JP2003322613A - 光学装置、被測定体載置部品、測定方法、分析システム、本人照合方法及びアレルギー・副作用検査方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 小型化、高速化及び低コスト化を図ることが
可能な光学装置、被測定体載置部品、測定方法、分析シ
ステム、本人照合方法及びアレルギー・副作用検査方法
を提供する。 【解決手段】 光源１０６から発せられた光を拡散板１
０１により拡散し、この拡散された光の偏光状態を偏光
変換素子１０２により変換し、偏光変換素子１０２から
出射された光のうち被測定体１０８に照射される光を液
晶パネル１０３の駆動により選択し、被測定体載置板１
０４上に載置された被測定体１０８から発せられた光を
導光部１０６により導光し、測定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被測定体を測定す
る際に適用して好適な光学装置、被測定体載置部品、測
定方法、分析システム、本人照合方法及びアレルギー・
副作用検査方法に関するものである。

【従来の技術】

【０００２】従来、被測定体に光を照射した際に発光さ
れる信号光を検出し、該被測定体の性質を測定する装置
が種々提案されてきた。

【０００３】このような装置により測定される被測定体
として例えばＤＮＡが挙げられる。ＤＮＡを測定する技
術は遺伝子工学の一部をなし、この遺伝子工学は、遺伝
子組み替え食品やクローン畜産などの農業畜産分野や、
バイオ技術を利用した環境修復・ゴミ処理、バイオ技術
を利用したＣＯ₂処理システム等の環境分野や、バイオ
マスを利用したエネルギー生産などのエネルギー分野な
どにおいて利用されるる。もちろん、遺伝子工学は上記
以外の分野においても利用される。

【０００４】例えば、従来のＤＮＡチップの分析方法と
して、特開２０００−１３１２３７号公報に記載の「マ
イクロアレイチップの読取方法および読取装置」や、特
表平９−５０４９１０号公報に記載の「分子生物学的分
析および診断用の自己アドレス可能、自己組立て小型電
子システムおよびデバイス」や、特表平１０−５１２７
４５号公報に記載された「ＤＮＡ塩基配列決定およびＤ
ＮＡ同定の方法および装置」などがある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来技術の場合には、被測定体のスキャンを機械
的に行っているため、スキャン用の駆動部が大きく、装
置全体が大型化してしまうという問題点を有している。

【０００６】また、従来技術では、被測定体のスキャン
が機械的なスキャンであるためスキャン時間の短縮が困
難であるという問題点を有している。

【０００７】さらに、従来技術では、装置の大型化、部
品点数の増大により高コストとなるという問題点を有し
ている。

【０００８】本発明は上記の従来技術の課題を解決する
ためになされたもので、その目的とするところは、小型
化、高速化及び低コスト化を図ることが可能な光学装
置、被測定体載置部品、測定方法、分析システム、本人
照合方法及びアレルギー・副作用検査方法を提供するこ
とにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る光学装置は、光を発する光源手段と、
前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手
段と、前記偏光変換手段から出射された光のうち被測定
体に照射される光を選択して透過させるための選択透過
手段と、前記選択透過手段を透過した光が照射される被
測定体を載置する被測定体載置手段と、前記光が照射さ
れた被測定体から発せられた光を受光する受光手段とを
備えることを特徴とする。

【００１０】また、本発明に係る光学装置は、前記選択
透過手段が、前記被測定体載置手段上の被測定体に一対
一に対応した液晶セルを複数有する液晶パネルを備え、
前記液晶セルに対する電圧の印加により、前記被測定体
に照射される光を選択して透過させることを特徴とす
る。

【００１１】また、本発明に係る光学装置は、前記選択
透過手段と前記被測定体載置手段との間、及び前記被測
定体載置手段と前記受光手段との間との少なくとも一方
の間に集光手段を設けたことを特徴とする。

【００１２】また、本発明に係る光学装置は、前記受光
手段が前記被測定体から発せられた光を導光する導光手
段と、前記導光手段を導光した光を測定する測定手段と
を備えることを特徴とする。

【００１３】また、本発明に係る光学装置は、前記導光
手段が、くさび型であることを特徴とする。

【００１４】また、本発明に係る光学装置は、前記導光
手段が表面に、複数のくさび型のパターンを備えること
を特徴とする。

【００１５】また、本発明に係る光学装置は、前記導光
手段における、前記被測定体から発せられた光が入射す
る面とは逆側の面に、光の偏光状態に応じて光の透過及
び反射を制御する透過反射制御手段を備えることを特徴
とする。

【００１６】また、本発明に係る光学装置は、前記導光
手段における、前記被測定体から発せられた光が入射す
る面、及び前記導光手段から光が出射する面の少なくと
も一方の面に、前記被測定体を照射した光の透過を制限
する透過制限手段を備えることを特徴とする。

【００１７】また、本発明に係る光学装置は、前記測定
手段が、前記導光手段における前記導光手段から光が出
射する面に複数配置されることを特徴とする。

【００１８】また、本発明に係る光学装置は、前記導光
手段から光が出射する面に配置された第２の導光手段を
備えることを特徴とする。

【００１９】また、本発明に係る光学装置は、前記被測
定体載置手段と、前記導光手段及び前記選択透過手段と
の少なくとも一方とに、該被測定体載置手段の面に平行
な方向における位置決めのための第１の位置決め手段を
設けたことを特徴とする。

【００２０】また、本発明に係る光学装置は、前記被測
定体載置手段と前記導光手段との間、及び、前記被測定
体載置手段と前記選択透過手段との間の少なくとも一方
の間に、前記被測定体載置手段の面に垂直な方向におけ
る位置決めのための第２の位置決め手段を設けたことを
特徴とする。

【００２１】また、本発明に係る光学装置は、前記光源
手段が、光を発する発光手段と、前記発光手段からの光
を拡散する拡散手段とを備えることを特徴とする。

【００２２】また、本発明に係る光学装置は、前記発光
手段が、前記拡散手段の少なくとも一端に複数配置され
ていることを特徴とする。

【００２３】また、本発明に係る光学装置は、前記拡散
手段が、前記発光手段から離れるほど光の反射効率が高
くなり、かつ、前記発光手段を中心とした同心円上にお
いて光の反射効率が略等しい複数のパターンを備えるこ
とを特徴とする。

【００２４】また、本発明に係る光学装置は、前記光源
手段の面が、前記被測定体載置手段の面に対して所定の
角度を有して配置されていることを特徴とする。

【００２５】また、本発明に係る光学装置は、光を発す
る光源手段と、前記光源手段からの光の偏光状態を変換
する偏光変換手段と、前記偏光変換手段から出射された
光のうち被測定体に照射される光を選択して透過させる
ための選択透過手段と、前記被測定体から発せられた光
を吸収する吸収手段と、前記被測定体から発せられた光
を測定手段に導光する導光手段と、前記被測定体を載置
する被測定体載置手段とを備え、これらが上記順序で積
層され、前記導光手段を導光された光を測定する測定手
段を備えることを特徴とする。

【００２６】また、本発明に係る光学装置は、前記被測
定体載置手段の下部に集光手段を設けたことを特徴とす
る。

【００２７】また、本発明に係る光学装置は、前記導光
手段が、くさび型であることを特徴とする。

【００２８】また、本発明に係る光学装置は、前記導光
手段が表面に、複数のくさび型のパターンを備えること
を特徴とする。

【００２９】また、本発明に係る光学装置は、前記光源
手段が、光を発する発光手段と、前記発光手段からの光
を拡散する拡散手段とを備えることを特徴とする。

【００３０】また、本発明に係る光学装置は、前記発光
手段が、前記拡散手段の少なくとも一端に複数配置され
ていることを特徴とする。

【００３１】また、本発明に係る光学装置は、前記拡散
手段が、前記発光手段から離れるほど光の反射効率が高
くなり、かつ、前記発光手段を中心とした同心円上にお
いて光の反射効率が略等しい複数のパターンを備えるこ
とを特徴とする。

【００３２】また、本発明に係る光学装置は、前記測定
手段が、前記導光手段における前記導光手段から光が出
射する面に複数配置されることを特徴とする。

【００３３】また、本発明に係る光学装置は、前記導光
手段から光が出射する面に配置された第２の導光手段を
備えることを特徴とする。

【００３４】また、本発明に係る光学装置は、前記被測
定体載置手段と前記導光手段とに、前記被測定体載置手
段の面に平行な方向における位置決めのための第１の位
置決め手段を設けたことを特徴とする。

【００３５】また、本発明に係る光学装置は、前記被測
定体載置手段と前記導光手段との間に、前記被測定体載
置手段の面に垂直な方向における位置決めのための第２
の位置決め手段を設けたことを特徴とする。

【００３６】また、本発明に係る光学装置は、光を発す
る光源手段及び被測定体からの光を測定する測定手段と
が一端面に配置された、前記光源手段から発せられた光
及び前記被測定体から発せられた光を導光する導光手段
と、前記導光手段から出射された光の偏光状態を変換す
る第１の偏光変換手段と、前記第１の偏光変換手段から
出射された光のうち被測定体に照射される光を選択して
透過させるための選択透過手段と、前記被測定体から発
せられた光の偏光状態を変換する第２の偏光変換手段
と、前記被測定体を載置する被測定体載置手段とを備
え、これらが上記順序で積層されたことを特徴とする。

【００３７】また、本発明に係る光学装置は、前記導光
手段と前記第１の偏光変換手段との間、及び、前記選択
透過手段と前記第２の偏光変換手段との間の少なくとも
一方の間に集光手段を設けたことを特徴とする。

【００３８】また、本発明に係る光学装置は、前記導光
手段が、くさび型であることを特徴とする。

【００３９】また、本発明に係る光学装置は、前記導光
手段が表面に、複数のくさび型のパターンを備えること
を特徴とする。

【００４０】また、本発明に係る光学装置は、前記測定
手段が、前記導光手段における前記導光手段から光が出
射する面に複数配置されることを特徴とする。

【００４１】また、本発明に係る光学装置は、前記導光
手段から光が出射する面に配置された第２の導光手段を
備えることを特徴とする。

【００４２】また、本発明に係る光学装置は、前記被測
定体載置手段と前記第２の偏光変換手段とに、該被測定
体載置手段の面に平行な方向における位置決めのための
第１の位置決め手段を設けたことを特徴とする。

【００４３】また、本発明に係る光学装置は、前記被測
定体載置手段と前記第２の偏光変換手段との間に、前記
被測定体載置手段の面に垂直な方向における位置決めの
ための第２の位置決め手段を設けたことを特徴とする。

【００４４】また、本発明に係る光学装置は、光を発す
る光源手段と、前記光源手段から出射された光のうち被
測定体に照射される光を選択するためのデジタルミラー
デバイスと、前記デジタルミラーデバイスにより選択さ
れた光が照射される被測定体を載置する被測定体載置手
段と、前記光が照射された被測定体から発せられた光を
導光する導光手段と、前記導光手段を導光した光を測定
する測定手段とを備えることを特徴とする。

【００４５】また、本発明に係る光学装置は、前記被測
定体載置手段の上部又は下部の少なくとも一方に、光を
集光するための集光手段を備えることを特徴とする。

【００４６】また、本発明に係る光学装置は、前記デジ
タルミラーデバイスにより選択された光が、前記被測定
体載置手段の面の法線に対して非平行に入射し、前記導
光手段内において、前記デジタルミラーデバイスにより
選択された光が前記測定装置側とは逆側に導光されるこ
とを特徴とする。

【００４７】また、本発明に係る光学装置は、前記導光
手段が、くさび型であることを特徴とする。

【００４８】また、本発明に係る光学装置は、前記導光
手段がその表面に、複数のくさび型のパターンを備える
ことを特徴とする。

【００４９】また、本発明に係る光学装置は、前記導光
手段における、前記被測定体から発せられた光が入射す
る面、及び前記導光手段から光が出射する面の少なくと
も一方の面に、前記被測定体を照射した光の透過を制限
する透過制限手段を備えることを特徴とする。

【００５０】また、本発明に係る光学装置は、前記光源
手段が、光を発する発光手段と、前記発光手段からの光
を拡散する拡散手段とを備えることを特徴とする。

【００５１】また、本発明に係る光学装置は、前記発光
手段が、前記拡散手段の少なくとも一端に複数配置され
ていることを特徴とする。

【００５２】また、本発明に係る光学装置は、前記拡散
手段が、前記発光手段から離れるほど光の反射効率が高
くなり、かつ、前記発光手段を中心とした同心円上にお
いて光の反射効率が略等しい複数のパターンを備えるこ
とを特徴とする。

【００５３】また、本発明に係る光学装置は、前記測定
手段が、前記導光手段における前記導光手段から光が出
射する面に複数配置されることを特徴とする。

【００５４】また、本発明に係る光学装置は、前記導光
手段から光が出射する面に配置された第２の導光手段を
備えることを特徴とする。

【００５５】また、本発明に係る光学装置は、前記被測
定体載置手段と前記導光手段とに、前記被測定体載置手
段の面に平行な方向における位置決めのための第１の位
置決め手段を設けたことを特徴とする。

【００５６】また、本発明に係る光学装置は、前記被測
定体載置手段と前記導光手段との間に、前記被測定体載
置手段の面に垂直な方向における位置決めのための第２
の位置決め手段を設けたことを特徴とする。

【００５７】さらに、本発明に係る被測定体載置部品
は、上記に記載の光学装置に使用され、被測定体を載置
した被測定体載置手段として機能することを特徴とす
る。

【００５８】さらに、本発明に係る測定方法は、上記の
光学装置により被測定体を測定する測定方法であって、
光源を発光させ、この発光により被測定体を照射して発
光させる工程と、前記光源の発光を停止する工程と、前
記光源の発光が停止された後に前記被測定体からの発光
を上記の光学装置により測定する工程とを備える。

【００５９】さらに、本発明に係る分析システムは、上
記の光学装置と、前記光学装置から出力された測定情報
と比較するための比較情報を格納した格納手段と、前記
光学装置から出力された測定情報と、前記格納手段に格
納されている比較情報とに基づいて被測定体の分析を行
う分析装置とを備えることを特徴とする。

【００６０】さらに、本発明に係る本人照合方法は、上
記の分析システムを用いた本人照合方法であって、前記
光学装置がユーザの遺伝子情報を測定して測定情報と
し、前記格納手段には本人を示す遺伝子情報が比較情報
として格納され、前記分析装置は、前記光学装置により
測定された遺伝子情報と前記格納手段に格納されている
本人を示す遺伝子情報とに基づいて本人の照合を行うこ
とを特徴とする。

【００６１】さらに、本発明に係るアレルギー・副作用
検査方法は、上記の分析システムを用いたアレルギー・
副作用検査方法であって、前記光学装置がユーザの遺伝
子情報を測定して測定情報とし、前記格納手段にはアレ
ルギー・副作用を発生するグループ情報が比較情報とし
て格納され、前記分析装置は、前記光学装置により測定
された遺伝子情報と前記格納手段に格納されているアレ
ルギー・副作用を発生するグループ情報とに基づいてア
レルギー・副作用を検査することを特徴とする。

【００６２】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して、この発明
の好適な実施の形態を例示的に詳しく説明する。ただ
し、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、
材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載が
ない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣
旨のものではない。

【００６３】また、以下の図面において既述の図面に記
載された部品と同様の部品には同じ番号を付す。

【００６４】（光学装置の第１の実施形態）まず、本発
明に係る光学装置の第１の実施形態について図１及び図
２を参照して説明する。図１は、本発明に係る光学装置
の第１の実施形態の全体概略図、図２は、図１に示され
る本発明に係る光学装置の第１の実施形態の断面図であ
る。ただし、図２では、簡単のため、導光部１０５は省
略している。

【００６５】図１に示されるように、本発明に係る光学
装置の第１の実施形態は光源１０６を有する拡散板１０
１と、偏光変換素子１０２と、液晶パネル１０３と、被
測定体載置板１０４と、導光部１０５とがこの順序で積
層されて構成される。

【００６６】また、図１には示されていないが、本実施
形態には導光部１０５により導光された光を測定する、
例えば後述の図１７や図１８に示されるＰＤ（ｐｈｏｔ
ｏｄｉｏｄｅ）等の測定装置が備えられている。

【００６７】拡散板１０１は、被測定体載置板１０４に
光を照射するための板である。この拡散板１０１に光源
１０６から光が照射されると、拡散板１０１表面に設け
られた拡散部により光が被測定体載置板１０４の略全面
に渡って照射されることとなる。

【００６８】偏光変換素子１０２は、入射した光の偏光
を一方向の偏光に変換する素子である。偏光変換素子１
０２は、液晶パネル１０３によって被測定体載置板１０
４に照射する光を制限するために用いられる素子であ
る。この偏光変換素子１０２は、例えば拡散板１０１か
ら出射された光をＳ波又はＰ波に変換する。

【００６９】液晶パネル１０３は、偏光変換素子１０２
から出射された光の被測定体載置板１０４への透過を制
御する素子である。

【００７０】被測定体載置板１０４は、複数の被測定体
１０８を載置している板である。ただし、本発明に係る
被測定体載置板１０４は板形状に限定されるものではな
く、被測定体１０８を載置するものであればその形状は
限定されない。

【００７１】また、被測定体載置板１０４は複数の被測
定体載置部分に分割され、それぞれの被測定体載置部分
に被測定体１０８が載置されている。

【００７２】被測定体載置板１０４上に載置される被測
定体１０８は、１つ又は数個の被測定物からなっていて
良い。

【００７３】導光部１０５は、被測定体１０８から発せ
られた光を測定装置に導光するための部品である。

【００７４】そして、本実施形態は、被測定体１０８か
ら発せられた光を測定装置が測定することにより、被測
定体１０８の走査と受光により得られた情報とを、例え
ば時間的に一対一に対応させ、被測定体１０８がどのよ
うな性質を有しているものであるのかを判断する。

【００７５】ここで、導光部１０５において光を導光す
るために、導光部１０５の片側には反射板をつけても良
い。また、光を導光させるために導光部１０５における
全反射（臨界角）を使っても良い。また、導光部１０５
はくさび型でも、板形状であっても良い。

【００７６】この導光部１０５は、例えば被測定体１０
８から発せられた光をＣＣＤなどで直接測定する場合は
不要になる場合もある。

【００７７】液晶パネル１０３は、被測定体載置板１０
４上の複数の被測定体１０８に一対一に対応した液晶セ
ル１０７に分割されている。液晶パネル１０３は、これ
ら液晶セルを独立に駆動して光の透過を制限する。

【００７８】液晶パネル１０３は、分割された複数の液
晶セル１０７を備え、この液晶セル１０７のＯＮ、ＯＦ
Ｆはそれぞれ独立に制御することが可能である。

【００７９】ここで、液晶セルをＯＮ、ＯＦＦすると
は、液晶セルに電圧を印加することにより、分子配列を
変化させ、光の配向面を変化させることをいう。

【００８０】例えば図２に示されるように、液晶パネル
１０３の液晶セル１０７のみが光を透過するように配向
面を制御し、他の液晶セルは光を透過しないように制御
すると、液晶セル１０７に対応した被測定体１０８のみ
が照射されることになる。

【００８１】そして、この照射された被測定体１０８が
発光し、この発光を導光部１０５により導光し、この導
光された光を、例えばフォトダイオードなどの測定装置
により測定することにより、被測定体載置板１０４上の
複数の被測定体１０８の１つの発光を測定することがで
きる。

【００８２】このように、本発明に係る光学装置の第１
の実施形態によれば、照射する光を液晶パネル１０３に
よって制限して被測定体１０８を光で照射するとしてい
るため、機械的なスキャンが不要となり、被測定体１０
８が複数載置されている場合であっても、装置を大型化
することなく測定することが可能となる。

【００８３】すなわち、本実施形態により、小型化が容
易に実現でき、部品の小型化、部品点数が減ることによ
りローコスト化を達成できる。

【００８４】また、本実施形態では、機械的な動作がな
いため、時系列で精度が悪くなることはない。また、液
晶パネル１０３の駆動による被測定体１０８の選択を行
っているため、短時間で測定が可能である。

【００８５】また、本実施形態では、光を制御すること
により低消費電力を実現することができる。

【００８６】（光学装置の第２の実施形態）次に、本発
明に係る光学装置の第２の実施形態について図３を参照
して説明する。図３は、本発明に係る光学装置の第２の
実施形態の断面図である。

【００８７】本発明に係る光学装置の第２の実施形態
は、マイクロレンズアレイ３０１を配置した点のみが、
前述の第１の実施形態と異なる。したがって、以下の説
明では、このマイクロレンズアレイ３０１の部分につい
てのみ説明する。

【００８８】図３に示されるように、本発明に係る光学
装置の第２の実施形態は、マイクロレンズアレイ３０１
が液晶パネル１０３と被測定体載置板１０４との間に配
置されている実施形態である。

【００８９】マイクロレンズアレイ３０１は、被測定体
載置板１０４上の複数の被測定体１０８のそれぞれに一
対一に対応してレンズ部３０２を備えている。

【００９０】そして、マイクロレンズアレイ３０１は、
液晶パネル１０３を透過した光をレンズ部３０２によっ
て被測定体１０８に集光する。

【００９１】したがって、本発明に係る光学装置の第２
の実施形態によれば、前述の本発明に係る光学装置の第
１の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、
マイクロレンズアレイ３０１によって集光機能を持たせ
ることにより光源の光を照射に用いる効率を向上させる
ことができる。

【００９２】また、本実施形態では、被測定体１０８に
エネルギーを集中することになるため、被測定体１０８
の発光効率を向上させることができる。

【００９３】また、本実施形態では、マイクロレンズア
レイ３０１の形状については後述の光学装置の第３の実
施形態と共にその例を説明する。

【００９４】（光学装置の第３の実施形態）次に、本発
明に係る光学装置の第３の実施形態について図４を参照
して説明する。図４は、本発明に係る光学装置の第３の
実施形態の一部断面図である。

【００９５】本発明に係る光学装置の第３の実施形態も
前述の第２の実施形態と同様に、マイクロレンズアレイ
４０１を配置している点のみが、前述の第１の実施形態
と異なる。したがって、以下の説明では、このマイクロ
レンズアレイ４０１の部分についてのみ説明する。

【００９６】図４に示されるように、本発明に係る光学
装置の第３の実施形態は、マイクロレンズアレイ４０１
が被測定体載置板１０４と導光部１０５との間に配置さ
れている。

【００９７】マイクロレンズアレイ４０１は、被測定体
載置板１０４上の複数の被測定体１０８のそれぞれに一
対一に対応してレンズ部４０２を備えている。

【００９８】そして、マイクロレンズアレイ４０１は、
被測定体１０８から発せられた光を一方向の光にして指
向性を高める。

【００９９】マイクロレンズアレイ４０１によって指向
性を高められた光は導光部１０５に入射し、測定装置へ
導光される。

【０１００】このように、本発明に係る光学装置の第３
の実施形態によれば、前述の第１の実施形態と同様の効
果を得ることができると共に、指向性を高めることによ
って光源から発せられた光のうち測定に用いることので
きる光の効率を向上させることができ、迷光が減り、精
度も向上させることができる。

【０１０１】（マイクロレンズアレイの構造）ここで、
前述の第２の実施形態及び第３の実施形態において用い
られたマイクロレンズアレイ３０１，４０１の構造につ
いて図５を参照して説明する。図５は、図３及び図４に
示されるマイクロレンズアレイの一部拡大図である。

【０１０２】本発明に用いられるマイクロレンズアレイ
は、ガラスのエッチングで作製してもよいし、プレス成
形でもよい。また、レンズ部をガラスや樹脂で挟んでも
よい。さらに平板にすると、耐久性も良くなりアセンブ
リも容易になる。

【０１０３】ここで、平板にするとは、例えばガラス基
板等の基板、マイクロレンズアレイ、ＵＶ硬化樹脂等の
保護層、ガラス基板等の基板を順次積層することによ
り、マイクロレンズアレイの効果を有する部分を平坦化
することをいう。

【０１０４】ただし、本発明に係るマイクロレンズアレ
イのレンズ部は、図５の（ａ）に示されるようなレンズ
形状だけではなく、図５の（ｂ）に示されるようなプリ
ズム形状であってもよい。

【０１０５】また、本発明に係るマイクロレンズアレイ
のレンズ部は、凸でも凹でもよい。また、レンズ部の屈
折率は基板の材料などにより適宜選択することが可能で
ある。

【０１０６】（光学装置の第４の実施形態）次に、本発
明に係る光学装置の第４の実施形態について図６及び図
７を参照して説明する。図６は、本発明に係る光学装置
の第４の実施形態の一部断面図、図７は、図６に示され
る光学装置の導光部の一部拡大図である。

【０１０７】本実施形態の光学装置が前述の本発明に係
る光学装置の第１の実施形態と異なる点は導光部の構造
のみである。したがって、以下の説明では、導光部の部
分のみを説明する。

【０１０８】本実施形態の光学装置は、図６に示される
ように導光部６０１の表面に複数のパターン６０２を備
えることを特徴とするものである。

【０１０９】図７に示されるように、パターン６０２は
くさび型をしている。そして、被測定体１０８から発光
した光が導光部６０１の表面のパターン６０２で反射
し、測定装置などが配置されている測定装置側に進行す
るように導光部６０１にくさび型の傾斜であるパターン
６０２が設けられている。

【０１１０】図７に示されるように、パターン６０２の
くさび型の傾斜の法線の方向はそれぞれのパターンごと
に個別に制御することができる。図７には、図６に示さ
れるパターン６０２が拡大して示されている。

【０１１１】すなわち本実施形態では、法線方向は、そ
れぞれのパターン６０２において一定にする必要はな
く、効率や均一性を考慮することにより位置によって法
線方向を変更することができる。

【０１１２】このように、本発明の光学装置の第４の実
施形態では、前述の第１の実施形態と同様の効果を得る
ことができると共に、図７に示されるパターン６０２の
法線方向を制御することにより効率よく被測定体１０８
から発せられた信号光を測定装置側に導光することがで
きる。

【０１１３】また、本実施形態では、導光部６０１にパ
ターン６０２を形成することにより薄型を維持すること
ができる。

【０１１４】（光学装置の第５の実施形態）次に、本発
明に係る光学装置の第５の実施形態について図８を参照
して説明する。図８は、本発明に係る光学装置の第５の
実施形態において用いられる導光部の外観図である。

【０１１５】本実施形態が前述の本発明に係る光学装置
の第１の実施形態に追加される点は、導光部の構造のみ
であるため、以下の説明ではこの導光部についてのみ説
明する。

【０１１６】図８に示されるように、本実施形態の導光
部８０１は全体がくさび型となっている。そして、この
導光部８０１は被測定体から発せられた信号光を測定す
る測定装置側に導光されるようにその傾斜が形成されて
いる。

【０１１７】したがって、本実施形態によれば、前述の
第１の実施形態と同様の効果を得ることができると共
に、導光部８０１の法線方向を制御することにより被測
定体１０８から発せられた信号光を効率良く測定装置側
に導光することができる。

【０１１８】ただし本実施形態では、法線方向はそれぞ
れの位置において一定にする必要はなく、効率や均一性
を考慮することにより位置によって法線方向を変更する
ことができる。

【０１１９】（光学装置の第６の実施形態）次に、本発
明に係る光学装置の第６の実施形態について図９を参照
して説明する。図９は、本発明に係る光学装置の第６の
実施形態の一部断面図である。

【０１２０】本実施形態の光学装置が前述の本発明に係
る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、導光部９０
５にブラッググレーティングパターン９０１を設けた点
のみである。したがって、以下では、導光部９０５の部
分を中心に説明する。

【０１２１】本実施形態は被測定体１０８を照射した変
調光９０２の少なくとも一部を測定装置側に進行しない
ようにして、Ｓ／Ｎ比を向上させ高精度の検出を可能と
するものである。ここで、変調光とは、光源から発せら
れた参照光のうち、例えば偏光変換などの何らかの変調
作用を受けた光をいう。

【０１２２】そのために、本実施形態では、ブラッググ
レーティングパターン９０１を導光部９０５の被測定体
載置板１０４とは逆側の表面に設けた。

【０１２３】このブラッググレーティングパターン９０
１は、Ｓ波又はＰ波の偏光の一方の少なくとも一部を透
過させ、他方の偏光を反射させるという性質を有する。
本実施形態では、Ｓ波を透過するブラッググレーティン
グパターン９０１とした。しかし、Ｐ波を透過するブラ
ッググレーティングパターンとしても良い。

【０１２４】次に、本実施形態の動作について説明す
る。本実施形態では、被測定体１０８をＳ波（ただし、
Ｐ波であっても良いが、以下の説明では一例としてＳ波
を扱う）に変調された変調光９０２より照射する。

【０１２５】Ｓ波の変調光９０２により照射された被測
定体１０８により発せられる光はＳ波信号光９０３及び
Ｐ波信号光９０４の混合波の信号光となる。

【０１２６】被測定体１０８により発せられたＳ波信号
光９０３及びＰ波信号光９０４の混合波のうち、Ｓ波信
号光９０３の少なくとも一部はブラッググレーティング
パターン９０１を透過し、Ｐ波信号光９０４はブラッグ
グレーティングパターン９０１を透過せずに導光部９０
５を導光され測定装置側に進行する。

【０１２７】一方、被測定体１０８を照射したＳ波の変
調光９０２の少なくとも一部はブラッググレーティング
パターン９０１により反射されず、導光部９０５を透過
し、ブラッググレーティングパターン９０１を透過す
る。

【０１２８】したがって、本実施形態によれば、前述の
本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を
得ることができると共に、ブラッググレーティングパタ
ーン９０１によって、被測定体１０８を照射した変調光
９０２の少なくとも一部を導光部９０５表面を透過さ
せ、測定装置に入射される分量を軽減することができ、
Ｓ／Ｎ比が向上し、高精度の測定を実施することができ
る。

【０１２９】なお、被測定体１０８を照射した変調光９
０２の少なくとも一部を導光部表面を透過させるとは、
被測定体１０８を照射した変調光９０２がわずかでも透
過する場合も含み、さらに、被測定体１０８を照射した
変調光９０２の全てを透過させる場合や、被測定体１０
８を照射した変調光９０２の大部分を透過させる場合も
含む。

【０１３０】（光学装置の第７の実施形態）次に、本発
明に係る光学装置の第７の実施形態について図１０を参
照して説明する。図１０は、本発明に係る光学装置の第
７の実施形態の一部断面図である。

【０１３１】本実施形態の光学装置が前述の本発明に係
る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、導光部１０
０５に光学膜１００１を設けた点のみである。したがっ
て、以下では、導光部１００５の部分を中心に説明す
る。

【０１３２】本実施形態は被測定体１０８を照射した光
の少なくとも一部を測定装置側に進行しないようにし
て、Ｓ／Ｎ比を向上させ高精度の検出を可能とするもの
である。

【０１３３】そのために、本実施形態では、光学膜１０
０１を導光部１００５の表面に設けた。

【０１３４】この光学膜１００１は、Ｓ波又はＰ波の偏
光の一方の偏光の少なくとも一部を透過させ、他方の偏
光を反射させるという性質を有する。本実施形態では、
Ｓ波を透過する光学膜１００１とした。もちろん、Ｐ波
を透過する光学膜としても良い。

【０１３５】この光学膜１００１は、一般的には多層膜
で形成されるが本実施形態の光学膜１００１は多層膜に
限定されるものではなく、単層の膜であっても良い。

【０１３６】本実施形態では、被測定体１０８をＳ波
（ただし、Ｐ波であっても良いが、以下の説明では一例
としてＳ波を扱う）に変調された変調光１００２より照
射する。

【０１３７】Ｓ波の変調光１００２により照射された被
測定体１０８により発せられる光はＳ波信号光１００３
及びＰ波信号光１００４の混合波の信号光となる。

【０１３８】被測定体１０８により発せられたＳ波信号
光１００３及びＰ波信号光１００４の混合波のうち、Ｓ
波信号光１００３の少なくとも一部は光学膜１００１を
透過し、Ｐ波信号光１００４は光学膜１００１を透過せ
ずに、導光部１００５を導光され、測定装置側に進行す
る。

【０１３９】一方、被測定体１０８を照射したＳ波の変
調光１００２の少なくとも一部は光学膜１００１により
反射されず、光学膜１００１を透過する。

【０１４０】したがって、本実施形態によれば、前述の
本発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を
得ることができると共に、前述の本発明に係る光学装置
の第７の実施形態と同様に、光学膜１００１によって、
被測定体１０８を照射した変調光の少なくとも一部を測
定装置側に進行するのを防止することができ、Ｓ／Ｎ比
が向上し、高精度の測定を実施することができる。

【０１４１】なお、被測定体１０８を照射した変調光１
００２の少なくとも一部を導光部表面を透過させると
は、被測定体１０８を照射した変調光１００２がわずか
でも透過する場合も含み、さらに、被測定体１０８を照
射した変調光１００２の全てを透過させる場合や、被測
定体１０８を照射した変調光１００２の大部分を透過さ
せる場合も含む。

【０１４２】（光学装置の第８の実施形態）次に、本発
明に係る光学装置の第８の実施形態について図１１を参
照して説明する。図１１は、本発明に係る光学装置の第
８の実施形態の一部断面図である。

【０１４３】本実施形態の光学装置が前述の本発明に係
る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、導光部１０
５にフィルタ１１０１を設けた点のみである。したがっ
て、以下では、導光部１０５の部分を中心に説明する。

【０１４４】本実施形態は被測定体１０８を照射した光
の少なくとも一部が測定装置側に進行するのを防止し
て、Ｓ／Ｎ比を向上させ高精度の検出を可能とするもの
である。

【０１４５】そのために、本実施形態ではフィルタ１１
０１を導光部１０５の被測定体載置板１０４側表面に設
けた。

【０１４６】このフィルタ１１０１は、変調光１１０２
が導光部１０５に入射するのを防止する機能を有する。
このフィルタ１１０１は、被測定体への変調光が所定の
偏光状態に偏光されていない場合と、所定の偏光状態に
偏光されている場合とによって付与される性質が異な
る。なお説明を簡単にするため、本実施形態及び後述の
第９の実施形態でいう変調光１１０２及び変調光１２０
２には、何らかの変調を受けた光のみならず、光源から
発せられた光そのものも含むと解する。

【０１４７】（変調光が所定の偏光状態に偏光されてい
ない場合）この場合、導光部１０５へ変調光１１０２が
入射するのを防止するために、フィルタ１１０１には、
変調光１１０２の少なくとも一部を吸収する性質を付与
する。

【０１４８】ここで、変調光１１０２の少なくとも一部
を吸収するとは、被測定体１０８を照射した変調光１１
０２がわずかでも吸収する場合も含み、さらに、被測定
体１０８を照射した変調光１１０２の全てを吸収する場
合や、被測定体１０８を照射した変調光１１０２の大部
分を吸収する場合も含む。

【０１４９】したがって、被測定体から発せられた信号
光１１０３はフィルタ１１０１により吸収されず導光部
１０５に入射するが、変調光１１０２の少なくとも一部
はフィルタ１１０１によって吸収され導光部１０５に入
射することはない。

【０１５０】したがって、本実施形態の光学装置では、
変調光１１０２によるＳ／Ｎ比の悪化を防止でき、高精
度の測定を行うことができる。

【０１５１】（変調光が所定の偏光状態に偏光されてい
る場合）変調光が所定の偏光状態に偏光されている場合
は、以下のように、所定の偏光状態の光の透過を少なく
とも一部は防止する偏光板などによりフィルタ１１０１
を形成しても良い。もちろん、この場合であっても、前
述のように、所定の光を吸収するフィルタ１１０１を用
いるとしても良い。

【０１５２】ここで、光の透過を少なくとも一部は防止
するとは、被測定体１０８を照射した変調光１１０２が
わずかでも透過が防止される場合も含み、さらに、被測
定体１０８を照射した変調光１１０２の全ての透過が防
止される場合や、被測定体１０８を照射した変調光１１
０２の大部分の透過が防止される場合も含む。

【０１５３】以下、Ｓ波の光の少なくとも一部の透過を
防止する偏光板によりフィルタ１１０１を構成した場合
について説明する。

【０１５４】まず、被測定体１０８をＳ波（ただし、Ｐ
波であっても良いが、以下の説明では一例としてＳ波を
扱う）に変調された変調光である変調光１１０２より照
射する。

【０１５５】Ｓ波の変調光１１０２により照射された被
測定体１０８により発せられる光はＳ波信号光及びＰ波
信号光の混合波の信号光となる。

【０１５６】被測定体１０８により発せられたＳ波信号
光及びＰ波信号光の混合波の光うち、Ｐ波信号光はフィ
ルタ１１０１を透過し導光部１０５には入射するが、Ｓ
波信号光の少なくとも一部はフィルタ１１０１により透
過を制御され、導光部１０５内に入射しない。

【０１５７】そして、Ｐ波信号光はフィルタ１１０１を
透過し、導光部１０５に入射して導光され、信号光１１
０３として測定装置側に導光される。

【０１５８】一方、被測定体１０８を照射したＳ波の変
調光１１０２はフィルタ１１０１により少なくとも一部
が透過を妨げられ、導光部１０５には入射しない。

【０１５９】このように、本実施形態では、前述の第１
の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、フ
ィルタ１１０２により被測定体１０８を照射した光の少
なくとも一部が導光部１０５に入射し、測定装置に進行
するのを防止するため、高精度の検出を行うことが可能
である。

【０１６０】（光学装置の第９の実施形態）次に、本発
明に係る光学装置の第９の実施形態について図１２を参
照して説明する。図１２は、本発明に係る光学装置の第
９の実施形態の一部断面図である。

【０１６１】本実施形態の光学装置が前述の本発明に係
る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、導光部１０
５にフィルタ１２０１を設けた点のみである。したがっ
て、以下では、導光部１０５の部分を中心に説明する。

【０１６２】本実施形態は被測定体１０８を照射した光
の少なくとも一部が測定装置側に進行するのを防止し
て、Ｓ／Ｎ比を向上させ高精度の検出を可能とするもの
である。

【０１６３】そのために、本実施形態ではフィルタ１２
０１を導光部１０５の表面であって、導光部１０５から
測定装置側に信号光が出射する側の表面に設けた。

【０１６４】このフィルタ１２０１は、変調光１１０２
が導光部１０５から測定装置側に出射するのを防止する
機能を有する。このフィルタ１２０１は、被測定体１０
８への変調光が所定の偏光状態に偏光されていない場合
と、所定の偏光状態に偏光されている場合とによって付
与される性質が異なる。

【０１６５】（変調光が所定の偏光状態に偏光されてい
ない場合）この場合、導光部１０５から測定装置側へ変
調光１２０２が出射されるのを防止するために、フィル
タ１２０１には、変調光１２０２の少なくとも一部を吸
収する性質を付与する。

【０１６６】ここで、変調光１２０２の少なくとも一部
を吸収するとは、被測定体１０８を照射した変調光１２
０２のわずかでも吸収する場合も含み、さらに、被測定
体１０８を照射した変調光１２０２の全てを吸収する場
合や、被測定体１０８を照射した変調光１２０２の大部
分を吸収する場合も含む。

【０１６７】したがって、被測定体１０８から発せられ
た信号光１２０３はフィルタ１２０１により吸収されず
導光部１０５から測定装置側に出射するが、変調光１２
０２の少なくとも一部はフィルタ１２０１によって吸収
され導光部１０５から測定装置側に出射することはな
い。

【０１６８】したがって、本実施形態の光学装置では、
変調光１２０２によるＳ／Ｎ比の悪化を防止でき、精度
の良い測定を行うことができる。

【０１６９】（変調光が所定の偏光状態に偏光されてい
る場合）変調光が所定の偏光状態に偏光されている場合
は、以下のように、所定の偏光状態の光の少なくとも一
部の透過を防止する偏光板などによりフィルタ１２０１
を形成しても良い。もちろん、この場合であっても、前
述のように、変調光を吸収するフィルタ１２０１を用い
ても良い。

【０１７０】ここで、所定の偏光状態の光の少なくとも
一部の透過を防止するとは、被測定体１０８を照射した
変調光１２０２の透過がわずかでも防止される場合も含
み、さらに、被測定体１０８を照射した変調光１２０２
の全ての透過が防止される場合や、被測定体１０８を照
射した変調光１２０２の大部分の透過が防止される場合
も含む。

【０１７１】以下、Ｓ波の光の少なくとも一部の透過を
防止する偏光板によりフィルタ１２０１を構成した場合
について説明する。

【０１７２】まず、被測定体１０８をＳ波（ただし、Ｐ
波であっても良いが、以下の説明では一例としてＳ波を
扱う）に変調された変調光である変調光１２０２より照
射する。

【０１７３】Ｓ波の変調光１２０２により照射された被
測定体１０８により発せられる光はＳ波信号光及びＰ波
信号光の混合波の信号光１２０３となる。

【０１７４】被測定体１０８により発せられたＳ波信号
光及びＰ波信号光の混合波の信号光１２０３及び変調光
１２０２は、導光部１０５を導光しフィルタ１２０１に
到達する。

【０１７５】フィルタ１２０１に到達した信号光１２０
３のうち、Ｐ波信号光はフィルタ１２０１を透過し導光
部１０５から測定装置側に出射するが、Ｓ波信号光はフ
ィルタ１２０１によりその少なくとも一部の透過が制御
され、導光部１０５から測定装置側に出射しない。

【０１７６】また、フィルタ１２０１に到達した変調光
１２０２はフィルタ１２０１によりその少なくとも一部
の透過が制御され、導光部１０５から測定装置側に出射
しない。

【０１７７】このように、本実施形態では、前述の第１
の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、フ
ィルタ１２０２により被測定体１０８を照射した変調光
１２０２の少なくとも一部が導光部１０５から測定装置
側に出射されるのを防止するため、Ｓ／Ｎ比を向上させ
ることができ、高精度の検出を行うことが可能である。

【０１７８】（光学装置の第１０の実施形態）次に、本
発明に係る光学装置の第１０の実施形態について図１３
を参照して説明する。図１３は、本発明に係る光学装置
の第１０の実施形態の断面図である。本実施形態は、主
に検出精度の向上を図る実施形態である。

【０１７９】図１３に示されるように、本発明に係る光
学装置の第１０の実施形態は、拡散板１３０１と、偏光
変換素子１３０２と、液晶パネル１３０３とを備える。

【０１８０】また、本実施形態の光学装置は、被測定体
１３０７の発光波長に基づいて、この発光を吸収する発
光波長のフィルタ１３０４を備える。

【０１８１】また、本実施形態の光学装置は、測定器と
してのＰＤ（ｐｈｏｔｏ ｄｉｏｄｅ）１３０８と、光
源としてのＬＤ（ｌａｓｅｒ ｄｉｏｄｅ）１３０９と
を備える。

【０１８２】本実施形態の拡散板１３０１、偏光変換素
子１３０２、液晶パネル１３０３及びＬＤ１３０９はそ
れぞれ、図１に示される拡散板１０１、偏光変換素子１
０２、液晶パネル１０３及び光源１０６に対応し、略同
様の動作を行うためその詳細な説明を省略する。

【０１８３】発光波長のフィルタ１３０４は、被測定体
１３０７から発せられた信号光を吸収するフィルタであ
る。

【０１８４】図１３に示されるように、被測定体１３０
７から発せられた信号光は、様々な方向に出射するが、
発光波長のフィルタ１３０４に到達した信号光はこのフ
ィルタ１３０４により吸収される。

【０１８５】導光板１３０５は、被測定体１３０７から
発せられた信号光をＰＤ１３０８に導光する。

【０１８６】この導光板１３０５は、図１３に示される
ように、被測定体載置板１３０６に対して、変調光が入
射する方向に配置されている。

【０１８７】この導光板１３０５は、図１３に示される
例ではくさび型となっているが、本実施形態の導光板１
３０５は図１３に示される例に限定されるものではな
く、図６に示されるような導光板であっても良い。この
場合、前述の第４の実施形態と同様の効果を得ることが
できる。

【０１８８】ここで、発光波長のフィルタ１３０４と導
光板１３０５との間の屈折率をｎ１、導光板の屈折率を
ｎ２、導光部１０５と被測定体載置板１３０６との間の
屈折率をｎ３とすると、ｎ１＜ｎ２かつｎ２＞ｎ３、又
は、ｎ１＞ｎ２かつｎ２＜ｎ３の関係が成り立つ。

【０１８９】被測定体載置板１３０６は、図１に示され
る被測定体載置板１０４と同様の部品である。

【０１９０】本実施形態では、導光板１３０５及びＰＤ
１３０８を被測定体載置板１３０６に変調光が入射する
側に設けたため、変調光が導光板１３０５を導光してＰ
Ｄ１３０８に入射する割合を低減することができる。

【０１９１】このように、本実施形態では、液晶パネル
１３０３を用いて測定を行っているため、前述の本発明
に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得られ
ると共に、被測定体載置板１３０６と液晶パネル１３０
３との間に導光板１３０５を設けたことにより、測定の
際に変調光を除去でき、高精度の検出が可能となる。

【０１９２】また、図１３に示されるように、本実施形
態では、被測定体載置板１３０６及び被測定体１３０７
を光学装置の表面に配置することができることとなるた
め、アセンブリした後で試料を反応させることができ
る。

【０１９３】また、本実施形態では、被測定体１３０７
が光学装置の表面に配置されているため、被測定体１３
０７の交換が容易となる。

【０１９４】また、本実施形態では、発光波長のフィル
タ１３０４により迷光を除去することができ、誤検出、
誤反応を軽減し、検出精度を向上させることができる。

【０１９５】なお、本実施形態においては、前述の図３
や図５に示されるようなマイクロレンズアレイを例えば
被測定体載置板１３０６の下部に配置しても良い。この
場合であっても、前述の第２の実施形態と同様の効果を
得ることができる。

【０１９６】また、本実施形態では、光源としてＬＤ１
３０９及び拡散板１３０１の組み合わせを用いたが、本
実施形態はこのような光源に限定されるものではなく、
例えば後述の図１５や図１６に示されるような各種の光
源を用いることができる。この場合、後述の第１２の実
施形態や第１３の実施形態と同様の効果を得ることがで
きる。

【０１９７】また、本実施形態では、受光部としてＰＤ
１３０８を用いたが、本実施形態はこのような受光部に
限定されるものではなく、例えば後述の図１７や図１８
に示されるような各種の受光部を用いることができる。
この場合、後述の第１４の実施形態や第１５の実施形態
と同様の効果を得ることができる。

【０１９８】また、本実施形態では、後述の図１９に示
されるようなアライメントマークを設けることができ
る。すなわち、アライメントマークを例えば被測定体載
置板１３０６及び導光板１３０５に設けることができ
る。この場合、後述の第１６の実施形態と同様の効果を
得ることができる。

【０１９９】また、本実施形態では、後述の図２０に示
されるようなスペーサを被測定体載置板１３０６と導光
板１３０５との間に設けることもできる。この場合、後
述の第１７の実施形態と同様の効果を得ることができ
る。

【０２００】（光学装置の第１１の実施形態）次に、本
発明に係る光学装置の第１１の実施形態について図１４
を参照して説明する。図１４は、本発明に係る光学装置
の第１１の実施形態の断面図である。

【０２０１】図１４に示されるように、本発明に係る光
学装置の第１１の実施形態は、光を導光する導光部１４
０８と、偏光板１４０３と、液晶パネル１４０４と、偏
光板１４０５と、被測定体載置板１４０６とを備え、こ
れらがこの順序で積層されてるいる。

【０２０２】また、本実施形態では、導光部１４０８の
一側面に光源１４０１と、受光素子１４０２とが配置さ
れる。

【０２０３】光源１４０１は、被測定体載置板１４０６
上の被測定体１４０７を照射するための参照光１４０９
を出射する。この参照光１４０９は導光部１４０８内を
導光されて被測定体１４０７を照射する。

【０２０４】受光素子１４０２は、導光部１４０８を導
光してきた被測定体１４０７から発せられた信号光１４
１０を受光する。

【０２０５】偏光板１４０３は、光源１４０１から出射
された参照光１４０９を所定の偏光状態にする。

【０２０６】液晶パネル１４０４は、前述の本発明に係
る光学装置の第１の実施形態の液晶パネル１０３と同様
の部品であり入射した光の透過を制御する素子である。

【０２０７】偏光板１４０５は、被測定体１４０７から
出射した信号光１４１０の偏光を所定の偏光状態にす
る。

【０２０８】被測定体載置板１４０６は、前述の本発明
に係る光学装置の第１の実施形態と同様の部品であり、
複数の被測定体１４０７を載置している板である。ただ
し、図１４に示される例では簡単のため、被測定体１４
０７は１つしか図示していない。

【０２０９】また、本発明に係る被測定体載置板１４０
６は板形状に限定されるものではなく、被測定体１４０
７を載置するものであればその形状は限定されない。

【０２１０】ここで、図１４に示される光源１４０１は
図１に示される光源１０６と略同様の構造及び動作であ
り、図１４に示される偏光板１４０３及び１４０５は図
１に示される偏光変換素子１０２と略同様の構造及び動
作であり、図１４に示される液晶パネル１４０４は図１
に示される液晶パネル１０３と略同様の構造及び動作で
あり、図１４に示される被測定体載置板１４０６は図１
に示される被測定体載置板１０４と略同様の構造及び動
作であり、これらの詳細な説明は省略する。

【０２１１】また、本実施形態では、図１４に示される
ように光源１４０１と受光素子１４０２とが導光部１４
０８の一端に並列に配置されている。

【０２１２】上記構成の本実施形態では、光源１４０１
から発せられた参照光１４０９と、被測定体１４０７か
ら発せられた信号光１４１０とが導光する部分が同じ導
光部１４０８となる。

【０２１３】また、本実施形態では、参照光１４０９と
信号光１４１０とが反対の向きに進行する。

【０２１４】したがって、本実施形態では、液晶パネル
１４０４を用いて測定を行っているため、前述の本発明
に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得られ
ると共に、被測定体１４０７の照射のための導光部と、
被測定体１４０７からの信号光を検出するための導光部
とを同じくすることにより、部品点数を削減でき、小
型、薄型化を図り、ローコストを実現できる。

【０２１５】また、本実施形態では、光源１４０１と受
光素子１４０２とを並列に配置することにより、アセン
ブリがしやすくなると共に、コンパクトになる。

【０２１６】また、参照光１４０９と信号光１４１０と
の進行方向の向きを反対にすることにより、受光素子１
４０２により参照光１４０９が受光されるのを防止する
若しくは軽減することができ、信号光１４１０を主とし
て検出することとなり、Ｓ／Ｎ比を向上させることがで
きる。

【０２１７】なお、本実施形態では、前述の図３及び図
４に示されるように、例えば導光部１４０８と偏光板１
４０３との間、被測定体載置板１４０６と偏光板１４０
５との間というような場所にマイクロレンズアレイを設
けても良い。この場合であっても、前述の第２の実施形
態や第３の実施形態と同様の効果を得ることができる。

【０２１８】また、本実施形態において、導光板１４０
８は、図１４に示される例ではくさび型となっている
が、本実施形態の導光板１４０８は図１４に示される例
に限定されるものではなく、図６に示されるような導光
板であっても良い。この場合、前述の第４の実施形態と
同様の効果を得ることができる。

【０２１９】また、本実施形態では、受光素子１４０２
を用いたが、本実施形態はこのような受光素子１４０２
に限定されるものではなく、例えば後述の図１７や図１
８に示されるような各種の受光部を用いることができ
る。この場合、後述の第１４の実施形態や第１５の実施
形態と同様の効果を得ることができる。

【０２２０】また、本実施形態では、後述の図１９に示
されるようなアライメントマークを設けることができ
る。すなわち、アライメントマークを例えば被測定体載
置板１４０６及び偏光板１４０５に設けることができ
る。この場合、後述の第１６の実施形態と同様の効果を
得ることができる。

【０２２１】また、本実施形態では、後述の図２０に示
されるようなスペーサを被測定体載置板１４０６と偏光
板１４０５との間に設けることもできる。この場合、後
述の第１７の実施形態と同様の効果を得ることができ
る。

【０２２２】（光学装置の第１２の実施形態）次に、本
発明に係る光学装置の第１２の実施形態について図１５
を参照して説明する。図１５は、本発明に係る光学装置
の第１２の実施形態の光源部分の概略図である。

【０２２３】本実施形態が前述の本発明に係る光学装置
の第１の実施形態と異なる点は、拡散板１０１に複数の
光源が配置されている点である。それ以外の点は前述の
第１の実施形態と同様であるためその説明を省略する。

【０２２４】図１５の（ａ）に示されるように、本実施
形態の光学装置は、拡散板１０１に光源１５０１ａ，１
５０１ｂ，１５０１ｃ，１５０１ｄ，１５０１ｅが配置
されている。図１５の（ａ）は、本発明に係る光学装置
の第１２の実施形態の光源部分の斜視図である。

【０２２５】ただし、光源の数は図１５の（ａ）に示さ
れるように５つに限定されるものではなく、２以上の任
意の数であって良い。

【０２２６】本実施形態では、拡散板１０１に配置され
た複数の光源１５０１ａ，１５０１ｂ，１５０１ｃ，１
５０１ｄ，１５０１ｅにより拡散板１０１を照射する。

【０２２７】拡散板１０１に照射された光は拡散板１０
１から拡散され参照光となり、この参照光は被測定体に
照射される。

【０２２８】したがって、本実施形態では、前述の第１
の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、本
実施形態では複数の光源を配置したことにより、簡単な
構成で被測定体を照射する参照光のパワーを上げること
ができ被測定体からの信号光の強度を向上させることが
できる。

【０２２９】また、本実施形態では、光源が一個の場合
に比べてそれぞれの被測定体に、より均一な強度で照射
することができ、被測定体の場所による検出誤差が減
る。

【０２３０】また、光源の配置は、図１５の（ａ）に示
される例では、拡散板１０１の一端にそれぞれの光源が
平行に配置されている。しかし、本実施形態の光源の配
置としてはこのような平行配置に限定されるものではな
く、適宜な配置であっても良い。

【０２３１】例えば光源の配置例として、図１５の
（ｂ）に示されるような配置例を挙げることができる。
図１５の（ｂ）は、本発明に係る光学装置の第１２の実
施形態における光源の配置例を示す上面図である。

【０２３２】図１５の（ｂ）に示されるように、拡散板
１０１の周囲には、それぞれの端に複数の光源からなる
光源アレー１５０２，１５０３，１５０４，１５０５が
配置されている。

【０２３３】そして、これら光源アレー１５０２，１５
０３，１５０４，１５０５により拡散板１０１を照射す
ることにより、この図１５の（ｂ）に示される例であっ
ても、前述の図１５の（ａ）に示される場合と同様の効
果を得ることができ、さらに、より光の均一性及び強度
の増加を図ることができる。

【０２３４】（光学装置の第１３の実施形態）次に、本
発明に係る光学装置の第１３の実施形態について図１６
を参照して説明する。図１６は、本発明に係る光学装置
の第１３の実施形態の光源部分の概略図であり、図１６
の（ａ）は、本発明に係る光学装置の第１６の実施形態
の光源部分の一部斜視図、図１６の（ｂ）は、図１６の
（ａ）に示される拡散板の一部断面図、図１６の（ｃ）
は、図１６の（ａ）に示される拡散板に形成されるパタ
ーンの拡大図である。

【０２３５】本実施形態が前述の本発明に係る光学装置
の第１の実施形態と異なる点は、拡散板１６０５の構造
のみである。それ以外の部分の説明は前述の第１の実施
形態と同様であるためその説明を省略する。

【０２３６】図１６の（ａ）に示されるように、本実施
形態では光源１６０１から距離が離れるほどパターンの
傾き角θ（図１６の（ｃ））が大きくなるように、パタ
ーンを拡散板１６０５上に設けた。

【０２３７】図１６の例では、光源１６０１を中心とし
た、同心円Ｃ１上のパターン１６０２、同心円Ｃ２上の
パターン１６０３、同心円Ｃ３上のパターン１６０４の
３種類のパターンが一例として示されている。

【０２３８】このパターンは、シリンドリカルマイクロ
レンズを同心円上に直行配列させることにより形成する
として良い。

【０２３９】本実施形態の拡散板上に形成されるパター
ンは図１６の（ｂ）や図１６の（ｃ）に示されるよう
に、その傾き角θが、光源からの距離から離れるほど大
きくなっている。

【０２４０】パターンの傾き角θが大きいとそれだけ光
の反射効率が向上する。したがって、光源１６０１から
離れるほどパターンに照射される光の強度は低くなるも
のの、傾き角θが大きくなることにより反射効率が上が
るため、被測定体に結果として均一な強度で光を照射す
ることができるようになる。

【０２４１】また、本実施形態では光源１６０１から距
離が離れるほどパターンの数を多くなるように構成して
も良い。

【０２４２】この場合、光源１６０１から離れる程、光
源からの光の強度は低下するが、パターンの数が増加す
ることによりその分、反射光量が増加し、被測定体載置
板上の被測定体を均一に照射することができる。

【０２４３】したがって、本実施形態によれば、前述の
本発明に係る第１の実施形態と同様の効果を得ることが
できると共に、光の利用効率が上がり、低消費電力を実
現することができる。

【０２４４】また、本実施形態では、パターンにより均
一に光を被測定体の照射することができるため、被測定
体の場所による測定誤差を軽減することができる。

【０２４５】（光学装置の第１４の実施形態）次に、光
学装置の第１４の実施形態について図１７を参照して説
明する。図１７は、本発明に係る光学装置の第１４の実
施形態における導光部及び測定装置の概略図である。

【０２４６】本実施形態が前述の本発明に係る光学装置
の第１の実施形態と異なる点は、導光部１０５を導光し
てきた光を受光する受光素子１７０２ａ，１７０２ｂ，
１７０２ｃ，１７０２ｄ，１７０２ｅ，１７０２ｆ，１
７０２ｇを導光部１０５の端面１７０１に平行に複数配
置した点である。その他の点は前述の第１の実施形態と
同様であるためその説明を省略する。

【０２４７】ただし、本実施形態では、受光素子の数は
図１７に示されるような７個に限定されるものではな
く、その数は２以上の任意の数であって良い。

【０２４８】また、図１７に示される例では、導光部１
０５の端面１７０１からそれぞれの受光素子まで一定の
距離ｌが設定されているが、この距離ｌは信号光の受光
に必要な範囲で任意に増減することができる。

【０２４９】それぞれの受光素子１７０２ａ，１７０２
ｂ，１７０２ｃ，１７０２ｄ，１７０２ｅ，１７０２
ｆ，１７０２ｇは、それぞれの受光範囲内に入射した光
を受光する。

【０２５０】したがって、本実施形態では、受光素子が
１つの場合に比べて光の強度の低下を軽減することがで
き、検出精度を向上させることができる。

【０２５１】このように、本実施形態では、前述の本発
明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得る
ことができると共に、受光素子を複数用いているため、
簡単な構成で高い検出制度を実現することができる。

【０２５２】（光学装置の第１５の実施形態）次に、本
発明に係る光学装置の第１５の実施形態について図１８
を参照して説明する。図１８は、本発明に係る光学装置
の第１５の実施形態の受光部分の概略図であり、図１８
の（ａ）は、本発明に係る光学装置の第１５の実施形態
における導光部及び測定装置の概略図、図１８の（ｂ）
は、本発明に係る光学装置の第１５の実施形態における
導光部の変形例を示す概略図である。

【０２５３】本実施形態が前述の本発明に係る光学装置
の第１の実施形態に追加されている部分は、導光部１８
０１に加えて、第２の導光部１８０２を備えている点で
ある。その他の点は前述の第１の実施形態と同様である
ためその説明を省略する。

【０２５４】図１８の（ａ）に示されるように、本実施
形態ではくさび型の導光部１８０１の信号光が出射する
一端にさらに第２の導光部１８０２が設けられている。

【０２５５】第２の導光部１８０２は図１８の（ａ）に
示されるようにくさび型をしている。

【０２５６】図１８の（ａ）に示されるように、被測定
体から発せられた信号光は、まず導光部１８０１に入射
し、導光部１８０１内部を導光した後、第２の導光部１
８０２に入射し、第２の導光部１８０２内を導光した
後、外部に出射される。

【０２５７】第２の導光部１８０２の信号光の出射面側
には測定装置１８０３が配置され、この測定装置１８０
３は第２の導光部１８０２から出射した信号光を測定す
る。

【０２５８】ここで、本実施形態で使用される第１の導
光部１８０１及び第２の導光部１８０２のいずれか一方
は、くさび型ではなく、図１８の（ｂ）に示されるよう
に表面に複数のパターン１８０５が形成された導光部１
８０４であっても良い。この導光部１８０４のパターン
１８０５はくさび型をしているがその角度は任意に制御
することができる。

【０２５９】このように、本実施形態では、前述の本発
明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得る
ことができると共に、２つの導光部を用いることにより
受光素子を１個にすることができ、部品点数を削減で
き、小型化、ローコスト化を図ることができる。

【０２６０】また、くさび型の第２の導光部１８０２の
場合は単純な構成で効率良く信号光を導光することがで
きる。

【０２６１】また、図１８の（ｂ）に示されるような、
パターン１８０５を有する第２の導光部１８０４を用い
た場合は薄型化が可能となる。

【０２６２】（光学装置の第１６の実施形態）次に、本
発明に係る光学装置の第１６の実施形態について図１９
を参照して説明する。図１９は、本発明に係る光学装置
の第１６の実施形態の断面図である。

【０２６３】本実施形態が前述の本発明に係る光学装置
の第１の実施形態と異なる点は、位置決めのためのアラ
イメントマークを設けた点である。それ以外の点は同じ
であるためその説明は省略する。

【０２６４】本実施形態は、位置決めのためのアライメ
ントマークを被測定体載置板１０４に設ける。さらに、
本実施形態は、位置決めのためのアライメントマークを
液晶パネル１０３又は導光部１０５の少なくともいずれ
か一方に設ける。

【０２６５】図１９に示される例では、被測定体載置板
１０４に位置決めのためのアライメントマーク１９０１
を設け、液晶パネル１０３の位置決めのためのアライメ
ントマーク１９０２を設けている。

【０２６６】このアライメントマーク１９０１とアライ
メントマーク１９０２とは雌雄のアライメントマークで
あって良い。

【０２６７】このように、本実施形態では、位置決めの
ためのアライメントマークを設けているため、前述の本
発明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得
ることができると共に、アライメントマーク１９０１，
１９０２により、被測定体載置板１０４の水平方向の位
置決めが容易となる結果、被測定体載置板１０４の設置
場所の位置決めが容易になり、機械精度が向上する。よ
って、測定精度を向上させることができる。

【０２６８】（光学装置の第１７の実施形態）次に、本
発明に係る光学装置の第１７の実施形態について図２０
を参照して説明する。図２０は、本発明に係る光学装置
の第１７の実施形態の断面図である。

【０２６９】本実施形態が前述の本発明に係る光学装置
の第１の実施形態と異なる点は、被測定体載置板１０４
の高さ方向の位置決めのためのスペーサを形成した点で
ある。それ以外の点は同じであるためその説明は省略す
る。

【０２７０】本実施形態は、高さ方向の位置決めのため
のスペーサを、被測定体載置板１０４と導光部１０５と
の間及び被測定体載置板１０４と液晶パネル１０３との
間の少なくともいずれか一方の間に設ける。

【０２７１】この高さ方向の位置決めのためのスペーサ
は、接着剤で形成しても良い。接着剤は透明な樹脂が良
い。また、スペーサはＵＶ硬化樹脂あるいは熱硬化樹脂
でも良い。

【０２７２】また、接着剤を用いた場合は、熱やＵＶや
振動などのエネルギーにより溶ける若しくは粘着力が弱
くなる接着剤を使用しても良い。

【０２７３】図２０に示される例では、被測定体載置板
１０４と液晶パネル１０３との間に高さ方向の位置決め
のためのスペーサ２００１を設けている。

【０２７４】なお、このスペーサ２００１は、被測定体
載置板１０４の高さ方向の位置を安定させるために、複
数個設けることが好ましいが、１個でも良い。

【０２７５】このように、本実施形態では、前述の本発
明に係る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得る
ことができると共に、高さ方向（被測定体載置板１０４
の面に垂直な方向）の位置決めのためのスペーサを設け
ているため高さ方向のアセンブリの制御が可能となり、
光学性能の劣化を防止することができる。

【０２７６】また、本実施形態では、高さ方向の位置決
めのためのスペーサを接着剤で形成した場合、プロセス
が簡単となり、分析デバイスの耐環境性も向上させるこ
とができる。

【０２７７】また、本実施形態では、熱やＵＶや振動な
どのエネルギーにより溶ける若しくは粘着力が弱くなる
接着剤を使用した場合、エネルギーにより溶けたり粘着
力が弱くなることにより、交換（リサイクル）が可能に
なる。また不良品等の部品交換も容易になる。

【０２７８】（光学装置の第１８の実施形態）次に、本
発明に係る光学装置の第１８の実施形態について図２１
を参照して説明する。図２１は、本発明に係る光学装置
の第１８の実施形態の概略図である。

【０２７９】本発明に係る光学装置の第１８の実施形態
は、前述の第１の実施形態と異なり、デジタルミラーデ
バイス（以下、ＤＭＤと記す。）を用いて被測定体載置
板１０４上の被測定体１０８に照射される光を選択する
実施形態である。

【０２８０】図２１に示されるように、本発明に係る光
学装置の第１８の実施形態は、ＤＭＤ素子２１０２から
なるＤＭＤ２１０１と、被測定体載置板１０４と、導光
部１０５とからなる。

【０２８１】また、本実施形態の光学装置は参照光２１
０３を出射する不図示の光源を備えている。この光源は
特に限定するものではないが、例えば前述の図１や図１
５や図１６に示されるような光源であっても良い。

【０２８２】例えば図１に示される光源を用いた場合
は、参照光２１０３を照射する光源は、光源１０６及び
拡散板１０１により構成されることとなる。

【０２８３】また、図２１には示されていないが、本実
施形態には導光部１０５により導光された光を測定す
る、例えば前述の図１７や図１８に示されるＰＤ（ｐｈ
ｏｔｏｄｉｏｄｅ）等の測定装置が備えられている。

【０２８４】ＤＭＤ２１０１は、参照光２１０３のう
ち、被測定体載置板１０４上の被測定体１０８に照射す
る変調光２１０４を選択する装置である。

【０２８５】このＤＭＤ２１０１は、複数のＤＭＤ素子
２１０２により構成され。これらＤＭＤ素子２１０２
は、被測定体載置板１０４上の被測定体１０８に一対一
に対応する。ＤＭＤ２１０１とは、マイクロマシニング
技術を用いることにより、Ｓｉ基板上に多数の微細なマ
イクロミラーを配列させた光学素子である。

【０２８６】ここで、図２１に示されるＤＭＤ素子２１
０２について図２２を参照して説明する。図２２は、図
２１に示されるＤＭＤ素子２１０２の概略図である。

【０２８７】図２２に示されるように、基板２２０１の
上面には一対の支持部２２０３が設けられており、Ｓｉ
基板２２０１の表面においてトーションヒンジ２２０４
の両端が支持部２２０３によって支持されている。トー
ションヒンジ２２０４には、ヨーク２２０５の中央部が
取り付けられており、ヨーク２２０５の中心に立てられ
た柱部２２０６の上端にマイクロミラー２２０２が形成
されている。

【０２８８】Ｓｉ基板２２０１の上面には、静電気等の
電気磁気的な力によってヨーク２２０５に駆動力を及ぼ
してトーションヒンジ２２０４を捩らせながらヨーク２
２０５の傾きを調整することにより、マイクロミラー２
２０２の角度を制御するためのミラー駆動手段（図示せ
ず）が設けられている。こうしてヨーク２２０５を傾け
ることにより、マイクロミラー２２０２の角度を少なく
とも２方向に変化させることができ、マイクロミラー２
２０２に照射されて反射された反射光の方向を自由に制
御することができる。

【０２８９】このように、本発明に係る光学装置の第１
８の実施形態によれば、被測定体載置板１０４上の被測
定体１０８に照射する参照光を選択するためにＤＭＤ２
１０１を用いているため、機械的なスキャンが不要とな
り、被測定体１０８が複数載置されている場合であって
も、装置を大型化することなく測定することが可能とな
る。

【０２９０】また、本実施形態のようにＤＭＤを使用し
た場合、偏光素子が不要になり、部品点数が減り、さら
なるローコスト化を図ることができる。

【０２９１】なお、本実施形態では、前述の図３及び図
４に示されるように、例えば被測定体載置板１０４の下
部又は上部の少なくともいずれか一方にマイクロレンズ
アレイを設けても良い。この場合であっても、前述の第
２の実施形態及び第３の実施形態と同様の効果を得るこ
とができる。

【０２９２】図２１に示される導光板１０５は、図２１
に示される例ではくさび型となっている。そして、本実
施形態の導光板１０５は図２１に示される例に限定され
るものではなく、図６に示されるような導光板であって
も良い。この場合、前述の第４の実施形態と同様の効果
を得ることができる。

【０２９３】また、本実施形態では、前述の第８の実施
形態又は第９の実施形態と同様に、図１１又は図１２に
示されるような偏光していない光を吸収するフィルタを
用いても良い。この場合、前述の第８の実施形態又は第
９の実施形態と同様の効果を得ることができる。

【０２９４】また、本実施形態では、光源として特に示
していないが、本実施形態の光源は特に限定されるもの
ではなく、参照光２１０３を照射するために適切な光源
であれば良く、例えば前述の図１や図１５や図１６に示
されるような各種の光源も用いることができる。図１５
や図１６に示される光源を用いた場合、前述の第１２の
実施形態や第１３の実施形態と同様の効果を得ることが
できる。

【０２９５】また、本実施形態では、受光部として特に
限定はしていないが、本実施形態の受光部は特に限定さ
れるものではなく、例えば前述の図１７や図１８に示さ
れるような各種の受光部を用いることができる。この場
合、前述の第１４の実施形態や第１５の実施形態と同様
の効果を得ることができる。

【０２９６】また、本実施形態では、前述の図１９に示
されるようなアライメントマークを設けることができ
る。すなわち、アライメントマークを例えば被測定体載
置板１０４及び導光板１０５に設けることができる。こ
の場合、前述の第１６の実施形態と同様の効果を得るこ
とができる。

【０２９７】また、本実施形態では、前述の図２０に示
されるようなスペーサを被測定体載置板１０４と導光板
１０５との間に設けることもできる。この場合、前述の
第１７の実施形態と同様の効果を得ることができる。

【０２９８】（光学装置の第１９の実施形態）次に、次
に本発明に係る光学装置の第１９の実施形態について図
２３及び図２４を参照して説明する。図２３は、本発明
に係る光学装置の第１９の実施形態の概略図、図２４
は、図２３に示される光学装置の導光部部分の断面図で
ある。

【０２９９】本実施形態は、前述の本発明に係る光学装
置の第１８の実施形態と略同様の実施形態であるが、本
実施形態では、ＤＭＤ２１０１により選択された変調光
２３０４が被測定体載置板１０４上の被測定体１０８に
斜めに入射するようにＤＭＤ素子の制御及びＤＭＤ２１
０１の配置を制御した点を特徴とし、この点のみが前述
の第１８の実施形態と異なる。

【０３００】したがって、以下では、前述の第１８の実
施形態と異なる点のみを主に説明する。

【０３０１】すなわち、図２３及び図２４に示されるよ
うに、本実施形態では、ＤＭＤ２１０１により選択され
た変調光２３０４が、被測定体１０８に斜めに照射され
る。

【０３０２】被測定体１０８から出射された信号光２４
０１は、導光部１０５内部を導光し、測定装置２４０２
に測定される。

【０３０３】一方、被測定体１０８を照射した変調光２
３０４は、被測定体１０８に斜めに照射されるため、信
号光２４０１が導光部１０５内部を導光する方向とは逆
側に導光される。

【０３０４】したがって、本実施形態では、測定装置２
４０２に測定される変調光２３０４を低減することがで
きる。

【０３０５】したがって、本発明に係る光学装置の第１
９の実施形態では、前述の本発明に係る光学装置の第１
８の実施形態と同様の効果を得ることができると共に、
ＤＭＤ２１０１に入射した参照光２３０３のうち、ＤＭ
Ｄ２１０１により選択された変調光２３０４を被測定体
１０８に斜めに入射させ、信号光２４０１が導光部１０
５を導光する方向とは逆側に変調光２３０４を導光する
ようにしているため、測定装置２４０２に測定される変
調光２３０４を軽減でき、測定の際のＳ／Ｎ比を向上さ
せることができる。

【０３０６】すなわち、被測定体１０８に斜めに変調光
が入射することにより被測定体からの光の検出の際に、
変調光成分を除去でき、信号光を主として測定すること
となり、Ｓ／Ｎ比を向上させることができる。

【０３０７】ただし、本実施形態でしようされる導光部
１０５がくさび型の場合、先端が尖っていないほうが望
ましい。なぜなら、先端が尖っていると不要光が外部に
抜けずらく、測定装置２４０２に達してしまう場合があ
るため。

【０３０８】（光学装置の第２０の実施形態）次に、本
発明に係る光学装置の第２０の実施形態について図２５
を参照して説明する。図２５は、本発明に係る光学装置
の第２０の実施形態の概略図である。

【０３０９】本実施形態の光学装置が前述の本発明に係
る光学装置の第１の実施形態と異なる点は、拡散板２５
０１が、被測定体載置板１０４に対して所定の角度傾い
て配置されている点であり、それ以外の点は同様である
ためその説明を省略する。また、図２５に示される例で
は、簡単のため、図１に示される偏光変換素子１０２は
省略している。

【０３１０】拡散板２５０１が、被測定体載置板１０４
に対して所定の角度傾いて配置されているとは、被測定
体載置板１０４の法線に対して、拡散板２５０１の法線
が所定の角度傾いていることをいう。

【０３１１】本実施形態は、前述の本発明に係る光学装
置の第１９の実施形態のように、被測定体１０８に斜め
に光を照射するための実施形態である。

【０３１２】すなわち、本実施形態は、被測定体１０８
に斜めに光を照射するために拡散板２５０１を斜めにし
ている。

【０３１３】拡散板２５０１から出射された光は、拡散
板２５０１の傾きに応じて被測定体１０８に斜めに照射
される。

【０３１４】そして、前述の第１９の実施形態の図２４
のように、被測定体１０８を照射した光は、被測定体１
０８の信号光とは逆側に導光される。

【０３１５】したがって、本実施形態では、本発明に係
る光学装置の第１の実施形態と同様の効果を得ることが
できると共に、被測定体載置板１０４に対して角度を持
って配置された拡散板２５０１により変調光２５０２を
被測定体１０８に斜めに入射させ、信号光が導光部１０
５を導光する方向とは逆側に変調光２５０２を導光する
ようにしているため、測定装置に測定される変調光２５
０２を軽減でき、測定の際のＳ／Ｎ比を向上させること
ができる。

【０３１６】（被測定体載置部及び被測定体の例）ここ
で、上記本発明に係る光学装置の各実施形態に用いられ
る被測定体載置部及び被測定体の例について説明する。
なお、以下に説明する被測定体載置部及び被測定体は、
本発明に係る被測定体載置部品の一実施形態となる。

【０３１７】被測定体載置部及び被測定体としては種々
のものが考えられるが、例えば第１例として、ＤＮＡチ
ップを挙げることができる。

【０３１８】ＤＮＡチップは、多数の異なったＤＮＡプ
ローブをガラス基板上に高密度に固定し、そのＤＮＡプ
ローブをハイブリダイズさせ、その蛍光等の信号を検出
してコンピューターで大量解析するためのものである。

【０３１９】したがって、ＤＮＡチップでは、ガラス基
板が被測定体載置部を構成し、ＤＮＡプローブが被測定
体を構成する。

【０３２０】また、被測定体載置部及び被測定体の第２
例として、ＤＮＡマイクロアレイを挙げることができ
る。

【０３２１】ＤＮＡマイクロアレイとは、ＤＮＡチップ
と構成・機能は同じであるが、作製方法がＤＮＡチップ
は半導体工程を利用するのに対し、ＤＮＡマイクロアレ
イはスポッターと呼ばれるものでプローブを滴下して作
製する。ＤＮＡチップの方が高密度にＤＮＡプローブが
配列されている。

【０３２２】したがって、ＤＮＡマイクロアレイにおい
ては、ガラス基板が被測定体載置部を構成し、ＤＮＡプ
ローブが被測定体を構成する。

【０３２３】また、被測定体載置部及び被測定体の第３
例として、ＥＣＡチップを挙げることができる。

【０３２４】ＥＣＡチップは、ＤＮＡチップと構成・機
能は同じであるが、検出に電気を用いるものである。電
気と光の両方を用いる場合もある。

【０３２５】したがって、ＥＣＡチップでは、ガラス基
板が被測定体載置部を構成し、ＤＮＡプローブが被測定
体を構成する。

【０３２６】また、被測定体載置部及び被測定体の第４
例として、プロテインチップを挙げることができる。

【０３２７】プロテインチップは、ＤＮＡチップが遺伝
子を解析するのに対し、プロテインチップはたんぱく質
を解析するのに用いられる。

【０３２８】したがって、ＥＣＡチップでは、ガラス基
板が被測定体載置部を構成し、ＤＮＡプローブが被測定
体を構成する。

【０３２９】ただし、本発明に係る光学装置の実施形態
に用いられる被測定体載置部及び被測定体としては上記
の例に限定されるものではなく、その他種々のものを用
いることができる。

【０３３０】（測定方法の実施形態）次に、本発明に係
る測定方法の一実施形態について図２６を参照して説明
する。図２６は、本発明に係る測定方法の一実施形態の
動作のフローチャートである。

【０３３１】本実施形態の測定方法は、前述の本発明に
係る光学装置の第１の実施形態から第２０の実施形態の
いずれかの光学装置を用いて行われる方法である。

【０３３２】本実施形態の測定方法は、光学装置が測定
するタイミングを制御してより信号光の測定精度を向上
させる測定方法である。以下、図面に沿って説明する。

【０３３３】図２６に示されるように、本実施形態の測
定方法は、光源、被測定体及び測定装置の３つの部品の
間の測定動作を制御する。

【０３３４】（一個目の被測定体）まず、一個目の被測
定体の測定を行う場合、光源をＯＮし（ステップ１）、
一個目の被測定体に照射を行う（ステップ２）。このス
テップ２の照射により被測定体は発光する（ステップ
３）。

【０３３５】次に、光源をＯＦＦする（ステップ４）。
ここで、このステップ４などで示される光源ＯＦＦと
は、光源が完全に発光を停止した場合のみならず、光源
の発光が略終わった場合も含む。

【０３３６】そして、光源がＯＦＦされた後、測定装置
は被測定体の発光を測定する（ステップ５）。

【０３３７】その後、被測定体は発光を終え（ステップ
６）、測定装置も測定を終了する（ステップ７）。

【０３３８】以下、二個目の被測定体の測定動作も、上
述のステップ１からステップ７の動作にそれぞれ対応し
て、ステップ８からステップ１４の動作が行われること
により、一個目の被測定体の測定動作と同様の動作が行
われる。

【０３３９】そして、三個目以降の被測定体の測定動作
も、前述の一個目の被測定体の測定動作と同様に行われ
る。

【０３４０】このように、本実施形態の測定方法によれ
ば、ステップ４及びステップ５に示されるように、光源
がＯＦＦされた後（ステップ４）に測定装置が測定を行
っているため（ステップ５）、光源から被測定体に照射
された参照光又は変調光が測定装置により測定されるこ
とを防ぎ又は軽減することができるので、Ｓ／Ｎ比を向
上させ、精度の良い測定を行うことができる。

【０３４１】（分析システムの実施形態）次に、本発明
に係る分析システムについて図２７、図２８及び図２９
を参照して説明する。図２７は、本発明に係る分析シス
テムの一実施形態の全体構成図、図２８は、図２７に示
される分析装置の内部ブロック図、図２９は、図２７に
示される分析システムの一実施形態の動作のフローチャ
ートである。

【０３４２】図２７に示されるように、本発明に係る分
析システムは、光学装置２７０１と、分析装置２７０２
と、情報データベース２７０３とから構成される。

【０３４３】光学装置２７０１は、前述の本発明に係る
光学装置の第１の実施形態から第２０の実施形態のうち
のいずれかを用いる。

【０３４４】分析装置２７０２は、光学装置２７０１及
び情報データベース２７０３から入力した情報に基づい
て比較、判定を行う装置である。

【０３４５】情報データベース２７０３は、分析装置２
７０２により分析を行う際に必要となる基準データが格
納されている。この情報データベース２７０３は、例え
ばハードディスク等を有するサーバにより構成される。

【０３４６】光学装置２７０１と、分析装置２７０２
と、情報データベース２７０３とはそれぞれネットワー
クにより接続されるとしても良いし、各装置が１つの装
置（筐体）に収納されていても良いし、分析装置２７０
２内部に光学装置２７０１及び情報データベース２７０
３の一方が格納されているとしても良い。

【０３４７】次に、図２７に示される分析装置２７０２
の内部構成について図２８を参照して説明する。

【０３４８】図２７に示される分析装置２７０２は、制
御部２８０１と、送受信部２８０１と、送受信部２８０
２と、比較判定部２８０３と、記憶部２８０４とを備
え、それぞれはバス２８０５により接続されている。

【０３４９】制御部２８０１は、それぞれの部を制御す
る。送受信部２８０２は、外部との情報のやりとりを行
う。比較判定部２８０３は、入力した情報に基づいて比
較、判定を行う。記憶部２８０４は、比較判定結果や入
力した情報などを記憶する。

【０３５０】図２８に示される各部の機能は、分析装置
が備えるＣＰＵが、単体で、その他の部品と共に又は主
記憶装置や補助記憶装置に記憶されているプログラムと
協働することにより実現される。

【０３５１】次に、図２７に示される分析システムの動
作について図２９参照して説明する。

【０３５２】まず、光学装置２７０１が測定を行い（ス
テップ２９０１）、この測定情報が分析装置２７０２に
送信される。

【０３５３】測定情報が送信された分析装置２７０２
は、情報データベース２７０３から比較情報を受信し、
測定情報と比較情報との比較を行う（ステップ２９０
２）。

【０３５４】そして、分析装置２７０２は比較結果に基
づいて判定を行う（ステップ２９０３）。この判定は、
例えば比較した結果、測定情報と比較情報とが一致した
あるいは一致しなかったなどがある。

【０３５５】次に、分析装置２７０２は判定結果を出力
し（ステップ２９０４）、動作を終える。

【０３５６】以上のように、本発明に係る分析システム
の一実施形態では、分析装置２７０２の分析により光学
装置２７０１が測定した結果に基づいて判定結果を出力
することが可能となる。

【０３５７】（分析システムを用いた本人照合方法）次
に、上記本発明に係る分析システムの一実施形態を本人
照合方法に適用した場合について図３０を参照して説明
する。この本人照合方法は本発明に係る本人照合方法の
一実施形態となる。図３０は、本発明に係る本人照合方
法の一実施形態のフローチャートである。

【０３５８】本発明に係る本人照合方法の一実施形態
は、前述の本発明に係る分析システムの一実施形態を用
いて本人照合を行う方法である。

【０３５９】そして、本発明に係る本人照合方法の一実
施形態を用いることにより、例えば、ある部屋に入室を
許可するかしないかを照合結果に基づいて判定すること
によるセキュリティシステムを構築したり、クレジット
カード等のカードの不正利用を防止する。

【０３６０】本実施形態の本人照合方法では、図２７に
示される分析装置２７０２が、光学装置２７０１から得
られる情報（ステップ３００１）と、データベースやカ
ードに格納された情報などの既知の情報（ステップ３０
０２）に基づいて、本人の同一性を判断する（ステップ
３００３）。

【０３６１】これらステップ３００１からステップ３０
０３までの動作は、前述の図２９に示されるフローチャ
ートのステップ２９０１からステップ２９０３までの動
作に対応する。

【０３６２】そして、分析装置により同一性が判断され
た後、その判断結果に基づいて、分析装置は、入室許可
やカードの使用許可をしたり（ステップ３００４）、入
室の不許可やカードの使用の不許可を行う（ステップ３
００５）。

【０３６３】したがって、本発明に係る本人照合方法の
一実施形態を、遺伝子情報を用いたセキュリティシステ
ムに適用した場合は以下のような動作となる。

【０３６４】（１）部屋の入り口等に上記実施形態の分
析システムを設置しておき、本発明に係る分析システム
の実施形態は、入室しようとする人物の遺伝子情報を読
み取る。

【０３６５】（２）あらかじめ、入室を許可する人物の
遺伝子情報をシステムにデータベースとして保存してお
き、本発明に係る分析システムの一実施形態は、入室し
ようとする人物が許可されているかどうかをこのデータ
ベースに格納された情報に基づいて比較判断する。

【０３６６】（３）本発明に係る分析システムの一実施
形態は、入室許可の人物であれば扉を開錠し、入室を許
可していない人物の場合は開錠しない。

【０３６７】また、本発明に係る本人照合方法の一実施
形態を、遺伝子情報を用いたカード使用の許可方法に適
用した場合は以下のような動作となる。

【０３６８】（１）クレジットカード等に正規利用者の
遺伝子情報を記録しておく。

【０３６９】（２）本発明に係る分析システムの一実施
形態は、クレジットカードを使用する際に、利用者の遺
伝子情報を分析する。

【０３７０】（３）本発明に係る分析システムの一実施
形態は、カードの保存情報と解析結果を照合して、正規
の利用者かどうかを判定する。

【０３７１】（４）本発明に係る分析システムの一実施
形態は、正規利用者の場合はカードの使用を許可し、正
規利用者でない場合はカードの使用を認めない。

【０３７２】以上のような本発明に係る本人照合方法の
一実施形態により、指紋照合、顔認識などに比べて、よ
り確度の高い本人照合方法とすることができる。

【０３７３】（アレルギー・副作用検査方法）次に、本
発明に係る分析システムの一実施形態を用いたアレルギ
ー・副作用検査方法について図３１を参照して説明す
る。この本発明に係る分析システムの一実施形態を用い
たアレルギー・副作用検査方法は、本発明に係るアレル
ギー・副作用検査方法の一実施形態となる。よって、図
３１は、本発明に係るアレルギー・副作用検査方法の一
実施形態のフローチャートである。

【０３７４】本実施形態のアレルギー・副作用検査方法
では、図２７に示される分析装置２７０２が、光学装置
２７０１から得られる情報（ステップ３１０１）と、デ
ータベースに格納された、アレルギー・副作用などを発
生するグループ情報（ステップ３１０２）とに基づい
て、利用者の遺伝子の属性を判断する（ステップ３１０
３）。

【０３７５】これらステップ３１０１からステップ３１
０３までの動作は、前述の図２９に示されるフローチャ
ートのステップ２９０１からステップ２９０３までの動
作に対応する。

【０３７６】そして、分析装置により属性が判断された
後、その判断結果に基づいて分析装置は、食品、薬の使
用を停止を指示したり（ステップ３１０４）、食品、薬
の使用の許可を行う（ステップ３１０５）。

【０３７７】このように、本発明に係る分析システムの
一実施形態を用いた、本実施形態のアレルギー・副作用
検査方法では例えば遺伝子情報を用いて判断する場合、
以下のような動作となる。

【０３７８】（１）開示された食品、薬を提供する際に
アレルギー、副作用を発生するグループの遺伝子情報を
データベースに格納する。

【０３７９】（２）本発明に係る分析システムの一実施
形態は、利用者がその食品や薬等を利用する前に利用者
自身の遺伝子情報を解析する。

【０３８０】（３）本発明に係る分析システムの一実施
形態は、利用者の遺伝子が提供されたグループ情報に属
するか否かを判定する。この判定は、その食品、薬を利
用してもアレルギー、副作用が発生しないかどうかを判
定する。

【０３８１】（４）本発明に係る分析システムの一実施
形態は、グループに属さない場合は食品、薬の使用を許
可し、属する場合はアレルギー等が発生する可能性があ
るので使用しないように指示する。

【０３８２】したがって、本実施形態によるアレルギー
・副作用検査方法では、従来アレルギーや副作用は摂取
するまで分からない場合が多かったが、本システムを利
用することで、あらかじめその判断をすることができ、
危険性を回避することができる。

【０３８３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、被測定
体を照射する光を選択して被測定体の測定を行っている
ため、小型化、高速化及び低コスト化を図ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光学装置の第１の実施形態の全体
概略図である。

【図２】図１に示される本発明に係る光学装置の第１の
実施形態の断面図である。

【図３】本発明に係る光学装置の第２の実施形態の断面
図である。

【図４】本発明に係る光学装置の第３の実施形態の一部
断面図である。

【図５】図３及び図４に示されるマイクロレンズアレイ
の一部拡大図である。

【図６】本発明に係る光学装置の第４の実施形態の一部
断面図である。

【図７】図６に示される光学装置の導光部の一部拡大図
である。

【図８】本発明に係る光学装置の第５の実施形態におい
て用いられる導光部の外観図である。

【図９】本発明に係る光学装置の第６の実施形態の一部
断面図である。

【図１０】本発明に係る光学装置の第７の実施形態の一
部断面図である。

【図１１】本発明に係る光学装置の第８の実施形態の一
部断面図である。

【図１２】本発明に係る光学装置の第９の実施形態の一
部断面図である。

【図１３】本発明に係る光学装置の第１０の実施形態の
断面図である。

【図１４】本発明に係る光学装置の第１１の実施形態の
断面図である。

【図１５】本発明に係る光学装置の第１２の実施形態の
光源部分の概略図である。

【図１６】本発明に係る光学装置の第１３の実施形態の
光源部分の概略図である。

【図１７】本発明に係る光学装置の第１４の実施形態に
おける導光部及び測定装置の概略図である。

【図１８】本発明に係る光学装置の第１５の実施形態の
受光部分の概略図である。

【図１９】本発明に係る光学装置の第１６の実施形態の
断面図である。

【図２０】本発明に係る光学装置の第１７の実施形態の
断面図である。

【図２１】本発明に係る光学装置の第１８の実施形態の
概略図である。

【図２２】図２１に示されるＤＭＤ素子２１０２の概略
図である。

【図２３】本発明に係る光学装置の第１９の実施形態の
概略図である。

【図２４】図２３に示される光学装置の導光部部分の断
面図である。

【図２５】本発明に係る光学装置の第２０の実施形態の
概略図である。

【図２６】本発明に係る測定方法の一実施形態の動作の
フローチャートである。

【図２７】本発明に係る分析システムの一実施形態の全
体構成図である。

【図２８】図２７に示される分析装置の内部ブロック図
である。

【図２９】図２７に示される分析システムの一実施形態
の動作のフローチャートである。

【図３０】本発明に係る本人照合方法の一実施形態のフ
ローチャートである。

【図３１】本発明に係るアレルギー・副作用検査方法の
一実施形態のフローチャートである。

【符号の説明】

１０１ 拡散板（光源手段、拡散手段） １０２ 偏光変換素子（偏光変換手段） １０３ 液晶パネル（選択透過手段） １０４ 被測定体載置板（被測定体載置手段） １０５ 導光部（受光手段、導光手段） １０６ 光源（光源手段） １０７ 液晶セル １０８ 被測定体 ３０１ マイクロレンズアレイ（集光手段） ３０２ レンズ部 ４０１ マイクロレンズアレイ（集光手段） ４０２ レンズ部 ６０１ 導光部 ６０２ パターン ８０１ 導光部 ９０１ ブラッググレーティングパターン（透過反射制
御手段） ９０２ 変調光 ９０３ Ｓ波信号光 ９０４ Ｐ波信号光 ９０５ 導光部 １００１ 光学膜（透過反射制御手段） １００２ 変調光 １００３ Ｓ波信号光 １００４ Ｐ波信号光 １００５ 導光部 １１０１ フィルタ（透過制限手段） １１０２ 変調光 １１０３ 信号光 １２０１ フィルタ（透過制限手段） １２０２ 変調光 １２０３ 信号光 １３０１ 拡散板（光源手段、拡散手段） １３０２ 偏光変換素子（偏光変換手段） １３０３ 液晶パネル（選択透過手段） １３０４ フィルタ（吸収手段） １３０５ 導光板（導光手段） １３０６ 被測定体載置板（被測定体載置手段） １３０７ 被測定体 １３０８ ＰＤ（ｐｈｏｔｏ ｄｉｏｄｅ）（測定手
段） １３０９ ＬＤ（ｌａｓｅｒ ｄｉｏｄｅ）（光源手
段、発光手段） １４０１ 光源（光源手段） １４０２ 受光素子（測定手段） １４０３ 偏光板（第１の偏光変換手段） １４０４ 液晶パネル（選択透過手段） １４０５ 偏光板（第２の偏光変換手段） １４０６ 被測定体載置板（被測定体載置手段） １４０７ 被測定体 １４０８ 導光部（導光手段） １４０９ 参照光 １４１０ 信号光 １５０１ａ，１５０１ｂ，１５０１ｃ，１５０１ｄ，１
５０１ｅ 光源 １５０２，１５０３，１５０４，１５０５ 光源アレー １６０１ 光源 １６０２，１６０３，１６０４ パターン １６０５ 拡散板 １７０１ 端面 １７０２ａ，１７０２ｂ，１７０２ｃ 受光素子 １７０２ｄ，１７０２ｅ，１７０２ｆ，１７０２ｇ 受
光素子 １８０１ 導光部 １８０２ 導光部（第２の導光手段） １８０３ 測定装置 １８０４ 導光部 １８０５ パターン １９０１，１９０２ アライメントマーク（第１の位置
決め手段） ２００１ スペーサ（第２の位置決め手段） ２１０１ ＤＭＤ（デジタルミラーデバイス） ２１０２ ＤＭＤ素子 ２１０３ 参照光 ２１０４ 変調光 ２２０１ 基板 ２２０２ マイクロミラー ２２０３ 支持部 ２２０４ トーションヒンジ ２２０５ ヨーク ２２０６ 柱部 ２３０３ 参照光 ２３０４ 変調光 ２４０１ 信号光 ２４０２ 測定装置 ２５０１ 拡散板 ２５０２ 変調光 ２７０１ 光学装置 ２７０２ 分析装置 ２７０３ 情報データベース（格納手段） ２８０１ 制御部 ２８０１ 送受信部 ２８０２ 送受信部 ２８０３ 比較判定部 ２８０４ 記憶部 ２８０５ バス

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西川 武男 京都府京都市下京区塩小路通堀川東入南不 動堂町801番地 オムロン株式会社内 Ｆターム(参考） 2G043 AA03 BA16 DA06 EA01 FA01 GA02 GB18 GB19 HA01 HA02 HA06 HA07 HA15 JA02 JA04 KA09 LA01 NA06 2G059 AA05 BB12 CC16 DD13 EE01 EE05 GG03 GG04 GG06 GG10 JJ02 JJ11 JJ13 JJ17 JJ18 JJ19 JJ26 KK01 KK04 MM10 4B063 QA11 QA18 QA20 QQ43 QR32 QR55 QS34 QX02

Claims (53)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光を発する光源手段と、 前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手
   段と、 前記偏光変換手段から出射された光のうち被測定体に照
   射される光を選択して透過させるための選択透過手段
   と、 前記選択透過手段を透過した光が照射される被測定体を
   載置する被測定体載置手段と、 前記光が照射された被測定体から発せられた光を受光す
   る受光手段とを備えることを特徴とする光学装置。
2. 【請求項２】 前記選択透過手段が、 前記被測定体載置手段上の被測定体に一対一に対応した
   液晶セルを複数有する液晶パネルを備え、 前記液晶セルに対する電圧の印加により、前記被測定体
   に照射される光を選択して透過させることを特徴とする
   請求項１に記載の光学装置。
3. 【請求項３】 前記選択透過手段と前記被測定体載置手
   段との間、及び前記被測定体載置手段と前記受光手段と
   の間との少なくとも一方の間に集光手段を設けたことを
   特徴とする請求項１又は２に記載の光学装置。
4. 【請求項４】 前記受光手段が 前記被測定体から発せられた光を導光する導光手段と、 前記導光手段を導光した光を測定する測定手段とを備え
   ることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記
   載の光学装置。
5. 【請求項５】 前記導光手段が、 くさび型であることを特徴とする請求項４に記載の光学
   装置。
6. 【請求項６】 前記導光手段が表面に、 複数のくさび型のパターンを備えることを特徴とする請
   求項４に記載の光学装置。
7. 【請求項７】 前記導光手段における、前記被測定体か
   ら発せられた光が入射する面とは逆側の面に、光の偏光
   状態に応じて光の透過及び反射を制御する透過反射制御
   手段を備えることを特徴とする請求項４から６のいずれ
   か１項に記載の光学装置。
8. 【請求項８】 前記導光手段における、前記被測定体か
   ら発せられた光が入射する面、及び前記導光手段から光
   が出射する面の少なくとも一方の面に、前記被測定体を
   照射した光の透過を制限する透過制限手段を備えること
   を特徴とする請求項４から６のいずれか１項に記載の光
   学装置。
9. 【請求項９】 前記測定手段が、前記導光手段における
   前記導光手段から光が出射する面に複数配置されること
   を特徴とする請求項４から８のいずれか１項に記載の光
   学装置。
10. 【請求項１０】 前記導光手段から光が出射する面に配
    置された第２の導光手段を備えることを特徴とする請求
    項４から８のいずれか１項に記載の光学装置。
11. 【請求項１１】 前記被測定体載置手段と、 前記導光手段及び前記選択透過手段との少なくとも一方
    とに、 該被測定体載置手段の面に平行な方向における位置決め
    のための第１の位置決め手段を設けたことを特徴とする
    請求項４から１０のいずれか１項に記載の光学装置。
12. 【請求項１２】 前記被測定体載置手段と前記導光手段
    との間、及び、前記被測定体載置手段と前記選択透過手
    段との間の少なくとも一方の間に、 前記被測定体載置手段の面に垂直な方向における位置決
    めのための第２の位置決め手段を設けたことを特徴とす
    る請求項４から１１のいずれか１項に記載の光学装置。
13. 【請求項１３】 前記光源手段が、 光を発する発光手段と、 前記発光手段からの光を拡散する拡散手段とを備えるこ
    とを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項に記載
    の光学装置。
14. 【請求項１４】 前記発光手段が、 前記拡散手段の少なくとも一端に複数配置されているこ
    とを特徴とする請求項１３に記載の光学装置。
15. 【請求項１５】 前記拡散手段が、 前記発光手段から離れるほど光の反射効率が高くなり、
    かつ、前記発光手段を中心とした同心円上において光の
    反射効率が略等しい複数のパターンを備えることを特徴
    とする請求項１３又は１４に記載の光学装置。
16. 【請求項１６】 前記光源手段の面が、 前記被測定体載置手段の面に対して所定の角度を有して
    配置されていることを特徴とする請求項１から１５に記
    載の光学装置。
17. 【請求項１７】 光を発する光源手段と、 前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手
    段と、 前記偏光変換手段から出射された光のうち被測定体に照
    射される光を選択して透過させるための選択透過手段
    と、 前記被測定体から発せられた光を吸収する吸収手段と、 前記被測定体から発せられた光を測定手段に導光する導
    光手段と、 前記被測定体を載置する被測定体載置手段とを備え、こ
    れらが上記順序で積層され、 前記導光手段を導光された光を測定する測定手段を備え
    ることを特徴とする光学装置。
18. 【請求項１８】 前記被測定体載置手段の下部に集光手
    段を設けたことを特徴とする請求項１７に記載の光学装
    置。
19. 【請求項１９】 前記導光手段が、 くさび型であることを特徴とする請求項１７又は１８に
    記載の光学装置。
20. 【請求項２０】 前記導光手段が表面に、 複数のくさび型のパターンを備えることを特徴とする請
    求項１７又は１８に記載の光学装置。
21. 【請求項２１】 前記光源手段が、 光を発する発光手段と、 前記発光手段からの光を拡散する拡散手段とを備えるこ
    とを特徴とする請求項１７から２０のいずれか１項に記
    載の光学装置。
22. 【請求項２２】 前記発光手段が、 前記拡散手段の少なくとも一端に複数配置されているこ
    とを特徴とする請求項２１に記載の光学装置。
23. 【請求項２３】 前記拡散手段が、 前記発光手段から離れるほど光の反射効率が高くなり、
    かつ、前記発光手段を中心とした同心円上において光の
    反射効率が略等しい複数のパターンを備えることを特徴
    とする請求項２１又は２２に記載の光学装置。
24. 【請求項２４】 前記測定手段が、前記導光手段におけ
    る前記導光手段から光が出射する面に複数配置されるこ
    とを特徴とする請求項１７から２３のいずれか１項に記
    載の光学装置。
25. 【請求項２５】 前記導光手段から光が出射する面に配
    置された第２の導光手段を備えることを特徴とする請求
    項１７から２３のいずれか１項に記載の光学装置。
26. 【請求項２６】 前記被測定体載置手段と前記導光手段
    とに、 前記被測定体載置手段の面に平行な方向における位置決
    めのための第１の位置決め手段を設けたことを特徴とす
    る請求項１７から２５のいずれか１項に記載の光学装
    置。
27. 【請求項２７】 前記被測定体載置手段と前記導光手段
    との間に、 前記被測定体載置手段の面に垂直な方向における位置決
    めのための第２の位置決め手段を設けたことを特徴とす
    る請求項１７から２６のいずれか１項に記載の光学装
    置。
28. 【請求項２８】 光を発する光源手段及び被測定体から
    の光を測定する測定手段とが一端面に配置された、前記
    光源手段から発せられた光及び前記被測定体から発せら
    れた光を導光する導光手段と、 前記導光手段から出射された光の偏光状態を変換する第
    １の偏光変換手段と、 前記第１の偏光変換手段から出射された光のうち被測定
    体に照射される光を選択して透過させるための選択透過
    手段と、 前記被測定体から発せられた光の偏光状態を変換する第
    ２の偏光変換手段と、 前記被測定体を載置する被測定体載置手段とを備え、こ
    れらが上記順序で積層されたことを特徴とする光学装
    置。
29. 【請求項２９】 前記導光手段と前記第１の偏光変換手
    段との間、及び、前記選択透過手段と前記第２の偏光変
    換手段との間の少なくとも一方の間に集光手段を設けた
    ことを特徴とする請求項２８に記載の光学装置。
30. 【請求項３０】 前記導光手段が、 くさび型であることを特徴とする請求項２８又は２９に
    記載の光学装置。
31. 【請求項３１】 前記導光手段が表面に、 複数のくさび型のパターンを備えることを特徴とする請
    求項２８又は２９に記載の光学装置。
32. 【請求項３２】 前記測定手段が、前記導光手段におけ
    る前記導光手段から光が出射する面に複数配置されるこ
    とを特徴とする請求項２８から３１のいずれか１項に記
    載の光学装置。
33. 【請求項３３】 前記導光手段から光が出射する面に配
    置された第２の導光手段を備えることを特徴とする請求
    項２８から３１のいずれか１項に記載の光学装置。
34. 【請求項３４】 前記被測定体載置手段と前記第２の偏
    光変換手段とに、 該被測定体載置手段の面に平行な方向における位置決め
    のための第１の位置決め手段を設けたことを特徴とする
    請求項２８から３３のいずれか１項に記載の光学装置。
35. 【請求項３５】 前記被測定体載置手段と前記第２の偏
    光変換手段との間に、 前記被測定体載置手段の面に垂直な方向における位置決
    めのための第２の位置決め手段を設けたことを特徴とす
    る請求項２８から３４のいずれか１項に記載の光学装
    置。
36. 【請求項３６】 光を発する光源手段と、 前記光源手段から出射された光のうち被測定体に照射さ
    れる光を選択するためのデジタルミラーデバイスと、 前記デジタルミラーデバイスにより選択された光が照射
    される被測定体を載置する被測定体載置手段と、 前記光が照射された被測定体から発せられた光を導光す
    る導光手段と、 前記導光手段を導光した光を測定する測定手段とを備え
    ることを特徴とする光学装置。
37. 【請求項３７】 前記被測定体載置手段の上部又は下部
    の少なくとも一方に、光を集光するための集光手段を備
    えることを特徴とする請求項３６に記載の光学装置。
38. 【請求項３８】 前記デジタルミラーデバイスにより選
    択された光が、前記被測定体載置手段の面の法線に対し
    て非平行に入射し、 前記導光手段内において、前記デジタルミラーデバイス
    により選択された光が前記測定装置側とは逆側に導光さ
    れることを特徴とする請求項３６又は３７に記載の光学
    装置。
39. 【請求項３９】 前記導光手段が、 くさび型であることを特徴とする請求項３６から３８の
    いずれか１項に記載の光学装置。
40. 【請求項４０】 前記導光手段がその表面に、 複数のくさび型のパターンを備えることを特徴とする請
    求項３６から３８のいずれか１項に記載の光学装置。
41. 【請求項４１】 前記導光手段における、前記被測定体
    から発せられた光が入射する面、及び前記導光手段から
    光が出射する面の少なくとも一方の面に、 前記被測定体を照射した光の透過を制限する透過制限手
    段を備えることを特徴とする請求項３６から４０のいず
    れか１項に記載の光学装置。
42. 【請求項４２】 前記光源手段が、 光を発する発光手段と、 前記発光手段からの光を拡散する拡散手段とを備えるこ
    とを特徴とする請求項３６から４１のいずれか１項に記
    載の光学装置。
43. 【請求項４３】 前記発光手段が、 前記拡散手段の少なくとも一端に複数配置されているこ
    とを特徴とする請求項４２に記載の光学装置。
44. 【請求項４４】 前記拡散手段が、 前記発光手段から離れるほど光の反射効率が高くなり、
    かつ、前記発光手段を中心とした同心円上において光の
    反射効率が略等しい複数のパターンを備えることを特徴
    とする請求項４２又は４３に記載の光学装置。
45. 【請求項４５】 前記測定手段が、前記導光手段におけ
    る前記導光手段から光が出射する面に複数配置されるこ
    とを特徴とする請求項３６から４４のいずれか１項に記
    載の光学装置。
46. 【請求項４６】 前記導光手段から光が出射する面に配
    置された第２の導光手段を備えることを特徴とする請求
    項３６から４５のいずれか１項に記載の光学装置。
47. 【請求項４７】 前記被測定体載置手段と前記導光手段
    とに、 前記被測定体載置手段の面に平行な方向における位置決
    めのための第１の位置決め手段を設けたことを特徴とす
    る請求項３６から４６のいずれか１項に記載の光学装
    置。
48. 【請求項４８】 前記被測定体載置手段と前記導光手段
    との間に、 前記被測定体載置手段の面に垂直な方向における位置決
    めのための第２の位置決め手段を設けたことを特徴とす
    る請求項３６から４７のいずれか１項に記載の光学装
    置。
49. 【請求項４９】 上記請求項１から４８のいずれか１項
    に記載の光学装置に使用され、被測定体を載置した被測
    定体載置手段として機能することを特徴とする被測定体
    載置部品。
50. 【請求項５０】 上記請求項１から４８のいずれか１項
    に記載の光学装置に より被測定体を測定する測定方法であって、 光源を発光させ、この発光により被測定体を照射して発
    光させる工程と、 前記光源の発光を停止する工程と、 前記光源の発光が停止された後に前記被測定体からの発
    光を上記請求項１から４８のいずれか１項に記載の光学
    装置により測定する工程とを備える測定方法。
51. 【請求項５１】 上記請求項１から請求項４８のいずれ
    か１項に記載の光学装置と、 前記光学装置から出力された測定情報と比較するための
    比較情報を格納した格納手段と、 前記光学装置から出力された測定情報と、前記格納手段
    に格納されている比較情報とに基づいて被測定体の分析
    を行う分析装置とを備えることを特徴とする分析システ
    ム。
52. 【請求項５２】 上記請求項５１に記載の分析システム
    を用いた本人照合方法であって、 前記光学装置がユーザの遺伝子情報を測定して測定情報
    とし、 前記格納手段には本人を示す遺伝子情報が比較情報とし
    て格納され、 前記分析装置は、前記光学装置により測定された遺伝子
    情報と前記格納手段に格納されている本人を示す遺伝子
    情報とに基づいて本人の照合を行うことを特徴とする本
    人照合方法。
53. 【請求項５３】 上記請求項５１に記載の分析システム
    を用いたアレルギー・副作用検査方法であって、 前記光学装置がユーザの遺伝子情報を測定して測定情報
    とし、 前記格納手段にはアレルギー・副作用を発生するグルー
    プ情報が比較情報として格納され、 前記分析装置は、前記光学装置により測定された遺伝子
    情報と前記格納手段に格納されているアレルギー・副作
    用を発生するグループ情報とに基づいてアレルギー・副
    作用を検査することを特徴とするアレルギー・副作用検
    査方法。