JP3776089B2 - 液晶ディスプレイパネルの電触防止の機構と方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は一種の液晶ディスプレイパネルの設計に係り、特に、液晶ディスプレイパネルの電触防止の機構と方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在の科学技術の日進月歩の発展にあって、科学製品の精密度と製品構造中の安定性は、すでに製品の発展にあって、不可欠の事項とされている。近年、ＴＦＴ液晶ディスプレイが急速に発展し、その用途はますます広がり、応用範囲は、早期のノートブック型コンピュータからデスクトップ型コンピュータのスクリーンに発展し、日本のＴＦＴ液晶ディスプレイメーカーは次々と商用の液晶テレビを販売している。こうしてＴＦＴ液晶ディスプレイは従来のＣＲＴディスプレイに代わりつつある。
【０００３】
電触現象はＴＦＴ液晶ディスプレイに損壊を発生させやすく、それを運転不能とする原因の一つである。ＴＦＴ基板の表面の絶縁層には孔が発生する恐れがあり、このため端子の一部の金属リード線上方が孔を透過し、金属を露出させて外界空気と接触させる。液晶が湿った環境にあると水気が孔に付着し、金属リード線と外界が導通回路を形成する。すなわち、液晶が駆動する時、もう一つの電極と端子リード線金属の間に電位差が発生し、並びに導体により二つの電極が導通すると、端子金属の電触現象が発生し、ＴＦＴ液晶ディスプレイが破壊される恐れがある。
【０００４】
図１は周知のＴＦＴ液晶ディスプレイの、ＴＦＴ基板１、端子リード線３（図２中に表示）、及びカラーフィルタ基板５の各部品構造の相対関係表示図である。図２はそのＡ−Ａ断面図であり、図３はそのＢ−Ｂ断面図である。
ＴＦＴ液晶パネルの端子部分の電触発生メカニズムには二種類がある。そのうち第１種は、Ａ−Ａ断面において発生しやすい電触メカニズムであり、図２に示され、第２種はＢ−Ｂ断面において発生しやすい電触メカニズムであり、図３に示される。
【０００５】
図２に示されるように、ＴＦＴ基板１の上には端子リード線３が設けられ、水気、汚れ或いは他の不純物を隔離し、ＴＦＴ基板１上の端子リード線３が正常状況で運転できなくなるのを防止するため、絶縁層７がＴＦＴ基板１の端子リード線３を被覆し、ＴＦＴ基板１と端子リード線３を保護するよう形成され、これにより外界不純物（水、汚れ）の影響を防止している。
【０００６】
二つの隣り合う端子リード線３の上の絶縁層７に孔９と孔１１が発生する時、通電できる導体により二つの孔９、１１が連接されなければ電触現象は発生しない。しかし、通電できる導体、例えば水滴１３が孔９と孔１１の上に凝結し、且つ二つのリード線に異なる信号が入力されると、二つの隣り合う端子リード線３が異なる電圧を有し、二つの隣り合う端子リード線３が電圧差を発生し、孔９、水滴１３と孔１１の回路が連結されて、二つの端子リード線３の間の電流流通が形成されて短絡が形成され、これにより電触現象が形成されて電極を侵食し、これによりＴＦＴ液晶ディスプレイが操作不能となる恐れがある。
【０００７】
図３に示されるのは現段階のカラーフィルタの部品組成表示図であり、カラーフィルタ基板５（不導電のガラス母材で形成）のほか、さらにブラックマトリクス１５、カラーフィルタ１７、ＩＴＯ導電薄膜２１を具えている。生産工程で、まずブラックマトリクス１５がカラーフィルタ基板５の上でエッチングされて、漏光を防止するブラック遮光フレームが形成され、次に順にカラーフィルタ１７即ちＲＧＢの三つのカラーホトレジストが塗布され、現像とエッチングの工程の後、一層のガラスに透光させると共に導電特性を具備する（電気抵抗値が低い）ＩＴＯ導電薄膜２１が形成され、図３に示されるカラーフィルタ基板５部分の構造が形成される。その後、さらにフレーム樹脂２３が接合リング面２４上方のＩＴＯ導電薄膜２１とＴＦＴ液晶ディスプレイの接合リング面２４上方の絶縁層７に連接され、フレーム樹脂２３、内表面２８と内表面３０が共同で液晶２５を包囲被覆する。
【０００８】
第２種の電触メカニズムは図３に示されるように、外表面３２と外表面３４の間に発生し、即ちＴＦＴ側端子リード線３とカラーフィルタ基板５の間に発生する電触であある。カラーフィルタ基板５の側辺には、導電性を有するブラックマトリクス１５とＩＴＯ導電薄膜２１と、導電性を具備せず且つブラックマトリクス１５とＩＴＯ導電薄膜２１の間に位置するカラーフィルタ１７があり、液晶２５はＩＴＯ導電薄膜２１及びフレーム樹脂２３と相互に接触している。孔２７が発生する時、端子リード線３の電圧が、ＩＴＯ導電薄膜２１（或いはブラックマトリクス１５）の電圧と異なるために、両端に電圧差が発生する。導体による連接がなければ、自然に導通状況は発生せず、電触現象による損壊も形成されない。しかし導体、例えば水滴１３が二つの異なる電圧に対する連接作用を形成すると、電流が導通し、短絡し、端子リード線３、ＩＴＯ導電薄膜２１（或いはブラックマトリクス１５）が侵食損壊される。
【０００９】
以上から分かるように、電触発生メカニズムは、次の二つの条件を満足させる必要があり、即ち、１．導体で連接され且つ異なる電圧を有する二つ以上の電極（例えば絶縁層に孔が発生し、二つの電極が導体により連接される。絶縁層に孔が発生しなければ二つの電極は自然には連接しない。）を有し、電圧差が発生する。２．導体（例えば水分）を透過し異なる電圧差の電極が導通し、これにより電流を発生する。ゆえに以上の二つの条のうちいずれか一方が減れば、電触現象は発生しない。
【００１０】
ゆえに、周知の電触メカニズム防止の技術は、図４に示される方式を使用し、二つの基板の接合工程完成後に、人工塗布により、絶縁塗料２９を端子側に塗布し、露出した端子領域と二つの基板間隙を被覆する。絶縁塗料２９の塗布により、進入する水気を隔離して、水気が回路を導通させる導体となるのを防止し、これにより電触現象の発生を防止する。もし塗料塗布効果が極めて良好であれば、導電による電触現象の発生はなくなる。しかし塗布効果が不良であると、塗布材料が完全に密着、被覆せず、水気が進入する恐れがあり、これにより電触現象が発生して、ＴＦＴ液晶ディスプレイを損壊しうる。ゆえに周知の電触メカニズム防止の技術には改善の余地がある。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の改善の方向は、以上の二種類の電触メカニズム中の第２種の電触メカニズム、即ちカラーフィルタ基板とＴＦＴ基板間に発生する電触に対する改善にあり、徹底して電触現象の発生する可能性を減らし、ＴＦＴ液晶ディスプレイの正常な使用状態を維持し、ＴＦＴ液晶ディスプレイの使用寿命を維持できるようにする。
【００１２】
本発明は周知の液晶ディスプレイパネルの電触防止技術では改善が行えず効率を高められなかった欠点を鑑み、周知の技術の欠点を改善し、生産能力を高めるものである。
【００１３】
本発明は現存のＴＦＴ液晶設計及び工程を利用し、カラーフィルタ基板周辺設計のマスクパターンを変更し、導電性を具えたブラックマトリクスとＩＴＯ導電薄膜を絶縁材料で被覆し、ＴＦＴ液晶ディスプレイの湿度の高い環境での操作時に、水気の侵入によりＴＦＴ液晶ディスプレイ端子リード線に発生する短絡の形成を防止し、ＴＦＴ液晶ディスプレイを保護して侵食を防止する。その長所は現行のＴＦＴ液晶ディスプレイの工程順序を変更する必要がないことにある。
【００１４】
本発明の主要な目的は、電触発生防止の正確度即ち信頼度を高め、液晶パネル損壊の可能性を減らすことにある。周知の技術では、絶縁層の塗布は人工で塗布材料を端子部に塗布していたが、人工の操作は正確に制御できず、塗布が不均一となる状況を発生しやすい。しかし本発明の制御によると、良好に絶縁層の位置を制御でき、ゆえに信頼度の向上に対して極めて有益である。
【００１５】
本発明のもう一つの主要な目的は、液晶ディスプレイパネルの電触防止の機構の形成速度を高めることにあり、並びに周知の技術中の塗布のプロセスを節約することにある。本発明では、周知の技術における二つの基板固定後に電触防止物質を塗布する必要がなく、マスクパターンの設計と改変により、もとの工程（カラーフィルタ、スペーサ或いはマルチドメイン垂直配向等の工程）において、自然に電触防止機構を形成する効果を達成でき、人工塗布のステップと時間を節約し、これにより電触防止機構の工程速度を高めることができる。
【００１６】
本発明のさらにもう一つの主要な目的は、従来の技術において塗布されていた材料のコストを節約することにある。周知の人工塗布形成される電触防止機構は、カラーフィルタ基板とＴＦＴ基板間の空間をほぼ完全に充満しなければ、電触現象の発生を良好に防止することができない。本発明の電触防止機構は、もとの工程中で現像により排除されていた非導電材料を利用し、電極を被覆し、絶縁層となし、二つの基板間の空間の充填と端子部の被覆を不要とし、電触防止の効果を達成でき、塗布の人力を節約するだけでなく、もともと人工塗布されていた材料のコストを節約できる。
【００１７】
本発明のもう一つの主要な目的は、カラーフィルタ基板とＴＦＴ基板のギャップが縮小される時に、良好な電触防止品質を保持できるようにすることにある。カラーフィルタ基板とＴＦＴ基板のギャップの大きさはますます小さく傾向にあり、ゆえに二種類の基板間のギャップは二つの基板の寸法縮小によりますます狭まり、周知の技術で人工の電触防止材料を塗布すると、二つの基板のギャップの影響を受け易く、ギャップが小さくなると塗布不良の状況を発生しやすくなる。本発明の電触防止機構は、カラーフィルタ基板側辺の工程完成時に形成されるため、電触防止機構が完成してから、カラーフィルタ基板とＴＦＴ基板を接合する工程を行う。ゆえに、二つの基板のギャップが縮小されても、本発明の電触防止機構は影響を受けず、良好な効率を維持できる。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、液晶ディスプレイパネルの電触防止の機構において、
第１基板とされ、第１平面を具え、該第１平面が第１内表面、第１接合リング面と第１外表面を具え、該第１接合リング面が第１内表面と該第１外表面の間に位置する、上記第１基板と、
カラーフィルタ基板とされ、第２平面を具え、該第２平面が該第１基板の該第１平面に対向し、且つ該第２平面が第２内表面、第２接合リング面と第２外表面を具え、該第２接合リング面が該第２内表面と該第２外表面の間に位置する、上記カラーフィルタ基板と、 第１電極とされ、該第１平面に位置し、並びに第１絶縁層で被覆された、上記第１電極と、
第２電極とされ、第２基板の第２平面に位置する、上記第２電極と、
フレーム樹脂とされ、該第１接合リング面の上方の該第１絶縁層及び該第２接合リング面上方の該第２絶縁層に連接され、且つ液晶層を該第１内表面、該第２内表面及び該フレーム樹脂の間に収容する、上記フレーム樹脂と、
液晶層とされ、該第１内表面及び該フレーム樹脂のなかに位置する、上記液晶層と、
を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの電触防止の機構としている。
請求項２の発明は、液晶ディスプレイパネルの電触防止の方法において、
第１基板を提供する工程とされ、該第１基板は第１平面を具え、第１電極が該第１平面に位置し、並びに第１絶縁層が該第１電極を被覆し、該第１平面が第１内表面と第１外表面の間に位置する第１接合リング面を具えたものとされる、上記第１基板を提供する工程と、
カラーフィルタ基板を提供する工程とされ、該カラーフィルタ基板は第２平面を具え、第２電極が該第２平面に位置し、並びに第２絶縁層が該第２電極を被覆し、該第２平面が第２内表面と第２外表面の間に位置する第２接合リング面を具えたものとされる、上記カラーフィルタ基板を提供する工程と、
第２絶縁層で一部の第２電極を被覆し、並びに第２接合リングの第２平面を画定し、且つ該第２接合リングを第２内表面及び第２外表面の間に位置させる工程と、
フレーム樹脂で該第１接合リング面上方の該第１絶縁層と該第２接合リング面上方の該第２絶縁層を連接し、これにより該第１基板と該カラーフィルタ基板を連接し、並びに液晶層を該フレーム樹脂、該第１内表面と該第２内表面で組成された空間中に配置する工程と、
を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの電触防止の方法としている。
請求項３の発明は、請求項２に記載の液晶ディスプレイパネルの電触防止の方法において、ＳＯＣ工程の現像パターンを変更して前記第２絶縁層を形成する工程を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの電触防止の方法としている。
請求項４の発明は、請求項２に記載の液晶ディスプレイパネルの電触防止の方法において、複数のリッジでマルチドメイン垂直配向を達成する工程の現像パターンを変更して前記第２絶縁層を形成する工程を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの電触防止の方法としている。
請求項５の発明は、請求項３に記載の液晶ディスプレイパネルの電触防止の方法において、カラーフィルタのパターンを変更して前記第２絶縁層を形成する工程を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの電触防止の方法としている。
【００１９】
【発明の実施の形態】
本発明によると、カラーフィルタ基板の平面に電触防止機構が形成され、この平面がＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板の間に位置する。本発明によると、電極を形成したカラーフィルタ基板の平面にあって、絶縁層が完全に周辺電極を被覆包囲する。絶縁層の作用により、ＴＦＴ基板に位置して異なる電圧を有するもう一つの電極は、カラーフィルタ基板に形成された電極と電流流動の作用を形成できない。且つ本発明の工程によると、絶縁層がカラーフィルタ基板の周辺平面に形成されて、電触防止能力が非常に完全に確保された後に、二つの基板を接合する工程が実行される。周知の技術では先に二つの基板が接合されてから、絶縁層塗布の工程が実行され、両者は順序が異なる。本発明の絶縁層は完全に二つの基板間のギャップ縮小の影響を受けない条件の下で、極めて良好な電触防止効果を達成する。
【００２０】
【実施例】
以下の液晶ディスプレイパネルの電触防止の機構に関する記載はその全部の構造を限定するものではない。本発明が援用する現存の技術は、重点式の引用にすぎず、本発明の説明を補助するためのものである。且つ以下の説明に添付される関係図面も実際の比率により描かれているのではなく、僅かに本発明の構造の特徴を表現するために用いられている。
【００２１】
本発明はカラーフィルタ基板の平面に形成した電触防止機構により、電触防止の作用を達成する。この電触防止機構を具えた平面は、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板の間に位置する。二つの基板の間にはフレーム樹脂があり、これにより二つの基板が相互に連接され、並びに液晶分子を包囲している。本発明の電触防止機構は、絶縁層が、カラーフィルタ基板の周辺平面上の電極を完全に被覆包囲し、ＴＦＴ基板上に位置して異なる電圧を有するもう一つの電極が、カラーフィルタ基板上の電極と電流流動の作用を形成できないものとされている。且つ本発明によると、絶縁層がカラーフィルタ基板の周辺平面に形成されて、電触防止能力が非常に完全に確保された後に、二つの基板を接合する工程が実行される。周知の技術では先に二つの基板が接合されてから、絶縁層塗布の工程が実行され、両者は順序が異なる。本発明の絶縁層は完全に二つの基板間のギャップ縮小の影響を受けない条件の下で、極めて良好な電触防止効果を達成する。
【００２２】
図５は本発明の第１実施例を示し、カラーフィルタ基板の側辺の主要な組成構造を示し、それは、カラーフィルタ基板５（不導電のガラス母材で形成される）のほか、ブラックマトリクス１５、カラーフィルタ１７、ＩＴＯ導電薄膜２１を具えている。生産工程中にあって、まずブラックマトリクス１５がカラーフィルタ基板５にあってエッチングされ、漏光防止のブラック遮光フレームが形成され、次に順にカラーフィルタ１７即ちＲＧＢの三つのカラーホトレジストが塗布され、現像とエッチングの工程の後、一層のガラスに透光させると共に導電特性を具備する（電気抵抗値が低い）ＩＴＯ導電薄膜２１が形成され、図５に示されるカラーフィルタ基板５部分の構造が形成される。ＩＴＯ導電薄膜２１とＴＦＴ基板１の上の絶縁層７とフレーム樹脂２３が共同で液晶２５を包囲被覆する。
【００２３】
本発明の好ましい実施例によると、ブラックマトリクス１５、カラーフィルタ１７、ＩＴＯ導電薄膜２１の工程完成後に、さらに一層の絶縁層３１が塗布されて導電するブラックマトリクス１５とＩＴＯ導電薄膜２１を完全に被覆し、並びに電触防止の能力が完全に確保された後に、二つの基板の接合の工程が行われる。周知の技術では、先に二つの基板が接合され、さらに絶縁層塗布の工程が行われ、本発明とは順序が異なっている。本発明の絶縁層３１は完全に二つの基板間のギャップ縮小の影響を受けない条件下で、極めて良好な電触防止効果を達成する。この絶縁層３１の材料は不導電の材料、例えば樹脂或いはプラスチックとされ、絶縁層３１塗布完成後に電触現象を形成しうる二つの条件のうちの一つである、「導体で連接され且つ異なる電圧を有する二つ以上の電極を有し、電圧差が発生することにより電流が発生する」という条件が、本発明の電触防止機構の絶縁層３１により満たされないために、電触が防止される。
【００２４】
ゆえに、絶縁層３１に孔２７が発生し、また水滴１３が孔２７と絶縁層３１を連接しても、電流が両者の間に出現することはなく、電触防止の機能を達成する。この実施例では、従来の人工塗布の電触防止機構に較べて、一つの工程が増加し、工程数を減らす効果はないものの、電触現象の発生の可能性を大きく減らすことができ、製品の使用寿命も確保できる。当然、絶縁層３１に使用する材料は、任意の絶縁性樹脂或いはその他の導電不能の材料とされうる。
【００２５】
本発明の第２実施例は図６に示され、周知のカラーフィルタ１７の工程をカラーフィルタ１７マスクパターンの設計、及び、ＩＴＯ導電薄膜２１マスクパターンの設計に改変し、導電性を具備しないカラーフィルタ１７の材料で導電性を有するブラックマトリクス１５を被覆し、並びにＩＴＯ導電薄膜２１の分布範囲をフレーム樹脂２３内に縮小している。導電性を具備しないカラーフィルタ１７と保護層１９をカラーフィルタ基板平面の上に形成し、並びに電触防止能力を完全に確保した後に、二つの基板の接合の工程を実行する。周知の技術では、先に二つの基板を進行してから絶縁層塗布の工程を行ない、工程順序が異なっている。本発明の絶縁層は完全に二つの基板間のギャップ縮小の影響を受けないという条件下で、極めて良好な電触防止効果を達成する。全体工程完成後に、図６に示されるように、導電性を具備しないカラーフィルタ１７が導電性を具備するブラックマトリクス１５を被覆し、電流流通を遮断する。導電性を具備するＩＴＯ導電薄膜２１は導電性を具備しないフレーム樹脂２３内に内縮されて、電流の流通が遮断される。これにより第１実施例と同じ機能が達成され、電触現象の発生を形成しうる二つの条件のうちの一つである、「導体で連接され且つ異なる電圧を有する二つ以上の電極を有し、電圧差が発生する」という条件の形成が、カラーフィルタ１７により阻止される。ゆえに絶縁層３１に孔２７が発生し、また水滴１３が孔２７とカラーフィルタ１７を連接しても、電流が両者の間に出現することがなく、短絡の現象が防止され、これにより電触防止の機能が達成される。
【００２６】
この第２実施例中、マスクパターンの設計に改変されるだけで、第１実施例とはことなり、人工塗布の工程が一つの塗布工程に改変されて、一つの工程が減らされる。この第２実施例は電触防止の効果を増し、ＴＦＴ液晶ディスプレイの使用寿命を増すほか、人工塗布の工程或いは電触防止の工程を減らすことができ、全体の工程速度を高め、生産能力を高めることができる。当然、他の類似の工程方法であって本発明の実施例と同じ或いは類似の構造を達成できる方法は、いずれも本発明の請求範囲内に属するものとする。
【００２７】
このほか、図７に示される本発明の第３実施例では、周知のスペーサビーズ（図示せず）に代わって用いられる柱状のＳＯＣ３３（ＳＯＣ；Ｓｐａｃｅｒ Ｏｎ Ｃｏｌｏｒ Ｆｉｌｔｅｒ）が、ＩＴＯ導電薄膜２１の被覆完成後に、ＩＴＯ導電薄膜２１の上に形成される。ブラックマトリクス１５、カラーフィルタ１７、及びＩＴＯ導電薄膜２１の工程完成後に、さらに一層のＳＯＣ絶縁層３５が塗布されて導電性を具備するブラックマトリクス１５とＩＴＯ導電薄膜２１を被覆し、並びに電触防止能力が完全に確保された後、二つの基板の接合の工程が実行される。周知の技術では先に二つの基板が接合され、さらに絶縁層塗布の工程が行われ、工程順序が異なっている。本発明のＳＯＣ３３は完全に二つの基板間のギャップの縮小の影響を受けない条件下で、極めて良好な電触防止効果を達成できる。
【００２８】
周知のＳＯＣ工程ではＳＯＣ絶縁層３５の存在はなく、単純なＳＯＣ３３が内表面２８と３０の間に位置し、ＩＴＯ導電薄膜２１は空気中に露出していた。本発明の第３実施例ではＳＯＣ３３の工程を運用し、ＳＯＣ３３のマスクパターンを改変し、このほか、導電性を具備しないＳＯＣ絶縁層３５を形成して導電性を具備するＩＴＯ導電薄膜２１とブラックマトリクスを被覆させ、電触防止効果を達成している。ＴＦＴ液晶ディスプレイが湿度の高い環境で操作される時も、水気の侵入によりＴＦＴ液晶ディスプレイ端子リード線３部分の短絡を形成することがなく、パネルを侵食より保護することができる。
【００２９】
この図７に示される第３実施例の構造において、ＳＯＣ絶縁層３５を形成する方式は、即ち、ＳＯＣ３３を形成する工程中に完成する。しかし、もし他の工程或いは構造であっても、ＳＯＣ絶縁層３５と同じ材料で電触防止の作用を形成できるならば、そのＳＯＣ絶縁層３５を形成する方法と構造が本発明の方法と若干異なっていても、本発明の請求範囲に属するものとする。
【００３０】
図８は本発明の第４実施例を示し、即ちマルチドメイン垂直配向（ＭＶＡ；Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）超広角技術と本発明を結合させた液晶ディスプレイ断面図である。液晶分子３７はその位置する画素領域がマルチドメイン中において列に分けられている。両側は設計されたリッジ３９（ｒｉｄｇｅ）とされ、液晶分子３７は異なる方向に配列、回転しうる。これにより各液晶分子３７はいずれも他の液晶分子３７から独立している。マルチドメイン垂直配向技術の主要な目的は、使用者が画面のどの場所に注目するかに関わらず、一つの区域の状況を観ることができることにある。使用者が一つの区域を観る時、水平と垂直の視角は１６０度に接近する。
【００３１】
周知のマルチドメイン垂直配向技術には絶縁層４１の存在はなく、ただリッジ３９が内表面２８と３０の間に位置し、マルチドメイン垂直配向を形成し並びに視角拡大の機能を達成している。本発明の第４実施例では、現存のマルチドメイン垂直配向工程を利用し、そのマスクパターンを改変し、導電性を具備しないリッジ３９を形成する工程と同時に、良好な絶縁層４１を形成し、導電性を具備する金属ブラックマトリクス１５とＩＴＯ導電薄膜２１を被覆する。こうして絶縁層４１の電触防止効果が非常に良好に確保された後に、二つの基板の接合の工程が行われる。周知の技術では、先に二つの基板が接合され、さらに絶縁層塗布の工程が行われ、工程順序が異なっている。本発明の絶縁層４１は完全に二つの基板間のギャップの縮小の影響を受けない条件下で、極めて良好な電触防止効果を達成できる。ＴＦＴ液晶ディスプレイが湿度の高い環境で操作される時も、水気の侵入によりＴＦＴ液晶ディスプレイ端子リード線部分の短絡を形成することがなく、パネルを侵食より保護することができる。
【００３２】
【発明の効果】
ゆえに本発明は現存のＴＦＴ液晶ディスプレイ設計と工程のうち、カラーフィルタ基板側辺設計のマスクパターンを変更し、導電性を具備する金属ブラックマトリクスとＩＴＯ導電薄膜を絶縁材料で被覆することにより、ＴＦＴ液晶ディスプレイを湿度の高い環境で操作する時も、水気の侵入によりＴＦＴ液晶ディスプレイ端子リード線部分の短絡を形成することがなく、パネルを侵食より保護することができる。
【００３３】
すなわち、現行のＴＦＴ液晶ディスプレイ工程順序を変更しない前提の下で、本発明は電触防止の正確度（信頼度）を高め、液晶パネル損壊の可能性を減らすことができる。本発明者が同じ条件下で周知の技術と本発明による液晶ディスプレイパネルに対して信頼度の試験を行ったところ、周知の技術による液晶ディスプレイパネルの信頼度は１２時間であり（不断に水滴で人工塗布電触防止部分を湿らせた時、１２時間後に電触現象が発生した）、本発明の信頼度は少なくとも２４時間であった（２４時間経っても電触現象が発生しなかった）。すなわち、本発明は周知の技術の少なくとも二倍は電触防止の能力を高めることができる。
【００３４】
本発明はさらに周知の技術で塗布されていた電触防止材料のコストを節約することができ、周知の人工塗布の電触防止機構とは異なり、本発明は導電性を具備しない材料を増加する必要なく、ただ周知の技術で現像により排除された非導電材料を利用し、電極を被覆するだけであり、二つの基板間の空間を充満させることもなく、電触防止の効果を達成できる。
【００３５】
また本発明の電触防止機構は、カラーフィルタ基板側辺構造の工程が完成した後に形成され、電触防止機構完成後に、ＴＦＴ基板との接合工程が実行され、ゆえに二つの基板間のギャップ縮小の影響を受けない。周知の技術によると、カラーフィルタ基板とＴＦＴ基板のギャップが小さくなると人工の塗布が行いにくく、電触防止効率が下がった。ゆえに二つの基板の寸法が小さくなり、これにより二つの基板間のギャップが小さくなる発展方向に対して、本発明は二つの基板間のギャップ縮小の影響を受けず、良好な電触防止メカニズムを維持できる。
【００３６】
以上は本発明の実施例の説明に過ぎず、本発明の請求範囲を限定するものではなく、本発明に基づきなしうる細部の修飾或いは改変は、いずれも本発明の請求範囲に属するものとする。
【図面の簡単な説明】
【図１】周知の液晶ディスプレイパネル表示図である。
【図２】図１の液晶ディスプレイパネルのＡ−Ａ断面図である。
【図３】図１の液晶ディスプレイパネルのＢ−Ｂ断面図である。
【図４】周知のＴＦＴ液晶ディスプレイの電触防止メカニズム表示図である。
【図５】本発明の第１実施例の断面図である。
【図６】本発明の第２実施例の断面図である。
【図７】本発明の第３実施例の断面図である。
【図８】本発明の第４実施例の断面図である。
【符号の説明】
１ ＴＦＴ基板
３ 端子リード線
５ カラーフィルタ基板
７ 絶縁層
９ 孔
１１ 孔
１３ 水滴
１５ ブラックマトリクス
１７ カラーフィルタ
２１ ＩＴＯ導電薄膜
２３ フレーム樹脂
２４ 接合リング面
２５ 液晶
２６ 接合リング面
２７ 孔
２８ 内表面
２９ 絶縁塗料
３０ 内表面
３１ 絶縁層
３２ 外表面
３３ ＳＯＣ
３４ 外表面
３５ ＳＯＣ絶縁層
３７ 液晶分子
３９ リッジ
４１ 絶縁層

Claims (5)

1. 液晶ディスプレイパネルの電触防止の機構において、
   第１基板とされ、第１平面を具え、該第１平面が第１内表面、第１接合リング面と第１外表面を具え、該第１接合リング面が第１内表面と該第１外表面の間に位置する、上記第１基板と、
   カラーフィルタ基板とされ、第２平面を具え、該第２平面が該第１基板の該第１平面に対向し、且つ該第２平面が第２内表面、第２接合リング面と第２外表面を具え、該第２接合リング面が該第２内表面と該第２外表面の間に位置する、上記カラーフィルタ基板と、 第１電極とされ、該第１平面に位置し、並びに第１絶縁層で被覆された、上記第１電極と、
   第２電極とされ、第２基板の第２平面に位置する、上記第２電極と、
   フレーム樹脂とされ、該第１接合リング面の上方の該第１絶縁層及び該第２接合リング面上方の該第２絶縁層に連接され、且つ液晶層を該第１内表面、該第２内表面及び該フレーム樹脂の間に収容する、上記フレーム樹脂と、
   液晶層とされ、該第１内表面及び該フレーム樹脂のなかに位置する、上記液晶層と、
   を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの電触防止の機構。
2. 液晶ディスプレイパネルの電触防止の方法において、
   第１基板を提供する工程とされ、該第１基板は第１平面を具え、第１電極が該第１平面に位置し、並びに第１絶縁層が該第１電極を被覆し、該第１平面が第１内表面と第１外表面の間に位置する第１接合リング面を具えたものとされる、上記第１基板を提供する工程と、
   カラーフィルタ基板を提供する工程とされ、該カラーフィルタ基板は第２平面を具え、第２電極が該第２平面に位置し、並びに第２絶縁層が該第２電極を被覆し、該第２平面が第２内表面と第２外表面の間に位置する第２接合リング面を具えたものとされる、上記カラーフィルタ基板を提供する工程と、
   第２絶縁層で一部の第２電極を被覆し、並びに第２接合リングの第２平面を画定し、且つ該第２接合リングを第２内表面及び第２外表面の間に位置させる工程と、
   フレーム樹脂で該第１接合リング面上方の該第１絶縁層と該第２接合リング面上方の該第２絶縁層を連接し、これにより該第１基板と該カラーフィルタ基板を連接し、並びに液晶層を該フレーム樹脂、該第１内表面と該第２内表面で組成された空間中に配置する工程と、
   を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの電触防止の方法。
3. 請求項２に記載の液晶ディスプレイパネルの電触防止の方法において、ＳＯＣ工程の現像パターンを変更して前記第２絶縁層を形成する工程を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの電触防止の方法。
4. 請求項２に記載の液晶ディスプレイパネルの電触防止の方法において、複数のリッジでマルチドメイン垂直配向を達成する工程の現像パターンを変更して前記第２絶縁層を形成する工程を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの電触防止の方法。
5. 請求項３に記載の液晶ディスプレイパネルの電触防止の方法において、カラーフィルタのパターンを変更して前記第２絶縁層を形成する工程を具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイパネルの電触防止の方法。

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