換機構などを含んで実現される。このようなアクチュエータは、プラグ53の負荷力の低減によって、小形化および軽量化することができ、この推力制御バルブを用いたスラスタを飛翔体に搭載することによって、飛翔体全体の質量を軽減して、機動性の向上を支援することができる。
【0022】
このようなプラグ53は、タングステン、モリブデン、カーボン複合材料、カーボン・シリカ複合材料、およびグラファイト等の耐熱材料のうちの1種または複数種の組合せから成る耐熱性および耐摩耗性の高い材料によって形成される。
【0023】
前記プラグ53が軸線方向C1,C2に移動することによって、ガス供給室42へ供給された推進用ガスは、ガス供給室側流路49、ガス通路45およびガス噴射室側流路52をこの順序に通過し、各流路49,52の流路断面積A1,A2に応じて推進用ガスの流量を変化させ、推力を制御することができる。
【0024】
前記プラグ53には、ガス噴射室43およびガス通路45間で移動自在に配置され、推進用ガスの圧力によってガス供給室42からガス噴射室43へ移動する方向C1に負荷力F0を発生する受圧面61,62が形成されるガス噴射室側受圧部63と、ガス供給室42およびガス通路45間で移動自在に配置され、推進用ガスの圧力によってガス噴射室43からガス供給室42へ移動する方向C2に負荷力F1を発生する受圧面64が形成されるガス供給室側受圧部65とが設けられる。
【0025】
前記ガス噴射室側受圧部63の受圧面61,62は、ガス供給室側受圧部65から軸線44方向に離反するにつれてガス噴射室43の内周面50に近接する方向に傾斜する第1受圧面61と、ガス供給室側受圧部65から軸線44方向に離反するにつれてガス噴射室43の内周面50から離反する方向に傾斜する第2受圧面62とを有する。
【0026】
各受圧面61,62の軸線44を含む一平面で切断したときの断面形状は、直線、多段の段差状および滑らかな曲線形状のうちのいずれかを採用することができる。
【0027】
図3は、推力制御バルブ41のガス供給室側流路およびガス噴射室側の各位置における圧力とプラグ53の総合負荷力との関係の一例を示す図である。前記プラグ53のガス供給室側流路49が形成される部位には、ガス供給室42内の推進用ガスの圧力によって、前記プラグ53を軸線44に沿って、ガス噴射室43からガス供給室42へ向かって移動させる方向に負荷力F1が発生し、前記プラグ53のガス噴射室側流路52が形成される部位には、ガス噴射室43内の推進用ガスの圧力によって、前記プラグ53を軸線44に沿って、ガス供給室42からガス噴射室43へ向かって移動させる方向に負荷力F0が発生する。
【0028】
同図において、プラグ負荷力は、各位置における圧力と受圧面積との積を位置方向に積分したものである。すなわち、同図では、プラグ53の右端位置におけるプラグ負荷力が、プラグ53に印加される総合負荷力となる。
【0029】
図4は、推力制御バルブ41の推進用ガスの流量の抑制効果を説明するための図であり、図4(1)は図7に示される従来の技術の差動方式の推力制御バルブ11が飛翔体60の機軸61に関して周方向に90°毎に設けられたときの推進用ガスの噴射状態を示し、図4(2)は本実施の形態の推力制御バルブ41が飛翔体60の機軸61に関して周方向に90°毎に設けられたときの推進用ガスの使用状態を示す。前述の図7に示される従来の技術の差動方式の推力制御バルブ11では、図4(1)に示されるように、飛翔体60の機軸61に関して周方向に90°毎に設けられたとき、相互に連結された左右一対のプラグによって負荷力を調整するので、ガスジェネレータの推進用ガス発生の能力を100%としたとき、推力が不要な左右方向に25%ずつ推進用ガスを発生させる必要があるので、推力が必要な上方へは50%だけになってしまう。これに対して本実施の形態の推力制御バルブ41では、図4(2)に示されるように、推力を得たい側に配置される単一の推力制御バルブ41だけから推進用ガスを噴射させることができるので、推力を必要としないとき、推進用ガスを噴射することなく、不要時には完全に推力をゼロにして、無駄な推進用ガスの使用を可及的に少なくし、推力を必要とする方向だけに推進用ガスを噴射して、同一の推力を発生させることができる。
【0030】
図5は、推力制御バルブ41の推進用ガスの最大流量を増加させることを説明するための図であり、図5(1)は図7に示される従来の技術の差動方式の推力制御バルブ11が飛翔体60の機軸61に関して周方向に90°毎に設けられたときの推進用ガスの噴射状態を示し、図5(2)は本実施の形態の推力制御バルブ41が飛翔体60の機軸61に関して周方向に90°毎に設けられたときの推進用ガスの噴射状態を示す。前述の図7に示される従来の技術の差動方式の推力制御バルブでは、図5(1)に示されるように、飛翔体60の機軸61に関して周方向に90°毎に設けられたとき、推力制御バルブ1つあたりの推進用ガスの最大流量は、ガスジェネレータの能力を100%とすると、その50%に制限される。これに対して本実施の形態の推力制御バルブ41では、図5(2)に示されるように、飛翔体60の機軸61に関して周方向に90°毎に設けられたとき、推力制御バルブ1つあたりの推進用ガスの最大流量は、ガスジェネレータの能力を100%とすると、100%を出力することができ、従来の推力の最大2倍を推力を達成することができる。これによって飛翔体の姿勢または軌道制御性能を向上することができる。
【0031】
さらに、本実施の形態の推力制御バルブ41においては、前記プラグ53のガス噴射室側受圧部には、第1受圧面と第2受圧面とが形成されるので、これらの第1および第2受圧面の軸線方向の長さ、半径方向の長さおよび形状などを個別に調整して、プラグ53に作用する負荷力を高精度で調整することが可能となる。このようにプラグ53の負荷力を高精度で調整することができることによって、推力制御の応答性を、要求される推力に応じて容易にかつ高精度で最適化することができる。
【0032】
【発明の効果】
請求項1記載の本発明によれば、前記プラグのガス供給室側流路を形成する部位には、ガス供給室内の推進用ガスの圧力によって、前記プラグを軸線に沿って、ガス噴射室からガス供給室へ向かって移動させる方向に負荷力が発生し、前記プラグのガス噴射室側流路が形成される部位には、ガス噴射室内の推進用ガスの圧力によって、前記プラグを軸線に沿って、ガス供給室からガス噴射室へ向かって移動させる方向に負荷力が発生する。したがって前記プラグには、各負荷力が互いに逆方向に作用することになり、これらの負荷力は相殺し、各負荷力の差に相当する力だけが、総合的な負荷力としてプラグに作用する。このように簡単な構成で、推力を必要としないときまでも推進用ガスを噴射することなく、無駄な推進用ガスの使用を可及的に少なくし、飛翔体の誘導精度を劣化させるノイズを発生せずに、推進用ガスによるプラグへの負荷力を低減し、推力制御に対する応答性が向上された推力制御バルブが実現される。
【0033】
請求項2記載の本発明によれば、プラグにはガス噴射室側受圧部とガス供給室側受圧部とが設けられるので、各受圧部の受圧面の大きさおよび形状によってプラグの移動量および移動方向に対する負荷力の変化を調整することが可能となり、推力制御の応答性を、連続作動噴射およびパルス作動噴射などの各種の噴射状態に対して要求される推力が得られるように、容易に最適化することができる。
【0034】
請求項3記載の本発明によれば、プラグのガス噴射室側受圧部には、第1受圧面と第2受圧面とが形成されるので、これらの第1および第2受圧面の軸線方向の長さ、半径方向の長さおよび形状などを個別に調整して、プラグに作用する負荷力を高精度で調整することが可能となる。このようにプラグの負荷力を高精度で調整することができることによって、推力制御の応答性を、連続作動噴射およびパルス作動噴射などの各種の噴射状態に対して要求される推力が得られるように、容易にかつ高精度で最適化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の一形態の推力制御バルブ41を示す簡略化した断面図である。
【図2】図1に示される推力制御バルブ41の動作を示す簡略化した断面図であり、図2(1)は推力制御バルブ41が開放した状態を示し、図2(2)は推力制御バルブ41が閉鎖した状態を示す。
【図3】推力制御バルブ41のガス供給室側およびガス噴射室側の各位置における圧力とプラグ53の総合負荷力との関係の一例を示す図である。
【図4】推力制御バルブ41の推進用ガスの流量の抑制効果を説明するための図であり、図4(1)は図7に示される従来の技術の差動方式の推力制御バルブが飛翔体60の機軸61に関して周方向に90°毎に設けられたときの推進用ガスの噴射状態を示し、図4(2)は本実施の形態の推力制御バルブ41が飛翔体60の機軸61に関して周方向に90°毎に設けられたときの推進用ガスの使用状態を示す。
【図5】推力制御バルブ41の推進用ガスの最大流量を増加させることを説明するための図であり、図5(1)は図7に示される従来の技術の差動方式の推力制御バルブが飛翔体60の機軸61に関して周方向に90°毎に設けられたときの推進用ガスの噴射状態を示し、図5(2)は本実施の形態の推力制御バルブ41が飛翔体60の機軸61に関して周方向に90°毎に設けられたときの推進用ガスの噴射状態を示す。
【図6】従来の技術のピントルバルブ方式の推力制御バルブ1を模式的に示す断面図であり、図6(1)は推力制御バルブ1が開放した状態を示し、図6(2)は推力制御バルブ1が閉鎖した状態を示す。
【図7】他の従来の技術の差動方式の推力制御バルブ11を模式的に示す断面図である。
【図8】さらに他の従来の技術のフローティングポペット方式の推力制御バルブ21を模式的に示す断面図であり、図8(1)は推力制御バルブ21が開放した状態を示し、図8(2)は推力制御バルブ21が閉鎖した状態を示す。
【符号の説明】
41 推力制御バルブ
42 ガス供給室
43 ガス噴射室
44 軸線
45 ガス通路
46 ノズル
47 ガス供給室42に臨む内周面
48 ガス供給室42に臨む内周面47に対向する外周面
49 ガス供給室側流路
50 ガス噴射室43に臨む内周面
51 ガス噴射室43に臨む内周面50に対向する外周面
52 ガス噴射室側流路
53 プラグ
A1,A2 流路断面積

Claims (3)

  1. 推進用ガスが供給されるガス供給室と、前記推進用ガスを噴出するガス噴射室と、ガス供給室およびガス噴射室を共通な軸線上で連通するガス通路とが形成されるノズルと、
    ノズルヘッドの前記ガス供給室、ガス通路およびガス噴射室にわたって前記軸線方向に移動自在に挿入され、この軸線方向の移動によって、ガス供給室に臨む内周面と、この内周面に対向する外周面との間に形成されるガス供給室側流路、およびガス噴射室に臨む内周面と、この内周面に対向する外周面との間に形成されるガス噴射室側流路の各流路断面積を同時に変化させて、推進用ガスの噴射による推力を制御するプラグとを含むことを特徴とする推力制御バルブ。
  2. 前記プラグには、ガス噴射室およびガス通路間で移動自在に配置され、推進用ガスの圧力によってガス供給室からガス噴射室へ移動する方向に負荷力を発生する受圧面が形成されるガス噴射室側受圧部と、ガス供給室およびガス通路間で移動自在に配置され、推進用ガスの圧力によってガス噴射室からガス供給室へ移動する方向に負荷力を発生する受圧面が形成されるガス供給室側受圧部とが設けられることを特徴とする請求項1記載の推力制御バルブ。
  3. 前記プラグには、ガス噴射室およびガス通路間で移動自在に配置され、推進用ガスの圧力によってガス供給室からガス噴射室へ移動する方向に負荷力を発生する受圧面が形成されるガス噴射室側受圧部と、ガス供給室およびガス通路間で移動自在に配置され、推進用ガスの圧力によってガス噴射室からガス供給室へ移動する方向に負荷力を発生する受圧面が形成されるガス供給室側受圧部とが設けられ、
    前記ガス噴射室側受圧部の受圧面は、ガス供給室側受圧部から軸線方向に離反するにつれてガス噴射室の内周面に近接する方向に傾斜する第1受圧面と、ガス供給室側受圧部から軸線方向に離反するにつれてガス噴射室の内周面から離反する方向に傾斜する第2受圧面とを有することを特徴とする請求項1記載の推力制御バルブ。
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