JP3783651B2 - 光学装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被測定体を測定する際に適用して好適な光学装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、被測定体に光を照射した際に発光される信号光を検出し、該被測定体の性質を測定する装置が種々提案されてきた。
【０００３】
このような装置により測定される被測定体として例えばＤＮＡが挙げられる。ＤＮＡを測定する技術は遺伝子工学の一部をなし、この遺伝子工学は、遺伝子組み替え食品やクローン畜産などの農業畜産分野や、バイオ技術を利用した環境修復・ゴミ処理、バイオ技術を利用したＣＯ２処理システム等の環境分野や、バイオマスを利用したエネルギー生産などのエネルギー分野などにおいて利用される。もちろん、遺伝子工学は上記以外の分野においても利用される。
【０００４】
例えば、従来のＤＮＡチップの分析方法として、特開２０００−１３１２３７号公報に記載の「マイクロアレイチップの読取方法および読取装置」や、特表平９−５０４９１０号公報に記載の「分子生物学的分析および診断用の自己アドレス可能、自己組立て小型電子システムおよびデバイス」や、特表平１０−５１２７４５号公報に記載された「ＤＮＡ塩基配列決定およびＤＮＡ同定の方法および装置」などがある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような従来技術の場合には、被測定体のスキャンを機械的に行っているため、スキャン用の駆動部が大きく、装置全体が大型化してしまうという問題点を有している。
【０００６】
また、従来技術では、被測定体のスキャンが機械的なスキャンであるためスキャン時間の短縮が困難であるという問題点を有している。
【０００７】
さらに、従来技術では、装置の大型化、部品点数の増大により高コストとなるという問題点を有している。
【０００８】
本発明は上記の従来技術の課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、小型化、高速化及び低コスト化を図ることが可能な光学装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係る光学装置は、光を発する光源手段と、前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、前記偏光変換手段から出射された光のうち被測定体に照射される光を選択して透過させるための選択透過手段と、前記選択透過手段を透過した光が照射される被測定体を載置する被測定体載置手段と、前記光が照射された被測定体から発せられた光を受光する受光手段とを備え、前記受光手段が、前記被測定体から発せられた光を導光する導光手段と、前記導光手段を導光した光を測定する測定手段とを備え、前記導光手段は、くさび型であって、光が入射する面とは逆側の面に反射部が設けられていることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明に係る光学装置は、光を発する光源手段と、前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、前記偏光変換手段から出射された光のうち被測定体に照射される光を選択して透過させるための選択透過手段と、前記選択透過手段を透過した光が照射される被測定体を載置する被測定体載置手段と、前記光が照射された被測定体から発せられた光を受光する受光手段とを備え、前記受光手段が、前記被測定体から発せられた光を導光する導光手段と、前記導光手段を導光した光を測定する測定手段とを備え、前記導光手段は、表面に複数のくさび型のパターンを備えることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明に係る光学装置は、光を発する光源手段と、前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、前記偏光変換手段から出射された光のうち被測定体に照
射される光を選択して透過させるための選択透過手段と、前記選択透過手段を透過した光が照射される被測定体を載置する被測定体載置手段と、前記光が照射された被測定体から発せられた光を受光する受光手段とを備え、前記受光手段が、前記被測定体から発せられた光を導光する導光手段と、前記導光手段を導光した光を測定する測定手段とを備え、前記導光手段における、前記被測定体から発せられた光が入射する面とは逆側の面に、光の偏光状態に応じて光の透過及び反射を制御する透過反射制御手段を備えることを特徴とする。
【００１２】
また、本発明に係る光学装置は、前記選択透過手段が、前記被測定体載置手段上の被測定体に一対一に対応した液晶セルを複数有する液晶パネルを備え、前記液晶セルに対する電圧の印加により、前記被測定体に照射される光を選択して透過させることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明に係る光学装置は、前記選択透過手段と前記被測定体載置手段との間、及び前記被測定体載置手段と前記受光手段との間との少なくとも一方の間に集光手段を設けたことを特徴とする。
【００１４】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段における、前記被測定体から発せられた光が入射する面、及び前記導光手段から光が出射する面の少なくとも一方の面に、前記被測定体を照射した光の透過を制限する透過制限手段を備えることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明に係る光学装置は、前記測定手段が、前記導光手段における前記導光手段から光が出射する面に複数配置されることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段から光が出射する面に配置された第２の導光手段を備えることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段と、前記導光手段及び前記選択透過手段との少なくとも一方とに、該被測定体載置手段の面に平行な方向における位置決めのための第１の位置決め手段を設けたことを特徴とする。
【００１８】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段と前記導光手段との間、及び、前記被測定体載置手段と前記選択透過手段との間の少なくとも一方の間に、前記被測定体載置手段の面に垂直な方向における位置決めのための第２の位置決め手段を設けたことを特徴とする。
【００１９】
また、本発明に係る光学装置は、前記光源手段が、光を発する発光手段と、前記発光手段からの光を拡散する拡散手段とを備えることを特徴とする。
【００２０】
また、本発明に係る光学装置は、前記発光手段が、前記拡散手段の少なくとも一端に複数配置されていることを特徴とする。
【００２１】
また、本発明に係る光学装置は、前記拡散手段が、前記発光手段から離れるほど光の反射効率が高くなり、かつ、前記発光手段を中心とした同心円上において光の反射効率が略等しい複数のパターンを備えることを特徴とする。
【００２２】
また、本発明に係る光学装置は、前記光源手段の面が、前記被測定体載置手段の面に対して所定の角度を有して配置されていることを特徴とする。
【００２３】
また、本発明に係る光学装置は、光を発する光源手段と、前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、前記偏光変換手段から出射された光のうち被測定体に照射される光を選択して透過させるための選択透過手段と、前記被測定体から発せられた光を吸収する吸収手段と、前記被測定体から発せられた光を測定手段に導光する導光手段と、前記被測定体を載置する被測定体載置手段とを備え、これらが上記順序で積層され、前記導光手段を導光された光を測定する測定手段を備えることを特徴とする。
【００２４】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段の下部に集光手段を設けたことを特徴とする。
【００２５】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段が、くさび型であって、被測定体から発せられた光が入射する面とは逆側の面に反射部が設けられていることを特徴とする。
【００２６】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段が表面に、複数のくさび型のパターンを備えることを特徴とする。
【００２７】
また、本発明に係る光学装置は、前記光源手段が、光を発する発光手段と、前記発光手段からの光を拡散する拡散手段とを備えることを特徴とする。
【００２８】
また、本発明に係る光学装置は、前記発光手段が、前記拡散手段の少なくとも一端に複数配置されていることを特徴とする。
【００２９】
また、本発明に係る光学装置は、前記拡散手段が、前記発光手段から離れるほど光の反射効率が高くなり、かつ、前記発光手段を中心とした同心円上において光の反射効率が略等しい複数のパターンを備えることを特徴とする。
【００３０】
また、本発明に係る光学装置は、前記測定手段が、前記導光手段における前記導光手段から光が出射する面に複数配置されることを特徴とする。
【００３１】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段から光が出射する面に配置された第２の導光手段を備えることを特徴とする。
【００３２】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段と前記導光手段とに、前記被測定体載置手段の面に平行な方向における位置決めのための第１の位置決め手段を設けたことを特徴とする。
【００３３】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段と前記導光手段との間に、前記被測定体載置手段の面に垂直な方向における位置決めのための第２の位置決め手段を設けたことを特徴とする。
【００３４】
また、本発明に係る光学装置は、光を発する光源手段及び被測定体からの光を測定する測定手段とが一端面に配置された、前記光源手段から発せられた光及び前記被測定体から発せられた光を導光する導光手段と、前記導光手段から出射された光の偏光状態を変換する第１の偏光変換手段と、前記第１の偏光変換手段から出射された光のうち被測定体に照射される光を選択して透過させるための選択透過手段と、前記被測定体から発せられた光の偏光状態を変換する第２の偏光変換手段と、前記被測定体を載置する被測定体載置手段とを備え、これらが上記順序で積層されたことを特徴とする。
【００３５】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段と前記第１の偏光変換手段との間、及び、前記選択透過手段と前記第２の偏光変換手段との間の少なくとも一方の間に集光手段を設けたことを特徴とする。
【００３６】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段が、くさび型であって、前記被測定体から発せられた光が入射する面とは逆側の面に反射部が設けられていることを特徴とする。
【００３７】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段が表面に、複数のくさび型のパターンを備えることを特徴とする。
【００３８】
また、本発明に係る光学装置は、前記測定手段が、前記導光手段における前記導光手段から光が出射する面に複数配置されることを特徴とする。
【００３９】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段から光が出射する面に配置された第２の導光手段を備えることを特徴とする。
【００４０】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段と前記第２の偏光変換手段とに、該被測定体載置手段の面に平行な方向における位置決めのための第１の位置決め手段を設けたことを特徴とする。
【００４１】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段と前記第２の偏光変換手段との間に、前記被測定体載置手段の面に垂直な方向における位置決めのための第２の位置決め手段を設けたことを特徴とする。
【００４２】
【発明の実施の形態】
以下に図面を参照して、この発明の好適な実施の形態を例示的に詳しく説明する。ただし、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。
【００４３】
また、以下の図面において既述の図面に記載された部品と同様の部品には同じ番号を付す。
【００４４】
（光学装置の第１の実施形態）まず、本発明に係る光学装置の第１の実施形態について図１及び図２を参照して説明する。図１は、本発明に係る光学装置の第１の実施形態の全体概略図、図２は、図１に示される本発明に係る光学装置の第１の実施形態の断面図である。ただし、図２では、簡単のため、導光部１０５は省略している。
【００４５】
図１に示されるように、本発明に係る光学装置の第１の実施形態は光源１０６を有する拡散板１０１と、偏光変換素子１０２と、液晶パネル１０３と、被測定体載置板１０４と、導光部１０５とがこの順序で積層されて構成される。
【００４６】
また、図１には示されていないが、本実施形態には導光部１０５により導光された光を測定する、例えば後述の図１７や図１８に示されるＰＤ（ｐｈｏｔｏｄｉｏｄｅ）等の測定装置が備えられている。
【００４７】
拡散板１０１は、被測定体載置板１０４に光を照射するための板である。この拡散板１０１に光源１０６から光が照射されると、拡散板１０１表面に設けられた拡散部により光が被測定体載置板１０４の略全面に渡って照射されることとなる。
【００４８】
偏光変換素子１０２は、入射した光の偏光を一方向の偏光に変換する素子である。偏光変換素子１０２は、液晶パネル１０３によって被測定体載置板１０４に照射する光を制限するために用いられる素子である。この偏光変換素子１０２は、例えば拡散板１０１から出射された光をＳ波又はＰ波に変換する。
【００４９】
液晶パネル１０３は、偏光変換素子１０２から出射された光の被測定体載置板１０４への透過を制御する素子である。
【００５０】
被測定体載置板１０４は、複数の被測定体１０８を載置している板である。ただし、本発明に係る被測定体載置板１０４は板形状に限定されるものではなく、被測定体１０８を載置するものであればその形状は限定されない。
【００５１】
また、被測定体載置板１０４は複数の被測定体載置部分に分割され、それぞれの被測定体載置部分に被測定体１０８が載置されている。
【００５２】
被測定体載置板１０４上に載置される被測定体１０８は、１つ又は数個の被測定物からなっていて良い。
【００５３】
導光部１０５は、被測定体１０８から発せられた光を測定装置に導光するための部品である。
【００５４】
そして、本実施形態は、被測定体１０８から発せられた光を測定装置が測定することにより、被測定体１０８の走査と受光により得られた情報とを、例えば時間的に一対一に対応させ、被測定体１０８がどのような性質を有しているものであるのかを判断する。
【００５５】
ここで、導光部１０５において光を導光するために、導光部１０５の片側には反射板をつけても良い。また、光を導光させるために導光部１０５における全反射（臨界角）を使っても良い。また、導光部１０５はくさび型でも、板形状であっても良い。
【００５６】
この導光部１０５は、例えば被測定体１０８から発せられた光をＣＣＤなどで直接測定する場合は不要になる場合もある。
【００５７】
液晶パネル１０３は、被測定体載置板１０４上の複数の被測定体１０８に一対一に対応した液晶セル１０７に分割されている。液晶パネル１０３は、これら液晶セルを独立に駆動して光の透過を制限する。
【００５８】
液晶パネル１０３は、分割された複数の液晶セル１０７を備え、この液晶セル１０７のＯＮ、ＯＦＦはそれぞれ独立に制御することが可能である。
【００５９】
ここで、液晶セルをＯＮ、ＯＦＦするとは、液晶セルに電圧を印加することにより、分子配列を変化させ、光の配向面を変化させることをいう。
【００６０】
例えば図２に示されるように、液晶パネル１０３の液晶セル１０７のみが光を透過するように配向面を制御し、他の液晶セルは光を透過しないように制御すると、液晶セル１０７に対応した被測定体１０８のみが照射されることになる。
【００６１】
そして、この照射された被測定体１０８が発光し、この発光を導光部１０５により導光し、この導光された光を、例えばフォトダイオードなどの測定装置により測定することにより、被測定体載置板１０４上の複数の被測定体１０８の１つの発光を測定することができる。
【００６２】
このように、本発明に係る光学装置の第１の実施形態によれば、照射する光を液晶パネル１０３によって制限して被測定体１０８を光で照射するとしているため、機械的なスキャンが不要となり、被測定体１０８が複数載置されている場合であっても、装置を大型化することなく測定することが可能となる。
【００６３】
すなわち、本実施形態により、小型化が容易に実現でき、部品の小型化、部品点数が減ることによりローコスト化を達成できる。
【００６４】
また、本実施形態では、機械的な動作がないため、時系列で精度が悪くなることはない。また、液晶パネル１０３の駆動による被測定体１０８の選択を行っているため、短時間で測定が可能である。
【００６５】
また、本実施形態では、光を制御することにより低消費電力を実現することができる。
【００６６】
（光学装置の第２の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第２の実施形態について図３を参照して説明する。図３は、本発明に係る光学装置の第２の実施形態の断面図である。
【００６７】
本発明に係る光学装置の第２の実施形態は、マイクロレンズアレイ３０１を配置した点のみが、前述の第１の実施形態と異なる。したがって、以下の説明では、このマイクロレンズアレイ３０１の部分についてのみ説明する。
【００６８】
図３に示されるように、本発明に係る光学装置の第２の実施形態は、マイクロレンズアレイ３０１が液晶パネル１０３と被測定体載置板１０４との間に配置されている実施形態である。
【００６９】
マイクロレンズアレイ３０１は、被測定体載置板１０４上の複数の被測定体１０８のそれぞれに一対一に対応してレンズ部３０２を備えている。
【００７０】
そして、マイクロレンズアレイ３０１は、液晶パネル１０３を透過した光をレンズ部３０２によって被測定体１０８に集光する。
【００７１】
したがって、本発明に係る光学装置の第２の実施形態によれば、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、マイクロレンズアレイ３０１によって集光機能を持たせることにより光源の光を照射に用いる効率を向上させることができる。
【００７２】
また、本実施形態では、被測定体１０８にエネルギーを集中することになるため、被測定体１０８の発光効率を向上させることができる。
【００７３】
また、本実施形態では、マイクロレンズアレイ３０１の形状については後述の光学装置の第３の実施形態と共にその例を説明する。
【００７４】
（光学装置の第３の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第３の実施形態について図４を参照して説明する。図４は、本発明に係る光学装置の第３の実施形態の一部断面図である。
【００７５】
本発明に係る光学装置の第３の実施形態も前述の第２の実施形態と同様に、マイクロレンズアレイ４０１を配置している点のみが、前述の第１の実施形態と異なる。したがって、以下の説明では、このマイクロレンズアレイ４０１の部分についてのみ説明する。
【００７６】
図４に示されるように、本発明に係る光学装置の第３の実施形態は、マイクロレンズアレイ４０１が被測定体載置板１０４と導光部１０５との間に配置されている。
【００７７】
マイクロレンズアレイ４０１は、被測定体載置板１０４上の複数の被測定体１０８のそれぞれに一対一に対応してレンズ部４０２を備えている。
【００７８】
そして、マイクロレンズアレイ４０１は、被測定体１０８から発せられた光を一方向の光にして指向性を高める。
【００７９】
マイクロレンズアレイ４０１によって指向性を高められた光は導光部１０５に入射し、測定装置へ導光される。
【００８０】
このように、本発明に係る光学装置の第３の実施形態によれば、前述の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、指向性を高めることによって光源から発せられた光のうち測定に用いることのできる光の効率を向上させることができ、迷光が減り、精度も向上させることができる。
【００８１】
（マイクロレンズアレイの構造）ここで、前述の第２の実施形態及び第３の実施形態において用いられたマイクロレンズアレイ３０１，４０１の構造について図５を参照して説明する。図５は、図３及び図４に示されるマイクロレンズアレイの一部拡大図である。
【００８２】
本発明に用いられるマイクロレンズアレイは、ガラスのエッチングで作製してもよいし、プレス成形でもよい。また、レンズ部をガラスや樹脂で挟んでもよい。さらに平板にすると、耐久性も良くなりアセンブリも容易になる。
【００８３】
ここで、平板にするとは、例えばガラス基板等の基板、マイクロレンズアレイ、ＵＶ硬化樹脂等の保護層、ガラス基板等の基板を順次積層することにより、マイクロレンズアレイの効果を有する部分を平坦化することをいう。
【００８４】
ただし、本発明に係るマイクロレンズアレイのレンズ部は、図５の（ａ）に示されるようなレンズ形状だけではなく、図５の（ｂ）に示されるようなプリズム形状であってもよい。
【００８５】
また、本発明に係るマイクロレンズアレイのレンズ部は、凸でも凹でもよい。また、レンズ部の屈折率は基板の材料などにより適宜選択することが可能である。
【００８６】
（光学装置の第４の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第４の実施形態について図６及び図７を参照して説明する。図６は、本発明に係る光学装置の第４の実施形態の一部断面図、図７は、図６に示される光学装置の導光部の一部拡大図である。
【００８７】
本実施形態の光学装置が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は導光部の構造のみである。したがって、以下の説明では、導光部の部分のみを説明する。
【００８８】
本実施形態の光学装置は、図６に示されるように導光部６０１の表面に複数のパターン６０２を備えることを特徴とするものである。
【００８９】
図７に示されるように、パターン６０２はくさび型をしている。そして、被測定体１０８から発光した光が導光部６０１の表面のパターン６０２で反射し、測定装置などが配置されている測定装置側に進行するように導光部６０１にくさび型の傾斜であるパターン６０２が設けられている。
【００９０】
図７に示されるように、パターン６０２のくさび型の傾斜の法線の方向はそれぞれのパターンごとに個別に制御することができる。図７には、図６に示されるパターン６０２が拡大して示されている。
【００９１】
すなわち本実施形態では、法線方向は、それぞれのパターン６０２において一定にする必要はなく、効率や均一性を考慮することにより位置によって法線方向を変更することができる。
【００９２】
このように、本発明の光学装置の第４の実施形態では、前述の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、図７に示されるパターン６０２の法線方向を制御することにより効率よく被測定体１０８から発せられた信号光を測定装置側に導光することができる。
【００９３】
また、本実施形態では、導光部６０１にパターン６０２を形成することにより薄型を維持することができる。
【００９４】
（光学装置の第５の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第５の実施形態について図８を参照して説明する。図８は、本発明に係る光学装置の第５の実施形態において用いられる導光部の外観図である。
【００９５】
本実施形態が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態に追加される点は、導光部の構造のみであるため、以下の説明ではこの導光部についてのみ説明する。
【００９６】
図８に示されるように、本実施形態の導光部８０１は全体がくさび型となっている。そして、この導光部８０１は被測定体から発せられた信号光を測定する測定装置側に導光されるようにその傾斜が形成されている。
【００９７】
したがって、本実施形態によれば、前述の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、導光部８０１の法線方向を制御することにより被測定体１０８から発せられた信号光を効率良く測定装置側に導光することができる。
【００９８】
ただし本実施形態では、法線方向はそれぞれの位置において一定にする必要はなく、効率や均一性を考慮することにより位置によって法線方向を変更することができる。
【００９９】
（光学装置の第６の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第６の実施形態について図９を参照して説明する。図９は、本発明に係る光学装置の第６の実施形態の一部断面図である。
【０１００】
本実施形態の光学装置が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、導光部９０５にブラッググレーティングパターン９０１を設けた点のみである。したがって、以下では、導光部９０５の部分を中心に説明する。
【０１０１】
本実施形態は被測定体１０８を照射した変調光９０２の少なくとも一部を測定装置側に進行しないようにして、Ｓ／Ｎ比を向上させ高精度の検出を可能とするものである。ここで、変調光とは、光源から発せられた参照光のうち、例えば偏光変換などの何らかの変調作用を受けた光をいう。
【０１０２】
そのために、本実施形態では、ブラッググレーティングパターン９０１を導光部９０５の被測定体載置板１０４とは逆側の表面に設けた。
【０１０３】
このブラッググレーティングパターン９０１は、Ｓ波又はＰ波の偏光の一方の少なくとも一部を透過させ、他方の偏光を反射させるという性質を有する。本実施形態では、Ｓ波を透過するブラッググレーティングパターン９０１とした。しかし、Ｐ波を透過するブラッググレーティングパターンとしても良い。
【０１０４】
次に、本実施形態の動作について説明する。本実施形態では、被測定体１０８をＳ波（ただし、Ｐ波であっても良いが、以下の説明では一例としてＳ波を扱う）に変調された変調光９０２より照射する。
【０１０５】
Ｓ波の変調光９０２により照射された被測定体１０８により発せられる光はＳ波信号光９０３及びＰ波信号光９０４の混合波の信号光となる。
【０１０６】
被測定体１０８により発せられたＳ波信号光９０３及びＰ波信号光９０４の混合波のうち、Ｓ波信号光９０３の少なくとも一部はブラッググレーティングパターン９０１を透過し、Ｐ波信号光９０４はブラッググレーティングパターン９０１を透過せずに導光部９０５を導光され測定装置側に進行する。
【０１０７】
一方、被測定体１０８を照射したＳ波の変調光９０２の少なくとも一部はブラッググレーティングパターン９０１により反射されず、導光部９０５を透過し、ブラッググレーティングパターン９０１を透過する。
【０１０８】
したがって、本実施形態によれば、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、ブラッググレーティングパターン９０１によって、被測定体１０８を照射した変調光９０２の少なくとも一部を導光部９０５表面を透過させ、測定装置に入射される分量を軽減することができ、Ｓ／Ｎ比が向上し、高精度の測定を実施することができる。
【０１０９】
なお、被測定体１０８を照射した変調光９０２の少なくとも一部を導光部表面を透過させるとは、被測定体１０８を照射した変調光９０２がわずかでも透過する場合も含み、さらに、被測定体１０８を照射した変調光９０２の全てを透過させる場合や、被測定体１０８を照射した変調光９０２の大部分を透過させる場合も含む。
【０１１０】
（光学装置の第７の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第７の実施形態について図１０を参照して説明する。図１０は、本発明に係る光学装置の第７の実施形態の一部断面図である。
【０１１１】
本実施形態の光学装置が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、導光部１００５に光学膜１００１を設けた点のみである。したがって、以下では、導光部１００５の部分を中心に説明する。
【０１１２】
本実施形態は被測定体１０８を照射した光の少なくとも一部を測定装置側に進行しないようにして、Ｓ／Ｎ比を向上させ高精度の検出を可能とするものである。
【０１１３】
そのために、本実施形態では、光学膜１００１を導光部１００５の表面に設けた。
【０１１４】
この光学膜１００１は、Ｓ波又はＰ波の偏光の一方の偏光の少なくとも一部を透過させ、他方の偏光を反射させるという性質を有する。本実施形態では、Ｓ波を透過する光学膜１００１とした。もちろん、Ｐ波を透過する光学膜としても良い。
【０１１５】
この光学膜１００１は、一般的には多層膜で形成されるが本実施形態の光学膜１００１は多層膜に限定されるものではなく、単層の膜であっても良い。
【０１１６】
本実施形態では、被測定体１０８をＳ波（ただし、Ｐ波であっても良いが、以下の説明では一例としてＳ波を扱う）に変調された変調光１００２より照射する。
【０１１７】
Ｓ波の変調光１００２により照射された被測定体１０８により発せられる光はＳ波信号光１００３及びＰ波信号光１００４の混合波の信号光となる。
【０１１８】
被測定体１０８により発せられたＳ波信号光１００３及びＰ波信号光１００４の混合波のうち、Ｓ波信号光１００３の少なくとも一部は光学膜１００１を透過し、Ｐ波信号光１００４は光学膜１００１を透過せずに、導光部１００５を導光され、測定装置側に進行する。
【０１１９】
一方、被測定体１０８を照射したＳ波の変調光１００２の少なくとも一部は光学膜１００１により反射されず、光学膜１００１を透過する。
【０１２０】
したがって、本実施形態によれば、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、前述の本発明に係る光学装置の第７の実施形態と同様に、光学膜１００１によって、被測定体１０８を照射した変調光の少なくとも一部を測定装置側に進行するのを防止することができ、Ｓ／Ｎ比が向上し、高精度の測定を実施することができる。
【０１２１】
なお、被測定体１０８を照射した変調光１００２の少なくとも一部を導光部表面を透過させるとは、被測定体１０８を照射した変調光１００２がわずかでも透過する場合も含み、さらに、被測定体１０８を照射した変調光１００２の全てを透過させる場合や、被測定体１０８を照射した変調光１００２の大部分を透過させる場合も含む。
【０１２２】
（光学装置の第８の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第８の実施形態について図１１を参照して説明する。図１１は、本発明に係る光学装置の第８の実施形態の一部断面図である。
【０１２３】
本実施形態の光学装置が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、導光部１０５にフィルタ１１０１を設けた点のみである。したがって、以下では、導光部１０５の部分を中心に説明する。
【０１２４】
本実施形態は被測定体１０８を照射した光の少なくとも一部が測定装置側に進行するのを防止して、Ｓ／Ｎ比を向上させ高精度の検出を可能とするものである。
【０１２５】
そのために、本実施形態ではフィルタ１１０１を導光部１０５の被測定体載置板１０４側表面に設けた。
【０１２６】
このフィルタ１１０１は、変調光１１０２が導光部１０５に入射するのを防止する機能を有する。このフィルタ１１０１は、被測定体への変調光が所定の偏光状態に偏光されていない場合と、所定の偏光状態に偏光されている場合とによって付与される性質が異なる。なお説明を簡単にするため、本実施形態及び後述の第９の実施形態でいう変調光１１０２及び変調光１２０２には、何らかの変調を受けた光のみならず、光源から発せられた光そのものも含むと解する。
【０１２７】
（変調光が所定の偏光状態に偏光されていない場合）この場合、導光部１０５へ変調光１１０２が入射するのを防止するために、フィルタ１１０１には、変調光１１０２の少なくとも一部を吸収する性質を付与する。
【０１２８】
ここで、変調光１１０２の少なくとも一部を吸収するとは、被測定体１０８を照射した変調光１１０２がわずかでも吸収する場合も含み、さらに、被測定体１０８を照射した変調光１１０２の全てを吸収する場合や、被測定体１０８を照射した変調光１１０２の大部分を吸収する場合も含む。
【０１２９】
したがって、被測定体から発せられた信号光１１０３はフィルタ１１０１により吸収されず導光部１０５に入射するが、変調光１１０２の少なくとも一部はフィルタ１１０１によって吸収され導光部１０５に入射することはない。
【０１３０】
したがって、本実施形態の光学装置では、変調光１１０２によるＳ／Ｎ比の悪化を防止でき、高精度の測定を行うことができる。
【０１３１】
（変調光が所定の偏光状態に偏光されている場合）変調光が所定の偏光状態に偏光されている場合は、以下のように、所定の偏光状態の光の透過を少なくとも一部は防止する偏光板などによりフィルタ１１０１を形成しても良い。もちろん、この場合であっても、前述のように、所定の光を吸収するフィルタ１１０１を用いるとしても良い。
【０１３２】
ここで、光の透過を少なくとも一部は防止するとは、被測定体１０８を照射した変調光１１０２がわずかでも透過が防止される場合も含み、さらに、被測定体１０８を照射した変調光１１０２の全ての透過が防止される場合や、被測定体１０８を照射した変調光１１０２の大部分の透過が防止される場合も含む。
【０１３３】
以下、Ｓ波の光の少なくとも一部の透過を防止する偏光板によりフィルタ１１０１を構成した場合について説明する。
【０１３４】
まず、被測定体１０８をＳ波（ただし、Ｐ波であっても良いが、以下の説明では一例としてＳ波を扱う）に変調された変調光である変調光１１０２より照射する。
【０１３５】
Ｓ波の変調光１１０２により照射された被測定体１０８により発せられる光はＳ波信号光及びＰ波信号光の混合波の信号光となる。
【０１３６】
被測定体１０８により発せられたＳ波信号光及びＰ波信号光の混合波の光うち、Ｐ波信号光はフィルタ１１０１を透過し導光部１０５には入射するが、Ｓ波信号光の少なくとも一部はフィルタ１１０１により透過を制御され、導光部１０５内に入射しない。
【０１３７】
そして、Ｐ波信号光はフィルタ１１０１を透過し、導光部１０５に入射して導光され、信号光１１０３として測定装置側に導光される。
【０１３８】
一方、被測定体１０８を照射したＳ波の変調光１１０２はフィルタ１１０１により少なくとも一部が透過を妨げられ、導光部１０５には入射しない。
【０１３９】
このように、本実施形態では、前述の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、フィルタ１１０２により被測定体１０８を照射した光の少なくとも一部が導光部１０５に入射し、測定装置に進行するのを防止するため、高精度の検出を行うことが可能である。
【０１４０】
（光学装置の第９の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第９の実施形態について図１２を参照して説明する。図１２は、本発明に係る光学装置の第９の実施形態の一部断面図である。
【０１４１】
本実施形態の光学装置が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、導光部１０５にフィルタ１２０１を設けた点のみである。したがって、以下では、導光部１０５の部分を中心に説明する。
【０１４２】
本実施形態は被測定体１０８を照射した光の少なくとも一部が測定装置側に進行するのを防止して、Ｓ／Ｎ比を向上させ高精度の検出を可能とするものである。
【０１４３】
そのために、本実施形態ではフィルタ１２０１を導光部１０５の表面であって、導光部１０５から測定装置側に信号光が出射する側の表面に設けた。
【０１４４】
このフィルタ１２０１は、変調光１１０２が導光部１０５から測定装置側に出射するのを防止する機能を有する。このフィルタ１２０１は、被測定体１０８への変調光が所定の偏光状態に偏光されていない場合と、所定の偏光状態に偏光されている場合とによって付与される性質が異なる。
【０１４５】
（変調光が所定の偏光状態に偏光されていない場合）この場合、導光部１０５から測定装置側へ変調光１２０２が出射されるのを防止するために、フィルタ１２０１には、変調光１２０２の少なくとも一部を吸収する性質を付与する。
【０１４６】
ここで、変調光１２０２の少なくとも一部を吸収するとは、被測定体１０８を照射した変調光１２０２のわずかでも吸収する場合も含み、さらに、被測定体１０８を照射した変調光１２０２の全てを吸収する場合や、被測定体１０８を照射した変調光１２０２の大部分を吸収する場合も含む。
【０１４７】
したがって、被測定体１０８から発せられた信号光１２０３はフィルタ１２０１により吸収されず導光部１０５から測定装置側に出射するが、変調光１２０２の少なくとも一部はフィルタ１２０１によって吸収され導光部１０５から測定装置側に出射することはない。
【０１４８】
したがって、本実施形態の光学装置では、変調光１２０２によるＳ／Ｎ比の悪化を防止でき、精度の良い測定を行うことができる。
【０１４９】
（変調光が所定の偏光状態に偏光されている場合）変調光が所定の偏光状態に偏光されている場合は、以下のように、所定の偏光状態の光の少なくとも一部の透過を防止する偏光板などによりフィルタ１２０１を形成しても良い。もちろん、この場合であっても、前述のように、変調光を吸収するフィルタ１２０１を用いても良い。
【０１５０】
ここで、所定の偏光状態の光の少なくとも一部の透過を防止するとは、被測定体１０８を照射した変調光１２０２の透過がわずかでも防止される場合も含み、さらに、被測定体１０８を照射した変調光１２０２の全ての透過が防止される場合や、被測定体１０８を照射した変調光１２０２の大部分の透過が防止される場合も含む。
【０１５１】
以下、Ｓ波の光の少なくとも一部の透過を防止する偏光板によりフィルタ１２０１を構成した場合について説明する。
【０１５２】
まず、被測定体１０８をＳ波（ただし、Ｐ波であっても良いが、以下の説明では一例としてＳ波を扱う）に変調された変調光である変調光１２０２より照射する。
【０１５３】
Ｓ波の変調光１２０２により照射された被測定体１０８により発せられる光はＳ波信号光及びＰ波信号光の混合波の信号光１２０３となる。
【０１５４】
被測定体１０８により発せられたＳ波信号光及びＰ波信号光の混合波の信号光１２０３及び変調光１２０２は、導光部１０５を導光しフィルタ１２０１に到達する。
【０１５５】
フィルタ１２０１に到達した信号光１２０３のうち、Ｐ波信号光はフィルタ１２０１を透過し導光部１０５から測定装置側に出射するが、Ｓ波信号光はフィルタ１２０１によりその少なくとも一部の透過が制御され、導光部１０５から測定装置側に出射しない。
【０１５６】
また、フィルタ１２０１に到達した変調光１２０２はフィルタ１２０１によりその少なくとも一部の透過が制御され、導光部１０５から測定装置側に出射しない。
【０１５７】
このように、本実施形態では、前述の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、フィルタ１２０２により被測定体１０８を照射した変調光１２０２の少なくとも一部が導光部１０５から測定装置側に出射されるのを防止するため、Ｓ／Ｎ比を向上させることができ、高精度の検出を行うことが可能である。
【０１５８】
（光学装置の第１０の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第１０の実施形態について図１３を参照して説明する。図１３は、本発明に係る光学装置の第１０の実施形態の断面図である。本実施形態は、主に検出精度の向上を図る実施形態である。
【０１５９】
図１３に示されるように、本発明に係る光学装置の第１０の実施形態は、拡散板１３０１と、偏光変換素子１３０２と、液晶パネル１３０３とを備える。
【０１６０】
また、本実施形態の光学装置は、被測定体１３０７の発光波長に基づいて、この発光を吸収する発光波長のフィルタ１３０４を備える。
【０１６１】
また、本実施形態の光学装置は、測定器としてのＰＤ（ｐｈｏｔｏ ｄｉｏｄｅ）１３０８と、光源としてのＬＤ（ｌａｓｅｒ ｄｉｏｄｅ）１３０９とを備える。
【０１６２】
本実施形態の拡散板１３０１、偏光変換素子１３０２、液晶パネル１３０３及びＬＤ１３０９はそれぞれ、図１に示される拡散板１０１、偏光変換素子１０２、液晶パネル１０３及び光源１０６に対応し、略同様の動作を行うためその詳細な説明を省略する。
【０１６３】
発光波長のフィルタ１３０４は、被測定体１３０７から発せられた信号光を吸収するフィルタである。
【０１６４】
図１３に示されるように、被測定体１３０７から発せられた信号光は、様々な方向に出射するが、発光波長のフィルタ１３０４に到達した信号光はこのフィルタ１３０４により吸収される。
【０１６５】
導光板１３０５は、被測定体１３０７から発せられた信号光をＰＤ１３０８に導光する。
【０１６６】
この導光板１３０５は、図１３に示されるように、被測定体載置板１３０６に対して、変調光が入射する方向に配置されている。
【０１６７】
この導光板１３０５は、図１３に示される例ではくさび型となっているが、本実施形態の導光板１３０５は図１３に示される例に限定されるものではなく、図６に示されるような導光板であっても良い。この場合、前述の第４の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１６８】
ここで、発光波長のフィルタ１３０４と導光板１３０５との間の屈折率をｎ１、導光板の屈折率をｎ２、導光部１０５と被測定体載置板１３０６との間の屈折率をｎ３とすると、ｎ１＜ｎ２かつｎ２＞ｎ３、又は、ｎ１＞ｎ２かつｎ２＜ｎ３の関係が成り立つ。
【０１６９】
被測定体載置板１３０６は、図１に示される被測定体載置板１０４と同様の部品である。
【０１７０】
本実施形態では、導光板１３０５及びＰＤ１３０８を被測定体載置板１３０６に変調光が入射する側に設けたため、変調光が導光板１３０５を導光してＰＤ１３０８に入射する割合を低減することができる。
【０１７１】
このように、本実施形態では、液晶パネル１３０３を用いて測定を行っているため、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得られると共に、被測定体載置板１３０６と液晶パネル１３０３との間に導光板１３０５を設けたことにより、測定の際に変調光を除去でき、高精度の検出が可能となる。
【０１７２】
また、図１３に示されるように、本実施形態では、被測定体載置板１３０６及び被測定体１３０７を光学装置の表面に配置することができることとなるため、アセンブリした後で試料を反応させることができる。
【０１７３】
また、本実施形態では、被測定体１３０７が光学装置の表面に配置されているため、被測定体１３０７の交換が容易となる。
【０１７４】
また、本実施形態では、発光波長のフィルタ１３０４により迷光を除去することができ、誤検出、誤反応を軽減し、検出精度を向上させることができる。
【０１７５】
なお、本実施形態においては、前述の図３や図５に示されるようなマイクロレンズアレイを例えば被測定体載置板１３０６の下部に配置しても良い。この場合であっても、前述の第２の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１７６】
また、本実施形態では、光源としてＬＤ１３０９及び拡散板１３０１の組み合わせを用いたが、本実施形態はこのような光源に限定されるものではなく、例えば後述の図１５や図１６に示されるような各種の光源を用いることができる。この場合、後述の第１２の実施形態や第１３の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１７７】
また、本実施形態では、受光部としてＰＤ１３０８を用いたが、本実施形態はこのような受光部に限定されるものではなく、例えば後述の図１７や図１８に示されるような各種の受光部を用いることができる。この場合、後述の第１４の実施形態や第１５の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１７８】
また、本実施形態では、後述の図１９に示されるようなアライメントマークを設けることができる。すなわち、アライメントマークを例えば被測定体載置板１３０６及び導光板１３０５に設けることができる。この場合、後述の第１６の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１７９】
また、本実施形態では、後述の図２０に示されるようなスペーサを被測定体載置板１３０６と導光板１３０５との間に設けることもできる。この場合、後述の第１７の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１８０】
（光学装置の第１１の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第１１の実施形態について図１４を参照して説明する。図１４は、本発明に係る光学装置の第１１の実施形態の断面図である。
【０１８１】
図１４に示されるように、本発明に係る光学装置の第１１の実施形態は、光を導光する導光部１４０８と、偏光板１４０３と、液晶パネル１４０４と、偏光板１４０５と、被測定体載置板１４０６とを備え、これらがこの順序で積層されている。
【０１８２】
また、本実施形態では、導光部１４０８の一側面に光源１４０１と、受光素子１４０２とが配置される。
【０１８３】
光源１４０１は、被測定体載置板１４０６上の被測定体１４０７を照射するための参照光１４０９を出射する。この参照光１４０９は導光部１４０８内を導光されて被測定体１４０７を照射する。
【０１８４】
受光素子１４０２は、導光部１４０８を導光してきた被測定体１４０７から発せられた信号光１４１０を受光する。
【０１８５】
偏光板１４０３は、光源１４０１から出射された参照光１４０９を所定の偏光状態にする。
【０１８６】
液晶パネル１４０４は、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態の液晶パネル１０３と同様の部品であり入射した光の透過を制御する素子である。
【０１８７】
偏光板１４０５は、被測定体１４０７から出射した信号光１４１０の偏光を所定の偏光状態にする。
【０１８８】
被測定体載置板１４０６は、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の部品であり、複数の被測定体１４０７を載置している板である。ただし、図１４に示される例では簡単のため、被測定体１４０７は１つしか図示していない。
【０１８９】
また、本発明に係る被測定体載置板１４０６は板形状に限定されるものではなく、被測定体１４０７を載置するものであればその形状は限定されない。
【０１９０】
ここで、図１４に示される光源１４０１は図１に示される光源１０６と略同様の構造及び動作であり、図１４に示される偏光板１４０３及び１４０５は図１に示される偏光変換素子１０２と略同様の構造及び動作であり、図１４に示される液晶パネル１４０４は図１に示される液晶パネル１０３と略同様の構造及び動作であり、図１４に示される被測定体載置板１４０６は図１に示される被測定体載置板１０４と略同様の構造及び動作であり、これらの詳細な説明は省略する。
【０１９１】
また、本実施形態では、図１４に示されるように光源１４０１と受光素子１４０２とが導光部１４０８の一端に並列に配置されている。
【０１９２】
上記構成の本実施形態では、光源１４０１から発せられた参照光１４０９と、被測定体１４０７から発せられた信号光１４１０とが導光する部分が同じ導光部１４０８となる。
【０１９３】
また、本実施形態では、参照光１４０９と信号光１４１０とが反対の向きに進行する。
【０１９４】
したがって、本実施形態では、液晶パネル１４０４を用いて測定を行っているため、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得られると共に、被測定体１４０７の照射のための導光部と、被測定体１４０７からの信号光を検出するための導光部とを同じくすることにより、部品点数を削減でき、小型、薄型化を図り、ローコストを実現できる。
【０１９５】
また、本実施形態では、光源１４０１と受光素子１４０２とを並列に配置することにより、アセンブリがしやすくなると共に、コンパクトになる。
【０１９６】
また、参照光１４０９と信号光１４１０との進行方向の向きを反対にすることにより、受光素子１４０２により参照光１４０９が受光されるのを防止する若しくは軽減することができ、信号光１４１０を主として検出することとなり、Ｓ／Ｎ比を向上させることができる。
【０１９７】
なお、本実施形態では、前述の図３及び図４に示されるように、例えば導光部１４０８と偏光板１４０３との間、被測定体載置板１４０６と偏光板１４０５との間というような場所にマイクロレンズアレイを設けても良い。この場合であっても、前述の第２の実施形態や第３の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１９８】
また、本実施形態において、導光板１４０８は、図１４に示される例ではくさび型となっているが、本実施形態の導光板１４０８は図１４に示される例に限定されるものではなく、図６に示されるような導光板であっても良い。この場合、前述の第４の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１９９】
また、本実施形態では、受光素子１４０２を用いたが、本実施形態はこのような受光素子１４０２に限定されるものではなく、例えば後述の図１７や図１８に示されるような各種の受光部を用いることができる。この場合、後述の第１４の実施形態や第１５の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２００】
また、本実施形態では、後述の図１９に示されるようなアライメントマークを設けることができる。すなわち、アライメントマークを例えば被測定体載置板１４０６及び偏光板１４０５に設けることができる。この場合、後述の第１６の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２０１】
また、本実施形態では、後述の図２０に示されるようなスペーサを被測定体載置板１４０６と偏光板１４０５との間に設けることもできる。この場合、後述の第１７の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２０２】
（光学装置の第１２の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第１２の実施形態について図１５を参照して説明する。図１５は、本発明に係る光学装置の第１２の実施形態の光源部分の概略図である。
【０２０３】
本実施形態が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、拡散板１０１に複数の光源が配置されている点である。それ以外の点は前述の第１の実施形態と同様であるためその説明を省略する。
【０２０４】
図１５の（ａ）に示されるように、本実施形態の光学装置は、拡散板１０１に光源１５０１ａ，１５０１ｂ，１５０１ｃ，１５０１ｄ，１５０１ｅが配置されている。図１５の（ａ）は、本発明に係る光学装置の第１２の実施形態の光源部分の斜視図である。
【０２０５】
ただし、光源の数は図１５の（ａ）に示されるように５つに限定されるものではなく、２以上の任意の数であって良い。
【０２０６】
本実施形態では、拡散板１０１に配置された複数の光源１５０１ａ，１５０１ｂ，１５０１ｃ，１５０１ｄ，１５０１ｅにより拡散板１０１を照射する。
【０２０７】
拡散板１０１に照射された光は拡散板１０１から拡散され参照光となり、この参照光は被測定体に照射される。
【０２０８】
したがって、本実施形態では、前述の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、本実施形態では複数の光源を配置したことにより、簡単な構成で被測定体を照射する参照光のパワーを上げることができ被測定体からの信号光の強度を向上させることができる。
【０２０９】
また、本実施形態では、光源が一個の場合に比べてそれぞれの被測定体に、より均一な強度で照射することができ、被測定体の場所による検出誤差が減る。
【０２１０】
また、光源の配置は、図１５の（ａ）に示される例では、拡散板１０１の一端にそれぞれの光源が平行に配置されている。しかし、本実施形態の光源の配置としてはこのような平行配置に限定されるものではなく、適宜な配置であっても良い。
【０２１１】
例えば光源の配置例として、図１５の（ｂ）に示されるような配置例を挙げることができる。図１５の（ｂ）は、本発明に係る光学装置の第１２の実施形態における光源の配置例を示す上面図である。
【０２１２】
図１５の（ｂ）に示されるように、拡散板１０１の周囲には、それぞれの端に複数の光源からなる光源アレー１５０２，１５０３，１５０４，１５０５が配置されている。
【０２１３】
そして、これら光源アレー１５０２，１５０３，１５０４，１５０５により拡散板１０１を照射することにより、この図１５の（ｂ）に示される例であっても、前述の図１５の（ａ）に示される場合と同様の効果を得ることができ、さらに、より光の均一性及び強度の増加を図ることができる。
【０２１４】
（光学装置の第１３の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第１３の実施形態について図１６を参照して説明する。図１６は、本発明に係る光学装置の第１３の実施形態の光源部分の概略図であり、図１６の（ａ）は、本発明に係る光学装置の第１６の実施形態の光源部分の一部斜視図、図１６の（ｂ）は、図１６の（ａ）に示される拡散板の一部断面図、図１６の（ｃ）は、図１６の（ａ）に示される拡散板に形成されるパターンの拡大図である。
【０２１５】
本実施形態が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、拡散板１６０５の構造のみである。それ以外の部分の説明は前述の第１の実施形態と同様であるためその説明を省略する。
【０２１６】
図１６の（ａ）に示されるように、本実施形態では光源１６０１から距離が離れるほどパターンの傾き角θ（図１６の（ｃ））が大きくなるように、パターンを拡散板１６０５上に設けた。
【０２１７】
図１６の例では、光源１６０１を中心とした、同心円Ｃ１上のパターン１６０２、同心円Ｃ２上のパターン１６０３、同心円Ｃ３上のパターン１６０４の３種類のパターンが一例として示されている。
【０２１８】
このパターンは、シリンドリカルマイクロレンズを同心円上に直行配列させることにより形成するとして良い。
【０２１９】
本実施形態の拡散板上に形成されるパターンは図１６の（ｂ）や図１６の（ｃ）に示されるように、その傾き角θが、光源からの距離から離れるほど大きくなっている。
【０２２０】
パターンの傾き角θが大きいとそれだけ光の反射効率が向上する。したがって、光源１６０１から離れるほどパターンに照射される光の強度は低くなるものの、傾き角θが大きくなることにより反射効率が上がるため、被測定体に結果として均一な強度で光を照射することができるようになる。
【０２２１】
また、本実施形態では光源１６０１から距離が離れるほどパターンの数を多くなるように構成しても良い。
【０２２２】
この場合、光源１６０１から離れる程、光源からの光の強度は低下するが、パターンの数が増加することによりその分、反射光量が増加し、被測定体載置板上の被測定体を均一に照射することができる。
【０２２３】
したがって、本実施形態によれば、前述の本発明に係る第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、光の利用効率が上がり、低消費電力を実現することができる。
【０２２４】
また、本実施形態では、パターンにより均一に光を被測定体の照射することができるため、被測定体の場所による測定誤差を軽減することができる。
【０２２５】
（光学装置の第１４の実施形態）次に、光学装置の第１４の実施形態について図１７を参照して説明する。図１７は、本発明に係る光学装置の第１４の実施形態における導光部及び測定装置の概略図である。
【０２２６】
本実施形態が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、導光部１０５を導光してきた光を受光する受光素子１７０２ａ，１７０２ｂ，１７０２ｃ，１７０２ｄ，１７０２ｅ，１７０２ｆ，１７０２ｇを導光部１０５の端面１７０１に平行に複数配置した点である。その他の点は前述の第１の実施形態と同様であるためその説明を省略する。
【０２２７】
ただし、本実施形態では、受光素子の数は図１７に示されるような７個に限定されるものではなく、その数は２以上の任意の数であって良い。
【０２２８】
また、図１７に示される例では、導光部１０５の端面１７０１からそれぞれの受光素子まで一定の距離ｌが設定されているが、この距離ｌは信号光の受光に必要な範囲で任意に増減することができる。
【０２２９】
それぞれの受光素子１７０２ａ，１７０２ｂ，１７０２ｃ，１７０２ｄ，１７０２ｅ，１７０２ｆ，１７０２ｇは、それぞれの受光範囲内に入射した光を受光する。
【０２３０】
したがって、本実施形態では、受光素子が１つの場合に比べて光の強度の低下を軽減することができ、検出精度を向上させることができる。
【０２３１】
このように、本実施形態では、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、受光素子を複数用いているため、簡単な構成で高い検出制度を実現することができる。
【０２３２】
（光学装置の第１５の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第１５の実施形態について図１８を参照して説明する。図１８は、本発明に係る光学装置の第１５の実施形態の受光部分の概略図であり、図１８の（ａ）は、本発明に係る光学装置の第１５の実施形態における導光部及び測定装置の概略図、図１８の（ｂ）は、本発明に係る光学装置の第１５の実施形態における導光部の変形例を示す概略図である。
【０２３３】
本実施形態が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態に追加されている部分は、導光部１８０１に加えて、第２の導光部１８０２を備えている点である。その他の点は前述の第１の実施形態と同様であるためその説明を省略する。
【０２３４】
図１８の（ａ）に示されるように、本実施形態ではくさび型の導光部１８０１の信号光が出射する一端にさらに第２の導光部１８０２が設けられている。
【０２３５】
第２の導光部１８０２は図１８の（ａ）に示されるようにくさび型をしている。
【０２３６】
図１８の（ａ）に示されるように、被測定体から発せられた信号光は、まず導光部１８０１に入射し、導光部１８０１内部を導光した後、第２の導光部１８０２に入射し、第２の導光部１８０２内を導光した後、外部に出射される。
【０２３７】
第２の導光部１８０２の信号光の出射面側には測定装置１８０３が配置され、この測定装置１８０３は第２の導光部１８０２から出射した信号光を測定する。
【０２３８】
ここで、本実施形態で使用される第１の導光部１８０１及び第２の導光部１８０２のいずれか一方は、くさび型ではなく、図１８の（ｂ）に示されるように表面に複数のパターン１８０５が形成された導光部１８０４であっても良い。この導光部１８０４のパターン１８０５はくさび型をしているがその角度は任意に制御することができる。
【０２３９】
このように、本実施形態では、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、２つの導光部を用いることにより受光素子を１個にすることができ、部品点数を削減でき、小型化、ローコスト化を図ることができる。
【０２４０】
また、くさび型の第２の導光部１８０２の場合は単純な構成で効率良く信号光を導光することができる。
【０２４１】
また、図１８の（ｂ）に示されるような、パターン１８０５を有する第２の導光部１８０４を用いた場合は薄型化が可能となる。
【０２４２】
（光学装置の第１６の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第１６の実施形態について図１９を参照して説明する。図１９は、本発明に係る光学装置の第１６の実施形態の断面図である。
【０２４３】
本実施形態が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、位置決めのためのアライメントマークを設けた点である。それ以外の点は同じであるためその説明は省略する。
【０２４４】
本実施形態は、位置決めのためのアライメントマークを被測定体載置板１０４に設ける。さらに、本実施形態は、位置決めのためのアライメントマークを液晶パネル１０３又は導光部１０５の少なくともいずれか一方に設ける。
【０２４５】
図１９に示される例では、被測定体載置板１０４に位置決めのためのアライメントマーク１９０１を設け、液晶パネル１０３の位置決めのためのアライメントマーク１９０２を設けている。
【０２４６】
このアライメントマーク１９０１とアライメントマーク１９０２とは雌雄のアライメントマークであって良い。
【０２４７】
このように、本実施形態では、位置決めのためのアライメントマークを設けているため、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、アライメントマーク１９０１，１９０２により、被測定体載置板１０４の水平方向の位置決めが容易となる結果、被測定体載置板１０４の設置場所の位置決めが容易になり、機械精度が向上する。よって、測定精度を向上させることができる。
【０２４８】
（光学装置の第１７の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第１７の実施形態について図２０を参照して説明する。図２０は、本発明に係る光学装置の第１７の実施形態の断面図である。
【０２４９】
本実施形態が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、被測定体載置板１０４の高さ方向の位置決めのためのスペーサを形成した点である。それ以外の点は同じであるためその説明は省略する。
【０２５０】
本実施形態は、高さ方向の位置決めのためのスペーサを、被測定体載置板１０４と導光部１０５との間及び被測定体載置板１０４と液晶パネル１０３との間の少なくともいずれか一方の間に設ける。
【０２５１】
この高さ方向の位置決めのためのスペーサは、接着剤で形成しても良い。接着剤は透明な樹脂が良い。また、スペーサはＵＶ硬化樹脂あるいは熱硬化樹脂でも良い。
【０２５２】
また、接着剤を用いた場合は、熱やＵＶや振動などのエネルギーにより溶ける若しくは粘着力が弱くなる接着剤を使用しても良い。
【０２５３】
図２０に示される例では、被測定体載置板１０４と液晶パネル１０３との間に高さ方向の位置決めのためのスペーサ２００１を設けている。
【０２５４】
なお、このスペーサ２００１は、被測定体載置板１０４の高さ方向の位置を安定させるために、複数個設けることが好ましいが、１個でも良い。
【０２５５】
このように、本実施形態では、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、高さ方向（被測定体載置板１０４の面に垂直な方向）の位置決めのためのスペーサを設けているため高さ方向のアセンブリの制御が可能となり、光学性能の劣化を防止することができる。
【０２５６】
また、本実施形態では、高さ方向の位置決めのためのスペーサを接着剤で形成した場合、プロセスが簡単となり、分析デバイスの耐環境性も向上させることができる。
【０２５７】
また、本実施形態では、熱やＵＶや振動などのエネルギーにより溶ける若しくは粘着力が弱くなる接着剤を使用した場合、エネルギーにより溶けたり粘着力が弱くなることにより、交換（リサイクル）が可能になる。また不良品等の部品交換も容易になる。
【０２５８】
（光学装置の第１の参考形態）次に、光学装置の第１の参考形態について図２１を参照して説明する。図２１は、光学装置の第１の参考形態の概略図である。
【０２５９】
光学装置の第１の参考形態は、前述の第１の実施形態と異なり、デジタルミラーデバイス（以下、ＤＭＤと記す。）を用いて被測定体載置板１０４上の被測定体１０８に照射される光を選択する参考形態である。
【０２６０】
図２１に示されるように、光学装置の第１の参考形態は、ＤＭＤ素子２１０２からなるＤＭＤ２１０１と、被測定体載置板１０４と、導光部１０５とからなる。
【０２６１】
また、本参考形態の光学装置は参照光２１０３を出射する不図示の光源を備えている。この光源は特に限定するものではないが、例えば前述の図１や図１５や図１６に示されるような光源であっても良い。
【０２６２】
例えば図１に示される光源を用いた場合は、参照光２１０３を照射する光源は、光源１０６及び拡散板１０１により構成されることとなる。
【０２６３】
また、図２１には示されていないが、本参考形態には導光部１０５により導光された光を測定する、例えば前述の図１７や図１８に示されるＰＤ（ｐｈｏｔｏｄｉｏｄｅ）等の測定装置が備えられている。
【０２６４】
ＤＭＤ２１０１は、参照光２１０３のうち、被測定体載置板１０４上の被測定体１０８に照射する変調光２１０４を選択する装置である。
【０２６５】
このＤＭＤ２１０１は、複数のＤＭＤ素子２１０２により構成され。これらＤＭＤ素子２１０２は、被測定体載置板１０４上の被測定体１０８に一対一に対応する。ＤＭＤ２１０１とは、マイクロマシニング技術を用いることにより、Ｓｉ基板上に多数の微細なマイクロミラーを配列させた光学素子である。
【０２６６】
ここで、図２１に示されるＤＭＤ素子２１０２について図２２を参照して説明する。図２２は、図２１２１に示されるＤＭＤ素子２１０２の概略図である。
【０２６７】
図２２に示されるように、基板２２０１の上面には一対の支持部２２０３が設けられており、Ｓｉ基板２２０１の表面においてトーションヒンジ２２０４の両端が支持部２２０３によって支持されている。トーションヒンジ２２０４には、ヨーク２２０５の中央部が取り付けられており、ヨーク２２０５の中心に立てられた柱部２２０６の上端にマイクロミラー２２０２が形成されている。
【０２６８】
Ｓｉ基板２２０１の上面には、静電気等の電気磁気的な力によってヨーク２２０５に駆動力を及ぼしてトーションヒンジ２２０４を捩らせながらヨーク２２０５の傾きを調整することにより、マイクロミラー２２０２の角度を制御するためのミラー駆動手段（図示せず）が設けられている。こうしてヨーク２２０５を傾けることにより、マイクロミラー２２０２の角度を少なくとも２方向に変化させることができ、マイクロミラー２２０２に照射されて反射された反射光の方向を自由に制御することができる。
【０２６９】
このように、光学装置の第１の参考形態によれば、被測定体載置板１０４上の被測定体１０８に照射する参照光を選択するためにＤＭＤ２１０１を用いているため、機械的なスキャンが不要となり、被測定体１０８が複数載置されている場合であっても、装置を大型化することなく測定することが可能となる。
【０２７０】
また、本参考形態のようにＤＭＤを使用した場合、偏光素子が不要になり、部品点数が減り、さらなるローコスト化を図ることができる。
【０２７１】
なお、本参考形態では、前述の図３及び図４に示されるように、例えば被測定体載置板１０４の下部又は上部の少なくともいずれか一方にマイクロレンズアレイを設けても良い。この場合であっても、前述の第２の実施形態及び第３の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２７２】
図２１に示される導光板１０５は、図２１に示される例ではくさび型となっている。そして、本参考形態の導光板１０５は図２１に示される例に限定されるものではなく、図６に示されるような導光板であっても良い。この場合、前述の第４の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２７３】
また、本参考形態では、前述の第８の実施形態又は第９の実施形態と同様に、図１１又は図１２に示されるような偏光していない光を吸収するフィルタを用いても良い。この場合、前述の第８の実施形態又は第９の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２７４】
また、本参考形態では、光源として特に示していないが、本参考形態の光源は特に限定されるものではなく、参照光２１０３を照射するために適切な光源であれば良く、例えば前述の図１や図１５や図１６に示されるような各種の光源も用いることができる。図１５や図１６に示される光源を用いた場合、前述の第１２の実施形態や第１３の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２７５】
また、本参考形態では、受光部として特に限定はしていないが、本参考形態の受光部は特に限定されるものではなく、例えば前述の図１７や図１８に示されるような各種の受光部を用いることができる。この場合、前述の第１４の実施形態や第１５の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２７６】
また、本参考形態では、前述の図１９に示されるようなアライメントマークを設けることができる。すなわち、アライメントマークを例えば被測定体載置板１０４及び導光板１０５に設けることができる。この場合、前述の第１６の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２７７】
また、本参考形態では、前述の図２０に示されるようなスペーサを被測定体載置板１０４と導光板１０５との間に設けることもできる。この場合、前述の第１７の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２７８】
（光学装置の第２の参考形態）次に、次に光学装置の第２の参考形態について図２３２３及び図２４を参照して説明する。図２３は、光学装置の第２の参考形態の概略図、図２４は、図２３に示される光学装置の導光部部分の断面図である。
【０２７９】
本参考形態は、前述の光学装置の第１の参考形態と略同様であるが、本参考形態では、ＤＭＤ２１０１により選択された変調光２３０４が被測定体載置板１０４上の被測定体１０８に斜めに入射するようにＤＭＤ素子の制御及びＤＭＤ２１０１の配置を制御した点を特徴とし、この点のみが前述の第１の参考形態と異なる。
【０２８０】
したがって、以下では、前述の第１の参考形態と異なる点のみを主に説明する。
【０２８１】
すなわち、図２３及び図２４に示されるように、本参考形態では、ＤＭＤ２１０１により選択された変調光２３０４が、被測定体１０８に斜めに照射される。
【０２８２】
被測定体１０８から出射された信号光２４０１は、導光部１０５内部を導光し、測定装置２４０２に測定される。
【０２８３】
一方、被測定体１０８を照射した変調光２３０４は、被測定体１０８に斜めに照射されるため、信号光２４０１が導光部１０５内部を導光する方向とは逆側に導光される。
【０２８４】
したがって、本参考形態では、測定装置２４０２に測定される変調光２３０４を低減することができる。
【０２８５】
したがって、光学装置の第２の参考形態では、前述の光学装置の第１の参考形態と同様の効果を得ることができると共に、ＤＭＤ２１０１に入射した参照光２３０３のうち、ＤＭＤ２１０１により選択された変調光２３０４を被測定体１０８に斜めに入射させ、信号光２４０１が導光部１０５を導光する方向とは逆側に変調光２３０４を導光するようにしているため、測定装置２４０２に測定される変調光２３０４を軽減でき、測定の際のＳ／Ｎ比を向上させることができる。
【０２８６】
すなわち、被測定体１０８に斜めに変調光が入射することにより被測定体からの光の検出の際に、変調光成分を除去でき、信号光を主として測定することとなり、Ｓ／Ｎ比を向上させることができる。
【０２８７】
ただし、本参考形態で使用される導光部１０５がくさび型の場合、先端が尖っていないほうが望ましい。なぜなら、先端が尖っていると不要光が外部に抜けづらく、測定装置２４０２に達してしまう場合があるため。
【０２８８】
（光学装置の第３の参考形態）次に、光学装置の第３の参考形態について図２５を参照して説明する。図２５は、光学装置の第３の参考形態の概略図である。
【０２８９】
本参考形態の光学装置が前述の光学装置の第１の参考形態と異なる点は、拡散板２５０１が、被測定体載置板１０４に対して所定の角度傾いて配置されている点であり、それ以外の点は同様であるためその説明を省略する。また、図２５に示される例では、簡単のため、図１に示される偏光変換素子１０２は省略している。
【０２９０】
拡散板２５０１が、被測定体載置板１０４に対して所定の角度傾いて配置されているとは、被測定体載置板１０４の法線に対して、拡散板２５０１の法線が所定の角度傾いていることをいう。
【０２９１】
本参考形態は、前述の光学装置の第２の参考形態のように、被測定体１０８に斜めに光を照射するための参考形態である。
【０２９２】
すなわち、本参考形態は、被測定体１０８に斜めに光を照射するために拡散板２５０１を斜めにしている。
【０２９３】
拡散板２５０１から出射された光は、拡散板２５０１の傾きに応じて被測定体１０８に斜めに照射される。
【０２９４】
そして、前述の第２の参考形態の図２４のように、被測定体１０８を照射した光は、被測定体１０８の信号光とは逆側に導光される。
【０２９５】
したがって、本参考形態では、本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、被測定体載置板１０４に対して角度を持って配置された拡散板２５０１により変調光２５０２を被測定体１０８に斜めに入射させ、信号光が導光部１０５を導光する方向とは逆側に変調光２５０２を導光するようにしているため、測定装置に測定される変調光２５０２を軽減でき、測定の際のＳ／Ｎ比を向上させることができる。
【０２９６】
（被測定体載置部及び被測定体の例）ここで、上記光学装置の各参考形態に用いられる被測定体載置部及び被測定体の例について説明する。なお、以下に説明する被測定体載置部及び被測定体は、被測定体載置部品の一参考形態となる。
【０２９７】
被測定体載置部及び被測定体としては種々のものが考えられるが、例えば第１例として、ＤＮＡチップを挙げることができる。
【０２９８】
ＤＮＡチップは、多数の異なったＤＮＡプローブをガラス基板上に高密度に固定し、そのＤＮＡプローブをハイブリダイズさせ、その蛍光等の信号を検出してコンピューターで大量解析するためのものである。
【０２９９】
したがって、ＤＮＡチップでは、ガラス基板が被測定体載置部を構成し、ＤＮＡプローブが被測定体を構成する。
【０３００】
また、被測定体載置部及び被測定体の第２例として、ＤＮＡマイクロアレイを挙げることができる。
【０３０１】
ＤＮＡマイクロアレイとは、ＤＮＡチップと構成・機能は同じであるが、作製方法がＤＮＡチップは半導体工程を利用するのに対し、ＤＮＡマイクロアレイはスポッターと呼ばれるものでプローブを滴下して作製する。ＤＮＡチップの方が高密度にＤＮＡプローブが配列されている。
【０３０２】
したがって、ＤＮＡマイクロアレイにおいては、ガラス基板が被測定体載置部を構成し、ＤＮＡプローブが被測定体を構成する。
【０３０３】
また、被測定体載置部及び被測定体の第３例として、ＥＣＡチップを挙げることができる。
【０３０４】
ＥＣＡチップは、ＤＮＡチップと構成・機能は同じであるが、検出に電気を用いるものである。電気と光の両方を用いる場合もある。
【０３０５】
したがって、ＥＣＡチップでは、ガラス基板が被測定体載置部を構成し、ＤＮＡプローブが被測定体を構成する。
【０３０６】
また、被測定体載置部及び被測定体の第４例として、プロテインチップを挙げることができる。
【０３０７】
プロテインチップは、ＤＮＡチップが遺伝子を解析するのに対し、プロテインチップはたんぱく質を解析するのに用いられる。
【０３０８】
したがって、ＥＣＡチップでは、ガラス基板が被測定体載置部を構成し、ＤＮＡプローブが被測定体を構成する。
【０３０９】
ただし、光学装置の参考形態に用いられる被測定体載置部及び被測定体としては上記の例に限定されるものではなく、その他種々のものを用いることができる。
【０３１０】
（測定方法の参考形態）次に、測定方法の一参考形態について図２６を参照して説明する。図２６は、測定方法の一参考形態の動作のフローチャートである。
【０３１１】
本参考形態の測定方法は、前述の光学装置の第１の参考形態から第３の参考形態のいずれかの光学装置を用いて行われる方法である。
【０３１２】
本参考形態の測定方法は、光学装置が測定するタイミングを制御してより信号光の測定精度を向上させる測定方法である。以下、図面に沿って説明する。
【０３１３】
図２６に示されるように、本参考形態の測定方法は、光源、被測定体及び測定装置の３つの部品の間の測定動作を制御する。
【０３１４】
（一個目の被測定体）まず、一個目の被測定体の測定を行う場合、光源をＯＮし（ステップ１）、一個目の被測定体に照射を行う（ステップ２）。このステップ２の照射により被測定体は発光する（ステップ３）。
【０３１５】
次に、光源をＯＦＦする（ステップ４）。ここで、このステップ４などで示される光源ＯＦＦとは、光源が完全に発光を停止した場合のみならず、光源の発光が略終わった場合も含む。
【０３１６】
そして、光源がＯＦＦされた後、測定装置は被測定体の発光を測定する（ステップ５）。
【０３１７】
その後、被測定体は発光を終え（ステップ６）、測定装置も測定を終了する（ステップ７）。
【０３１８】
以下、二個目の被測定体の測定動作も、上述のステップ１からステップ７の動作にそれぞれ対応して、ステップ８からステップ１４の動作が行われることにより、一個目の被測定体の測定動作と同様の動作が行われる。
【０３１９】
そして、三個目以降の被測定体の測定動作も、前述の一個目の被測定体の測定動作と同様に行われる。
【０３２０】
このように、本参考形態の測定方法によれば、ステップ４及びステップ５に示されるように、光源がＯＦＦされた後（ステップ４）に測定装置が測定を行っているため（ステップ５）、光源から被測定体に照射された参照光又は変調光が測定装置により測定されることを防ぎ又は軽減することができるので、Ｓ／Ｎ比を向上させ、精度の良い測定を行うことができる。
【０３２１】
（分析システムの参考形態）次に、分析システムについて図２７、図２８及び図２９を参照して説明する。図２７は、分析システムの一参考形態の全体構成図、図２８は、図２７に示される分析装置の内部ブロック図、図２９は、図２７に示される分析システムの一参考形態の動作のフローチャートである。
【０３２２】
図２７に示されるように、本参考形態に係る分析システムは、光学装置２７０１と、分析装置２７０２と、情報データベース２７０３とから構成される。
【０３２３】
光学装置２７０１は、光学装置の第１の実施形態から第１７の実施形態及び第１の参考形態から第２の参考形態のうちのいずれかを用いる。
【０３２４】
分析装置２７０２は、光学装置２７０１及び情報データベース２７０３から入力した情報に基づいて比較、判定を行う装置である。
【０３２５】
情報データベース２７０３は、分析装置２７０２により分析を行う際に必要となる基準データが格納されている。この情報データベース２７０３は、例えばハードディスク等を有するサーバにより構成される。
【０３２６】
光学装置２７０１と、分析装置２７０２と、情報データベース２７０３とはそれぞれネットワークにより接続されるとしても良いし、各装置が１つの装置（筐体）に収納されていても良いし、分析装置２７０２内部に光学装置２７０１及び情報データベース２７０３の一方が格納されているとしても良い。
【０３２７】
次に、図２７に示される分析装置２７０２の内部構成について図２８を参照して説明する。
【０３２８】
図２７に示される分析装置２７０２は、制御部２８０１と、送受信部２８０１と、送受信部２８０２と、比較判定部２８０３と、記憶部２８０４とを備え、それぞれはバス２８０５により接続されている。
【０３２９】
制御部２８０１は、それぞれの部を制御する。送受信部２８０２は、外部との情報のやりとりを行う。比較判定部２８０３は、入力した情報に基づいて比較、判定を行う。記憶部２８０４は、比較判定結果や入力した情報などを記憶する。
【０３３０】
図２８に示される各部の機能は、分析装置が備えるＣＰＵが、単体で、その他の部品と共に又は主記憶装置や補助記憶装置に記憶されているプログラムと協働することにより実現される。
【０３３１】
次に、図２７に示される分析システムの動作について図２９参照して説明する。
【０３３２】
まず、光学装置２７０１が測定を行い（ステップ２９０１）、この測定情報が分析装置２７０２に送信される。
【０３３３】
測定情報が送信された分析装置２７０２は、情報データベース２７０３から比較情報を受信し、測定情報と比較情報との比較を行う（ステップ２９０２）。
【０３３４】
そして、分析装置２７０２は比較結果に基づいて判定を行う（ステップ２９０３）。この判定は、例えば比較した結果、測定情報と比較情報とが一致したあるいは一致しなかったなどがある。
【０３３５】
次に、分析装置２７０２は判定結果を出力し（ステップ２９０４）、動作を終える。
【０３３６】
以上のように、分析システムの一参考形態では、分析装置２７０２の分析により光学装置２７０１が測定した結果に基づいて判定結果を出力することが可能となる。
【０３３７】
（分析システムを用いた本人照合方法）次に、上記分析システムの一参考形態を本人照合方法に適用した場合について図３０を参照して説明する。この本人照合方法は本人照合方法の一参考形態となる。図３０は、本人照合方法の一参考形態のフローチャートである。
【０３３８】
本人照合方法の一参考形態は、前述の分析システムの一参考形態を用いて本人照合を行う方法である。
【０３３９】
そして、本人照合方法の一参考形態を用いることにより、例えば、ある部屋に入室を許可するかしないかを照合結果に基づいて判定することによるセキュリティシステムを構築したり、クレジットカード等のカードの不正利用を防止する。
【０３４０】
本参考形態の本人照合方法では、図２７に示される分析装置２７０２が、光学装置２７０１から得られる情報（ステップ３００１）と、データベースやカードに格納された情報などの既知の情報（ステップ３００２）に基づいて、本人の同一性を判断する（ステップ３００３）。
【０３４１】
これらステップ３００１からステップ３００３までの動作は、前述の図２９に示されるフローチャートのステップ２９０１からステップ２９０３までの動作に対応する。
【０３４２】
そして、分析装置により同一性が判断された後、その判断結果に基づいて、分析装置は、入室許可やカードの使用許可をしたり（ステップ３００４）、入室の不許可やカードの使用の不許可を行う（ステップ３００５）。
【０３４３】
したがって、本人照合方法の一参考形態を、遺伝子情報を用いたセキュリティシステムに適用した場合は以下のような動作となる。
【０３４４】
（１）部屋の入り口等に上記参考形態の分析システムを設置しておき、分析システムの参考形態は、入室しようとする人物の遺伝子情報を読み取る。
【０３４５】
（２）あらかじめ、入室を許可する人物の遺伝子情報をシステムにデータベースとして保存しておき、分析システムの一参考形態は、入室しようとする人物が許可されているかどうかをこのデータベースに格納された情報に基づいて比較判断する。
【０３４６】
（３）分析システムの一参考形態は、入室許可の人物であれば扉を開錠し、入室を許可していない人物の場合は開錠しない。
【０３４７】
また、本人照合方法の一参考形態を、遺伝子情報を用いたカード使用の許可方法に適用した場合は以下のような動作となる。
【０３４８】
（１）クレジットカード等に正規利用者の遺伝子情報を記録しておく。
【０３４９】
（２）分析システムの一参考形態は、クレジットカードを使用する際に、利用者の遺伝子情報を分析する。
【０３５０】
（３）分析システムの一参考形態は、カードの保存情報と解析結果を照合して、正規の利用者かどうかを判定する。
【０３５１】
（４）分析システムの一参考形態は、正規利用者の場合はカードの使用を許可し、正規利用者でない場合はカードの使用を認めない。
【０３５２】
以上のような本人照合方法の一参考形態により、指紋照合、顔認識などに比べて、より確度の高い本人照合方法とすることができる。
【０３５３】
（アレルギー・副作用検査方法）次に、分析システムの一参考形態を用いたアレルギー・副作用検査方法について図３１を参照して説明する。この分析システムの一参考形態を用いたアレルギー・副作用検査方法は、アレルギー・副作用検査方法の一参考形態となる。よって、図３１は、アレルギー・副作用検査方法の一参考形態のフローチャートである。
【０３５４】
本参考形態のアレルギー・副作用検査方法では、図２７に示される分析装置２７０２が、光学装置２７０１から得られる情報（ステップ３１０１）と、データベースに格納された、アレルギー・副作用などを発生するグループ情報（ステップ３１０２）とに基づいて、利用者の遺伝子の属性を判断する（ステップ３１０３）。
【０３５５】
これらステップ３１０１からステップ３１０３までの動作は、前述の図２９に示されるフローチャートのステップ２９０１からステップ２９０３までの動作に対応する。
【０３５６】
そして、分析装置により属性が判断された後、その判断結果に基づいて分析装置は、食品、薬の使用を停止を指示したり（ステップ３１０４）、食品、薬の使用の許可を行う（ステップ３１０５）。
【０３５７】
このように、分析システムの一参考形態を用いた、アレルギー・副作用検査方法では例えば遺伝子情報を用いて判断する場合、以下のような動作となる。
【０３５８】
（１）開示された食品、薬を提供する際にアレルギー、副作用を発生するグループの遺伝子情報をデータベースに格納する。
【０３５９】
（２）分析システムの一参考形態は、利用者がその食品や薬等を利用する前に利用者自身の遺伝子情報を解析する。
【０３６０】
（３）分析システムの一参考形態は、利用者の遺伝子が提供されたグループ情報に属するか否かを判定する。この判定は、その食品、薬を利用してもアレルギー、副作用が発生しないかどうかを判定する。
【０３６１】
（４）分析システムの一参考形態は、グループに属さない場合は食品、薬の使用を許可し、属する場合はアレルギー等が発生する可能性があるので使用しないように指示する。
【０３６２】
したがって、本参考形態によるアレルギー・副作用検査方法では、従来アレルギーや副作用は摂取するまで分からない場合が多かったが、本システムを利用することで、あらかじめその判断をすることができ、危険性を回避することができる。
【０３６３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明は、被測定体を照射する光を選択して被測定体の測定を行っているため、小型化、高速化及び低コスト化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る光学装置の第１の実施形態の全体概略図である。
【図２】図１に示される本発明に係る光学装置の第１の実施形態の断面図である。
【図３】本発明に係る光学装置の第２の実施形態の断面図である。
【図４】本発明に係る光学装置の第３の実施形態の一部断面図である。
【図５】図３及び図４に示されるマイクロレンズアレイの一部拡大図である。
【図６】本発明に係る光学装置の第４の実施形態の一部断面図である。
【図７】図６に示される光学装置の導光部の一部拡大図である。
【図８】本発明に係る光学装置の第５の実施形態において用いられる導光部の外観図である。
【図９】本発明に係る光学装置の第６の実施形態の一部断面図である。
【図１０】本発明に係る光学装置の第７の実施形態の一部断面図である。
【図１１】本発明に係る光学装置の第８の実施形態の一部断面図である。
【図１２】本発明に係る光学装置の第９の実施形態の一部断面図である。
【図１３】本発明に係る光学装置の第１０の実施形態の断面図である。
【図１４】本発明に係る光学装置の第１１の実施形態の断面図である。
【図１５】本発明に係る光学装置の第１２の実施形態の光源部分の概略図である。
【図１６】本発明に係る光学装置の第１３の実施形態の光源部分の概略図である。
【図１７】本発明に係る光学装置の第１４の実施形態における導光部及び測定装置の概略図である。
【図１８】本発明に係る光学装置の第１５の実施形態の受光部分の概略図である。
【図１９】本発明に係る光学装置の第１６の実施形態の断面図である。
【図２０】本発明に係る光学装置の第１７の実施形態の断面図である。
【図２１】光学装置の第１の参考形態の概略図である。
【図２２】図２１に示されるＤＭＤ素子２１０２の概略図である。
【図２３】光学装置の第２の参考形態の概略図である。
【図２４】図２３に示される光学装置の導光部部分の断面図である。
【図２５】光学装置の第３の参考形態の概略図である。
【図２６】測定方法の一参考形態の動作のフローチャートである。
【図２７】分析システムの一参考形態の全体構成図である。
【図２８】図２７に示される分析装置の内部ブロック図である。
【図２９】図２７に示される分析システムの動作のフローチャートである。
【図３０】本人照合方法の一参考形態のフローチャートである。
【図３１】アレルギー・副作用検査方法の一参考形態のフローチャートである。
【符号の説明】
１０１ 拡散板（光源手段、拡散手段）
１０２ 偏光変換素子（偏光変換手段）
１０３ 液晶パネル（選択透過手段）
１０４ 被測定体載置板（被測定体載置手段）
１０５ 導光部（受光手段、導光手段）
１０６ 光源（光源手段）
１０７ 液晶セル
１０８ 被測定体
３０１ マイクロレンズアレイ（集光手段）
３０２ レンズ部
４０１ マイクロレンズアレイ（集光手段）
４０２ レンズ部
６０１ 導光部
６０２ パターン
８０１ 導光部
９０１ ブラッググレーティングパターン（透過反射制御手段）
９０２ 変調光
９０３ Ｓ波信号光
９０４ Ｐ波信号光
９０５ 導光部
１００１ 光学膜（透過反射制御手段）
１００２ 変調光
１００３ Ｓ波信号光
１００４ Ｐ波信号光
１００５ 導光部
１１０１ フィルタ（透過制限手段）
１１０２ 変調光
１１０３ 信号光
１２０１ フィルタ（透過制限手段）
１２０２ 変調光
１２０３ 信号光
１３０１ 拡散板（光源手段、拡散手段）
１３０２ 偏光変換素子（偏光変換手段）
１３０３ 液晶パネル（選択透過手段）
１３０４ フィルタ（吸収手段）
１３０５ 導光板（導光手段）
１３０６ 被測定体載置板（被測定体載置手段）
１３０７ 被測定体
１３０８ ＰＤ（ｐｈｏｔｏ ｄｉｏｄｅ）（測定手段）
１３０９ ＬＤ（ｌａｓｅｒ ｄｉｏｄｅ）（光源手段、発光手段）
１４０１ 光源（光源手段）
１４０２ 受光素子（測定手段）
１４０３ 偏光板（第１の偏光変換手段）
１４０４ 液晶パネル（選択透過手段）
１４０５ 偏光板（第２の偏光変換手段）
１４０６ 被測定体載置板（被測定体載置手段）
１４０７ 被測定体
１４０８ 導光部（導光手段）
１４０９ 参照光
１４１０ 信号光
１５０１ａ，１５０１ｂ，１５０１ｃ，１５０１ｄ，１５０１ｅ 光源
１５０２，１５０３，１５０４，１５０５ 光源アレー
１６０１ 光源
１６０２，１６０３，１６０４ パターン
１６０５ 拡散板
１７０１ 端面
１７０２ａ，１７０２ｂ，１７０２ｃ 受光素子
１７０２ｄ，１７０２ｅ，１７０２ｆ，１７０２ｇ 受光素子
１８０１ 導光部
１８０２ 導光部（第２の導光手段）
１８０３ 測定装置
１８０４ 導光部
１８０５ パターン
１９０１，１９０２ アライメントマーク（第１の位置決め手段）
２００１ スペーサ（第２の位置決め手段）
２１０１ ＤＭＤ（デジタルミラーデバイス）
２１０２ ＤＭＤ素子
２１０３ 参照光
２１０４ 変調光
２２０１ 基板
２２０２ マイクロミラー
２２０３ 支持部
２２０４ トーションヒンジ
２２０５ ヨーク
２２０６ 柱部
２３０３ 参照光
２３０４ 変調光
２４０１ 信号光
２４０２ 測定装置
２５０１ 拡散板
２５０２ 変調光
２７０１ 光学装置
２７０２ 分析装置
２７０３ 情報データベース（格納手段）
２８０１ 制御部
２８０１ 送受信部
２８０２ 送受信部
２８０３ 比較判定部
２８０４ 記憶部
２８０５ バス
【発明の属する技術分野】
本発明は、被測定体を測定する際に適用して好適な光学装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、被測定体に光を照射した際に発光される信号光を検出し、該被測定体の性質を測定する装置が種々提案されてきた。
【０００３】
このような装置により測定される被測定体として例えばＤＮＡが挙げられる。ＤＮＡを測定する技術は遺伝子工学の一部をなし、この遺伝子工学は、遺伝子組み替え食品やクローン畜産などの農業畜産分野や、バイオ技術を利用した環境修復・ゴミ処理、バイオ技術を利用したＣＯ２処理システム等の環境分野や、バイオマスを利用したエネルギー生産などのエネルギー分野などにおいて利用される。もちろん、遺伝子工学は上記以外の分野においても利用される。
【０００４】
例えば、従来のＤＮＡチップの分析方法として、特開２０００−１３１２３７号公報に記載の「マイクロアレイチップの読取方法および読取装置」や、特表平９−５０４９１０号公報に記載の「分子生物学的分析および診断用の自己アドレス可能、自己組立て小型電子システムおよびデバイス」や、特表平１０−５１２７４５号公報に記載された「ＤＮＡ塩基配列決定およびＤＮＡ同定の方法および装置」などがある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような従来技術の場合には、被測定体のスキャンを機械的に行っているため、スキャン用の駆動部が大きく、装置全体が大型化してしまうという問題点を有している。
【０００６】
また、従来技術では、被測定体のスキャンが機械的なスキャンであるためスキャン時間の短縮が困難であるという問題点を有している。
【０００７】
さらに、従来技術では、装置の大型化、部品点数の増大により高コストとなるという問題点を有している。
【０００８】
本発明は上記の従来技術の課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、小型化、高速化及び低コスト化を図ることが可能な光学装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係る光学装置は、光を発する光源手段と、前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、前記偏光変換手段から出射された光のうち被測定体に照射される光を選択して透過させるための選択透過手段と、前記選択透過手段を透過した光が照射される被測定体を載置する被測定体載置手段と、前記光が照射された被測定体から発せられた光を受光する受光手段とを備え、前記受光手段が、前記被測定体から発せられた光を導光する導光手段と、前記導光手段を導光した光を測定する測定手段とを備え、前記導光手段は、くさび型であって、光が入射する面とは逆側の面に反射部が設けられていることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明に係る光学装置は、光を発する光源手段と、前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、前記偏光変換手段から出射された光のうち被測定体に照射される光を選択して透過させるための選択透過手段と、前記選択透過手段を透過した光が照射される被測定体を載置する被測定体載置手段と、前記光が照射された被測定体から発せられた光を受光する受光手段とを備え、前記受光手段が、前記被測定体から発せられた光を導光する導光手段と、前記導光手段を導光した光を測定する測定手段とを備え、前記導光手段は、表面に複数のくさび型のパターンを備えることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明に係る光学装置は、光を発する光源手段と、前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、前記偏光変換手段から出射された光のうち被測定体に照
射される光を選択して透過させるための選択透過手段と、前記選択透過手段を透過した光が照射される被測定体を載置する被測定体載置手段と、前記光が照射された被測定体から発せられた光を受光する受光手段とを備え、前記受光手段が、前記被測定体から発せられた光を導光する導光手段と、前記導光手段を導光した光を測定する測定手段とを備え、前記導光手段における、前記被測定体から発せられた光が入射する面とは逆側の面に、光の偏光状態に応じて光の透過及び反射を制御する透過反射制御手段を備えることを特徴とする。
【００１２】
また、本発明に係る光学装置は、前記選択透過手段が、前記被測定体載置手段上の被測定体に一対一に対応した液晶セルを複数有する液晶パネルを備え、前記液晶セルに対する電圧の印加により、前記被測定体に照射される光を選択して透過させることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明に係る光学装置は、前記選択透過手段と前記被測定体載置手段との間、及び前記被測定体載置手段と前記受光手段との間との少なくとも一方の間に集光手段を設けたことを特徴とする。
【００１４】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段における、前記被測定体から発せられた光が入射する面、及び前記導光手段から光が出射する面の少なくとも一方の面に、前記被測定体を照射した光の透過を制限する透過制限手段を備えることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明に係る光学装置は、前記測定手段が、前記導光手段における前記導光手段から光が出射する面に複数配置されることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段から光が出射する面に配置された第２の導光手段を備えることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段と、前記導光手段及び前記選択透過手段との少なくとも一方とに、該被測定体載置手段の面に平行な方向における位置決めのための第１の位置決め手段を設けたことを特徴とする。
【００１８】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段と前記導光手段との間、及び、前記被測定体載置手段と前記選択透過手段との間の少なくとも一方の間に、前記被測定体載置手段の面に垂直な方向における位置決めのための第２の位置決め手段を設けたことを特徴とする。
【００１９】
また、本発明に係る光学装置は、前記光源手段が、光を発する発光手段と、前記発光手段からの光を拡散する拡散手段とを備えることを特徴とする。
【００２０】
また、本発明に係る光学装置は、前記発光手段が、前記拡散手段の少なくとも一端に複数配置されていることを特徴とする。
【００２１】
また、本発明に係る光学装置は、前記拡散手段が、前記発光手段から離れるほど光の反射効率が高くなり、かつ、前記発光手段を中心とした同心円上において光の反射効率が略等しい複数のパターンを備えることを特徴とする。
【００２２】
また、本発明に係る光学装置は、前記光源手段の面が、前記被測定体載置手段の面に対して所定の角度を有して配置されていることを特徴とする。
【００２３】
また、本発明に係る光学装置は、光を発する光源手段と、前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、前記偏光変換手段から出射された光のうち被測定体に照射される光を選択して透過させるための選択透過手段と、前記被測定体から発せられた光を吸収する吸収手段と、前記被測定体から発せられた光を測定手段に導光する導光手段と、前記被測定体を載置する被測定体載置手段とを備え、これらが上記順序で積層され、前記導光手段を導光された光を測定する測定手段を備えることを特徴とする。
【００２４】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段の下部に集光手段を設けたことを特徴とする。
【００２５】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段が、くさび型であって、被測定体から発せられた光が入射する面とは逆側の面に反射部が設けられていることを特徴とする。
【００２６】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段が表面に、複数のくさび型のパターンを備えることを特徴とする。
【００２７】
また、本発明に係る光学装置は、前記光源手段が、光を発する発光手段と、前記発光手段からの光を拡散する拡散手段とを備えることを特徴とする。
【００２８】
また、本発明に係る光学装置は、前記発光手段が、前記拡散手段の少なくとも一端に複数配置されていることを特徴とする。
【００２９】
また、本発明に係る光学装置は、前記拡散手段が、前記発光手段から離れるほど光の反射効率が高くなり、かつ、前記発光手段を中心とした同心円上において光の反射効率が略等しい複数のパターンを備えることを特徴とする。
【００３０】
また、本発明に係る光学装置は、前記測定手段が、前記導光手段における前記導光手段から光が出射する面に複数配置されることを特徴とする。
【００３１】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段から光が出射する面に配置された第２の導光手段を備えることを特徴とする。
【００３２】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段と前記導光手段とに、前記被測定体載置手段の面に平行な方向における位置決めのための第１の位置決め手段を設けたことを特徴とする。
【００３３】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段と前記導光手段との間に、前記被測定体載置手段の面に垂直な方向における位置決めのための第２の位置決め手段を設けたことを特徴とする。
【００３４】
また、本発明に係る光学装置は、光を発する光源手段及び被測定体からの光を測定する測定手段とが一端面に配置された、前記光源手段から発せられた光及び前記被測定体から発せられた光を導光する導光手段と、前記導光手段から出射された光の偏光状態を変換する第１の偏光変換手段と、前記第１の偏光変換手段から出射された光のうち被測定体に照射される光を選択して透過させるための選択透過手段と、前記被測定体から発せられた光の偏光状態を変換する第２の偏光変換手段と、前記被測定体を載置する被測定体載置手段とを備え、これらが上記順序で積層されたことを特徴とする。
【００３５】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段と前記第１の偏光変換手段との間、及び、前記選択透過手段と前記第２の偏光変換手段との間の少なくとも一方の間に集光手段を設けたことを特徴とする。
【００３６】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段が、くさび型であって、前記被測定体から発せられた光が入射する面とは逆側の面に反射部が設けられていることを特徴とする。
【００３７】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段が表面に、複数のくさび型のパターンを備えることを特徴とする。
【００３８】
また、本発明に係る光学装置は、前記測定手段が、前記導光手段における前記導光手段から光が出射する面に複数配置されることを特徴とする。
【００３９】
また、本発明に係る光学装置は、前記導光手段から光が出射する面に配置された第２の導光手段を備えることを特徴とする。
【００４０】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段と前記第２の偏光変換手段とに、該被測定体載置手段の面に平行な方向における位置決めのための第１の位置決め手段を設けたことを特徴とする。
【００４１】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段と前記第２の偏光変換手段との間に、前記被測定体載置手段の面に垂直な方向における位置決めのための第２の位置決め手段を設けたことを特徴とする。
【００４２】
【発明の実施の形態】
以下に図面を参照して、この発明の好適な実施の形態を例示的に詳しく説明する。ただし、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。
【００４３】
また、以下の図面において既述の図面に記載された部品と同様の部品には同じ番号を付す。
【００４４】
（光学装置の第１の実施形態）まず、本発明に係る光学装置の第１の実施形態について図１及び図２を参照して説明する。図１は、本発明に係る光学装置の第１の実施形態の全体概略図、図２は、図１に示される本発明に係る光学装置の第１の実施形態の断面図である。ただし、図２では、簡単のため、導光部１０５は省略している。
【００４５】
図１に示されるように、本発明に係る光学装置の第１の実施形態は光源１０６を有する拡散板１０１と、偏光変換素子１０２と、液晶パネル１０３と、被測定体載置板１０４と、導光部１０５とがこの順序で積層されて構成される。
【００４６】
また、図１には示されていないが、本実施形態には導光部１０５により導光された光を測定する、例えば後述の図１７や図１８に示されるＰＤ（ｐｈｏｔｏｄｉｏｄｅ）等の測定装置が備えられている。
【００４７】
拡散板１０１は、被測定体載置板１０４に光を照射するための板である。この拡散板１０１に光源１０６から光が照射されると、拡散板１０１表面に設けられた拡散部により光が被測定体載置板１０４の略全面に渡って照射されることとなる。
【００４８】
偏光変換素子１０２は、入射した光の偏光を一方向の偏光に変換する素子である。偏光変換素子１０２は、液晶パネル１０３によって被測定体載置板１０４に照射する光を制限するために用いられる素子である。この偏光変換素子１０２は、例えば拡散板１０１から出射された光をＳ波又はＰ波に変換する。
【００４９】
液晶パネル１０３は、偏光変換素子１０２から出射された光の被測定体載置板１０４への透過を制御する素子である。
【００５０】
被測定体載置板１０４は、複数の被測定体１０８を載置している板である。ただし、本発明に係る被測定体載置板１０４は板形状に限定されるものではなく、被測定体１０８を載置するものであればその形状は限定されない。
【００５１】
また、被測定体載置板１０４は複数の被測定体載置部分に分割され、それぞれの被測定体載置部分に被測定体１０８が載置されている。
【００５２】
被測定体載置板１０４上に載置される被測定体１０８は、１つ又は数個の被測定物からなっていて良い。
【００５３】
導光部１０５は、被測定体１０８から発せられた光を測定装置に導光するための部品である。
【００５４】
そして、本実施形態は、被測定体１０８から発せられた光を測定装置が測定することにより、被測定体１０８の走査と受光により得られた情報とを、例えば時間的に一対一に対応させ、被測定体１０８がどのような性質を有しているものであるのかを判断する。
【００５５】
ここで、導光部１０５において光を導光するために、導光部１０５の片側には反射板をつけても良い。また、光を導光させるために導光部１０５における全反射（臨界角）を使っても良い。また、導光部１０５はくさび型でも、板形状であっても良い。
【００５６】
この導光部１０５は、例えば被測定体１０８から発せられた光をＣＣＤなどで直接測定する場合は不要になる場合もある。
【００５７】
液晶パネル１０３は、被測定体載置板１０４上の複数の被測定体１０８に一対一に対応した液晶セル１０７に分割されている。液晶パネル１０３は、これら液晶セルを独立に駆動して光の透過を制限する。
【００５８】
液晶パネル１０３は、分割された複数の液晶セル１０７を備え、この液晶セル１０７のＯＮ、ＯＦＦはそれぞれ独立に制御することが可能である。
【００５９】
ここで、液晶セルをＯＮ、ＯＦＦするとは、液晶セルに電圧を印加することにより、分子配列を変化させ、光の配向面を変化させることをいう。
【００６０】
例えば図２に示されるように、液晶パネル１０３の液晶セル１０７のみが光を透過するように配向面を制御し、他の液晶セルは光を透過しないように制御すると、液晶セル１０７に対応した被測定体１０８のみが照射されることになる。
【００６１】
そして、この照射された被測定体１０８が発光し、この発光を導光部１０５により導光し、この導光された光を、例えばフォトダイオードなどの測定装置により測定することにより、被測定体載置板１０４上の複数の被測定体１０８の１つの発光を測定することができる。
【００６２】
このように、本発明に係る光学装置の第１の実施形態によれば、照射する光を液晶パネル１０３によって制限して被測定体１０８を光で照射するとしているため、機械的なスキャンが不要となり、被測定体１０８が複数載置されている場合であっても、装置を大型化することなく測定することが可能となる。
【００６３】
すなわち、本実施形態により、小型化が容易に実現でき、部品の小型化、部品点数が減ることによりローコスト化を達成できる。
【００６４】
また、本実施形態では、機械的な動作がないため、時系列で精度が悪くなることはない。また、液晶パネル１０３の駆動による被測定体１０８の選択を行っているため、短時間で測定が可能である。
【００６５】
また、本実施形態では、光を制御することにより低消費電力を実現することができる。
【００６６】
（光学装置の第２の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第２の実施形態について図３を参照して説明する。図３は、本発明に係る光学装置の第２の実施形態の断面図である。
【００６７】
本発明に係る光学装置の第２の実施形態は、マイクロレンズアレイ３０１を配置した点のみが、前述の第１の実施形態と異なる。したがって、以下の説明では、このマイクロレンズアレイ３０１の部分についてのみ説明する。
【００６８】
図３に示されるように、本発明に係る光学装置の第２の実施形態は、マイクロレンズアレイ３０１が液晶パネル１０３と被測定体載置板１０４との間に配置されている実施形態である。
【００６９】
マイクロレンズアレイ３０１は、被測定体載置板１０４上の複数の被測定体１０８のそれぞれに一対一に対応してレンズ部３０２を備えている。
【００７０】
そして、マイクロレンズアレイ３０１は、液晶パネル１０３を透過した光をレンズ部３０２によって被測定体１０８に集光する。
【００７１】
したがって、本発明に係る光学装置の第２の実施形態によれば、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、マイクロレンズアレイ３０１によって集光機能を持たせることにより光源の光を照射に用いる効率を向上させることができる。
【００７２】
また、本実施形態では、被測定体１０８にエネルギーを集中することになるため、被測定体１０８の発光効率を向上させることができる。
【００７３】
また、本実施形態では、マイクロレンズアレイ３０１の形状については後述の光学装置の第３の実施形態と共にその例を説明する。
【００７４】
（光学装置の第３の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第３の実施形態について図４を参照して説明する。図４は、本発明に係る光学装置の第３の実施形態の一部断面図である。
【００７５】
本発明に係る光学装置の第３の実施形態も前述の第２の実施形態と同様に、マイクロレンズアレイ４０１を配置している点のみが、前述の第１の実施形態と異なる。したがって、以下の説明では、このマイクロレンズアレイ４０１の部分についてのみ説明する。
【００７６】
図４に示されるように、本発明に係る光学装置の第３の実施形態は、マイクロレンズアレイ４０１が被測定体載置板１０４と導光部１０５との間に配置されている。
【００７７】
マイクロレンズアレイ４０１は、被測定体載置板１０４上の複数の被測定体１０８のそれぞれに一対一に対応してレンズ部４０２を備えている。
【００７８】
そして、マイクロレンズアレイ４０１は、被測定体１０８から発せられた光を一方向の光にして指向性を高める。
【００７９】
マイクロレンズアレイ４０１によって指向性を高められた光は導光部１０５に入射し、測定装置へ導光される。
【００８０】
このように、本発明に係る光学装置の第３の実施形態によれば、前述の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、指向性を高めることによって光源から発せられた光のうち測定に用いることのできる光の効率を向上させることができ、迷光が減り、精度も向上させることができる。
【００８１】
（マイクロレンズアレイの構造）ここで、前述の第２の実施形態及び第３の実施形態において用いられたマイクロレンズアレイ３０１，４０１の構造について図５を参照して説明する。図５は、図３及び図４に示されるマイクロレンズアレイの一部拡大図である。
【００８２】
本発明に用いられるマイクロレンズアレイは、ガラスのエッチングで作製してもよいし、プレス成形でもよい。また、レンズ部をガラスや樹脂で挟んでもよい。さらに平板にすると、耐久性も良くなりアセンブリも容易になる。
【００８３】
ここで、平板にするとは、例えばガラス基板等の基板、マイクロレンズアレイ、ＵＶ硬化樹脂等の保護層、ガラス基板等の基板を順次積層することにより、マイクロレンズアレイの効果を有する部分を平坦化することをいう。
【００８４】
ただし、本発明に係るマイクロレンズアレイのレンズ部は、図５の（ａ）に示されるようなレンズ形状だけではなく、図５の（ｂ）に示されるようなプリズム形状であってもよい。
【００８５】
また、本発明に係るマイクロレンズアレイのレンズ部は、凸でも凹でもよい。また、レンズ部の屈折率は基板の材料などにより適宜選択することが可能である。
【００８６】
（光学装置の第４の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第４の実施形態について図６及び図７を参照して説明する。図６は、本発明に係る光学装置の第４の実施形態の一部断面図、図７は、図６に示される光学装置の導光部の一部拡大図である。
【００８７】
本実施形態の光学装置が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は導光部の構造のみである。したがって、以下の説明では、導光部の部分のみを説明する。
【００８８】
本実施形態の光学装置は、図６に示されるように導光部６０１の表面に複数のパターン６０２を備えることを特徴とするものである。
【００８９】
図７に示されるように、パターン６０２はくさび型をしている。そして、被測定体１０８から発光した光が導光部６０１の表面のパターン６０２で反射し、測定装置などが配置されている測定装置側に進行するように導光部６０１にくさび型の傾斜であるパターン６０２が設けられている。
【００９０】
図７に示されるように、パターン６０２のくさび型の傾斜の法線の方向はそれぞれのパターンごとに個別に制御することができる。図７には、図６に示されるパターン６０２が拡大して示されている。
【００９１】
すなわち本実施形態では、法線方向は、それぞれのパターン６０２において一定にする必要はなく、効率や均一性を考慮することにより位置によって法線方向を変更することができる。
【００９２】
このように、本発明の光学装置の第４の実施形態では、前述の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、図７に示されるパターン６０２の法線方向を制御することにより効率よく被測定体１０８から発せられた信号光を測定装置側に導光することができる。
【００９３】
また、本実施形態では、導光部６０１にパターン６０２を形成することにより薄型を維持することができる。
【００９４】
（光学装置の第５の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第５の実施形態について図８を参照して説明する。図８は、本発明に係る光学装置の第５の実施形態において用いられる導光部の外観図である。
【００９５】
本実施形態が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態に追加される点は、導光部の構造のみであるため、以下の説明ではこの導光部についてのみ説明する。
【００９６】
図８に示されるように、本実施形態の導光部８０１は全体がくさび型となっている。そして、この導光部８０１は被測定体から発せられた信号光を測定する測定装置側に導光されるようにその傾斜が形成されている。
【００９７】
したがって、本実施形態によれば、前述の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、導光部８０１の法線方向を制御することにより被測定体１０８から発せられた信号光を効率良く測定装置側に導光することができる。
【００９８】
ただし本実施形態では、法線方向はそれぞれの位置において一定にする必要はなく、効率や均一性を考慮することにより位置によって法線方向を変更することができる。
【００９９】
（光学装置の第６の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第６の実施形態について図９を参照して説明する。図９は、本発明に係る光学装置の第６の実施形態の一部断面図である。
【０１００】
本実施形態の光学装置が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、導光部９０５にブラッググレーティングパターン９０１を設けた点のみである。したがって、以下では、導光部９０５の部分を中心に説明する。
【０１０１】
本実施形態は被測定体１０８を照射した変調光９０２の少なくとも一部を測定装置側に進行しないようにして、Ｓ／Ｎ比を向上させ高精度の検出を可能とするものである。ここで、変調光とは、光源から発せられた参照光のうち、例えば偏光変換などの何らかの変調作用を受けた光をいう。
【０１０２】
そのために、本実施形態では、ブラッググレーティングパターン９０１を導光部９０５の被測定体載置板１０４とは逆側の表面に設けた。
【０１０３】
このブラッググレーティングパターン９０１は、Ｓ波又はＰ波の偏光の一方の少なくとも一部を透過させ、他方の偏光を反射させるという性質を有する。本実施形態では、Ｓ波を透過するブラッググレーティングパターン９０１とした。しかし、Ｐ波を透過するブラッググレーティングパターンとしても良い。
【０１０４】
次に、本実施形態の動作について説明する。本実施形態では、被測定体１０８をＳ波（ただし、Ｐ波であっても良いが、以下の説明では一例としてＳ波を扱う）に変調された変調光９０２より照射する。
【０１０５】
Ｓ波の変調光９０２により照射された被測定体１０８により発せられる光はＳ波信号光９０３及びＰ波信号光９０４の混合波の信号光となる。
【０１０６】
被測定体１０８により発せられたＳ波信号光９０３及びＰ波信号光９０４の混合波のうち、Ｓ波信号光９０３の少なくとも一部はブラッググレーティングパターン９０１を透過し、Ｐ波信号光９０４はブラッググレーティングパターン９０１を透過せずに導光部９０５を導光され測定装置側に進行する。
【０１０７】
一方、被測定体１０８を照射したＳ波の変調光９０２の少なくとも一部はブラッググレーティングパターン９０１により反射されず、導光部９０５を透過し、ブラッググレーティングパターン９０１を透過する。
【０１０８】
したがって、本実施形態によれば、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、ブラッググレーティングパターン９０１によって、被測定体１０８を照射した変調光９０２の少なくとも一部を導光部９０５表面を透過させ、測定装置に入射される分量を軽減することができ、Ｓ／Ｎ比が向上し、高精度の測定を実施することができる。
【０１０９】
なお、被測定体１０８を照射した変調光９０２の少なくとも一部を導光部表面を透過させるとは、被測定体１０８を照射した変調光９０２がわずかでも透過する場合も含み、さらに、被測定体１０８を照射した変調光９０２の全てを透過させる場合や、被測定体１０８を照射した変調光９０２の大部分を透過させる場合も含む。
【０１１０】
（光学装置の第７の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第７の実施形態について図１０を参照して説明する。図１０は、本発明に係る光学装置の第７の実施形態の一部断面図である。
【０１１１】
本実施形態の光学装置が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、導光部１００５に光学膜１００１を設けた点のみである。したがって、以下では、導光部１００５の部分を中心に説明する。
【０１１２】
本実施形態は被測定体１０８を照射した光の少なくとも一部を測定装置側に進行しないようにして、Ｓ／Ｎ比を向上させ高精度の検出を可能とするものである。
【０１１３】
そのために、本実施形態では、光学膜１００１を導光部１００５の表面に設けた。
【０１１４】
この光学膜１００１は、Ｓ波又はＰ波の偏光の一方の偏光の少なくとも一部を透過させ、他方の偏光を反射させるという性質を有する。本実施形態では、Ｓ波を透過する光学膜１００１とした。もちろん、Ｐ波を透過する光学膜としても良い。
【０１１５】
この光学膜１００１は、一般的には多層膜で形成されるが本実施形態の光学膜１００１は多層膜に限定されるものではなく、単層の膜であっても良い。
【０１１６】
本実施形態では、被測定体１０８をＳ波（ただし、Ｐ波であっても良いが、以下の説明では一例としてＳ波を扱う）に変調された変調光１００２より照射する。
【０１１７】
Ｓ波の変調光１００２により照射された被測定体１０８により発せられる光はＳ波信号光１００３及びＰ波信号光１００４の混合波の信号光となる。
【０１１８】
被測定体１０８により発せられたＳ波信号光１００３及びＰ波信号光１００４の混合波のうち、Ｓ波信号光１００３の少なくとも一部は光学膜１００１を透過し、Ｐ波信号光１００４は光学膜１００１を透過せずに、導光部１００５を導光され、測定装置側に進行する。
【０１１９】
一方、被測定体１０８を照射したＳ波の変調光１００２の少なくとも一部は光学膜１００１により反射されず、光学膜１００１を透過する。
【０１２０】
したがって、本実施形態によれば、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、前述の本発明に係る光学装置の第７の実施形態と同様に、光学膜１００１によって、被測定体１０８を照射した変調光の少なくとも一部を測定装置側に進行するのを防止することができ、Ｓ／Ｎ比が向上し、高精度の測定を実施することができる。
【０１２１】
なお、被測定体１０８を照射した変調光１００２の少なくとも一部を導光部表面を透過させるとは、被測定体１０８を照射した変調光１００２がわずかでも透過する場合も含み、さらに、被測定体１０８を照射した変調光１００２の全てを透過させる場合や、被測定体１０８を照射した変調光１００２の大部分を透過させる場合も含む。
【０１２２】
（光学装置の第８の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第８の実施形態について図１１を参照して説明する。図１１は、本発明に係る光学装置の第８の実施形態の一部断面図である。
【０１２３】
本実施形態の光学装置が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、導光部１０５にフィルタ１１０１を設けた点のみである。したがって、以下では、導光部１０５の部分を中心に説明する。
【０１２４】
本実施形態は被測定体１０８を照射した光の少なくとも一部が測定装置側に進行するのを防止して、Ｓ／Ｎ比を向上させ高精度の検出を可能とするものである。
【０１２５】
そのために、本実施形態ではフィルタ１１０１を導光部１０５の被測定体載置板１０４側表面に設けた。
【０１２６】
このフィルタ１１０１は、変調光１１０２が導光部１０５に入射するのを防止する機能を有する。このフィルタ１１０１は、被測定体への変調光が所定の偏光状態に偏光されていない場合と、所定の偏光状態に偏光されている場合とによって付与される性質が異なる。なお説明を簡単にするため、本実施形態及び後述の第９の実施形態でいう変調光１１０２及び変調光１２０２には、何らかの変調を受けた光のみならず、光源から発せられた光そのものも含むと解する。
【０１２７】
（変調光が所定の偏光状態に偏光されていない場合）この場合、導光部１０５へ変調光１１０２が入射するのを防止するために、フィルタ１１０１には、変調光１１０２の少なくとも一部を吸収する性質を付与する。
【０１２８】
ここで、変調光１１０２の少なくとも一部を吸収するとは、被測定体１０８を照射した変調光１１０２がわずかでも吸収する場合も含み、さらに、被測定体１０８を照射した変調光１１０２の全てを吸収する場合や、被測定体１０８を照射した変調光１１０２の大部分を吸収する場合も含む。
【０１２９】
したがって、被測定体から発せられた信号光１１０３はフィルタ１１０１により吸収されず導光部１０５に入射するが、変調光１１０２の少なくとも一部はフィルタ１１０１によって吸収され導光部１０５に入射することはない。
【０１３０】
したがって、本実施形態の光学装置では、変調光１１０２によるＳ／Ｎ比の悪化を防止でき、高精度の測定を行うことができる。
【０１３１】
（変調光が所定の偏光状態に偏光されている場合）変調光が所定の偏光状態に偏光されている場合は、以下のように、所定の偏光状態の光の透過を少なくとも一部は防止する偏光板などによりフィルタ１１０１を形成しても良い。もちろん、この場合であっても、前述のように、所定の光を吸収するフィルタ１１０１を用いるとしても良い。
【０１３２】
ここで、光の透過を少なくとも一部は防止するとは、被測定体１０８を照射した変調光１１０２がわずかでも透過が防止される場合も含み、さらに、被測定体１０８を照射した変調光１１０２の全ての透過が防止される場合や、被測定体１０８を照射した変調光１１０２の大部分の透過が防止される場合も含む。
【０１３３】
以下、Ｓ波の光の少なくとも一部の透過を防止する偏光板によりフィルタ１１０１を構成した場合について説明する。
【０１３４】
まず、被測定体１０８をＳ波（ただし、Ｐ波であっても良いが、以下の説明では一例としてＳ波を扱う）に変調された変調光である変調光１１０２より照射する。
【０１３５】
Ｓ波の変調光１１０２により照射された被測定体１０８により発せられる光はＳ波信号光及びＰ波信号光の混合波の信号光となる。
【０１３６】
被測定体１０８により発せられたＳ波信号光及びＰ波信号光の混合波の光うち、Ｐ波信号光はフィルタ１１０１を透過し導光部１０５には入射するが、Ｓ波信号光の少なくとも一部はフィルタ１１０１により透過を制御され、導光部１０５内に入射しない。
【０１３７】
そして、Ｐ波信号光はフィルタ１１０１を透過し、導光部１０５に入射して導光され、信号光１１０３として測定装置側に導光される。
【０１３８】
一方、被測定体１０８を照射したＳ波の変調光１１０２はフィルタ１１０１により少なくとも一部が透過を妨げられ、導光部１０５には入射しない。
【０１３９】
このように、本実施形態では、前述の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、フィルタ１１０２により被測定体１０８を照射した光の少なくとも一部が導光部１０５に入射し、測定装置に進行するのを防止するため、高精度の検出を行うことが可能である。
【０１４０】
（光学装置の第９の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第９の実施形態について図１２を参照して説明する。図１２は、本発明に係る光学装置の第９の実施形態の一部断面図である。
【０１４１】
本実施形態の光学装置が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、導光部１０５にフィルタ１２０１を設けた点のみである。したがって、以下では、導光部１０５の部分を中心に説明する。
【０１４２】
本実施形態は被測定体１０８を照射した光の少なくとも一部が測定装置側に進行するのを防止して、Ｓ／Ｎ比を向上させ高精度の検出を可能とするものである。
【０１４３】
そのために、本実施形態ではフィルタ１２０１を導光部１０５の表面であって、導光部１０５から測定装置側に信号光が出射する側の表面に設けた。
【０１４４】
このフィルタ１２０１は、変調光１１０２が導光部１０５から測定装置側に出射するのを防止する機能を有する。このフィルタ１２０１は、被測定体１０８への変調光が所定の偏光状態に偏光されていない場合と、所定の偏光状態に偏光されている場合とによって付与される性質が異なる。
【０１４５】
（変調光が所定の偏光状態に偏光されていない場合）この場合、導光部１０５から測定装置側へ変調光１２０２が出射されるのを防止するために、フィルタ１２０１には、変調光１２０２の少なくとも一部を吸収する性質を付与する。
【０１４６】
ここで、変調光１２０２の少なくとも一部を吸収するとは、被測定体１０８を照射した変調光１２０２のわずかでも吸収する場合も含み、さらに、被測定体１０８を照射した変調光１２０２の全てを吸収する場合や、被測定体１０８を照射した変調光１２０２の大部分を吸収する場合も含む。
【０１４７】
したがって、被測定体１０８から発せられた信号光１２０３はフィルタ１２０１により吸収されず導光部１０５から測定装置側に出射するが、変調光１２０２の少なくとも一部はフィルタ１２０１によって吸収され導光部１０５から測定装置側に出射することはない。
【０１４８】
したがって、本実施形態の光学装置では、変調光１２０２によるＳ／Ｎ比の悪化を防止でき、精度の良い測定を行うことができる。
【０１４９】
（変調光が所定の偏光状態に偏光されている場合）変調光が所定の偏光状態に偏光されている場合は、以下のように、所定の偏光状態の光の少なくとも一部の透過を防止する偏光板などによりフィルタ１２０１を形成しても良い。もちろん、この場合であっても、前述のように、変調光を吸収するフィルタ１２０１を用いても良い。
【０１５０】
ここで、所定の偏光状態の光の少なくとも一部の透過を防止するとは、被測定体１０８を照射した変調光１２０２の透過がわずかでも防止される場合も含み、さらに、被測定体１０８を照射した変調光１２０２の全ての透過が防止される場合や、被測定体１０８を照射した変調光１２０２の大部分の透過が防止される場合も含む。
【０１５１】
以下、Ｓ波の光の少なくとも一部の透過を防止する偏光板によりフィルタ１２０１を構成した場合について説明する。
【０１５２】
まず、被測定体１０８をＳ波（ただし、Ｐ波であっても良いが、以下の説明では一例としてＳ波を扱う）に変調された変調光である変調光１２０２より照射する。
【０１５３】
Ｓ波の変調光１２０２により照射された被測定体１０８により発せられる光はＳ波信号光及びＰ波信号光の混合波の信号光１２０３となる。
【０１５４】
被測定体１０８により発せられたＳ波信号光及びＰ波信号光の混合波の信号光１２０３及び変調光１２０２は、導光部１０５を導光しフィルタ１２０１に到達する。
【０１５５】
フィルタ１２０１に到達した信号光１２０３のうち、Ｐ波信号光はフィルタ１２０１を透過し導光部１０５から測定装置側に出射するが、Ｓ波信号光はフィルタ１２０１によりその少なくとも一部の透過が制御され、導光部１０５から測定装置側に出射しない。
【０１５６】
また、フィルタ１２０１に到達した変調光１２０２はフィルタ１２０１によりその少なくとも一部の透過が制御され、導光部１０５から測定装置側に出射しない。
【０１５７】
このように、本実施形態では、前述の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、フィルタ１２０２により被測定体１０８を照射した変調光１２０２の少なくとも一部が導光部１０５から測定装置側に出射されるのを防止するため、Ｓ／Ｎ比を向上させることができ、高精度の検出を行うことが可能である。
【０１５８】
（光学装置の第１０の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第１０の実施形態について図１３を参照して説明する。図１３は、本発明に係る光学装置の第１０の実施形態の断面図である。本実施形態は、主に検出精度の向上を図る実施形態である。
【０１５９】
図１３に示されるように、本発明に係る光学装置の第１０の実施形態は、拡散板１３０１と、偏光変換素子１３０２と、液晶パネル１３０３とを備える。
【０１６０】
また、本実施形態の光学装置は、被測定体１３０７の発光波長に基づいて、この発光を吸収する発光波長のフィルタ１３０４を備える。
【０１６１】
また、本実施形態の光学装置は、測定器としてのＰＤ（ｐｈｏｔｏ ｄｉｏｄｅ）１３０８と、光源としてのＬＤ（ｌａｓｅｒ ｄｉｏｄｅ）１３０９とを備える。
【０１６２】
本実施形態の拡散板１３０１、偏光変換素子１３０２、液晶パネル１３０３及びＬＤ１３０９はそれぞれ、図１に示される拡散板１０１、偏光変換素子１０２、液晶パネル１０３及び光源１０６に対応し、略同様の動作を行うためその詳細な説明を省略する。
【０１６３】
発光波長のフィルタ１３０４は、被測定体１３０７から発せられた信号光を吸収するフィルタである。
【０１６４】
図１３に示されるように、被測定体１３０７から発せられた信号光は、様々な方向に出射するが、発光波長のフィルタ１３０４に到達した信号光はこのフィルタ１３０４により吸収される。
【０１６５】
導光板１３０５は、被測定体１３０７から発せられた信号光をＰＤ１３０８に導光する。
【０１６６】
この導光板１３０５は、図１３に示されるように、被測定体載置板１３０６に対して、変調光が入射する方向に配置されている。
【０１６７】
この導光板１３０５は、図１３に示される例ではくさび型となっているが、本実施形態の導光板１３０５は図１３に示される例に限定されるものではなく、図６に示されるような導光板であっても良い。この場合、前述の第４の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１６８】
ここで、発光波長のフィルタ１３０４と導光板１３０５との間の屈折率をｎ１、導光板の屈折率をｎ２、導光部１０５と被測定体載置板１３０６との間の屈折率をｎ３とすると、ｎ１＜ｎ２かつｎ２＞ｎ３、又は、ｎ１＞ｎ２かつｎ２＜ｎ３の関係が成り立つ。
【０１６９】
被測定体載置板１３０６は、図１に示される被測定体載置板１０４と同様の部品である。
【０１７０】
本実施形態では、導光板１３０５及びＰＤ１３０８を被測定体載置板１３０６に変調光が入射する側に設けたため、変調光が導光板１３０５を導光してＰＤ１３０８に入射する割合を低減することができる。
【０１７１】
このように、本実施形態では、液晶パネル１３０３を用いて測定を行っているため、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得られると共に、被測定体載置板１３０６と液晶パネル１３０３との間に導光板１３０５を設けたことにより、測定の際に変調光を除去でき、高精度の検出が可能となる。
【０１７２】
また、図１３に示されるように、本実施形態では、被測定体載置板１３０６及び被測定体１３０７を光学装置の表面に配置することができることとなるため、アセンブリした後で試料を反応させることができる。
【０１７３】
また、本実施形態では、被測定体１３０７が光学装置の表面に配置されているため、被測定体１３０７の交換が容易となる。
【０１７４】
また、本実施形態では、発光波長のフィルタ１３０４により迷光を除去することができ、誤検出、誤反応を軽減し、検出精度を向上させることができる。
【０１７５】
なお、本実施形態においては、前述の図３や図５に示されるようなマイクロレンズアレイを例えば被測定体載置板１３０６の下部に配置しても良い。この場合であっても、前述の第２の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１７６】
また、本実施形態では、光源としてＬＤ１３０９及び拡散板１３０１の組み合わせを用いたが、本実施形態はこのような光源に限定されるものではなく、例えば後述の図１５や図１６に示されるような各種の光源を用いることができる。この場合、後述の第１２の実施形態や第１３の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１７７】
また、本実施形態では、受光部としてＰＤ１３０８を用いたが、本実施形態はこのような受光部に限定されるものではなく、例えば後述の図１７や図１８に示されるような各種の受光部を用いることができる。この場合、後述の第１４の実施形態や第１５の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１７８】
また、本実施形態では、後述の図１９に示されるようなアライメントマークを設けることができる。すなわち、アライメントマークを例えば被測定体載置板１３０６及び導光板１３０５に設けることができる。この場合、後述の第１６の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１７９】
また、本実施形態では、後述の図２０に示されるようなスペーサを被測定体載置板１３０６と導光板１３０５との間に設けることもできる。この場合、後述の第１７の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１８０】
（光学装置の第１１の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第１１の実施形態について図１４を参照して説明する。図１４は、本発明に係る光学装置の第１１の実施形態の断面図である。
【０１８１】
図１４に示されるように、本発明に係る光学装置の第１１の実施形態は、光を導光する導光部１４０８と、偏光板１４０３と、液晶パネル１４０４と、偏光板１４０５と、被測定体載置板１４０６とを備え、これらがこの順序で積層されている。
【０１８２】
また、本実施形態では、導光部１４０８の一側面に光源１４０１と、受光素子１４０２とが配置される。
【０１８３】
光源１４０１は、被測定体載置板１４０６上の被測定体１４０７を照射するための参照光１４０９を出射する。この参照光１４０９は導光部１４０８内を導光されて被測定体１４０７を照射する。
【０１８４】
受光素子１４０２は、導光部１４０８を導光してきた被測定体１４０７から発せられた信号光１４１０を受光する。
【０１８５】
偏光板１４０３は、光源１４０１から出射された参照光１４０９を所定の偏光状態にする。
【０１８６】
液晶パネル１４０４は、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態の液晶パネル１０３と同様の部品であり入射した光の透過を制御する素子である。
【０１８７】
偏光板１４０５は、被測定体１４０７から出射した信号光１４１０の偏光を所定の偏光状態にする。
【０１８８】
被測定体載置板１４０６は、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の部品であり、複数の被測定体１４０７を載置している板である。ただし、図１４に示される例では簡単のため、被測定体１４０７は１つしか図示していない。
【０１８９】
また、本発明に係る被測定体載置板１４０６は板形状に限定されるものではなく、被測定体１４０７を載置するものであればその形状は限定されない。
【０１９０】
ここで、図１４に示される光源１４０１は図１に示される光源１０６と略同様の構造及び動作であり、図１４に示される偏光板１４０３及び１４０５は図１に示される偏光変換素子１０２と略同様の構造及び動作であり、図１４に示される液晶パネル１４０４は図１に示される液晶パネル１０３と略同様の構造及び動作であり、図１４に示される被測定体載置板１４０６は図１に示される被測定体載置板１０４と略同様の構造及び動作であり、これらの詳細な説明は省略する。
【０１９１】
また、本実施形態では、図１４に示されるように光源１４０１と受光素子１４０２とが導光部１４０８の一端に並列に配置されている。
【０１９２】
上記構成の本実施形態では、光源１４０１から発せられた参照光１４０９と、被測定体１４０７から発せられた信号光１４１０とが導光する部分が同じ導光部１４０８となる。
【０１９３】
また、本実施形態では、参照光１４０９と信号光１４１０とが反対の向きに進行する。
【０１９４】
したがって、本実施形態では、液晶パネル１４０４を用いて測定を行っているため、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得られると共に、被測定体１４０７の照射のための導光部と、被測定体１４０７からの信号光を検出するための導光部とを同じくすることにより、部品点数を削減でき、小型、薄型化を図り、ローコストを実現できる。
【０１９５】
また、本実施形態では、光源１４０１と受光素子１４０２とを並列に配置することにより、アセンブリがしやすくなると共に、コンパクトになる。
【０１９６】
また、参照光１４０９と信号光１４１０との進行方向の向きを反対にすることにより、受光素子１４０２により参照光１４０９が受光されるのを防止する若しくは軽減することができ、信号光１４１０を主として検出することとなり、Ｓ／Ｎ比を向上させることができる。
【０１９７】
なお、本実施形態では、前述の図３及び図４に示されるように、例えば導光部１４０８と偏光板１４０３との間、被測定体載置板１４０６と偏光板１４０５との間というような場所にマイクロレンズアレイを設けても良い。この場合であっても、前述の第２の実施形態や第３の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１９８】
また、本実施形態において、導光板１４０８は、図１４に示される例ではくさび型となっているが、本実施形態の導光板１４０８は図１４に示される例に限定されるものではなく、図６に示されるような導光板であっても良い。この場合、前述の第４の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１９９】
また、本実施形態では、受光素子１４０２を用いたが、本実施形態はこのような受光素子１４０２に限定されるものではなく、例えば後述の図１７や図１８に示されるような各種の受光部を用いることができる。この場合、後述の第１４の実施形態や第１５の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２００】
また、本実施形態では、後述の図１９に示されるようなアライメントマークを設けることができる。すなわち、アライメントマークを例えば被測定体載置板１４０６及び偏光板１４０５に設けることができる。この場合、後述の第１６の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２０１】
また、本実施形態では、後述の図２０に示されるようなスペーサを被測定体載置板１４０６と偏光板１４０５との間に設けることもできる。この場合、後述の第１７の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２０２】
（光学装置の第１２の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第１２の実施形態について図１５を参照して説明する。図１５は、本発明に係る光学装置の第１２の実施形態の光源部分の概略図である。
【０２０３】
本実施形態が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、拡散板１０１に複数の光源が配置されている点である。それ以外の点は前述の第１の実施形態と同様であるためその説明を省略する。
【０２０４】
図１５の（ａ）に示されるように、本実施形態の光学装置は、拡散板１０１に光源１５０１ａ，１５０１ｂ，１５０１ｃ，１５０１ｄ，１５０１ｅが配置されている。図１５の（ａ）は、本発明に係る光学装置の第１２の実施形態の光源部分の斜視図である。
【０２０５】
ただし、光源の数は図１５の（ａ）に示されるように５つに限定されるものではなく、２以上の任意の数であって良い。
【０２０６】
本実施形態では、拡散板１０１に配置された複数の光源１５０１ａ，１５０１ｂ，１５０１ｃ，１５０１ｄ，１５０１ｅにより拡散板１０１を照射する。
【０２０７】
拡散板１０１に照射された光は拡散板１０１から拡散され参照光となり、この参照光は被測定体に照射される。
【０２０８】
したがって、本実施形態では、前述の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、本実施形態では複数の光源を配置したことにより、簡単な構成で被測定体を照射する参照光のパワーを上げることができ被測定体からの信号光の強度を向上させることができる。
【０２０９】
また、本実施形態では、光源が一個の場合に比べてそれぞれの被測定体に、より均一な強度で照射することができ、被測定体の場所による検出誤差が減る。
【０２１０】
また、光源の配置は、図１５の（ａ）に示される例では、拡散板１０１の一端にそれぞれの光源が平行に配置されている。しかし、本実施形態の光源の配置としてはこのような平行配置に限定されるものではなく、適宜な配置であっても良い。
【０２１１】
例えば光源の配置例として、図１５の（ｂ）に示されるような配置例を挙げることができる。図１５の（ｂ）は、本発明に係る光学装置の第１２の実施形態における光源の配置例を示す上面図である。
【０２１２】
図１５の（ｂ）に示されるように、拡散板１０１の周囲には、それぞれの端に複数の光源からなる光源アレー１５０２，１５０３，１５０４，１５０５が配置されている。
【０２１３】
そして、これら光源アレー１５０２，１５０３，１５０４，１５０５により拡散板１０１を照射することにより、この図１５の（ｂ）に示される例であっても、前述の図１５の（ａ）に示される場合と同様の効果を得ることができ、さらに、より光の均一性及び強度の増加を図ることができる。
【０２１４】
（光学装置の第１３の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第１３の実施形態について図１６を参照して説明する。図１６は、本発明に係る光学装置の第１３の実施形態の光源部分の概略図であり、図１６の（ａ）は、本発明に係る光学装置の第１６の実施形態の光源部分の一部斜視図、図１６の（ｂ）は、図１６の（ａ）に示される拡散板の一部断面図、図１６の（ｃ）は、図１６の（ａ）に示される拡散板に形成されるパターンの拡大図である。
【０２１５】
本実施形態が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、拡散板１６０５の構造のみである。それ以外の部分の説明は前述の第１の実施形態と同様であるためその説明を省略する。
【０２１６】
図１６の（ａ）に示されるように、本実施形態では光源１６０１から距離が離れるほどパターンの傾き角θ（図１６の（ｃ））が大きくなるように、パターンを拡散板１６０５上に設けた。
【０２１７】
図１６の例では、光源１６０１を中心とした、同心円Ｃ１上のパターン１６０２、同心円Ｃ２上のパターン１６０３、同心円Ｃ３上のパターン１６０４の３種類のパターンが一例として示されている。
【０２１８】
このパターンは、シリンドリカルマイクロレンズを同心円上に直行配列させることにより形成するとして良い。
【０２１９】
本実施形態の拡散板上に形成されるパターンは図１６の（ｂ）や図１６の（ｃ）に示されるように、その傾き角θが、光源からの距離から離れるほど大きくなっている。
【０２２０】
パターンの傾き角θが大きいとそれだけ光の反射効率が向上する。したがって、光源１６０１から離れるほどパターンに照射される光の強度は低くなるものの、傾き角θが大きくなることにより反射効率が上がるため、被測定体に結果として均一な強度で光を照射することができるようになる。
【０２２１】
また、本実施形態では光源１６０１から距離が離れるほどパターンの数を多くなるように構成しても良い。
【０２２２】
この場合、光源１６０１から離れる程、光源からの光の強度は低下するが、パターンの数が増加することによりその分、反射光量が増加し、被測定体載置板上の被測定体を均一に照射することができる。
【０２２３】
したがって、本実施形態によれば、前述の本発明に係る第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、光の利用効率が上がり、低消費電力を実現することができる。
【０２２４】
また、本実施形態では、パターンにより均一に光を被測定体の照射することができるため、被測定体の場所による測定誤差を軽減することができる。
【０２２５】
（光学装置の第１４の実施形態）次に、光学装置の第１４の実施形態について図１７を参照して説明する。図１７は、本発明に係る光学装置の第１４の実施形態における導光部及び測定装置の概略図である。
【０２２６】
本実施形態が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、導光部１０５を導光してきた光を受光する受光素子１７０２ａ，１７０２ｂ，１７０２ｃ，１７０２ｄ，１７０２ｅ，１７０２ｆ，１７０２ｇを導光部１０５の端面１７０１に平行に複数配置した点である。その他の点は前述の第１の実施形態と同様であるためその説明を省略する。
【０２２７】
ただし、本実施形態では、受光素子の数は図１７に示されるような７個に限定されるものではなく、その数は２以上の任意の数であって良い。
【０２２８】
また、図１７に示される例では、導光部１０５の端面１７０１からそれぞれの受光素子まで一定の距離ｌが設定されているが、この距離ｌは信号光の受光に必要な範囲で任意に増減することができる。
【０２２９】
それぞれの受光素子１７０２ａ，１７０２ｂ，１７０２ｃ，１７０２ｄ，１７０２ｅ，１７０２ｆ，１７０２ｇは、それぞれの受光範囲内に入射した光を受光する。
【０２３０】
したがって、本実施形態では、受光素子が１つの場合に比べて光の強度の低下を軽減することができ、検出精度を向上させることができる。
【０２３１】
このように、本実施形態では、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、受光素子を複数用いているため、簡単な構成で高い検出制度を実現することができる。
【０２３２】
（光学装置の第１５の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第１５の実施形態について図１８を参照して説明する。図１８は、本発明に係る光学装置の第１５の実施形態の受光部分の概略図であり、図１８の（ａ）は、本発明に係る光学装置の第１５の実施形態における導光部及び測定装置の概略図、図１８の（ｂ）は、本発明に係る光学装置の第１５の実施形態における導光部の変形例を示す概略図である。
【０２３３】
本実施形態が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態に追加されている部分は、導光部１８０１に加えて、第２の導光部１８０２を備えている点である。その他の点は前述の第１の実施形態と同様であるためその説明を省略する。
【０２３４】
図１８の（ａ）に示されるように、本実施形態ではくさび型の導光部１８０１の信号光が出射する一端にさらに第２の導光部１８０２が設けられている。
【０２３５】
第２の導光部１８０２は図１８の（ａ）に示されるようにくさび型をしている。
【０２３６】
図１８の（ａ）に示されるように、被測定体から発せられた信号光は、まず導光部１８０１に入射し、導光部１８０１内部を導光した後、第２の導光部１８０２に入射し、第２の導光部１８０２内を導光した後、外部に出射される。
【０２３７】
第２の導光部１８０２の信号光の出射面側には測定装置１８０３が配置され、この測定装置１８０３は第２の導光部１８０２から出射した信号光を測定する。
【０２３８】
ここで、本実施形態で使用される第１の導光部１８０１及び第２の導光部１８０２のいずれか一方は、くさび型ではなく、図１８の（ｂ）に示されるように表面に複数のパターン１８０５が形成された導光部１８０４であっても良い。この導光部１８０４のパターン１８０５はくさび型をしているがその角度は任意に制御することができる。
【０２３９】
このように、本実施形態では、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、２つの導光部を用いることにより受光素子を１個にすることができ、部品点数を削減でき、小型化、ローコスト化を図ることができる。
【０２４０】
また、くさび型の第２の導光部１８０２の場合は単純な構成で効率良く信号光を導光することができる。
【０２４１】
また、図１８の（ｂ）に示されるような、パターン１８０５を有する第２の導光部１８０４を用いた場合は薄型化が可能となる。
【０２４２】
（光学装置の第１６の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第１６の実施形態について図１９を参照して説明する。図１９は、本発明に係る光学装置の第１６の実施形態の断面図である。
【０２４３】
本実施形態が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、位置決めのためのアライメントマークを設けた点である。それ以外の点は同じであるためその説明は省略する。
【０２４４】
本実施形態は、位置決めのためのアライメントマークを被測定体載置板１０４に設ける。さらに、本実施形態は、位置決めのためのアライメントマークを液晶パネル１０３又は導光部１０５の少なくともいずれか一方に設ける。
【０２４５】
図１９に示される例では、被測定体載置板１０４に位置決めのためのアライメントマーク１９０１を設け、液晶パネル１０３の位置決めのためのアライメントマーク１９０２を設けている。
【０２４６】
このアライメントマーク１９０１とアライメントマーク１９０２とは雌雄のアライメントマークであって良い。
【０２４７】
このように、本実施形態では、位置決めのためのアライメントマークを設けているため、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、アライメントマーク１９０１，１９０２により、被測定体載置板１０４の水平方向の位置決めが容易となる結果、被測定体載置板１０４の設置場所の位置決めが容易になり、機械精度が向上する。よって、測定精度を向上させることができる。
【０２４８】
（光学装置の第１７の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第１７の実施形態について図２０を参照して説明する。図２０は、本発明に係る光学装置の第１７の実施形態の断面図である。
【０２４９】
本実施形態が前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、被測定体載置板１０４の高さ方向の位置決めのためのスペーサを形成した点である。それ以外の点は同じであるためその説明は省略する。
【０２５０】
本実施形態は、高さ方向の位置決めのためのスペーサを、被測定体載置板１０４と導光部１０５との間及び被測定体載置板１０４と液晶パネル１０３との間の少なくともいずれか一方の間に設ける。
【０２５１】
この高さ方向の位置決めのためのスペーサは、接着剤で形成しても良い。接着剤は透明な樹脂が良い。また、スペーサはＵＶ硬化樹脂あるいは熱硬化樹脂でも良い。
【０２５２】
また、接着剤を用いた場合は、熱やＵＶや振動などのエネルギーにより溶ける若しくは粘着力が弱くなる接着剤を使用しても良い。
【０２５３】
図２０に示される例では、被測定体載置板１０４と液晶パネル１０３との間に高さ方向の位置決めのためのスペーサ２００１を設けている。
【０２５４】
なお、このスペーサ２００１は、被測定体載置板１０４の高さ方向の位置を安定させるために、複数個設けることが好ましいが、１個でも良い。
【０２５５】
このように、本実施形態では、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、高さ方向（被測定体載置板１０４の面に垂直な方向）の位置決めのためのスペーサを設けているため高さ方向のアセンブリの制御が可能となり、光学性能の劣化を防止することができる。
【０２５６】
また、本実施形態では、高さ方向の位置決めのためのスペーサを接着剤で形成した場合、プロセスが簡単となり、分析デバイスの耐環境性も向上させることができる。
【０２５７】
また、本実施形態では、熱やＵＶや振動などのエネルギーにより溶ける若しくは粘着力が弱くなる接着剤を使用した場合、エネルギーにより溶けたり粘着力が弱くなることにより、交換（リサイクル）が可能になる。また不良品等の部品交換も容易になる。
【０２５８】
（光学装置の第１の参考形態）次に、光学装置の第１の参考形態について図２１を参照して説明する。図２１は、光学装置の第１の参考形態の概略図である。
【０２５９】
光学装置の第１の参考形態は、前述の第１の実施形態と異なり、デジタルミラーデバイス（以下、ＤＭＤと記す。）を用いて被測定体載置板１０４上の被測定体１０８に照射される光を選択する参考形態である。
【０２６０】
図２１に示されるように、光学装置の第１の参考形態は、ＤＭＤ素子２１０２からなるＤＭＤ２１０１と、被測定体載置板１０４と、導光部１０５とからなる。
【０２６１】
また、本参考形態の光学装置は参照光２１０３を出射する不図示の光源を備えている。この光源は特に限定するものではないが、例えば前述の図１や図１５や図１６に示されるような光源であっても良い。
【０２６２】
例えば図１に示される光源を用いた場合は、参照光２１０３を照射する光源は、光源１０６及び拡散板１０１により構成されることとなる。
【０２６３】
また、図２１には示されていないが、本参考形態には導光部１０５により導光された光を測定する、例えば前述の図１７や図１８に示されるＰＤ（ｐｈｏｔｏｄｉｏｄｅ）等の測定装置が備えられている。
【０２６４】
ＤＭＤ２１０１は、参照光２１０３のうち、被測定体載置板１０４上の被測定体１０８に照射する変調光２１０４を選択する装置である。
【０２６５】
このＤＭＤ２１０１は、複数のＤＭＤ素子２１０２により構成され。これらＤＭＤ素子２１０２は、被測定体載置板１０４上の被測定体１０８に一対一に対応する。ＤＭＤ２１０１とは、マイクロマシニング技術を用いることにより、Ｓｉ基板上に多数の微細なマイクロミラーを配列させた光学素子である。
【０２６６】
ここで、図２１に示されるＤＭＤ素子２１０２について図２２を参照して説明する。図２２は、図２１２１に示されるＤＭＤ素子２１０２の概略図である。
【０２６７】
図２２に示されるように、基板２２０１の上面には一対の支持部２２０３が設けられており、Ｓｉ基板２２０１の表面においてトーションヒンジ２２０４の両端が支持部２２０３によって支持されている。トーションヒンジ２２０４には、ヨーク２２０５の中央部が取り付けられており、ヨーク２２０５の中心に立てられた柱部２２０６の上端にマイクロミラー２２０２が形成されている。
【０２６８】
Ｓｉ基板２２０１の上面には、静電気等の電気磁気的な力によってヨーク２２０５に駆動力を及ぼしてトーションヒンジ２２０４を捩らせながらヨーク２２０５の傾きを調整することにより、マイクロミラー２２０２の角度を制御するためのミラー駆動手段（図示せず）が設けられている。こうしてヨーク２２０５を傾けることにより、マイクロミラー２２０２の角度を少なくとも２方向に変化させることができ、マイクロミラー２２０２に照射されて反射された反射光の方向を自由に制御することができる。
【０２６９】
このように、光学装置の第１の参考形態によれば、被測定体載置板１０４上の被測定体１０８に照射する参照光を選択するためにＤＭＤ２１０１を用いているため、機械的なスキャンが不要となり、被測定体１０８が複数載置されている場合であっても、装置を大型化することなく測定することが可能となる。
【０２７０】
また、本参考形態のようにＤＭＤを使用した場合、偏光素子が不要になり、部品点数が減り、さらなるローコスト化を図ることができる。
【０２７１】
なお、本参考形態では、前述の図３及び図４に示されるように、例えば被測定体載置板１０４の下部又は上部の少なくともいずれか一方にマイクロレンズアレイを設けても良い。この場合であっても、前述の第２の実施形態及び第３の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２７２】
図２１に示される導光板１０５は、図２１に示される例ではくさび型となっている。そして、本参考形態の導光板１０５は図２１に示される例に限定されるものではなく、図６に示されるような導光板であっても良い。この場合、前述の第４の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２７３】
また、本参考形態では、前述の第８の実施形態又は第９の実施形態と同様に、図１１又は図１２に示されるような偏光していない光を吸収するフィルタを用いても良い。この場合、前述の第８の実施形態又は第９の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２７４】
また、本参考形態では、光源として特に示していないが、本参考形態の光源は特に限定されるものではなく、参照光２１０３を照射するために適切な光源であれば良く、例えば前述の図１や図１５や図１６に示されるような各種の光源も用いることができる。図１５や図１６に示される光源を用いた場合、前述の第１２の実施形態や第１３の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２７５】
また、本参考形態では、受光部として特に限定はしていないが、本参考形態の受光部は特に限定されるものではなく、例えば前述の図１７や図１８に示されるような各種の受光部を用いることができる。この場合、前述の第１４の実施形態や第１５の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２７６】
また、本参考形態では、前述の図１９に示されるようなアライメントマークを設けることができる。すなわち、アライメントマークを例えば被測定体載置板１０４及び導光板１０５に設けることができる。この場合、前述の第１６の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２７７】
また、本参考形態では、前述の図２０に示されるようなスペーサを被測定体載置板１０４と導光板１０５との間に設けることもできる。この場合、前述の第１７の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２７８】
（光学装置の第２の参考形態）次に、次に光学装置の第２の参考形態について図２３２３及び図２４を参照して説明する。図２３は、光学装置の第２の参考形態の概略図、図２４は、図２３に示される光学装置の導光部部分の断面図である。
【０２７９】
本参考形態は、前述の光学装置の第１の参考形態と略同様であるが、本参考形態では、ＤＭＤ２１０１により選択された変調光２３０４が被測定体載置板１０４上の被測定体１０８に斜めに入射するようにＤＭＤ素子の制御及びＤＭＤ２１０１の配置を制御した点を特徴とし、この点のみが前述の第１の参考形態と異なる。
【０２８０】
したがって、以下では、前述の第１の参考形態と異なる点のみを主に説明する。
【０２８１】
すなわち、図２３及び図２４に示されるように、本参考形態では、ＤＭＤ２１０１により選択された変調光２３０４が、被測定体１０８に斜めに照射される。
【０２８２】
被測定体１０８から出射された信号光２４０１は、導光部１０５内部を導光し、測定装置２４０２に測定される。
【０２８３】
一方、被測定体１０８を照射した変調光２３０４は、被測定体１０８に斜めに照射されるため、信号光２４０１が導光部１０５内部を導光する方向とは逆側に導光される。
【０２８４】
したがって、本参考形態では、測定装置２４０２に測定される変調光２３０４を低減することができる。
【０２８５】
したがって、光学装置の第２の参考形態では、前述の光学装置の第１の参考形態と同様の効果を得ることができると共に、ＤＭＤ２１０１に入射した参照光２３０３のうち、ＤＭＤ２１０１により選択された変調光２３０４を被測定体１０８に斜めに入射させ、信号光２４０１が導光部１０５を導光する方向とは逆側に変調光２３０４を導光するようにしているため、測定装置２４０２に測定される変調光２３０４を軽減でき、測定の際のＳ／Ｎ比を向上させることができる。
【０２８６】
すなわち、被測定体１０８に斜めに変調光が入射することにより被測定体からの光の検出の際に、変調光成分を除去でき、信号光を主として測定することとなり、Ｓ／Ｎ比を向上させることができる。
【０２８７】
ただし、本参考形態で使用される導光部１０５がくさび型の場合、先端が尖っていないほうが望ましい。なぜなら、先端が尖っていると不要光が外部に抜けづらく、測定装置２４０２に達してしまう場合があるため。
【０２８８】
（光学装置の第３の参考形態）次に、光学装置の第３の参考形態について図２５を参照して説明する。図２５は、光学装置の第３の参考形態の概略図である。
【０２８９】
本参考形態の光学装置が前述の光学装置の第１の参考形態と異なる点は、拡散板２５０１が、被測定体載置板１０４に対して所定の角度傾いて配置されている点であり、それ以外の点は同様であるためその説明を省略する。また、図２５に示される例では、簡単のため、図１に示される偏光変換素子１０２は省略している。
【０２９０】
拡散板２５０１が、被測定体載置板１０４に対して所定の角度傾いて配置されているとは、被測定体載置板１０４の法線に対して、拡散板２５０１の法線が所定の角度傾いていることをいう。
【０２９１】
本参考形態は、前述の光学装置の第２の参考形態のように、被測定体１０８に斜めに光を照射するための参考形態である。
【０２９２】
すなわち、本参考形態は、被測定体１０８に斜めに光を照射するために拡散板２５０１を斜めにしている。
【０２９３】
拡散板２５０１から出射された光は、拡散板２５０１の傾きに応じて被測定体１０８に斜めに照射される。
【０２９４】
そして、前述の第２の参考形態の図２４のように、被測定体１０８を照射した光は、被測定体１０８の信号光とは逆側に導光される。
【０２９５】
したがって、本参考形態では、本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、被測定体載置板１０４に対して角度を持って配置された拡散板２５０１により変調光２５０２を被測定体１０８に斜めに入射させ、信号光が導光部１０５を導光する方向とは逆側に変調光２５０２を導光するようにしているため、測定装置に測定される変調光２５０２を軽減でき、測定の際のＳ／Ｎ比を向上させることができる。
【０２９６】
（被測定体載置部及び被測定体の例）ここで、上記光学装置の各参考形態に用いられる被測定体載置部及び被測定体の例について説明する。なお、以下に説明する被測定体載置部及び被測定体は、被測定体載置部品の一参考形態となる。
【０２９７】
被測定体載置部及び被測定体としては種々のものが考えられるが、例えば第１例として、ＤＮＡチップを挙げることができる。
【０２９８】
ＤＮＡチップは、多数の異なったＤＮＡプローブをガラス基板上に高密度に固定し、そのＤＮＡプローブをハイブリダイズさせ、その蛍光等の信号を検出してコンピューターで大量解析するためのものである。
【０２９９】
したがって、ＤＮＡチップでは、ガラス基板が被測定体載置部を構成し、ＤＮＡプローブが被測定体を構成する。
【０３００】
また、被測定体載置部及び被測定体の第２例として、ＤＮＡマイクロアレイを挙げることができる。
【０３０１】
ＤＮＡマイクロアレイとは、ＤＮＡチップと構成・機能は同じであるが、作製方法がＤＮＡチップは半導体工程を利用するのに対し、ＤＮＡマイクロアレイはスポッターと呼ばれるものでプローブを滴下して作製する。ＤＮＡチップの方が高密度にＤＮＡプローブが配列されている。
【０３０２】
したがって、ＤＮＡマイクロアレイにおいては、ガラス基板が被測定体載置部を構成し、ＤＮＡプローブが被測定体を構成する。
【０３０３】
また、被測定体載置部及び被測定体の第３例として、ＥＣＡチップを挙げることができる。
【０３０４】
ＥＣＡチップは、ＤＮＡチップと構成・機能は同じであるが、検出に電気を用いるものである。電気と光の両方を用いる場合もある。
【０３０５】
したがって、ＥＣＡチップでは、ガラス基板が被測定体載置部を構成し、ＤＮＡプローブが被測定体を構成する。
【０３０６】
また、被測定体載置部及び被測定体の第４例として、プロテインチップを挙げることができる。
【０３０７】
プロテインチップは、ＤＮＡチップが遺伝子を解析するのに対し、プロテインチップはたんぱく質を解析するのに用いられる。
【０３０８】
したがって、ＥＣＡチップでは、ガラス基板が被測定体載置部を構成し、ＤＮＡプローブが被測定体を構成する。
【０３０９】
ただし、光学装置の参考形態に用いられる被測定体載置部及び被測定体としては上記の例に限定されるものではなく、その他種々のものを用いることができる。
【０３１０】
（測定方法の参考形態）次に、測定方法の一参考形態について図２６を参照して説明する。図２６は、測定方法の一参考形態の動作のフローチャートである。
【０３１１】
本参考形態の測定方法は、前述の光学装置の第１の参考形態から第３の参考形態のいずれかの光学装置を用いて行われる方法である。
【０３１２】
本参考形態の測定方法は、光学装置が測定するタイミングを制御してより信号光の測定精度を向上させる測定方法である。以下、図面に沿って説明する。
【０３１３】
図２６に示されるように、本参考形態の測定方法は、光源、被測定体及び測定装置の３つの部品の間の測定動作を制御する。
【０３１４】
（一個目の被測定体）まず、一個目の被測定体の測定を行う場合、光源をＯＮし（ステップ１）、一個目の被測定体に照射を行う（ステップ２）。このステップ２の照射により被測定体は発光する（ステップ３）。
【０３１５】
次に、光源をＯＦＦする（ステップ４）。ここで、このステップ４などで示される光源ＯＦＦとは、光源が完全に発光を停止した場合のみならず、光源の発光が略終わった場合も含む。
【０３１６】
そして、光源がＯＦＦされた後、測定装置は被測定体の発光を測定する（ステップ５）。
【０３１７】
その後、被測定体は発光を終え（ステップ６）、測定装置も測定を終了する（ステップ７）。
【０３１８】
以下、二個目の被測定体の測定動作も、上述のステップ１からステップ７の動作にそれぞれ対応して、ステップ８からステップ１４の動作が行われることにより、一個目の被測定体の測定動作と同様の動作が行われる。
【０３１９】
そして、三個目以降の被測定体の測定動作も、前述の一個目の被測定体の測定動作と同様に行われる。
【０３２０】
このように、本参考形態の測定方法によれば、ステップ４及びステップ５に示されるように、光源がＯＦＦされた後（ステップ４）に測定装置が測定を行っているため（ステップ５）、光源から被測定体に照射された参照光又は変調光が測定装置により測定されることを防ぎ又は軽減することができるので、Ｓ／Ｎ比を向上させ、精度の良い測定を行うことができる。
【０３２１】
（分析システムの参考形態）次に、分析システムについて図２７、図２８及び図２９を参照して説明する。図２７は、分析システムの一参考形態の全体構成図、図２８は、図２７に示される分析装置の内部ブロック図、図２９は、図２７に示される分析システムの一参考形態の動作のフローチャートである。
【０３２２】
図２７に示されるように、本参考形態に係る分析システムは、光学装置２７０１と、分析装置２７０２と、情報データベース２７０３とから構成される。
【０３２３】
光学装置２７０１は、光学装置の第１の実施形態から第１７の実施形態及び第１の参考形態から第２の参考形態のうちのいずれかを用いる。
【０３２４】
分析装置２７０２は、光学装置２７０１及び情報データベース２７０３から入力した情報に基づいて比較、判定を行う装置である。
【０３２５】
情報データベース２７０３は、分析装置２７０２により分析を行う際に必要となる基準データが格納されている。この情報データベース２７０３は、例えばハードディスク等を有するサーバにより構成される。
【０３２６】
光学装置２７０１と、分析装置２７０２と、情報データベース２７０３とはそれぞれネットワークにより接続されるとしても良いし、各装置が１つの装置（筐体）に収納されていても良いし、分析装置２７０２内部に光学装置２７０１及び情報データベース２７０３の一方が格納されているとしても良い。
【０３２７】
次に、図２７に示される分析装置２７０２の内部構成について図２８を参照して説明する。
【０３２８】
図２７に示される分析装置２７０２は、制御部２８０１と、送受信部２８０１と、送受信部２８０２と、比較判定部２８０３と、記憶部２８０４とを備え、それぞれはバス２８０５により接続されている。
【０３２９】
制御部２８０１は、それぞれの部を制御する。送受信部２８０２は、外部との情報のやりとりを行う。比較判定部２８０３は、入力した情報に基づいて比較、判定を行う。記憶部２８０４は、比較判定結果や入力した情報などを記憶する。
【０３３０】
図２８に示される各部の機能は、分析装置が備えるＣＰＵが、単体で、その他の部品と共に又は主記憶装置や補助記憶装置に記憶されているプログラムと協働することにより実現される。
【０３３１】
次に、図２７に示される分析システムの動作について図２９参照して説明する。
【０３３２】
まず、光学装置２７０１が測定を行い（ステップ２９０１）、この測定情報が分析装置２７０２に送信される。
【０３３３】
測定情報が送信された分析装置２７０２は、情報データベース２７０３から比較情報を受信し、測定情報と比較情報との比較を行う（ステップ２９０２）。
【０３３４】
そして、分析装置２７０２は比較結果に基づいて判定を行う（ステップ２９０３）。この判定は、例えば比較した結果、測定情報と比較情報とが一致したあるいは一致しなかったなどがある。
【０３３５】
次に、分析装置２７０２は判定結果を出力し（ステップ２９０４）、動作を終える。
【０３３６】
以上のように、分析システムの一参考形態では、分析装置２７０２の分析により光学装置２７０１が測定した結果に基づいて判定結果を出力することが可能となる。
【０３３７】
（分析システムを用いた本人照合方法）次に、上記分析システムの一参考形態を本人照合方法に適用した場合について図３０を参照して説明する。この本人照合方法は本人照合方法の一参考形態となる。図３０は、本人照合方法の一参考形態のフローチャートである。
【０３３８】
本人照合方法の一参考形態は、前述の分析システムの一参考形態を用いて本人照合を行う方法である。
【０３３９】
そして、本人照合方法の一参考形態を用いることにより、例えば、ある部屋に入室を許可するかしないかを照合結果に基づいて判定することによるセキュリティシステムを構築したり、クレジットカード等のカードの不正利用を防止する。
【０３４０】
本参考形態の本人照合方法では、図２７に示される分析装置２７０２が、光学装置２７０１から得られる情報（ステップ３００１）と、データベースやカードに格納された情報などの既知の情報（ステップ３００２）に基づいて、本人の同一性を判断する（ステップ３００３）。
【０３４１】
これらステップ３００１からステップ３００３までの動作は、前述の図２９に示されるフローチャートのステップ２９０１からステップ２９０３までの動作に対応する。
【０３４２】
そして、分析装置により同一性が判断された後、その判断結果に基づいて、分析装置は、入室許可やカードの使用許可をしたり（ステップ３００４）、入室の不許可やカードの使用の不許可を行う（ステップ３００５）。
【０３４３】
したがって、本人照合方法の一参考形態を、遺伝子情報を用いたセキュリティシステムに適用した場合は以下のような動作となる。
【０３４４】
（１）部屋の入り口等に上記参考形態の分析システムを設置しておき、分析システムの参考形態は、入室しようとする人物の遺伝子情報を読み取る。
【０３４５】
（２）あらかじめ、入室を許可する人物の遺伝子情報をシステムにデータベースとして保存しておき、分析システムの一参考形態は、入室しようとする人物が許可されているかどうかをこのデータベースに格納された情報に基づいて比較判断する。
【０３４６】
（３）分析システムの一参考形態は、入室許可の人物であれば扉を開錠し、入室を許可していない人物の場合は開錠しない。
【０３４７】
また、本人照合方法の一参考形態を、遺伝子情報を用いたカード使用の許可方法に適用した場合は以下のような動作となる。
【０３４８】
（１）クレジットカード等に正規利用者の遺伝子情報を記録しておく。
【０３４９】
（２）分析システムの一参考形態は、クレジットカードを使用する際に、利用者の遺伝子情報を分析する。
【０３５０】
（３）分析システムの一参考形態は、カードの保存情報と解析結果を照合して、正規の利用者かどうかを判定する。
【０３５１】
（４）分析システムの一参考形態は、正規利用者の場合はカードの使用を許可し、正規利用者でない場合はカードの使用を認めない。
【０３５２】
以上のような本人照合方法の一参考形態により、指紋照合、顔認識などに比べて、より確度の高い本人照合方法とすることができる。
【０３５３】
（アレルギー・副作用検査方法）次に、分析システムの一参考形態を用いたアレルギー・副作用検査方法について図３１を参照して説明する。この分析システムの一参考形態を用いたアレルギー・副作用検査方法は、アレルギー・副作用検査方法の一参考形態となる。よって、図３１は、アレルギー・副作用検査方法の一参考形態のフローチャートである。
【０３５４】
本参考形態のアレルギー・副作用検査方法では、図２７に示される分析装置２７０２が、光学装置２７０１から得られる情報（ステップ３１０１）と、データベースに格納された、アレルギー・副作用などを発生するグループ情報（ステップ３１０２）とに基づいて、利用者の遺伝子の属性を判断する（ステップ３１０３）。
【０３５５】
これらステップ３１０１からステップ３１０３までの動作は、前述の図２９に示されるフローチャートのステップ２９０１からステップ２９０３までの動作に対応する。
【０３５６】
そして、分析装置により属性が判断された後、その判断結果に基づいて分析装置は、食品、薬の使用を停止を指示したり（ステップ３１０４）、食品、薬の使用の許可を行う（ステップ３１０５）。
【０３５７】
このように、分析システムの一参考形態を用いた、アレルギー・副作用検査方法では例えば遺伝子情報を用いて判断する場合、以下のような動作となる。
【０３５８】
（１）開示された食品、薬を提供する際にアレルギー、副作用を発生するグループの遺伝子情報をデータベースに格納する。
【０３５９】
（２）分析システムの一参考形態は、利用者がその食品や薬等を利用する前に利用者自身の遺伝子情報を解析する。
【０３６０】
（３）分析システムの一参考形態は、利用者の遺伝子が提供されたグループ情報に属するか否かを判定する。この判定は、その食品、薬を利用してもアレルギー、副作用が発生しないかどうかを判定する。
【０３６１】
（４）分析システムの一参考形態は、グループに属さない場合は食品、薬の使用を許可し、属する場合はアレルギー等が発生する可能性があるので使用しないように指示する。
【０３６２】
したがって、本参考形態によるアレルギー・副作用検査方法では、従来アレルギーや副作用は摂取するまで分からない場合が多かったが、本システムを利用することで、あらかじめその判断をすることができ、危険性を回避することができる。
【０３６３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明は、被測定体を照射する光を選択して被測定体の測定を行っているため、小型化、高速化及び低コスト化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る光学装置の第１の実施形態の全体概略図である。
【図２】図１に示される本発明に係る光学装置の第１の実施形態の断面図である。
【図３】本発明に係る光学装置の第２の実施形態の断面図である。
【図４】本発明に係る光学装置の第３の実施形態の一部断面図である。
【図５】図３及び図４に示されるマイクロレンズアレイの一部拡大図である。
【図６】本発明に係る光学装置の第４の実施形態の一部断面図である。
【図７】図６に示される光学装置の導光部の一部拡大図である。
【図８】本発明に係る光学装置の第５の実施形態において用いられる導光部の外観図である。
【図９】本発明に係る光学装置の第６の実施形態の一部断面図である。
【図１０】本発明に係る光学装置の第７の実施形態の一部断面図である。
【図１１】本発明に係る光学装置の第８の実施形態の一部断面図である。
【図１２】本発明に係る光学装置の第９の実施形態の一部断面図である。
【図１３】本発明に係る光学装置の第１０の実施形態の断面図である。
【図１４】本発明に係る光学装置の第１１の実施形態の断面図である。
【図１５】本発明に係る光学装置の第１２の実施形態の光源部分の概略図である。
【図１６】本発明に係る光学装置の第１３の実施形態の光源部分の概略図である。
【図１７】本発明に係る光学装置の第１４の実施形態における導光部及び測定装置の概略図である。
【図１８】本発明に係る光学装置の第１５の実施形態の受光部分の概略図である。
【図１９】本発明に係る光学装置の第１６の実施形態の断面図である。
【図２０】本発明に係る光学装置の第１７の実施形態の断面図である。
【図２１】光学装置の第１の参考形態の概略図である。
【図２２】図２１に示されるＤＭＤ素子２１０２の概略図である。
【図２３】光学装置の第２の参考形態の概略図である。
【図２４】図２３に示される光学装置の導光部部分の断面図である。
【図２５】光学装置の第３の参考形態の概略図である。
【図２６】測定方法の一参考形態の動作のフローチャートである。
【図２７】分析システムの一参考形態の全体構成図である。
【図２８】図２７に示される分析装置の内部ブロック図である。
【図２９】図２７に示される分析システムの動作のフローチャートである。
【図３０】本人照合方法の一参考形態のフローチャートである。
【図３１】アレルギー・副作用検査方法の一参考形態のフローチャートである。
【符号の説明】
１０１ 拡散板（光源手段、拡散手段）
１０２ 偏光変換素子（偏光変換手段）
１０３ 液晶パネル（選択透過手段）
１０４ 被測定体載置板（被測定体載置手段）
１０５ 導光部（受光手段、導光手段）
１０６ 光源（光源手段）
１０７ 液晶セル
１０８ 被測定体
３０１ マイクロレンズアレイ（集光手段）
３０２ レンズ部
４０１ マイクロレンズアレイ（集光手段）
４０２ レンズ部
６０１ 導光部
６０２ パターン
８０１ 導光部
９０１ ブラッググレーティングパターン（透過反射制御手段）
９０２ 変調光
９０３ Ｓ波信号光
９０４ Ｐ波信号光
９０５ 導光部
１００１ 光学膜（透過反射制御手段）
１００２ 変調光
１００３ Ｓ波信号光
１００４ Ｐ波信号光
１００５ 導光部
１１０１ フィルタ（透過制限手段）
１１０２ 変調光
１１０３ 信号光
１２０１ フィルタ（透過制限手段）
１２０２ 変調光
１２０３ 信号光
１３０１ 拡散板（光源手段、拡散手段）
１３０２ 偏光変換素子（偏光変換手段）
１３０３ 液晶パネル（選択透過手段）
１３０４ フィルタ（吸収手段）
１３０５ 導光板（導光手段）
１３０６ 被測定体載置板（被測定体載置手段）
１３０７ 被測定体
１３０８ ＰＤ（ｐｈｏｔｏ ｄｉｏｄｅ）（測定手段）
１３０９ ＬＤ（ｌａｓｅｒ ｄｉｏｄｅ）（光源手段、発光手段）
１４０１ 光源（光源手段）
１４０２ 受光素子（測定手段）
１４０３ 偏光板（第１の偏光変換手段）
１４０４ 液晶パネル（選択透過手段）
１４０５ 偏光板（第２の偏光変換手段）
１４０６ 被測定体載置板（被測定体載置手段）
１４０７ 被測定体
１４０８ 導光部（導光手段）
１４０９ 参照光
１４１０ 信号光
１５０１ａ，１５０１ｂ，１５０１ｃ，１５０１ｄ，１５０１ｅ 光源
１５０２，１５０３，１５０４，１５０５ 光源アレー
１６０１ 光源
１６０２，１６０３，１６０４ パターン
１６０５ 拡散板
１７０１ 端面
１７０２ａ，１７０２ｂ，１７０２ｃ 受光素子
１７０２ｄ，１７０２ｅ，１７０２ｆ，１７０２ｇ 受光素子
１８０１ 導光部
１８０２ 導光部（第２の導光手段）
１８０３ 測定装置
１８０４ 導光部
１８０５ パターン
１９０１，１９０２ アライメントマーク（第１の位置決め手段）
２００１ スペーサ（第２の位置決め手段）
２１０１ ＤＭＤ（デジタルミラーデバイス）
２１０２ ＤＭＤ素子
２１０３ 参照光
２１０４ 変調光
２２０１ 基板
２２０２ マイクロミラー
２２０３ 支持部
２２０４ トーションヒンジ
２２０５ ヨーク
２２０６ 柱部
２３０３ 参照光
２３０４ 変調光
２４０１ 信号光
２４０２ 測定装置
２５０１ 拡散板
２５０２ 変調光
２７０１ 光学装置
２７０２ 分析装置
２７０３ 情報データベース（格納手段）
２８０１ 制御部
２８０１ 送受信部
２８０２ 送受信部
２８０３ 比較判定部
２８０４ 記憶部
２８０５ バス
Claims (33)
- 光を発する光源手段と、
前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、
前記偏光変換手段から出射された光のうち被測定体に照射される光を選択して透過させるための選択透過手段と、
前記選択透過手段を透過した光が照射される被測定体を載置する被測定体載置手段と、
前記光が照射された被測定体から発せられた光を受光する受光手段とを備え、
前記受光手段が、
前記被測定体から発せられた光を導光する導光手段と、
前記導光手段によって導光された光を測定する測定手段とを備え、
前記導光手段は、くさび型であって、光が入射する面とは逆側の面に反射部が設けられている
ことを特徴とする光学装置。 - 光を発する光源手段と、
前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、
前記偏光変換手段から出射された光のうち被測定体に照射される光を選択して透過させるための選択透過手段と、
前記選択透過手段を透過した光が照射される被測定体を載置する被測定体載置手段と、
前記光が照射された被測定体から発せられた光を受光する受光手段とを備え、
前記受光手段が、
前記被測定体から発せられた光を導光する導光手段と、
前記導光手段を導光した光を測定する測定手段とを備え、
前記導光手段は、表面に複数のくさび型のパターンを備える
ことを特徴とする光学装置。 - 光を発する光源手段と、
前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、
前記偏光変換手段から出射された光のうち被測定体に照射される光を選択して透過させるための選択透過手段と、
前記選択透過手段を透過した光が照射される被測定体を載置する被測定体載置手段と、
前記光が照射された被測定体から発せられた光を受光する受光手段とを備え、
前記受光手段が、
前記被測定体から発せられた光を導光する導光手段と、
前記導光手段を導光した光を測定する測定手段とを備え、
前記導光手段における、前記被測定体から発せられた光が入射する面とは逆側の面に、光の偏光状態に応じて光の透過及び反射を制御する透過反射制御手段を備えることを特徴とする光学装置。 - 前記選択透過手段が、
前記被測定体載置手段上の被測定体に一対一に対応した液晶セルを複数有する液晶パネルを備え、
前記液晶セルに対する電圧の印加により、前記被測定体に照射される光を選択して透過させることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の光学装置。 - 前記選択透過手段と前記被測定体載置手段との間、及び前記被測定体載置手段と前記受光手段との間との少なくとも一方の間に集光手段を設けたことを特徴とする請求項１から ４のいずれか１項に記載の光学装置。
- 前記導光手段における、前記被測定体から発せられた光が入射する面、及び前記導光手段から光が出射する面の少なくとも一方の面に、前記被測定体を照射した光の透過を制限する透過制限手段を備えることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の光学装置。
- 前記測定手段が、前記導光手段における前記導光手段から光が出射する面に複数配置されることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の光学装置。
- 前記導光手段から光が出射する面に配置された第２の導光手段を備えることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の光学装置。
- 前記被測定体載置手段と、前記導光手段及び前記選択透過手段との少なくとも一方とに、
該被測定体載置手段の面に平行な方向における位置決めのための第１の位置決め手段を設けたことを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の光学装置。 - 前記被測定体載置手段と前記導光手段との間、及び、前記被測定体載置手段と前記選択透過手段との間の少なくとも一方の間に、
前記被測定体載置手段の面に垂直な方向における位置決めのための第２の位置決め手段を設けたことを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の光学装置。 - 前記光源手段が、
光を発する発光手段と、
前記発光手段からの光を拡散する拡散手段とを備えることを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の光学装置。 - 前記発光手段が、
前記拡散手段の少なくとも一端に複数配置されていることを特徴とする請求項１１に記載の光学装置。 - 前記拡散手段が、
前記発光手段から離れるほど光の反射効率が高くなり、かつ、前記発光手段を中心とした同心円上において光の反射効率が略等しい複数のパターンを備えることを特徴とする請求項１１又は１２に記載の光学装置。 - 前記光源手段の面が、
前記被測定体載置手段の面に対して所定の角度を有して配置されていることを特徴とする請求項１から１３に記載の光学装置。 - 光を発する光源手段と、
前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、
前記偏光変換手段から出射された光のうち被測定体に照射される光を選択して透過させるための選択透過手段と、
前記被測定体から発せられた光を吸収する吸収手段と、
前記被測定体から発せられた光を測定手段に導光する導光手段と、
前記被測定体を載置する被測定体載置手段とを備え、
これらが上記順序で積層され、
前記導光手段を導光された光を測定する測定手段を備えることを特徴とする光学装置。 - 前記被測定体載置手段の下部に集光手段を設けたことを特徴とする請求項１５に記載の光学装置。
- 前記導光手段が、
くさび型であって、被測定体から発せられた光が入射する面とは逆側の面に反射部が設けられていることを特徴とする請求項１５又は１６に記載の光学装置。 - 前記導光手段が、
表面に複数のくさび型のパターンを備えることを特徴とする請求項１５又は１６に記載の光学装置。 - 前記光源手段が、
光を発する発光手段と、
前記発光手段からの光を拡散する拡散手段とを備えることを特徴とする請求項１５から１８のいずれか１項に記載の光学装置。 - 前記発光手段が、
前記拡散手段の少なくとも一端に複数配置されていることを特徴とする請求項１９に記載の光学装置。 - 前記拡散手段が、
前記発光手段から離れるほど光の反射効率が高くなり、かつ、前記発光手段を中心とした同心円上において光の反射効率が略等しい複数のパターンを備えることを特徴とする請求項１９又は２０に記載の光学装置。 - 前記測定手段が、前記導光手段における前記導光手段から光が出射する面に複数配置されることを特徴とする請求項１５から２１のいずれか１項に記載の光学装置。
- 前記導光手段から光が出射する面に配置された第２の導光手段を備えることを特徴とする請求項１５から２１のいずれか１項に記載の光学装置。
- 前記被測定体載置手段と前記導光手段とに、
前記被測定体載置手段の面に平行な方向における位置決めのための第１の位置決め手段を設けたことを特徴とする請求項１５から２３のいずれか１項に記載の光学装置。 - 前記被測定体載置手段と前記導光手段との間に、
前記被測定体載置手段の面に垂直な方向における位置決めのための第２の位置決め手段を設けたことを特徴とする請求項１５から２４のいずれか１項に記載の光学装置。 - 光を発する光源手段及び被測定体からの光を測定する測定手段とが一端面に配置された、前記光源手段から発せられた光及び前記被測定体から発せられた光を導光する導光手段と、
前記導光手段から出射された光の偏光状態を変換する第１の偏光変換手段と、
前記第１の偏光変換手段から出射された光のうち被測定体に照射される光を選択して透過させるための選択透過手段と、
前記被測定体から発せられた光の偏光状態を変換する第２の偏光変換手段と、
前記被測定体を載置する被測定体載置手段とを備え、
これらが上記順序で積層されたことを特徴とする光学装置。 - 前記導光手段と前記第１の偏光変換手段との間、及び、前記選択透過手段と前記第２の偏光変換手段との間の少なくとも一方の間に集光手段を設けたことを特徴とする請求項２６に記載の光学装置。
- 前記導光手段が、くさび型であって、前記被測定体から発せられた光が入射する面とは逆側の面に反射部が設けられていることを特徴とする請求項２６又は２７に記載の光学装置。
- 前記導光手段が、表面に複数のくさび型のパターンを備えることを特徴とする請求項２６又は２７に記載の光学装置。
- 前記測定手段が、前記導光手段における前記導光手段から光が出射する面に複数配置されることを特徴とする請求項２６から２９のいずれか１項に記載の光学装置。
- 前記導光手段から光が出射する面に配置された第２の導光手段を備えることを特徴とする請求項２６から２９のいずれか１項に記載の光学装置。
- 前記被測定体載置手段と前記第２の偏光変換手段とに、
該被測定体載置手段の面に平行な方向における位置決めのための第１の位置決め手段を設けたことを特徴とする請求項２６から３１のいずれか１項に記載の光学装置。 - 前記被測定体載置手段と前記第２の偏光変換手段との間に、
前記被測定体載置手段の面に垂直な方向における位置決めのための第２の位置決め手段を設けたことを特徴とする請求項２６から３２のいずれか１項に記載の光学装置。
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