JP3784762B2 - パターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法 - Google Patents
パターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法 Download PDFInfo
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、パターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法に関し、特に、プラズマディスプレイ等のガラス基板に塗布された蛍光体の塗布欠陥を自動的に検査するパターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
プラズマディスプレイ等のガラス基板に塗布または印刷された蛍光体の塗布または印刷欠陥を検査するパターン欠陥検査装置は、従来から知られている装置がある。この装置は、例えば、蛍光体をストライプ状に形成されたプラズマディスプレイ等のガラス基板に紫外線照明光源により紫外線を照射し、形成された蛍光体を発光させる。この発光画像をラインセンサ(一次元センサ)のような撮像部により撮影する。形成されている蛍光体は、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の蛍光体であるため、撮像部により撮像する場合、R、G、Bのそれぞれの蛍光体に対応したカラーフィルタを撮像部に装着し、それぞれの蛍光体に対応する画像を撮影するように構成されている。撮像部により撮像された画像は、画像処理部に出力され、例えば、表示装置等に表示することによりガラス基板に塗布された蛍光体ストライプのパターン欠陥を検査する装置である。
【0003】
図9は、上記従来のパターン欠陥検査装置によりプラズマディスプレイのガラス基板に塗布されたストライプ状の蛍光体の撮影画面である。図9において、91は、ガラス基板の一部を表示したものであり、ガラス基板91上にR、G、Bの各色の蛍光体がストライプ状に塗布されている状態を示している。92は、赤色(R)蛍光体ストライプ上にあるピンホールのような欠陥部を示している。また、ガラス基板91の周辺部に表示されている波形は、撮像部から得られる画像の輝度信号レベルを表示している。93、94は、輝度信号の0レベルを表している。95は、一点鎖線Aで示される赤色(R)蛍光体ストライプの輝度信号レベルを示している。欠陥部92の部分は、例えば、ピンホール欠陥のため赤色(R)蛍光体の発光がなく、輝度信号レベルが低くなっている。96は、一点鎖線Bで示される部分、即ち、蛍光体ストライプの塗布されていない間隙部分の輝度信号レベルを示している。98は、一点鎖線Cで示される部分の輝度信号レベルを示し、欠陥部92の部分は、輝度信号レベルが低くなっていることがわかる。97、99は、輝度信号レベルの閾値、即ち、欠陥判定レベルを示し、一般的に最大輝度信号レベルの50%程度に設定される。しかし、欠陥検出の精度との関係から適宜調節したり、あるいは実験的に定められる。
【0004】
以上のように輝度信号レベルから蛍光体の塗布欠陥を検出するものであるが、図9の輝度信号レベルからも明らかなように、蛍光体塗布欠陥部92の輝度信号レベルは、閾値よりも低くなっているが、同時に、蛍光体を塗布されていない間隙部分の輝度信号レベルも閾値より低くなっているため、蛍光体塗布欠陥部92であるのか、間隙部分であるのかの判定を自動的に行なうことができない。なお、一見位置データを考慮すれば、蛍光体塗布欠陥部92であるのか、間隙部分であるのかの判定が可能なように考えられるが、実際のプラズマディスプレイのガラス基板に塗布されている蛍光体ストライプの巾は、200μm〜250μm、間隙の巾は、約100μmの極めて微細な蛍光面であるため、位置情報からの検出は不可能である。
【0005】
また、微細な電極のようなパターンの欠陥検査として隣接比較検査法(例えば、特許文献1参照。)が知られている。これは、例えば、プラズマディスプレイの電極のような微細なパターンの欠陥を検出するものである。その方法は、複数の電極をグループ化し、そのグループの中の電極の1つと他のグループの中の電極の1つとを比較し、これを繰り返して全部の電極の欠陥を検査する方法が知られている。しかし、この隣接比較検査法によれば、グループ間の電極の比較をするためには、位置合わせを高精度に行なう必要があるが、上述したように、プラズマディスプレイの蛍光体ストライプは、極めて微細であるため、その位置合わせには、パターンの形状等も考慮する必要があり、その位置合わせを正確に行なうためには、極めて高精度の位置合わせ装置が必要になり、実用的で、低コストの欠陥検査装置の実現は難しい。
【特許文献1】
特開2000−55817号公報(第2、3頁、図1)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、プラズマディスプレイ等のガラス基板に塗布された蛍光体の塗布欠陥を自動的に検出するパターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法を提供することである。
【0007】
本発明の他の目的は、ストライプ状等の蛍光体塗布パターンに影響されず、高感度にパターンの欠陥を検査するパターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法を提供することである。
【0008】
本発明の他の目的は、欠陥位置の特定が容易に行なえるパターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法を提供することである。
【0009】
本発明の更に他の目的は、プラズマディスプレイ等のデスプレイパネルの製造ラインに容易に設置でき、高速の欠陥検査、かつ低価格を実現したパターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明のパターン欠陥検査装置は、基板上に形成された蛍光体のストライプ状パターンを撮像する撮像部と、上記撮像部を移動する移動機構部と、上記撮像部からの映像信号を入力される画像処理部と、上記画像処理部の出力を表示する表示部および上記移動機構部と上記画像処理部を制御する制御部とからなり、上記画像処理部は、上記蛍光体のストライプ状パターンの方向検出部と、上記撮像部からの画像信号の内、上記パターンの方向検出部からの出力に基づいて上記蛍光体のパターンの方向に配列された少なくとも2箇所の同じ大きさのブロックの画像データを切り出し、該切り出された画像データを比較する比較部と上記比較結果に基づいて上記パターンの欠陥を検出する欠陥検出部とから構成される。
【0011】
また、本発明のパターン欠陥検査装置において、撮像部は、複数個のラインセンサカメラが直線状に配置され、且つ、それぞれのラインセンサカメラは、その視野範囲が一部オーバーラップするように配置され、移動機構部は、上記直線状に配置された複数個のラインセンサカメラを、上記カメラの配列方向とは直角な方向に一定速度で移動させる機能を有するように構成される。
【0012】
また、本発明のパターン欠陥検査装置において、少なくとも2箇所の画像データは、蛍光体のストライプの長手方向に隣接する2つのブロック領域からの画像データ
であり、比較部は、少なくとも2つのブロック領域から得られる画像データの差画像を出力するように構成される。
【0013】
更に、本発明のパターン欠陥検査方法は、基板上に形成された蛍光体のストライプ状パターンを撮像するステップ、上記撮像ステップにより得られる画像データから上記蛍光体のストライプ状パターンの方向を検出するステップ、上記パターンの方向検出ステップから得られた上記パターンの方向に基づいて、上記蛍光体のストライプ状パターンの方向に配列された少なくとも2箇所の同じ大きさのブロックの画像データを切り出し、該切り出された画像データを比較するステップおよび上記比較結果に基づいて上記パターンの欠陥を検出するステップとからなる。
【0014】
また、本発明のパターン欠陥検査方法において、上記蛍光体のストライプ状パターンの方向検出ステップから得られた上記パターンの方向に基づいて、上記蛍光体のパターンの方向に配列された少なくとも2箇所の同じ大きさのブロックの画像データを切り出し、該切り出された画像データを比較するステップは、上記蛍光体のストライプ状パターンの長手方向に隣接する2つのブロック領域を選定するステップおよび上記2つのブロック領域から得られる画像データの差画像を検出するステップからなり、それぞれの差画像を検出することで実現される。
【0015】
また、本発明のパターン欠陥検査方法において、撮像により得られる画像データから上記蛍光体のストライプ状パターンの方向を検出するステップは、上記画像データの輝度信号レベルの投影波形の周期性を検出するステップからなる。
【0016】
また、本発明のパターン欠陥検査方法において、更に、2つのブロック領域を1ブロックだけ蛍光体ストライプの長手方向に移動し、移動前の上記2つのブロック領域から得られる画像データの差画像と移動後の上記2つのブロック領域から得られる画像データの差画像とを比較することにより欠陥のあるブロック領域を特定する。
【0017】
更に、また、本発明のパターン欠陥検査方法において、上記基板は、プラズマディスプレイのガラス基板であり、ストライプ状パターン撮像ステップ、パターンの方向検出ステップ、2箇所の画像データの比較ステップおよび各比較結果からパターンの欠陥を検出するステップの各ステップが、各色の蛍光体ストライプを上記ガラス基板上に形成する製造工程毎に繰り返されることにより実現される。
【0018】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明のパターン欠陥検査装置の一実施例を示す図である。図1において、1は、プラズマディスプレイ等のガラス基板の載置台、2は、プラズマディスプレイ等のガラス基板、3は、R、G,Bの蛍光体ストライプ、4は、蛍光体ストライプ3を発光させるための紫外線照明用光源、5は、レンズ及びR、G,Bのカラーフイルタを順次装着される光学系、6は、撮像用ラインセンサカメラ等の撮像部、7は、撮像部6並びに光源4をガラス基板2に沿ってガラス基板2上を走査する為の移動機構部、8は、ピンホール等の欠陥を検出する画像処理部、9は、検査結果を表示又は印字するカラーモニタ、プリンタ等の表示部、10は、移動機構部7を駆動するための駆動部、11は、画像処理部および駆動部を制御するための制御部であり、本検査装置の操作部も含まれている。また、画像処理部8は、後述するように画像入力部12、差画像検出部13および欠陥検出部14から構成されている。
【0019】
図2は、図1に示すパターン欠陥検査装置の載置台、ガラス基板および撮像部の拡大図を示すもので、図1と同じものには、同じ符号が付されている。載置台1は、検査時にガラス基板2を載置する台であるが、プラズマディスプレイパネルのガラス基板に、例えば、赤色(R)の蛍光体ストライプが塗布されると、その塗布状態を検査するために、矢印で示す方向から赤色(R)蛍光体ストライプを塗布されたガラス基板が搬送され、図2に示す所定の位置に固定され、欠陥の有無が検査される。緑色(G)の蛍光体ストライプを塗布するラインおよび青色(B)の蛍光体ストライプを塗布するラインでも同様の検査が行なわれる。なお、本実施例では、ガラス基板の大きさは、1460mm×1030mmの大きさのものであるが、これに限定されるものではない。
【0020】
21は、移動機構部7の一部であり、撮像部6及び紫外線照明用光源4を支持するための支持部材である。撮像部6は、一枚のガラス基板の検査の為に、図のようにラインセンサカメラ4台が一列に配置され、巾1030mmのガラス基板をカバーするように構成されている。1台のラインセンサカメラの撮影巾は、約260mmで、ラインセンサカメラ間の視野範囲は、一部重なるように構成してある。紫外線照明用光源4からの紫外線22は、ガラス基板2で反射し、赤色(R)の蛍光体ストライプ3の像を光学系5を介して撮像部6で撮影する。この支持部材21は、赤色(R)の蛍光体ストライプ3の長手方向に等速で、例えば、ガラス基板2のY軸上を右端から左端へと移動し、ガラス基板全面の走査を行う。
【0021】
以下、この動作について詳細に説明する。プラズマディスプレイ等のガラス基板2に紫外線照明光源4により紫外線22を照射し、塗布または印刷されたストライプ蛍光体3を発光させる。その発光画像を撮像部6により撮像する。この時、検出すべき蛍光体の種類(R、G、B)により撮像部6には、それぞれの色の蛍光体に対応したカラーフィルタを装着することは、前述の通りである。撮像部6により撮像した画像は、画像処理部8に送出される。
【0022】
図3は、本発明のパターン欠陥検査装置のピンホール等のパターン欠陥検出の原理を説明する図である。図3において、ガラス基板2上にR、G、Bの各色の蛍光体ストライプ3が周期的に塗布されている場合を示す。以後の説明については、R、G、Bの各色の蛍光体ストライプ3が全て塗布されているガラス基板について説明するが、実際の製造ラインでは、上述したように、各色の蛍光体ストライプが順に塗布される度に、検査されることは勿論であり、その方が、欠陥を検出した時点で、次の蛍光体塗布または印刷工程を止め、欠陥のあるガラス基板を洗浄し、再度、新しく蛍光体を塗布または印刷するようにした方が塗布または印刷の無駄をなくす点で優れている。また、そのためにも製造ラインのタクトタイムに合わせて、検査する必要があるため、検査スピードの速いパターン欠陥検査装置が必要である。
【0023】
撮像部6で撮像した画像データは、画像処理部8に送られて、画像入力部12に入力される。画像入力部12では、画像データを複数のブロックに分割する。例えば、良く知られている4画素×4画素のブロック(以下、4×4ブロック等のように表示する)、8×8ブロック、あるいは32×32のブロック31および32を切り出し、差画像検出部13に出力する。ブロック31および32は、欠陥を検出するための最小の単位ブロックであり、その大きさは、検査スピード、処理スピードおよび欠陥検出精度等から実験的に適宜設定される。
【0024】
差画像検出部13では、ブロック31とブロック32が比較される。比較方法としては、例えば、ブロック31とブロック32のそれぞれの画素の輝度信号レベルの比較をすることによりブロック31とブロック32の差画像検出33を行なう。ピンホール等の欠陥34が蛍光体ストライプ3(図3では、Rの蛍光体ストライプに欠陥34がある場合を示す)上にある場合、差画像35に欠陥36が輝度信号レベルの差として検出される。差画像検出部13の出力は、欠陥検出部14で、差画像と予め設定された判定レベル(閾値)とが比較され、判定レベルを超えた場合、欠陥として検出される。この差画像35は、直接表示部9に表示したり、あるいは、2値化された画像37および2値化された欠陥38の信号が得られるので、自動的に欠陥を検出できる。
【0025】
従って、これらブロック31とブロック32を順次移動させ、ガラス基板全体について、差画像の検出を行なうことによりストライプ状の蛍光体全部の欠陥を検査できる。なお、これら検査データを記憶部(図示せず)に記憶すると共に、検査データを分析することにより、製造上の品質管理に役立てることも可能である。また、上記比較方法として輝度信号レベルによる比較を説明したが、これに限られるものではなく、画像信号のヒストグラムによる比較等でも差画像の検出ができることは言うまでもない。
【0026】
而して、本発明のパターン欠陥検査装置では、図3に示すように、ブロック31とブロック32との関係は、蛍光体ストライプの長手方向(図3においては上下の位置関係)に位置されることが必要であり、また、ブロック31とブロック32を移動する場合も、この関係を保持することが必要である。この理由について、図4を用いて説明する。
【0027】
図4は、ガラス基板2上に蛍光体ストライプ3が横方向に塗布され、ブロック31とブロック32との関係は、蛍光体ストライプの方向に対して直角な方向、即ち、図のように上下の関係に位置している。なお、図4の各部の符号は、図3と同じものには同じ符号が付されている。41は、差画像、42は、2値化画像を示す。図4において、ブロック31とブロック32の差画像検出33を実行する場合、ブロック31の各色のストライプ3の位置とブロック32の各色のストライプ3の位置とが正しく一致しない場合、即ち、各色のストライプ3の位置がずれていると、差画像41には、欠陥36の他に、ブロック31とブロック32の各色のストライプ3の差分の信号分がストライプ43として現われ、ストライプ状の欠陥として誤検出される。従って、2値化画像42にもストライプ状の2値化差分値44として、出力され、誤検出となる。
【0028】
従って、図4のように、印刷パターンのストライプ方向とブロック31とブロック32の配列方向が異なる場合、両ブロック領域内のR、G、Bのストライプ位置を正確に合せる必要が有り、そのための処理は、画像相関演算等の膨大な計算処理が必要となり、製造ラインに設置するパターン欠陥検査装置としては、極めて実現が困難である。しかし、図3のように印刷パターンのストライプ方向とブロック31とブロック32の配列方向が同じであれば、図2で説明したように、撮像部6の移動方向は、ストライプの長手方向に一致しているため、ブロック31とブロック32の位置合わせは、ストライプ同士の位置合わせを行なう必要はなく、ブロック31とブロック32を合わせるだけで、位置合わせが出来るので、極めて位置合わせが容易となる。
【0029】
換言すれば、撮像部6の配列方向をX軸方向、撮像部6の移動方向をY軸方向とすると、ブロック31とブロック32のX軸方向の位置は、移動機構7で常に一定に保たれ、位置合わせの必要がなく、ブロック31とブロック32のY方向の位置だけを一致させれば、簡単にブロック31とブロック32内の各色のストライプの位置を合致させることができるので、欠陥34だけを簡単に検出することが可能となる。
【0030】
次に、図3に示すようなパターン欠陥検査方法を採用する場合、ガラス基板上のストライプの方向を検出する必要がある。これについて図5および図6を用いて説明する。図5は、ガラス基板2上に縦方向にR、G、Bのストライプ状蛍光体が塗布されている状態を示している。これを第1図に示すパターン欠陥検査装置で撮像し、撮像された画像の輝度信号を処理することによりストライプの方向を検出する。即ち、51は、横方向画素の輝度信号レベル(加算投影波形)、52は、縦方向画素の輝度信号レベル(加算投影波形)を示す。53、54は、輝度信号の0レベル、55,56は、欠陥検出のための判定レベル(閾値レベル)を示す。撮像された画像の輝度信号は、画像処理部8で処理され、周期的に判定レベルを超える方向を検出することで、パターン方向を特定する。即ち、周期的に判定レベルを超える輝度信号レベル52を検出した方がストライプ状蛍光体の長手方向となる。
【0031】
図6では、ガラス基板2上に横方向にR、G、Bのストライプ状蛍光体が塗布されている状態を示している。従って、図5と同様に、周期的に判定レベルを超える輝度信号レベル52を検出した方がストライプ状蛍光体の長手方向となる。なお、図6の各部の符号は、図5の各部の符号に対応する。
【0032】
本発明の他の一実施例について、図7を用いて説明する。図7に示す実施例では、ストライプ状の蛍光体3は、ガラス基板2上に横方向に塗布された場合を示している。なお、図7の各部の符号は、図3と同じものには同じ符号が付されている。図7において、差画像を検出するためのブロック領域71および72の位置関係は、各色のストライプの長手方向、即ち、図7では、ブロック領域71、72が横方向の位置関係に配置されている。このような位置関係にすると、ブロック領域71内の各色のストライプの位置関係と、ブロック領域72内の各色のストライプの位置関係は、同じになるので、ブロック領域71、72の差画像検出33を実行すると、差画像35には欠陥36のみの信号が得られる。従って、2値化画像37には、2値化された欠陥38の2値化信号が得られる。
【0033】
次に、本発明のパターン欠陥検査装置の動作について、図10を用いて説明する。
まず、第1ステップ101として、ストライプ状蛍光体(例えば(R)蛍光体)を塗布されたガラス基板2が載置台1に搬入固定されると、撮像部6が移動機構7によりY軸の原点0から撮像を開始する。
【0034】
第2ステップ102では、検査領域の検出が行なわれる。これはラインセンサカメラが最初に紫外光を受光した時点であり、これを基準にして全ての処理ステップがスタートする。
【0035】
第3ステップ103では、まず、印刷されたストライプ状蛍光体の方向の判定が行なわれる。即ち、図3および図4で説明したように本発明では、ストライプ状蛍光体の方向の判定がピンホール等の欠陥検査に極めて重要である。この方向性判定は、ラインセンサカメラが蛍光体ストライプから反射される紫外光を受光した直後の、例えば、32画素×32画素の映像信号を検出し、図5および図6で説明した方法で、蛍光体ストライプの方向が判定される。なお、32画素では、数本の蛍光体ストライプをカバーするので、方向性を判定するには、十分な画素数である。
【0036】
第4ステップ104では、比較ブロックの方向が決定される。即ち、上述したように第3ステップで判定されたストライプ状蛍光体の方向に従って、比較する2個のブロックの位置関係が決定される。例えば、ストライプ状蛍光体の方向が図3のように縦方向であれば、2個のブロックの位置関係は、上下方向の位置関係とし、ストライプ状蛍光体の方向が図7のように横方向であれば、2個のブロックの位置関係は、横方向の位置関係となるように選ばれる。
【0037】
以上説明した各実施例は、2つのブロックの位置関係は、間隙のない互いに密着した位置関係としているが、処理の方法によっては、一部、ブロックがオーバーラップしたり、あるいは、ブロック間の間を空けて画像を取込むようにすることも可能である。
【0038】
第5ステップ105では、第4ステップで決められた2個のブロックの位置関係を保ちながら検査対象となるプラズマディスプレイパネル等のガラス基板全体にわたり、2個のブロックの差画像を求める。
【0039】
第6ステップ106では、第5ステップで求められた差画像から得られる輝度信号レベルと、欠陥判定レベル(閾値)とを比較し、欠陥判定レベルより高い差信号レベルがあれば、これをパターン欠陥と判定する。なお、欠陥判定レベル(閾値)は、画像信号から得られる最高レベルの約50%程度に設定されるが、実験的に、あるいは検査の過程で必要により適宜調節し、設定を変えることも可能である。
【0040】
上記のようなステップが印刷あるいは塗布されたストライプ状蛍光体の例えば、R,G,Bの各色蛍光体について順次行なわれる。勿論、前述したようにR蛍光体の検査で欠陥が検出された場合は、次の色の蛍光体の塗布あるいは印刷の工程は、中止し、そのガラス基板は、蛍光体除去の工程に進み、再生される。
【0041】
以上、本発明について詳述したが、本発明のパターン欠陥検査方法では、2個のブロックの差画像で欠陥を検出する方法を採用しているため、差画像検出結果から2個のブロックのどちらに欠陥があるのかの判定ができないという問題がある。この問題を解決するための方法について、図8を用いて説明する。
【0042】
図8は、複数の差画像からどのブロック領域に欠陥があるのかを判別する方法を示している。図8において、R、G、Bのストライプ状蛍光体3の一部が示されており、Bのストライプ状蛍光体上にピンホール欠陥81がある場合について説明する。なお、ガラス基板は、省略されている。まず、ブロック82が領域1にあり、ブロック83が領域2にある場合、2個のブロック82と83の差画像84に欠陥87が現われる。この段階では、欠陥81がブロック82と83のいずれのブロック領域にあるのかの判定ができない。次にブロック82と83を1ブロックシフトする。即ち、領域2にブロック82を、そして領域3にブロック83を移動させ、ブロック82と83の差画像85を求め、欠陥88が検出された場合、領域2に欠陥81があることが特定できる。更に、ブロック82と83を更に1ブロックシフトする。即ち、領域3にブロック82を、そして領域4にブロック83を移動させ、ブロック82と83の差画像86を得た場合、差画像86に欠陥がない場合は、領域3、4には、欠陥がないことが分かる。従って、この方法によれば、領域2に欠陥81が存在し、領域1、3,4には、欠陥がないことが分かる。
【0043】
以上、本発明について詳細に説明したが、本発明は、ここに記載されたプラズマディスプレイパネル等のガラス基板のパターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法に限定されるものではなく、上記以外のパターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法に広く適応することが出来ることは、言うまでも無い。
【0044】
【発明の効果】
以上説明したように本発明は、プラズマディスプレイ等のガラス基板上にR、G、Bの各色蛍光体をストライプ状に塗布または印刷された蛍光体の塗布または印刷欠陥を自動的に検出でき、また、ストライプ状等の蛍光体塗布パターンに影響されず、高感度にパターンの欠陥を検査できる。また、プラズマディスプレイ等の微細なパターンの欠陥検査が自動的に行なえるため、プラズマディスプレイ等のデスプレイパネルの製造ラインに容易に設置でき、高速の欠陥検査、かつ低価格を実現したパターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるパターン欠陥検査装置の一実施例を示すブロック図である。
【図2】本発明の一実施例の一部分の拡大図を示す図である。
【図3】本発明の動作原理を説明するための図である。
【図4】本発明の動作原理を説明するための図である。
【図5】本発明の蛍光体ストライプの方向を検出するための原理説明図である。
【図6】本発明の蛍光体ストライプの方向を検出するための原理説明図である。
【図7】本発明の他の一実施例の動作原理を説明するための図である。
【図8】本発明の更に他の一実施例を説明するための図である。
【図9】従来のパターン欠陥検査装置の一例の動作を示す図である。
【図10】本発明の欠陥検査方法の一実施例を説明するための図である。
【符号の説明】
1:ガラス基板載置台、2:ガラス基板、3:蛍光体ストライプ、4紫外線用光源、5:光学系、6:撮像部、7:移動機構、8:画像処理部、9:表示部、10:駆動部、11:制御部、R:赤色蛍光体ストライプ、G:緑色蛍光体ストライプ、B:青色蛍光体ストライプ、31、32:ブロック領域、33:差画像検出、34:欠陥、35:差画像、36:欠陥差画像、37:2値化データ、38:2値化欠陥データ。
Claims (5)
- 基板上に形成された蛍光体のストライプ状パターンを撮像する撮像部と、上記撮像部を移動する移動機構部と、上記撮像部からの映像信号を入力される画像処理部と、上記画像処理部の出力を表示する表示部および上記移動機構部と上記画像処理部を制御する制御部とからなり、上記画像処理部は、上記蛍光体のストライプ状パターンの方向検出部と、上記撮像部からの画像信号の内、上記パターンの方向検出部からの出力に基づいて上記蛍光体のパターンの方向に配列された少なくとも2箇所の同じ大きさのブロックの画像データを切り出し、該切り出された画像データを比較する比較部と上記比較結果に基づいて上記パターンの欠陥を検出する欠陥検出部とからなることを特徴とするパターン欠陥検査装置。
- 請求項1記載のパターン欠陥検査装置において、上記撮像部は、複数個のラインセンサカメラが直線状に配置され、且つ、それぞれのラインセンサカメラは、その視野範囲が一部オーバーラップするように配置され、上記移動機構部は、上記直線状に配置された複数個のラインセンサカメラを、上記カメラの配列方向とは直角な方向に一定速度で移動させる機能を有することを特徴とするパターン欠陥検査装置。
- 請求項1記載のパターン欠陥検査装置において、上記2箇所の画像データは、上記蛍光体のストライプ状パターンの長手方向に隣接する2つのブロック領域からの画像データであり、上記比較部は、上記2つのブロック領域から得られる画像データの差画像を出力することを特徴とするパターン欠陥検査装置。
- 基板上に形成された蛍光体のストライプ状パターンを撮像するステップ、上記撮像ステップにより得られる画像データから上記蛍光体のストライプ状パターンの方向を検出するステップ、上記パターンの方向検出ステップから得られた上記パターンの方向に基づいて、上記蛍光体のストライプ状パターンの方向に配列された少なくとも2箇所の同じ大きさのブロックの画像データを切り出し、該切り出された画像データを比較するステップおよび上記比較結果に基づいて上記パターンの欠陥を検出するステップとからなることを特徴とするパターン欠陥検査方法。
- 請求項4記載のパターン欠陥検査方法において、上記蛍光体のストライプ状パターンの方向検出ステップから得られた上記パターンの方向に基づいて、上記蛍光体のパターンの方向に配列された少なくとも2箇所の同じ大きさのブロックの画像データを切り出し、該切り出された画像データを比較するステップは、上記蛍光体のストライプ状パターンの長手方向に隣接する2つのブロック領域を選定するステップおよび上記2つのブロック領域から得られる画像データの差画像を検出するステップからなり、それぞれの差画像を検出することを特徴とするパターン欠陥検査方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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