JP3782071B2 - 残留塩素濃度計測設備 - Google Patents
残留塩素濃度計測設備 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3782071B2 JP3782071B2 JP2003150708A JP2003150708A JP3782071B2 JP 3782071 B2 JP3782071 B2 JP 3782071B2 JP 2003150708 A JP2003150708 A JP 2003150708A JP 2003150708 A JP2003150708 A JP 2003150708A JP 3782071 B2 JP3782071 B2 JP 3782071B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chlorine
- concentration
- residual chlorine
- circulating water
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 73
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 title claims description 73
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 title claims description 73
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 59
- OSVXSBDYLRYLIG-UHFFFAOYSA-N dioxidochlorine(.) Chemical compound O=Cl=O OSVXSBDYLRYLIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 52
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 31
- 239000004155 Chlorine dioxide Substances 0.000 claims description 26
- 235000019398 chlorine dioxide Nutrition 0.000 claims description 26
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 15
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 9
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 20
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 7
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 6
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N chlorous acid Chemical class OCl=O QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000645 desinfectant Substances 0.000 description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 4
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 3
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 3
- 239000003206 sterilizing agent Substances 0.000 description 3
- 239000013043 chemical agent Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- VOWOEBADKMXUBU-UHFFFAOYSA-J molecular oxygen;tetrachlorite;hydrate Chemical compound O.O=O.[O-]Cl=O.[O-]Cl=O.[O-]Cl=O.[O-]Cl=O VOWOEBADKMXUBU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 2
- ZKQDCIXGCQPQNV-UHFFFAOYSA-N Calcium hypochlorite Chemical compound [Ca+2].Cl[O-].Cl[O-] ZKQDCIXGCQPQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 1
- YVBZFMJVCNCBDQ-UHFFFAOYSA-M [O-]Cl=O.O=[Cl+]=O Chemical class [O-]Cl=O.O=[Cl+]=O YVBZFMJVCNCBDQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001919 chlorite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052619 chlorite group Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007973 cyanuric acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001802 infusion Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000546 pharmaceutical excipient Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Filtration Of Liquid (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、水槽と濾過装置とに亘って循環する循環水に塩素計の検出部を浸漬して残留塩素濃度を計測する残留塩素濃度計測設備に関する。
【０００２】
【従来の技術】
上記残留塩素濃度計測設備では、例えば、浴槽やプール，人工池などの水槽と濾過装置とに亘って循環する循環水に塩素計の検出部を浸漬して残留塩素濃度を計測するので、循環水の水垢スライムなどの有機物が検出部に付着堆積し易く、付着堆積した有機物が検出部と循環水との接触を妨げて、計測精度が低下して、残留塩素濃度計測結果が濃度不足側に誤計測する問題がある。
このため、例えば、回転電極ポーラログラフ方式の残留塩素計で計測する場合、ガラスやセラッミク製の多数のビーズ状研磨材を充填してある研磨材充填部に検出用の循環水を流入させるとともに、作用極（検出部) をその研磨材充填部の研磨材に潜り込ませて電動モータなどで駆動回転自在に支持し、作用極の駆動回転で、その作用極を研磨材に擦り付けるなどの機械的手段で有機物を除去して、有機物の作用極への付着堆積を防止している（例えば、特許文献１参照) 。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００２−３３３４２７号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
このため、有機物を機械的に除去するための構造が煩雑化するだけでなく、計測精度を高く維持するために、検出部周りの洗浄などの除去装置（機械的手段) のメンテナンスに手間が掛かる欠点がある。
つまり、検出部に付着堆積した有機物を単に除去するだけなので、除去した有機物が検出部近くに溜まると、溜まった有機物による残留塩素の消費に起因して、検出部近くにおける残留塩素濃度が低下し、その結果、実際よりも低い残留塩素濃度を計測することになるので、計測精度を維持するために、除去した有機物が検出部近くに溜まらないように、検出部周りの洗浄などのメンテナンスに手間が掛かるのである。
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであって、有機物を除去するための構造が煩雑化せずに、検出部に付着した有機物を簡便に除去でき、計測精度を高く維持するためのメンテナンスの手間も軽減できるようにすることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
【０００７】
【０００８】
【０００９】
【００１０】
【００１１】
請求項１記載の発明の特徴構成は、水槽と濾過装置とに亘る循環路中で、その循環路を循環する循環水に塩素計の検出部を浸漬し、前記水槽よりも下流側で、かつ、前記検出部の浸漬箇所よりも上流側の循環路に、循環水に二酸化塩素添加用薬剤を投入可能な投入部を設けてある点にある。
【００１２】
〔作用及び効果〕
水槽よりも下流側で、かつ、残留塩素計の前記検出部の浸漬箇所よりも上流側の循環路に、循環水に二酸化塩素添加用薬剤を投入可能な投入部を設けてあるので、その投入部から二酸化塩素添加用薬剤を循環水に投入することにより、殺菌力も酸化力も強い二酸化塩素を含む循環水を検出部の浸漬箇所に流入させることができる。
その結果、従来のような有機物を除去するための構造が煩雑化し易い機械的手段を特に設けることなく、また、検出部に付着した有機物が残留塩素を消費しないように、二酸化塩素で有機物を分解して簡便に除去できるとともに、計測精度を高く維持するためのメンテナンスの手間も軽減できる。
【００１３】
【００１４】
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１は、浴槽（水槽の一例) １と濾過装置２とを、浴槽水３を濾過装置２に流入させる流入配管４と、濾過装置２を通過した浴槽水３を浴槽１に戻す戻し配管５とで接続して水循環路６を構成し、流入配管４に設けた循環ポンプ７の駆動で、浴槽水３を循環水として、循環水３に含まれる濁質分を濾過装置２で除去しながら、水循環路６に沿って浴槽１と濾過装置２とに亘って循環させる浴槽水循環設備を示す。
【００１６】
そして、殺菌剤注入装置８を設けるとともに、浴槽１と濾過装置２とに亘って循環する循環水３に塩素計９の検出部１０を浸漬してある本発明による残留塩素濃度計測設備Ａを設けて、塩素計９による残留塩素濃度の計測結果に基づく殺菌剤注入装置８の作動で、必要量の殺菌剤を循環水３に注入して、残留塩素濃度を設定濃度範囲に維持できるように構成してある。
【００１７】
前記殺菌剤注入装置８は、塩素系殺菌剤溶液を貯留している殺菌用薬液タンク１１と、殺菌用薬液タンク１１の殺菌剤溶液を注入管１２を通して流入配管４に注入する注入ポンプ１３と、塩素計９による残留塩素濃度の計測結果に基づいて注入ポンプ１３を駆動させる制御装置１４とを設けて、塩素計９が設定濃度範囲の残留塩素濃度を計測するように、必要量の殺菌剤溶液を流入配管４内の循環水３に注入できるように構成してある。
【００１８】
前記残留塩素濃度計測設備Ａは、作用極と対極との一対の電極を検出部１０とする回転電極式或いは隔膜電極式のポーラログラフ電極法やガルバニー電極法による塩素計９を使用して残留塩素濃度を計測するもので、水循環路６から循環水３を取り出す取水路１５を戻し配管５に分岐接続して、その取水路１５の取り出し循環水に検出部１０を浸漬してある。
【００１９】
そして、検出部１０の浸漬箇所よりも上流側の取水路１５に、二酸化塩素添加用薬剤を投入可能な投入部１６を設けて、浴槽１よりも下流側で、かつ、検出部１０の浸漬箇所よりも上流側の循環水３に二酸化塩素添加用薬剤を投入できるように構成してある。
【００２０】
尚、本実施形態では、二酸化塩素添加用薬剤を投入した循環水（取り出し循環水) は、検出部１０の浸漬箇所を通過した後、必要な中和処理などを行って排水するように構成してあるが、検出部１０の浸漬箇所を通過した後、戻し配管５に流入させて循環させるように構成しても良い。
【００２１】
前記投入部１６は、二酸化塩素添加用薬剤としてのテトラクロロデカオキサイド（ＴＣＤＯ) などの変性亜塩素酸塩の水溶液を貯留している二酸化塩素添加用薬液タンク１７と、二酸化塩素添加用薬液タンク１７の変性亜塩素酸塩水溶液を投入管１８を通して取水路１５の取り出し循環水に投入する投入ポンプ１９とを設けて構成してある。
【００２２】
そして、取り出し循環水に塩素計９の検出部１０を浸漬して計測処理部２０により残留塩素濃度を計測するとともに、検出部１０の浸漬箇所よりも上流側の取り出し循環水に変性亜塩素酸塩水溶液を投入する本発明による残留塩素濃度計測方法により、取り出し循環水に添加されている塩素系殺菌剤と変性亜塩素酸塩との［化１］に示す反応によって、幅広いｐＨ値範囲で強い殺菌力（塩素の殺菌効果の約２．６倍) と酸化力（塩素の酸化力の約１０倍) を発揮し、しかも、結合塩素やトリハロメタンなどの有害物質を生成するおそれが少ない二酸化塩素（ＣｌＯ2)を取り出し循環水中に生成して、この二酸化塩素の殺菌力と酸化力で検出部１０に付着堆積している有機物を分解除去できるようにしてある。
【００２３】
【化１】
前記塩素系殺菌剤としては、次亜塩素酸ナトリウムや次亜塩素酸カルシウムなどの無機系次亜塩素酸塩や、塩素化イソシアヌル酸などを使用することができ、また、変性亜塩素酸塩としては、例えば特公平６−１０２５２２号公報に記載されているものを使用することができ、循環水３中での二酸化塩素濃度が０．０１〜０．４ｍｇＣｌＯ2 ／ミリリットルになるように投入するのが望ましい。
【００２５】
〔その他の実施形態〕
１．本発明による残留塩素濃度計測設備は、塩素計の検出部を、水槽と濾過装置とに亘る循環路の循環水に浸漬してあっても、濾過装置よりも上流側の循環水に浸漬してあっても良い。
２．本発明による残留塩素濃度計測設備は、水槽と濾過装置とに亘る循環路に、二酸化塩素添加用薬剤を投入可能な投入部を設けてあっても良い。
この場合は、検出部だけでなく、投入部よりも下流側の循環路への水垢スライムなどの有機物の付着堆積も防止できる。
３．本発明による残留塩素濃度計測設備は、人が人為操作で二酸化塩素添加用薬剤を投入可能な投入部を設けてあっても良い。
４．本発明による残留塩素濃度計測設備は、プール，人工池などの水槽と濾過装置とに亘って循環する循環水に塩素計の検出部を浸漬してあるものでも良い。
５．本発明による残留塩素濃度計測設備は、二酸化塩素添加用薬剤として、安定化二酸化塩素や二酸化塩素の水溶液などを投入するように構成してあっても良い。
【００２６】
【実施例】
図２，図３は、実施形態で示した浴槽水循環設備の残留塩素濃度計測設備Ａを使用して、ポーラログラフ電極法による塩素計９の残留塩素濃度の計測結果に基づいて注入ポンプ１３を駆動させて、塩素計９が設定濃度範囲の残留塩素濃度を計測するように、次亜塩素酸系殺菌剤溶液を循環水３に添加する残留塩素濃度維持運転を実行した場合の、塩素計９による残留塩素濃度の計測濃度Ｂと、浴槽１から採水した浴槽水３の残留塩素濃度をＤＰＤ法によって計測した計測濃度Ｃとの経日変化を示している。
【００２７】
図２は、二酸化塩素添加用薬剤を投入しない場合の経日変化を示し、残留塩素濃度維持運転の開始から数日経過した後、徐々に塩素計９による計測濃度ＢとＤＰＤ法による計測濃度Ｃとに誤差が生じて、ＤＰＤ法による計測濃度Ｃが大きく増加した。
【００２８】
そこで、塩素計９の検出部１０を取り外したところ、電極全体に水垢スライムと見られるぬめりが確認できたために、電極全体を洗浄して、再度、検出部１０を循環水に浸漬し、残留塩素濃度維持運転を再開したが、運転再開から数日経過した後、同様の現象が見られた。
【００２９】
このことから、塩素計９の検出部１０に水垢スライム等の有機物が付着して、塩素計９が実際よりも低い残留塩素濃度を計測し、その計測結果に基づいて注入ポンプ１３を駆動させて、塩素計９が設定濃度範囲の残留塩素濃度を計測するように、殺菌剤溶液を循環水３に過剰に注入し続けたことに起因しているのが分かる。
【００３０】
図３は、特公平６−１０２５２２号公報に示される変性亜塩素酸塩水溶液を二酸化塩素添加用薬剤として、浴槽１内の浴槽水３中での二酸化塩素濃度が０．２ｍｇＣｌＯ2 ／ミリリットルになるように投入しながら、残留塩素濃度維持運転を実行した場合の、塩素計９による残留塩素濃度の計測濃度Ｂと、浴槽１から採水した浴槽水３の残留塩素濃度をＤＰＤ法によって計測した計測濃度Ｃとの経日変化を示している。
【００３１】
図３から、塩素計９による計測濃度ＢとＤＰＤ法による計測濃度Ｃとに大きな差がなくて、残留塩素濃度が安定して維持されており、二酸化塩素添加用薬剤の投入によって、検出部１０への水垢スライムなどの有機物の付着を効果的に防止できていることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 浴槽水循環設備の概略図
【図２】 二酸化塩素添加用薬剤を投入しない場合の残留塩素濃度の、塩素計による計測濃度と、ＤＰＤ法による計測濃度との経日変化を示すグラフ
【図３】 二酸化塩素添加用薬剤を投入した場合の残留塩素濃度の、塩素計による計測濃度と、ＤＰＤ法による計測濃度との経日変化を示すグラフ
【符号の説明】
１ 水槽
２ 濾過装置
３ 循環水
６ 循環路
９ 塩素計
１０ 検出部
１５ 取水路
１６ 投入部
Ｂ 計測濃度
Claims (1)
- 水槽と濾過装置とに亘る循環路中で、その循環路を循環する循環水に塩素計の検出部を浸漬し、
前記水槽よりも下流側で、かつ、前記検出部の浸漬箇所よりも上流側の循環路に、循環水に二酸化塩素添加用薬剤を投入可能な投入部を設けてある残留塩素濃度計測設備。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003150708A JP3782071B2 (ja) | 2003-05-28 | 2003-05-28 | 残留塩素濃度計測設備 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003150708A JP3782071B2 (ja) | 2003-05-28 | 2003-05-28 | 残留塩素濃度計測設備 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004354147A JP2004354147A (ja) | 2004-12-16 |
| JP3782071B2 true JP3782071B2 (ja) | 2006-06-07 |
Family
ID=34046441
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003150708A Expired - Fee Related JP3782071B2 (ja) | 2003-05-28 | 2003-05-28 | 残留塩素濃度計測設備 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3782071B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9016110B2 (en) | 2010-11-22 | 2015-04-28 | Nalco Company | Apparatus for on-line continuous chlorine analysis in turbid water and process streams |
-
2003
- 2003-05-28 JP JP2003150708A patent/JP3782071B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2004354147A (ja) | 2004-12-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5691519B2 (ja) | 造水方法 | |
| JP3153473B2 (ja) | 医療器具用消毒装置 | |
| JPH08252310A (ja) | 電解生成酸性水を用いた人工透析装置の洗浄殺菌方法およびその装置 | |
| EP1461474A4 (en) | METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING WATER WITH NEGATIVE AND POSITIVE REDOX POTENTIAL (ORP) | |
| WO2009076225A1 (en) | Membrane cycle cleaning | |
| US20050133461A1 (en) | Composition and method for cleaning contained bodies of water | |
| JP3171387U (ja) | バラスト水処理システム | |
| KR101486502B1 (ko) | 선박평형수 처리 시스템 | |
| JP3290555B2 (ja) | 浸漬型膜カートリッジの槽内洗浄方法 | |
| JP2010088759A (ja) | 透析治療により生じた透析液排水を含む排水の処理方法 | |
| JP3782071B2 (ja) | 残留塩素濃度計測設備 | |
| JP2576033B2 (ja) | 内視鏡の洗浄方法とその装置 | |
| CN102964023B (zh) | 水处理方法和水处理装置 | |
| KR100724707B1 (ko) | 염소/탈염소제 주입량 결정 방법과 제어장치 및 그를 이용한 하수 정화장치 | |
| KR20140115884A (ko) | 선박평형수 처리 시스템 | |
| KR20120132148A (ko) | 새로운 소독제를 이용한 여과막 세척 방법 | |
| CN210481074U (zh) | 一种用于工业废水的处理装置 | |
| JP2021006335A (ja) | 分離膜プラントにおける分離膜の酸化リスク評価方法および造水装置 | |
| FR3027612A1 (fr) | Dispositif de desinfection de l'eau a configurations multiples utilisant une cellule d'electrolyse | |
| KR101566085B1 (ko) | 막 모듈과 전기분해 공정 및 막 세정수단을 포함하는 고농도 유기물질 및 암모니아를 포함한 폐수의 처리장치 | |
| JP6494346B2 (ja) | 膜分離装置の分離膜の洗浄方法および洗浄システム | |
| JP3999967B2 (ja) | 水処理装置 | |
| JP2018114471A (ja) | 水処理システム | |
| JP2007319801A (ja) | 循環浄水装置の洗浄方法及び循環浄水装置 | |
| JP3671137B2 (ja) | 透析液供給ライン及び透析液用希釈水給水ラインの洗浄方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050512 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050519 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050719 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060223 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060308 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3782071 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090317 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100317 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110317 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110317 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120317 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130317 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140317 Year of fee payment: 8 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |