JP3747942B2 - 支持体の表面処理装置 - Google Patents
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Description
前記一対の電極間のガスの少なくとも一部を循環させることを特徴とする支持体の表面処理装置。
請求項1及び2に記載の発明によれば、安価なガスにより安定したグロー放電処理が可能な、且つ、環境問題に対応した、支持体の表面処理装置を提供することが可能となる。
まず、第1の実施の形態について、グロー放電処理を施す表面処理装置10の概略構成図である図1に基づいて説明する。
次に第2の実施の形態について、表面処理装置の概略構成図である図3に基づいて説明する。上述した第1の実施の形態は一対の電極として平板電極を用いて支持体を直線移動させたものであるが、本実施の形態では曲面電極を用いたものである。なお、以下に説明するもの以外は、上述した第1の実施の形態と同じとし、同じ番号を付与した構成についても同じ作用・構成であるものとして説明を省略する。
次に第3の実施の形態について、表面処理装置の概略構成図である図4(a)に基づいて説明する。本実施の形態は、上述した第1、2の実施の形態で示した電極の変形例であり、一対の電極2、3のうち一方の電極3(以下、本実施の形態では第1電極3といい、他方の電極を第2電極2という)を円筒状(円柱状でもよい)のロール電極とし、支持体1を接触させながら搬送するものである。なお、以下に説明するもの以外は、上述した第1、2の実施の形態と同じとし、同じ番号を付与した構成についても同じ作用・構成であるものとして説明を省略することもある。
次に第4の実施の形態について、表面処理装置の概略構成図である図5(a)に基づいて説明する。本実施の形態は、上述した第3の実施の形態で示した電極(第2電極)2の変形例であり、第2電極2として複数の円筒状(又は円柱状)のロール電極2を設けている。なお、以下に説明するもの以外は、上述した第1、2の実施の形態と同じとし、同じ番号を付与した構成についても同じ作用・構成であるものとして説明を省略することもある。
次に第5の実施の形態について、表面処理装置の概略構成図である図6に基づいて説明する。この第5の実施の形態は、上述した第1〜4の実施の形態で説明した表面処理装置に限らず、連続搬送されている支持体1に対してグロー放電を施す表面処理装置に適用することができるので、以下の説明においては、第1の実施の形態を例にして説明する。なお、上述した第1の実施の形態と同じ番号を付与した構成についても同じ作用・構成であるものとして説明を省略することもある。
次に第6の実施の形態について、表面処理装置の概略構成図である図7に基づいて説明する。この第6の実施の形態は、上述した第1〜5の実施の形態で説明した表面処理装置に限らず、連続搬送されている支持体1に対してグロー放電を施す表面処理装置に適用することができるので、以下の説明においては、第1の実施の形態を例にして説明する。なお、上述した第1の実施の形態と同じ番号を付与した構成についても同じ作用・構成であるものとして説明を省略することもある。
次に第7の実施の形態について、表面処理装置の概略構成図である図8に基づいて説明する。この第7の実施の形態は、上述した第1〜6の実施の形態で説明した表面処理装置に限らず、連続搬送されている支持体1に対してグロー放電を施す表面処理装置に適用することができるので、以下の説明においては、第1の実施の形態を例にして説明する。なお、上述した第1の実施の形態と同じ番号を付与した構成についても同じ作用・構成であるものとして説明を省略することもある。
次に第8の実施の形態について説明する。本実施の形態は、上述の第1〜7の実施の形態に記載した表面処理装置に限らず、表面処理(例えば、コロナ放電処理や火炎処理などであり、好ましくは、グロー放電処理であり、以下グロー放電処理として説明する)がなされた支持体上に、塗布液を塗布する際に適用できるものである。また、塗布の方法としては、押し出し、ディップ、スライドビード、カーテン塗布など種々の塗布方法を用いることができる。
次に第9の実施の形態について説明する。本実施の形態は、上述の第1〜7の実施の形態に記載した表面処理装置に限らず、表面処理(例えば、コロナ放電処理や火炎処理などであり、好ましくは、グロー放電処理であり、以下グロー放電処理として説明する)がなされた支持体上に、塗布液を塗布する際に適用できるものである。また、塗布の方法としては、押し出し、ディップ、スライドビード、カーテン塗布など種々の塗布方法を用いることができる。
まず、グロー放電による表面処理、更には、一対の電極間の雰囲気の主成分が膜付き性に及ぼす影響についての実験を行った。本実験においては、図1に示す表面処理装置を用いて行った(ただし、支持体は搬送せず)。実験の条件は、表1に示すとおりである。なお、グロー放電処理を行った実験1−2、1−3、1−5、1−6においては、一対の電極2、3間に5kHzの周波数電源を接続し、また、一対の電極2、3間を表1に示される圧力%のヘリウム(He)又はアルゴン(Ar)に二酸化炭素(CO2)を7.5圧力%と窒素(N2)7.5圧力%を混合したガスで大気圧(≒1気圧)の雰囲気とした。また、実験1−1と1−4については、グロー放電処理を行っていない。
次に、一対の電極間の間隙がグロー放電の安定に及ぼす影響、更に、種々の表面処理装置による支持体搬送の安定性について実験を行った。実験2−1、2−2においては図1に示す表面処理装置を改造したもので電極2、3に穴21、31及び供給口22、32を設けずに図示しない供給手段から供給されたガスを電極2、3外から一対の電極2、3間へ供給するようした表面処理装置を用いた。実験2−3においては図1に示す表面処理装置を用い、実験2−4においては図1に示す表面処理装置の複数の穴21、31をスリットに代えた表面処理装置を用いた。実験2−5においては、図3に示す表面処理装置を用いた。実験2−6、2−7においては図4(a)示す表面処理装置の複数の穴21、31をスリットに代えた表面処理装置を用い、実験2−8においては図4(a)に示す表面処理装置を用いた。実験2−9においては図5(a)に示す表面処理装置を用いた。なお、全ての実験において、供給したガスは、85圧力%のアルゴン(Ar)に二酸化炭素(CO2)を7.5圧力%と窒素(N2)7.5圧力%を混合したガスであり、処理時間は全ての実験において20秒(s)で行い、一対の電極2、3間に5kHzの周波数電源を接続し、支持体としてPETを用いた。
次に、ガスのリサイクルについての実験を行った。実験3−1は図6(b)に示す表面処理装置を、実験3−2、3−3、3−4は図6(a)に示す表面処理装置を用いた。全ての実験において、電極2、3のサイズは巾300mm、長さ400mm、電極2、3間の間隙は5mmであり、処理室6の容量は30Lであり、処理時間は30秒(s)であり、供給したガスは85圧力%のアルゴン(Ar)に二酸化炭素(CO2)を10圧力%と窒素(N2)5圧力%を混合したガスである。
次に、長時間処理の安定化のための制御についての実験を行った。実験は図7に示す表面処理装置を用い、実験4−1はガス(検出したガス濃度に応じたガスの制御)、電流制御(電極間に流れる電流を一定にする制御)を行わず、実験4−2はガスのみ制御を行い、実験4−3は電流のみ制御を行い、実験4−4はガス、電流の両方の制御を行った。全ての実験において、電極2、3のサイズは巾300mm、長さ400mm、電極2、3間の間隙は5mmであり、処理室6の容量は30Lであり、処理時間は30秒(s)であり、供給したガスは85圧力%のアルゴン(Ar)に二酸化炭素(CO2)を10圧力%と窒素(N2)5圧力%を混合したガスである。また、ガスの制御は、ガスアナライザ62の出力をPID(Proportion Integral Derivative)制御して、ガス供給量を制御した。
次に、グロー放電処理を施した支持体の改質効果の経時劣化についての実験を行った。グロー放電処理は、図1に示す表面処理装置(電極2、3のサイズは巾300mm、長さ400mm、電極2、3間の間隙は5mmであり、処理室6の容量は30Lであり、処理時間は30秒(s)であり、供給したガスは85圧力%のアルゴン(Ar)に二酸化炭素(CO2)を10圧力%と窒素(N2)5圧力%を混合したガスである)を用いた。
2、3 電極
4 ニップローラ(防止手段)
21、31 穴
22、32 供給口
Claims (2)
- 大気圧若しくはその近傍下で、少なくとも50圧力%以上の不活性ガスを含有したガスの雰囲気とした一対の電極間を、連続搬送されている支持体に対して、グロー放電を施す支持体の表面処理装置において、
前記一対の電極間のガスの少なくとも一部を循環させることを特徴とする支持体の表面処理装置。 - 前記一対の電極間のガスの濃度を検出する検出手段と、前記検出手段により検出したガスの濃度とに応じて、前記一対の電極間へ供給するガスを制御することを特徴とする請求項1に記載の支持体の表面処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004263178A JP3747942B2 (ja) | 1997-04-24 | 2004-09-10 | 支持体の表面処理装置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10725997 | 1997-04-24 | ||
JP2004263178A JP3747942B2 (ja) | 1997-04-24 | 2004-09-10 | 支持体の表面処理装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP09446898A Division JP3646282B2 (ja) | 1997-04-24 | 1998-04-07 | 支持体の表面処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005002352A JP2005002352A (ja) | 2005-01-06 |
JP3747942B2 true JP3747942B2 (ja) | 2006-02-22 |
Family
ID=34106039
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004263178A Expired - Fee Related JP3747942B2 (ja) | 1997-04-24 | 2004-09-10 | 支持体の表面処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3747942B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4733421B2 (ja) * | 2005-05-06 | 2011-07-27 | 積水化学工業株式会社 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
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- 2004-09-10 JP JP2004263178A patent/JP3747942B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
JP2005002352A (ja) | 2005-01-06 |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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