JP3762773B2 - レーザビーム均一照射光学系 - Google Patents
レーザビーム均一照射光学系 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3762773B2 JP3762773B2 JP2004131615A JP2004131615A JP3762773B2 JP 3762773 B2 JP3762773 B2 JP 3762773B2 JP 2004131615 A JP2004131615 A JP 2004131615A JP 2004131615 A JP2004131615 A JP 2004131615A JP 3762773 B2 JP3762773 B2 JP 3762773B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- split
- laser beam
- irradiation
- waveguide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Recrystallisation Techniques (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
本発明の実施の形態において、図1(A)と図1(B)には、レーザビーム均一照射光学系を示すが、この光学系は、照射面上にy方向に均一な分布で広がり、x方向に線状に収束した直線状の照射プロフィルを形成する例を示す。
ΔL= cΔt≒ λ2/Δλ
で与えられる。ここに、cは光速、Δtは可干渉時間、Δλはレーザの波長幅(スペクトル幅)であり、レーザの波長幅が狭いほど、可干渉距離が長くなる。
Δa=a(n1−n0)/n1
で与えられる。
図8は、上記実施形態の変形例であって、x方向から見た光学系の配置を示すが、光学的遅延手段2の配置の相異を除いては、基本的に、図1(A)と図1(B)の光学系と同じレーザビーム均一照射光学系を示す。
本発明の光学系においては、導波路内を、反射することなく直進する分割ビームを含まないように、全ての分割ビームが少なくとも一回は反射し且つ、2つ以上の反射分割ビームが、同数回反射するのを防止するようにした導波路によるレーザビーム分割手段を提供するものである。このようなレーザビーム分割手段は、図9に示すように、導波路の中心軸に対して、レーザビーム分割手段の入射光学系の光軸を所定の角度で、斜交して配置した構造が採用できる。
他のビーム分割手段として、シリンドリカルレンズアレイによる実施形態を以下に示すが、この例は、図13に示すように、レーザビーム均一照射光学系は、レーザ発振器からのレーザビーム1をシリンドリカルレンズアレイ5に入射するための光学系を含み、平行ビームにするためのビーム拡大レンズ31とy方向コリメートレンズ32とx方向コリメートレンズ33を含み、コリメートレンズ33からの平行ビームをシリンドリカルレンズアレイ5に入射する。
図14は、図13に示したレーザビーム均一照射光学系の変形例であるが、分割用のシリンドリカルレンズアレイ5の分割ビームと、その前方の転写用シリンドリカルレンズアレイ51の前方の焦点位置に、それぞれ一対の遅延板22と23を配置したものである。この例では、転写用シリンドリカルレンズアレイ51の前後に遅延板を分けて配置したので、転写される面と転写する面とが共役関係になるようにすることができ、これにより、照射面での回折の影響を最小にすることができる利点がある。
図18は、図13に示したレーザビーム均一照射光学系の変形例であるが、遅延板2を挿入した分割ビームについての転写用シリンドリカルレンズアレイ51の微小レンズ512と、遅延板を挿入していない分割ビームについての転写用シリンドリカルレンズアレイ51の微小レンズ511とは、照射面での結像が一様になるように異なる焦点距離を有するように調製されている。分割用シリンドリカルレンズアレイ5によりy方向に配列分割された分割ビームの1つおきの分割ビームに光路長さ用の遅延板2を挿入することにより、挿入しない分割ビームに対して焦点位置fのずれが生ずるが、焦点位置のずれを転写用シリンドリカルレンズアレイ51の各微小レンズの焦点距離で補償するものであり、これにより、照射面上に結像される各分割ビームの強度分布を均一にすることができる。
図19(A)は、図13に示したレーザビーム均一照射光学系の変形例であるが、この例は、y方向に分割されてビーム1つおきに遅延板2が挿入された分割ビームを転写用レンズにより照射面90に照射するに際して、フィールドレンズ63により照射面上y方向にずらして、重ね合せることにより、分割ビーム間の干渉を防止するものである。
34 集光レンズ、 4 導波路、 41 反射面、 42 反射面、 5 分割用シリンドリカルレンズアレイ、 51 転写用シリンドリカルレンズアレイ、 61 転写レンズ、 62 集光レンズ、 9 照射体、 90 照射面。
Claims (14)
- レーザ光源からのレーザビームをビーム断面において空間的に分割ビームに分割するレーザビーム分割手段と、分割ビームを照射面上で重ね合せて照射する重ね合せ照射手段とを有する、照射面上のビーム強度を均一にするレーザビーム均一照射光学系であって、
上記の分割したビームの互いに隣接する隣接分割ビームの一方を他方に対して該レーザビームの時間的可干渉距離よりも長く遅延させる光学的遅延手段を含み、かつ上記の分割したビームの1つおきに、上記光学的遅延手段が挿入されていることを特徴とするレーザビーム均一照射光学系。 - 上記のレーザビーム分割手段が、互いに対向する反射面を有する一次元方向の導波路である請求項1に記載の光学系。
- 重ね合せ照射手段が、レーザビーム分割手段からの分割ビームを照射面に転写する転写レンズを含み、
上記の光学的遅延手段が、転写レンズの実焦点位置近傍で分割ビームを互いに空間的分離した領域で、該空間的に分離した隣接分割ビームのいずれかを透光するように配置された遅延板である請求項1又は2に記載の光学系。 - 上記の導波路の反射面の間を反射しないで通過した分割ビームを遮断するようにした請求項2又は3に記載の光学系。
- 導波路に対する入射レーザ光の光軸が上記の導波路の反射面間の中心軸と斜交して、反射面の間を反射しないで通過する分割ビームを生じさせないことを特徴とする請求項2又は3に記載の光学系。
- 導波路が、中実な透光体からなり、当該導波路の入射面が導波路の中心軸と斜交して、反射面の間を反射しないで通過する分割ビームを生じさせないことを特徴とする請求項2又は3に記載の光学系。
- 上記のレーザビーム分割手段が、レーザビームを一次元的に分割する分割用のシリンドリカルレンズアレイである請求項1に記載の光学系。
- 上記の光学的遅延手段が、分割用のシリンドリカルレンズアレイにより形成した複数の分割ビームを空間的分離した領域で、互いに隣接する分割ビームのいずれかを透光するように配置された遅延板である請求項7に記載の光学系。
- 重ね合せ照射手段が、上記分割用のシリンドリカルレンズアレイからの分割ビームを照射面に転写する転写用シリンドリカルレンズアレイと分割ビームを重ね合わせるフィールドレンズとを含む請求項7又は8に記載の光学系。
- 上記の光学的遅延手段が、該転写用のシリンドリカルレンズアレイの後方と前方とに分割して配置されている請求項9に記載の光学系。
- 上記の転写用シリンドリカルレンズアレイは、光学的遅延手段を通過する分割ビームを転写する微小シリンドリカルレンズと、光学的遅延手段を通過しない分割ビームを転写する微小シリンドリカルレンズとが、異なる焦点距離を有する請求項7ないし10いずれかに記載の光学系。
- 上記遅延板が、レーザ光に対して透明なガラスから成る請求項3又は8に記載の光学系。
- レーザ源が、固体レーザ又は半導体レーザの基本波又は高調波である請求項1ないし12いずれかに記載の光学系。
- 照射面が、基板上に形成された非晶質若しくは多結晶質の半導体膜であり、上記光学系が半導体膜アニーリング用光学系である請求項1ないし13いずれかに記載の光学系。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004131615A JP3762773B2 (ja) | 2004-04-27 | 2004-04-27 | レーザビーム均一照射光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004131615A JP3762773B2 (ja) | 2004-04-27 | 2004-04-27 | レーザビーム均一照射光学系 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002091440A Division JP3563065B2 (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | レーザビーム均一照射光学系 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004272281A JP2004272281A (ja) | 2004-09-30 |
JP3762773B2 true JP3762773B2 (ja) | 2006-04-05 |
Family
ID=33128567
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004131615A Expired - Lifetime JP3762773B2 (ja) | 2004-04-27 | 2004-04-27 | レーザビーム均一照射光学系 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3762773B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1716964B1 (en) * | 2005-04-28 | 2009-01-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device and laser irradiation apparatus |
CN111061062B (zh) * | 2020-01-09 | 2021-05-11 | 山西大学 | 一种激光散斑的抑制元件和抑制方法 |
-
2004
- 2004-04-27 JP JP2004131615A patent/JP3762773B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004272281A (ja) | 2004-09-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI263385B (en) | Making method and device of a membrane of crystallization | |
US7842565B2 (en) | Beam homogenizer and laser irradiation apparatus | |
US7991037B2 (en) | Multi-beam laser apparatus | |
US7109435B2 (en) | Beam irradiator and laser anneal device | |
KR101017848B1 (ko) | 빔 호모지나이저 및 레이저 조사 장치와 반도체 장치 제조 방법 | |
KR101029926B1 (ko) | 중첩식 doe 호모지나이저 광학계 | |
US10437072B2 (en) | Line beam forming device | |
JP2008147428A (ja) | レーザ照射装置、及び、レーザ照射方法 | |
KR101227803B1 (ko) | 감소된 간섭을 갖는 균질화기 | |
KR100541126B1 (ko) | 레이저빔 균일 조사 광학계 | |
JP2004158568A (ja) | 光照射装置 | |
JP3563065B2 (ja) | レーザビーム均一照射光学系 | |
KR100900685B1 (ko) | 다중 빔 레이저 장치 및 빔 스플리터 | |
JP2014013833A (ja) | レーザ光整形装置およびレーザ光整形方法ならびにレーザ処理装置およびレーザ処理方法 | |
JP3762773B2 (ja) | レーザビーム均一照射光学系 | |
JP2003287706A (ja) | レーザビーム均一照射光学系 | |
JP4442537B2 (ja) | レーザプロセス装置 | |
JP4413528B2 (ja) | レーザ照射装置 | |
JP3537424B2 (ja) | レーザビーム均一照射光学系 | |
JP3537423B2 (ja) | レーザビーム均一照射光学系 | |
JP2005109359A (ja) | レーザ装置及び液晶表示装置の製造方法 | |
JPH10333077A (ja) | ビームホモジナイザ及び半導体薄膜作製方法 | |
JP2008053317A (ja) | 照射光学系 | |
JP2004241561A (ja) | レーザプロセス装置 | |
JP2021111725A (ja) | レーザアニール装置及びレーザアニール方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051004 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051011 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051208 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060110 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060113 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3762773 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100120 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100120 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110120 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120120 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130120 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130120 Year of fee payment: 7 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130120 Year of fee payment: 7 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130120 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |