JP3745283B2 - Nonvolatile semiconductor memory - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は不揮発性半導体メモリに関し、特に、プログラム電圧を発生する昇圧回路を内蔵した不揮発性半導体メモリに関する。
【0002】
【従来の技術】
EEPROM、フラッシュメモリなどの不揮発性半導体メモリでは、メモリセルはゲートと半導体基板表面との間にフローティングゲートを備えたセルトランジスタからなり、フローティングゲート中の電荷量を変化させてセルトランジスタのしきい値電圧を変化させることによりデータを記憶する。メモリセルへの“1”データの書込は、例えば、ゲート電圧Vg=9V、ドレイン電圧Vd=5V、ソース電圧=0V(接地電位)とすることにより、ソースからドレインへ移動する電子をフローティングゲートに取り込んでセルトランジスタのしきい値電圧を高くすることで行われる。図10(a)は、“1”データの書込時におけるセルトランジスタのドレイン電流の時間変化およびセルトランジスタのしきい値電圧の時間変化を示す図である。“1”データの書込時にはセルトランジスタのドレイン電流は数百μAまで一旦上昇したのち、フローティングゲートへの電子の注入によりしきい値電圧が増大しドレイン電流が減少する。
【0003】
EEPROM,フラッシュメモリなどの不揮発性半導体メモリでは、このようなメモリセルがアレイ状に設けられ、外部からのアドレスにより選択されたメモリセルにデータの書込または読み出しが行われる。最近の不揮発性半導体メモリでは、書込時にセルトランジスタのドレインおよびゲートに高電圧を供給するためのプログラム電源(Vpp電源)電圧を発生する昇圧回路を内蔵することが一般的となっている。図10(b)は、昇圧回路の一例の回路図である。周期信号PAと、これと逆相の信号PBとにより、外部から供給された電源電圧VCCを昇圧してVpp電源電圧を発生する。昇圧回路の電流供給能力は、PAおよびPBの周波数と押し上げ用容量の容量値とに依存する。しかしながら、周波数をあげるためにはチャネル幅の大きいMOSトランジスタを必要とし、容量値を増大させるためには押し上げ用容量のサイズを大きくする必要があるため、電流供給能力の大きな昇圧回路は占有面積が著しく大きなものとなる。昇圧回路を実用的なサイズとすると、入出力ビットが多ビット構成の不揮発性半導体メモリでは、書込時のプログラム電源(Vpp電源)電流Ippが昇圧回路の電流供給能力を超えてVpp電源電圧の低下を引き起こし、書込不良につながる場合が生じる。このため、例えば1ワードが16ビット構成のフラッシュメモリでは、同時に書込するビット数を4ビットとし、4回の書込で1ワード(16ビット)を書き込む分割書込技術が使用されている。例えば1個のセルトランジスタにデータ“1”を書き込むときに流れるドレイン電流の最大値が250μAであるとすれば、16ビット一括書込におけるVpp電源電流Ippは0.25mA×16=4mAとなり、セルトランジスタの書込特性のばらつきを考慮すると昇圧回路の電流供給能力はさらに2倍の8mA程度必要であり、不揮発性半導体メモリに昇圧回路を内蔵することが困難となる。これに対して、4ビットずつの分割書込とした場合には、Vpp電源電流Ippは0.25mA×4=1mAとなり、セルトランジスタの書込特性のばらつきを考慮しても昇圧回路の電流供給能力が2mA程度であればよいので、昇圧回路を不揮発性半導体メモリに内蔵することが可能である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、この第1の従来例の分割書込技術では、書込時間が増大するという新たな問題が生じる。16ビットを一括して書き込みできる場合に例えば2μSで書込を完了するとすれば、4ビットずつの分割書込では2μS×4=8μSの書込時間が必要となる。
【0005】
書込時間を短縮する第2の従来技術が特開平11−260084号公報に開示されている。図11(a)は、第2の従来技術を用いた不揮発性半導体メモリのブロック図である。なお、図11(a)では、簡潔を優先して読出系を省略し書込系のみを示している。フラッシュメモリ部51においてXデコーダおよびYデコーダに入力されるアドレス信号(図では省略)によりメモリセルアレイ内のメモリセルが選択される。書込時には、昇圧回路52からフラッシュメモリ部51に供給されるVpp電源電流IppをIpp測定回路53により測定する。Ipp測定回路53の測定値は、書込開始により急激に増大したのちにメモリセルのしきい値電圧増大にともなって減少する。測定値が判定電流値設定回路56に予め設定している電流値よりも小さくなるとパルス停止判定回路55がこれを検出し、書込回路54の書込動作を停止させる。この第2の従来技術では、Ipp電流値の変化によりしきい値電圧の変化を間接的に測定し、メモリセルが実用的なしきい値電圧にまで書き込まれたことを検出して書込を終了するので、書込時間が一定ではなく、選択されたメモリセル毎に必要最小限の書込時間で書込が行われる。
【0006】
第2の従来技術は書込時間の短縮に有効であるが、昇圧回路が大きなVpp電源電流Ippを供給しなければならない点では改善されていない。第2の従来技術を第1の従来技術と組み合わせることにより、昇圧回路の電流供給の負担を低減し書込時間を短縮することができる。すなわち、図11(b)に示すように4ビットずつ分割書込した場合には、4ビット同時書込の平均的な書込時間TA=1μSとすると1ワード(16ビット)の書込時間を4μSに高速化でき、昇圧回路の電流供給能力も2mAに削減することができる。
【0007】
書込時間と昇圧回路の電流供給の負担とを改善する第3の従来技術として特開平11−176179号公報に記載の技術がある。図12は、第3の従来技術のブロック図である。16ビット入出力構成のフラッシュメモリ部61には昇圧回路62から入出力ビット毎に設けられた書込回路63−0〜63−15を通してVpp電源源流Ippが供給される。書込時間制御回路64は、書込回路63−0〜63−15を一定時間ずつずらしながら順次書込動作状態にいれる。図12(b)は、第3の従来技術による書込における電流を示した図である。Ip0〜Ip1はそれぞれの書込回路の電流を示し、Ippはこれらの総和のVpp電源電流を示す。各書込回路の書込が一定時間ずつずれて実行されるのでIppのピーク値が低減されるため、昇圧回路の電流供給能力を削減することが可能となる。例えば、1ビットあたりの書込時間が2μSで、ビット毎に0.2μSずつずらして書き込みを行うとすれば書込時間は16ビットで0.2μS×15+2μS=5μSとなる。昇圧回路の電流供給能力は、Ip5,Ip7のようなメモリセルの特性ばらつきも考慮してIp0,Ip1などの平均的な特性(250μA)の4倍程度でよいとすれば1mAとなる。
【0008】
以上のように、不揮発性半導体メモリに第1の従来技術と第2の従来技術とを組み合わせて適用することにより、または、不揮発性半導体メモリに第3の従来技術を適用することにより、昇圧回路の電流供給の負担が小さく、且つ、書込時間が短縮された不揮発性半導体メモリを得ることができる。
【0009】
しかしながら、マイクロコンピュータの命令の1ワードが16ビットから32ビット、64ビットと多ビット化するにつれて不揮発性半導体メモリの入出力ビットも多ビットとなることは必然の流れであり、第1の従来技術と第2の従来技術とを組み合わせや第3の従来技術で実現できるレベルよりもさらに昇圧回路の電流供給の負担を低減することが必要となる。
【0010】
本発明の目的は、第1の従来技術と第2の従来技術との組み合わせや第3の従来技術とほぼ同等の実用的な書込時間を維持しつつ第1の従来技術と第2の従来技術とを組み合わせや第3の従来技術で実現できるレベルよりもさらに昇圧回路の電流供給の負担を低減することができ、多ビット化したときにも昇圧回路の占有面積増大を抑制することが可能な不揮発性半導体メモリを提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明の不揮発性半導体メモリは、プログラム電源電圧を生成する昇圧回路と複数入出力ビット構成の不揮発性メモリ部とを有する不揮発性半導体メモリにおいて、前記昇圧回路が前記不揮発性メモリ部に供給するプログラム電源電流を監視し、プログラム電源電流が予め設定されたリファレンス電流値未満のときには前記複数入出力ビットのそれぞれに対応して設けられた書き込み回路の書込動作を所定の時間間隔で順次始動させ、プログラム電源電流がリファレンス電流値以上のときには再度プログラム電源電流がリファレンス電流値未満に減少するまでの期間次のビットに対応する書き込み回路の始動を停止する手段を備えて構成される。
【0012】
また、本発明の不揮発性半導体メモリは、プログラム電源電圧を生成する昇圧回路と入出力がn(n≧4の整数)ビット構成の不揮発性メモリ部とを有する不揮発性半導体メモリにおいて、前記昇圧回路が供給するプログラム電源電流を監視し予め設定されたリファレンス電流値以上である期間には検知信号をアクティブレベルとして出力する電流検知回路と、書込開始信号を入力して書込制御を開始し前記検知信号がインアクティブレベルのときにはn個の入出力ビットのそれぞれに対応する書込信号を所定の時間間隔で順次アクティブレベルとして出力し、前記検知信号がアクティブレベルのときには次の書込信号の出力を停止する書込制御回路と、n個の入出力ビットに対応して設けられそれぞれに対応する書込信号のアクティブレベルを入力したときに書込動作を開始するn個の書込回路と、を備えて構成してもよい。
【0013】
さらに、書込制御回路を、書込開始信号を入力して書込制御を開始しn個の入出力ビットに対応する書込信号のうち予め決められた減数値m(m≧2の整数)の個数の書込信号については書込制御の開始と同時にアクティブレベルとして出力し残りの(n−m)個の入出力ビットに対応する書込信号については前記検知信号がインアクティブレベルのときには入出力ビットのそれぞれに対応する書込信号を所定の時間間隔で順次アクティブレベルとして出力し、前記検知信号がアクティブレベルのときには次の書込信号の出力を停止しするように構成してもよい。
【0014】
さらにまた、書込制御回路を、書込開始信号を入力して書込制御を開始し前記検知信号がインアクティブレベルのときにはn個の入出力ビットのそれぞれに対応する書込信号のうち入力データがメモリセルを高しきい値電圧状態に書き込むデータ値であるビットに対応する書込信号のみを選択し所定の時間以上の時間間隔で順次アクティブレベルとして出力し、前記検知信号がアクティブレベルのときには次の書込信号の出力を停止するように構成してもよい。
【0015】
さらにまた、書込回路を、n個の入出力ビットに対応して設けられ所定の同時書込ビット数p(p≧2の整数)以下の複数のグループにグループ化してそれぞれのグループに対応する書込信号のアクティブレベルを入力したときに書込動作を開始するようにし、書込制御回路を、書込開始信号を入力して書込制御を開始し、複数の書込回路グループに対し前記検知信号がインアクティブレベルのときには前記複数の書込回路グループのそれぞれに対応する書込信号を所定の時間間隔で順次アクティブレベルとして出力し、前記検知信号がアクティブレベルのときには次の書込信号の出力を停止するように構成してもよい。
【0016】
【発明の実施の形態】
次に、本発明について図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明の不揮発性半導体メモリの第1実施形態のブロック図である。不揮発性半導体メモリは、入出力ビットが16ビット構成のフラッシュメモリ部1と、昇圧回路2と、電流検知回路3と、入出力ビットと同数の書込回路4−0〜4−15と、書込制御回路と、タイマ6と、発振器7とを有している。なお、図1では、簡潔を優先して読出系を省略し書込系のみを示している。
【0017】
フラッシュメモリ部1は、16の入出力ビットのそれぞれに対応する下位メモリセルアレイB0〜B15を含むメモリセルアレイと、デジットラインを選択するYデコーダおよびYセレクタと、ワードラインを選択するXデコーダとを備えている。アドレス信号により、1本のワードラインと各下位メモリセルアレイ内で1本ずつ計16本のデジットラインとが選択され、選択されたワードラインと選択されたデジットラインとに接続された16個のメモリセルがメモリセルアレイ内で選択される。
【0018】
書込回路4−0〜4−15のそれぞれは、書込時において、対応する入力データD[0]〜D[15]のデータ値が所定の値“1”であるときに、フラッシュメモリ部1の各下位メモリセルアレイの選択されたデジットラインにVpp電源電圧を供給する。
【0019】
昇圧回路2は、書込時にVpp電源電圧を生成してフラッシュメモリ部1および書込回路4−0〜4−15に供給する。
【0020】
電流検知回路3は、昇圧回路が供給するVpp電源電流Ippの電流値を監視し、リファレンス電流値Iref以上になった場合にこれを検知して検知信号DTCTをアクティブレベルとして出力する。
【0021】
書込制御回路5は、クロック信号CLKに同期して書込開始信号WSTのアクティブレベルを検出して書込制御を開始し、検知信号DTCTがインアクティブレベルのときには16の入出力ビットに対応する書込信号WT[15]〜WT[0]を順次に所定の時間間隔でアクティブレベルとして出力し、検知信号DTCTがアクティブレベルのときには書込信号の出力を停止し、タイムアップ信号TM[i](iは0,1…15)のアクティブレベルを入力したときには対応する書込信号WT[i]をインアクティブレベルとする。
【0022】
タイマ6は、書込信号WT[15]〜WT[0]のそれぞれに対応する内部タイマ回路を備え、書込信号WT[i]のアクティブレベルを入力すると対応する内部タイマ回路がクロック信号CLKの計数を開始するとともにタイムアップ信号TM[i]をインアクティブレベルとして出力し、所定のクロック数の計数を完了するとタイムアップ信号TM[i]をインアクティブレベルとして出力する。発振器7は、クロック信号CLKを生成して出力する。
【0023】
図2は、第1実施形態における書込制御回路5の内部ブロックを示す図である。書込制御回路5は、カウントパルス生成回路11と、カウンタ12と、書込信号生成回路13とを有している。
【0024】
カウントパルス生成回路11は、電流検知回路1からの検知信号DTCTがインアクティブレベルであるローレベルのときに、クロック信号CLKに同期したカウントパルスCPを出力し、検知信号DTCTがアクティブレベルであるハイレベルの期間にはカウントパルスCPの生成を停止する。カウンタ12は、書込開始信号WSTを入力したのちに最初のカウントパルスを入力するとカウント値CNTの初期値が設定され、カウントパルスCPを入力する毎に1ずつカウントダウンするとともにカウント値CNTを出力する。書込信号生成回路13は、カウント値CNTを入力する毎にカウント値CNT(i)に対応する書込信号WT[i]をアクティブレベルであるハイレベルとして出力し、タイマ6からのタイムアップ信号TM[i]がアクティブレベルのハイレベルになると書込信号WT[i]をインアクティブレベルであるローレベルにする。
【0025】
本発明では、電流検知回路3は、昇圧回路2から書込回路4−0〜4−15およびフラッシュメモリ部1へ流れるVpp電源電流Ippを監視し、Vpp電源電流Ippが予め設定されたリファレンス電流値Iref以上になると検知信号DTCTをアクティブレベルであるハイレベルにする。
【0026】
検知信号DTCTがインアクティブレベルのローレベルであるとき(すなわちVpp電源電流Ippがリファレンス電流Iref未満のとき)には、書込制御回路5内のカウントパルス生成回路11は、クロック信号CLKに同期したカウントパルスCPを生成してカウンタ12へ出力し、カウンタ12ではカウントパルスCPを入力する毎にカウント値CNTを1だけ減算してカウント値CNTを更新し書込信号生成回路13へ出力する。書込信号生成回路13は入力されたカウント値CNT(i)に対応する書込信号WT[i]をアクティブレベルのハイレベルとして書込回路4−iへ出力する。例えば、カウント値CNT(15)が入力されると書込信号WT[15]がハイレベルとなる。次にカウント値CNT(14)が入力されると書込信号WT[14]がハイレベルとなる。書込信号WT[i]のハイレベルへの変化により書込回路4−iが書込動作を開始する。
【0027】
タイマ6では、書込信号WT[i]がハイレベルとなった時点で対応する内部タイマ回路が時間の計測を始め、所定の書込時間(例えば2μS)経ったところで対応するタイムアップ信号TM[i]をアクティブレベルのハイレベルとして書込信号生成回路16へと出力する。書込信号生成回路13はタイムアップ信号TM[i]を入力し、対応する書込信号WT[i]をインアクティブレベルのローレベルに変化させる。 書込信号WT[i]のローレベルへの変化により書込回路4−iは書込動作を終了する。
【0028】
検知信号DTCTがアクティブレベルのハイレベルであるとき(すなわちVpp電源電流Ippがリファレンス電流Iref以上のとき)には、カウントパルス生成回路11は、検知信号DTCTが再度ローレベルになるまでの間、カウントパルスCPの生成を停止する。カウントパルスCPの生成停止によりカウンタ12もカウント動作を停止し、書込信号生成回路13は次の書込信号の生成を停止する。例えば、書込信号WT[12]がハイレベルになり書込回路4−12の書込動作が始動したときにVpp電源電流Ippがリファレンス電流値以上に増大した場合には、検知信号DTCTがハイレベルとなってカウントパルスCPの生成が停止し、カウンタ12はカウント値CNT(12)でカウントダウンを停止するので、書込信号生成回路13は書込信号WT[11]以降の書込信号の生成を一時停止する。書込信号の生成停止により書込回路が新たに動作することがないのでVpp電源電流Ippが減少し、Vpp電源電流Ippがリファレンス電流値Iref未満になると検知信号DTCTがローレベルとなってカウントパルスの生成が再開され、書込信号生成回路13は書込信号WT[11]以降の書込信号の生成を再開する。
【0029】
図3は、第1実施形態の動作タイミング図である。図1,図2および図3を参照して第1実施形態の動作を説明する。
【0030】
フラッシュメモリ部1において、まず、アドレス信号によりXデコーダ,Yセレクタを通してメモリセルアレイ内のメモリセルが選択される。メモリセルは16ビットの入出力ビットのそれぞれに対応して各下位メモリセルアレイ毎に1個ずつ計16個が選択され、選択されたメモリセルの端子へ電位を供給する準備がなされる。
【0031】
次に、昇圧回路2により昇圧されたVpp電源電圧が電流検知回路3を介して書込回路4−0〜4−15に供給され、Xデコーダにより選択されたワードラインにはワード電圧Vgが供給される。この時点では電流検知回路1を通して流れるVpp電源電流Ippが小さいため、検知信号DTCTはローレベルとして出力される。検知信号DTCTがローレベルであるので、カウントパルス生成回路11はCLKに同期したカウントパルスCPをカウンタ12へ出力する。書込制御回路5に書込開始信号WSTが入力されたのちに生成された最初のカウントパルスCPを入力すると、カウンタ12には初期値としてカウント値CNT(15)が設定されるとともにカウント値CNT(15)を書き込み信号生成回路13に出力する。書込信号生成回路13は入力されたカウント値CNT(15)に対応した書込信号WT[15]を書込回路4−15へ出力し書込動作を始動させる。同時に、書込信号生成回路13は書込信号WT[15]をタイマ6に送り、タイマ6では書込時間の計測が始まりタイムアップ信号TM[15]がローレベルとなる。
【0032】
同様にして、カウントパルス生成回路11から2番目のカウントパルスCPが出力されるとカウンタ12が1だけカウントダウンしてカウント値CNT(14)となり、書込信号生成回路13は入力されたカウント値CNT(14)に対応した書込信号WT[14]を書込回路4−14へ出力し書込動作を始動させる。同時に、書込信号生成回路13は書込信号WT[14]をタイマ6に送り、タイマ6では書込時間の計測が始まりタイムアップ信号TM[14]がローレベルとなる。カウントパルス生成回路11から3番目のカウントパルスCPが出力されたときも同様で、カウンタ12はカウント値CNT(13)を出力し、書込信号生成回路13は書込信号WT[13]を出力し、書込回路4−13が書込動作を開始し、タイマ6では書込時間の計測が始まりタイムアップ信号TM[13]がローレベルとなる。
【0033】
Vpp電源電流Ippがリファレンス電流値未満である限りカウントパルスはカウントパルス生成回路11によりクロック信号CLKに同期して一定の周期で出力されるので、このように書込信号WT[15],WT[14],WT[13]は一定の時間間隔で順次ハイレベルとして出力される。
【0034】
次に、カウントパルス生成回路11から4番目のカウントパルスCPが出力されると、カウンタ12がカウント値CNT(12)となり、書込信号生成回路13は入力されたカウント値CNT(12)に対応した書込信号WT[12]を書込回路4−12へ出力し書込動作を始動させる。同時に、書込信号生成回路13は書込信号WT[12]をタイマ6に送り、タイマ6では書込時間の計測が始まりタイムアップ信号TM[12]がローレベルとなる。このとき、書込回路4−12が書込動作を開始したことにより、Vpp電源電流Ippがリファレンス電流値Iref以上となるので検知信号DTCTはハイレベルとなり、カウントパルス生成回路11はカウントパルスCPの生成を停止する。Vpp電源電流Ippがリファレンス電流値Iref以上にあるあいだは、カウントパルス生成回路11はカウントパルスCPの生成停止を継続する。
【0035】
Vpp電源電流Ippがリファレンス電流値Iref未満に減少して検知信号DTCTがローレベルになると、カウントパルス生成回路11から5番目のカウントパルスCPが出力され、カウンタ12がカウント値CNT(11)となり、書込信号生成回路13は入力されたカウント値CNT(11)に対応した書込信号WT[11]を書込回路4−11へ出力し書込動作を始動させる。同時に、書込信号生成回路13は書込信号WT[11]をタイマ6に送り、タイマ6では書込時間の計測が始まりタイムアップ信号TM[11]がローレベルとなる。6番目のカウントパルス生成以降の動作については同様であるので説明を省略する。
【0036】
なお、タイマ6は書込信号WT[15]のハイレベルを入力すると対応する内部カウント回路の計時を開始するとともにタイムアップ信号TM[15]をローレベルとして出力し所定の書込時間Twriが経過したときにタイムアップ信号TM[15]をハイレベルとして出力する。書込信号生成回路13はタイムアップ信号TM[15]のハイレベルを入力すると書込信号WT[15]をローレベルに変化させて書込回路4−15の書込動作を終了させる。書込信号WT[0]〜WT[14]とタイムアップ信号TM[0]〜WT[14]についても同様である。
【0037】
図4は、第1実施形態の効果を説明する図であり、図12(a)の第3の従来技術の効果を示す図12(b)に対応する図である。図中Ip0,IP1…IP15はそれぞれ書込回路4−0,4−1…4−15に流れる電流を示す。図4と図12(b)ではメモリセルの電流特性が同じとして図示している。図12(b)では時刻T6から時刻T9にかけて連続的にVpp電源電流Ippが増大したレベルにあるので、昇圧回路にはこのレベルのIppを継続的に供給する能力が要求され、電流供給能力が満たされない場合にはVpp電源電圧が低下してセルトランジスタを十分に高いしきい値電圧に書き込みできなくなる。
【0038】
これに対して図4では、Vpp電源電流Ippがリファレンス電流値Iref以上になると次のビットに対応する書込回路の始動を停止するので、Ippが一時的に増大してVpp電源電圧が低下したとしても、次のビットの書込回路が始動するときにはVppは正常な電圧に回復できているためにセルトランジスタの書込不良の発生が防止される。第3の従来技術の場合と同様に1ビットの書込時間を2μSとし、カウントパルスCPの周期を0.2μSとすると、図4の場合の1ワード(16ビット)の書込時間は0.2μS×17+2μS=5.4μSとなる。昇圧回路の電流供給能力は、Ip5,Ip7のようなメモリセルの特性ばらつきを考慮してもIp0,Ip1などの平均的な特性(250μA)の約2倍に余裕をみて3倍程度とすれば十分であり750μA程度となる。リファレンス電流値Irefは、平均的なIpp(例では500μA)と昇圧回路の電流供給能力(例では750μA)の間の値に設定されることが望ましい。
【0039】
前に述べたように、第1の従来技術と第2の従来技術とを組み合わせた場合には、4ビット当たりの平均的な書込時間を1μSに短縮できたとして16ビットの書込時間が4μSとなり本実施形態に対して26%短い時間で書込できるが、昇圧回路の電流供給能力が2mA程度必要であり、本実施形態の2.7倍となる。第3の従来技術では、16ビットの書込時間が5μSで本実施形態に対して8%短い時間で書込ができるが、昇圧回路の電流供給能力が1mA程度必要であり、本実施形態より33%大きい。このように、本実施形態を適用した不揮発性半導体メモリでは、第1の従来技術と第2の従来技術との組み合わせや第3の従来技術に近い実用的な書込時間を維持しつつ第1の従来技術と第2の従来技術とを組み合わせや第3の従来技術で実現できるレベルよりもさらに昇圧回路の電流供給の負担を低減することができる。
【0040】
次に、本発明の不揮発性半導体メモリの他の実施形態について説明する。 図5は、第2実施形態における書込制御回路の内部ブロックを示す図である。第2実施形態では、書込の開始時に複数の書込回路を同時に始動する点が第1実施形態とは異なり、図1の書込制御回路5を書込制御回路5aに置き換えて構成される。書込制御回路5aは、クロック信号CLKに同期して書込開始信号WSTのアクティブレベルを検出して書込制御を開始し、16ビットの入出力ビットに対応する書込信号WT[15]〜WT[0]のうち予め決められた減数値m(m≧2の整数)の個数の書込信号WT[15]〜WT[15−m+1]については書込制御の開始と同時にアクティブレベルとして出力し、残りの書込信号WT[15−m]〜WT[0]については検知信号DTCTがインアクティブレベルのときには順次所定の時間間隔でアクティブレベルとして出力し、検知信号DTCTがアクティブレベルのときには書込信号の出力を停止し、タイムアップ信号TM[i]のアクティブレベルを入力したときには対応する書込信号WT[i]をインアクティブレベルとする。
【0041】
図5を参照すると、第2実施形態の書込制御回路5aは、カウントパルス生成回路11と、カウンタ12と、カウント値シフト回路21と、開始時信号生成回路22と、書込信号生成回路23とを有して構成されている。
【0042】
カウントパルス生成回路11は、電流検知回路1からの検知信号DTCTがインアクティブレベルであるローレベルのときに、クロック信号CLKに同期したカウントパルスCPを出力し、検知信号DTCTがアクティブレベルであるハイレベルの期間にはカウントパルスCPの生成を停止する。カウンタ12は、書込開始信号WSTを入力したのちに最初のカウントパルスCPを入力するとカウント値CNTの初期値が設定され、カウントパルスCPを入力する毎に1ずつカウントダウンするとともにカウント値CNTを出力する。カウント値シフト回路21は、カウント値CNTを入力して予め決められた減数値mをカウント値CNTから減算してシフト済カウント値CNTSとして出力する。開始信号生成回路22は、書込開始信号WSTが入力されるとカウンタ12に設定される初期値から数えて減数値mの個数の書込信号を同時にアクティブレベルのハイレベルとして出力し、対応するタイムアップ信号がアクティブレベルであるハイレベルになると前記減数値分の個数の書込信号を同時にローレベルとする。書込信号生成回路23は、シフト済カウント値CNTSを入力する毎にシフト済カウント値CNTS(i)に対応する書込信号WT[i]をアクティブレベルであるハイレベルとして出力し、タイマ6からのタイムアップ信号TM[i]がアクティブレベルのハイレベルになると書込信号WT[i]をインアクティブレベルであるローレベルにする。
【0043】
図6は、減数値m=2として構成された第2実施形態の不揮発性半導体メモリの動作タイミング図である。以下、図1、図5および図6を参照して第2実施形態の動作を説明する。
【0044】
書込開始信号WSTが入力されるとカウンタ12の初期値(15)から数えて減数値(2)分の書込信号WT[15],WT[14]を同時にハイレベルとして出力し、書込回路4−15,4−14の書込動作を開始する。タイマ6は書込信号WT[15],WT[14]のハイレベルを入力すると計時を開始するとともにタイムアップ信号TM[15],TM[14]をローレベルとして出力する。次に、カウントパルス生成回路11からカウントパルスCPが出力され、カウンタ12にカウント値CNT(15)が実際に設定されて出力され、カウント値シフト回路21により2だけ減算されてシフト済カウント値CNTS(13)が出力される。書込制御回路23は、シフト済カウント値CNTS(13)を入力して、シフト済カウント値CNTS(13)に対応する書込信号WT[13]をハイレベルとして出力し、書込回路4−13の書込動作を開始する。タイマ6は書込信号WT[13]のハイレベルを入力すると計時を開始するとともにタイムアップ信号TM[13]をローレベルとして出力する。
【0045】
以降の動作は第1実施形態と同様であり、Vpp電源電流Ippがリファレンス電流Iref以上に増大すると検知信号DTCTがハイレベルとなり、カウントパルス生成回路11が検知信号DTCTが再度ローレベルになるまでの間、カウントパルスCPの生成を停止する。開始信号生成回路22は、タイマ6からのタイムアップ信号TM[15],TM[14]のハイレベルを入力すると書込信号WT[15],WT[14]を同時にローレベルにし、書込回路4−15,4−14の書込動作を終了させる。また、書込制御回路23は、タイマ6からのタイムアップ信号TM[i]のハイレベルを入力すると書込信号WT[i]をローレベルとして書込回路4−iの書込動作を終了させる。
【0046】
本実施形態では書込開始時に減数値分の個数の書込回路を同時に始動させるので、第1実施形態よりも書込時間を短縮できるという新たな効果が生じる。
【0047】
図7は、本発明の不揮発性半導体メモリの第3実施形態のブロック図である。第3実施形態では、入力データが“1”でデータ“1”の書込が必要な入出力ビットに対応する書込回路のみを動作させる点が図1の第1実施形態とは異なり、第1実施形態における書込制御回路5に換えて入力データD[15]〜D[0]をも入力する書込制御回路5bとしている。書込制御回路5bは、クロック信号CLKに同期して書込開始信号WSTのアクティブレベルを検出して書込制御を開始し、検知信号DTCTがインアクティブレベルのときには16ビットの入出力ビットに対応する書込信号WT[15]〜WT[0]のうち入力データがデータ“1”であるビットに対応する書込信号WT[k]のみを順次に所定の時間以上の時間間隔でアクティブレベルとして出力し、検知信号DTCTがアクティブレベルのときには書込信号の出力を停止し、タイムアップ信号TM[k]のアクティブレベルを入力したときには対応する書込信号WT[k]をインアクティブレベルとする。
【0048】
図8は、第3実施形態の書込制御回路5bの内部ブロックを示す図である。書込制御回路5bは、カウントパルス生成回路31と、カウンタ12と、書込カウント値判別回路32と、書込制御回路13とを有して構成されている。カウントパルス生成回路31は、電流検知回路1からの検知信号DTCTがインアクティブレベルであるローレベルのときに、クロック信号CLKに同期したカウントパルスCPを出力し、書込カウント値判別回路32から次パルス生成要求信号NPRがアクティブレベルとして入力されたときには出力中のカウントパルスを中断してローレベルとした後に新規にクロック信号CLKに同期したカウントパルスCPを生成して出力する。またカウントパルス生成回路31は、検知信号DTCTがアクティブレベルであるハイレベルの期間にはカウントパルスCPの生成を停止する。カウンタ12は、書込開始信号WSTを入力したのちに最初のカウントパルスCPを入力するとカウント値CNTの初期値が設定され、カウントパルスCPを入力する毎に1ずつカウントダウンするとともにカウント値CNTを出力する。書込カウント値判別回路32は、入力データD[15]〜D[0]とカウント値CNTとを入力し、カウント値CNTが書込を行わないデータ“0”の入出力ビットに対応するカウント値である場合には、次パルス生成要求信号NWをアクティブレベルとしてカウントパルス生成回路31へ出力する。書込カウント値判別回路32は、カウント値CNTが書込を行うデータ“1”の入出力ビットに対応するカウント値である場合には、次パルス生成要求信号NWをインアクティブレベルとするとともにカウント値CNTを書込カウント値CNTCとして書込信号生成回路13へ出力する。書込信号生成回路13は、書込カウント値CNTCを入力する毎に書込カウント値CNTC(k)に対応する書込信号WT[k]をアクティブレベルであるハイレベルとして出力し、タイマ6からのタイムアップ信号TM[k]がアクティブレベルのハイレベルになると書込信号WT[k]をインアクティブレベルであるローレベルにする。
【0049】
第3実施形態の動作について説明する。書込制御回路5b内の書込カウント値判別回路32に入力データD[15]〜D[0]が入力される。次に、カウンタ12より順次カウントされたカウント値CNTが書込カウント値判別回路32へ入力される。書込カウント値判別回路32は、入力されたカウント値CNTと入力データD[15]〜D[0]とを比較し、カウント値CNTがデータが“1”である入出力ビットに対応する値であれば書込カウント値CNTCとして書込信号生成回路13へ出力する。書込信号生成回路13は入力された書込カウント値CNTC(k)に対応する書込信号WT[k]を出力する。
【0050】
書込カウント値判別回路32に入力されたカウント値CNTがデータが“0”である入出力ビットに対応する値であれば、書込カウント値判別回路32は次パルス生成要求信号NPRをアクティブレベルとしてカウントパルス生成回路31へ送り、カウントパルス生成回路31は出力中のカウントパルスを中断して一旦ローレベルに戻した後に、新規にカウントパルスCPを生成してカウンタ12へ出力する。カウンタ12は、カウントパルスCPを入力してカウントダウンするので、書込カウント値判別回路32に入力されたカウント値CNTがデータが“0”である入出力ビットに対応する値であった場合には、本来のカウントパルス生成タイミングまで待たずにすぐ次のクロックに同期してカウンタ12がカウントダウンを行う。これにより、本実施形態では第1実施形態、第2実施形態と比較してさらに書込時間の短縮ができるという新たな効果を有する。本実施形態においてもVpp電源電流Ippがリファレンス電流Iref以上に増大すると検知信号DTCTがハイレベルとなり、カウントパルス生成回路11は検知信号DTCTが再度ローレベルになるまでの間、カウントパルスCPの生成を停止することは第1実施形態、第2実施形態と同様である。
【0051】
図9は、本発明の不揮発性半導体メモリの第4実施形態のブロック図である。第4実施形態では1個の書込信号で複数(図9では2個)の書込回路を同時に始動する点が第1実施例とは異なり、第1実施例の書込制御回路5を書込制御回路5cに置き換えて構成される。書込制御回路5cは、クロック信号CLKに同期して書込開始信号WSTのアクティブレベルを検出して書込制御を開始し、16の入出力ビットに対応する書込回路が分割されて構成されそれぞれが所定の同時書込ビット数p(p≧2の整数で、図9ではp=2)以下の書込回路を含む複数の書込回路グループに対し、検知信号DTCTがインアクティブレベルのときには書込回路グループに対応する書込信号WT[14−15]〜WT[0−1]を順次所定の時間間隔でアクティブレベルとして出力し、検知信号DTCTがアクティブレベルのときには書込信号の出力を停止し、タイムアップ信号TM[i−j]のアクティブレベルを入力したときには対応する書込信号WT[i−j]をインアクティブレベルとする。
【0052】
書込制御回路5cの内部ブロックは、図2の第1実施形態の書込制御回路5の内部ブロックとほぼ同様に構成でき、カウンタ12のカウント値初期値を15から7に変更し、書込信号生成回路13が出力する書込信号をWT[14−15]〜WT[0−1]の8本とし、タイマ6から入力するタイムアップ信号を書込信号をWT[14−15]〜WT[0−1]に対応させてTM[14−15]〜TM[0−1]の8本に変更することによって実現できる。
【0053】
本実施形態の動作は、書込信号WT[i−j]がハイレベルに変化する毎にこれに対応する書込回路グループが含む2個の書込回路4−i,4−jを同時に始動させる点のみが第1実施形態と異なる。他の動作は第1次形態と同様で、Vpp電源電流Ippがリファレンス電流Iref以上に増大すると検知信号DTCTがハイレベルとなり、カウントパルス生成回路11は検知信号DTCTが再度ローレベルになるまでの間、カウントパルスCPの生成を停止する。
【0054】
本実施形態では、p個の書込回路を同時に始動して書込を行うので、不揮発性半導体メモリがp個の同時書込に必要なVpp電源電流Ippを供給可能な昇圧回路を搭載している場合には第1実施形態、第2実施形態に比較して書込時間を短縮することが可能となる。
【0055】
なお、以上の説明においては入力データD[15]〜D[0]は外部入力データであるとして説明したが、例えばECC(誤り訂正コード)を搭載した不揮発性半導体メモリにおける符号データのように内部生成された入力データであってもよい。
【0056】
また、以上の説明では不揮発性半導体装置は16ビットの入出力ビットを有するものとして説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、4ビット、8ビットまたは32ビット等の2の累乗個の入出力ビットを有するものでもよく、さらにこれに加えてパリティビットやECC符号ビットを余分に有する構成でも適用可能であるので、一般にn(n≧4の整数)ビットの入出力ビットを有する半導体回路に適用可能である。
【0057】
また、メモリセルに書込がなされてセルトランジスタのしきい値電圧が高くなった状態をデータ“1”の保持状態とし、消去がなされてセルトランジスタのしきい値電圧が低くなった状態をデータ“0”の保持状態として説明したが、これらは便宜的な定義であり、しきい値電圧の高低とデータの“1”,“0”との対応関係を逆にしてもよい。
【0058】
また、書込開始信号WSTは、外部から入力される信号として説明したが、外部から書込コマンドが入力されこれをもとに不揮発性半導体メモリ内で生成した信号であってもよい。
【0059】
また、書込制御回路5,5a,5b,5c内のカウンタ12は、カウントパルスCPを入力する毎にカウントダウンするダウンカウンタとして説明したが、これに換えてカウントパルスCPを入力する毎にカウントアップするアップカウンタとしてもよい。この場合にはカウンタ12の初期値を0とするので、書込信号WT[0]が最初にアクティブレベルとなり、カウントアップする毎にWT[1]以降が順次アクティブレベルとなる。
【0060】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明を適用した不揮発性半導体メモリでは、書込時に電流検知回路が昇圧回路から供給されるVpp電源電流Ippを常時監視し、Ippがリファレンス電流Iref以上に増大すると書込制御回路に検知信号をアクティブレベルとして送り、書込制御回路は検知信号がインアクティブレベルに戻るまで新たな書込信号の生成を停止するように動作する。これにより、第1の従来技術と第2の従来技術との組み合わせや第3の従来技術とほぼ同等の実用的な書込時間を維持しつつ第1の従来技術と第2の従来技術とを組み合わせや第3の従来技術で実現できるレベルよりもさらに昇圧回路の電流供給の負担を低減することができる。したがって、本発明を適用した不揮発性半導体メモリでは入出力ビットがさらに多ビット化したときにも昇圧回路の占有面積増大を抑制でき、小チップ面積で低コストとすることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態のブロック図である。
【図2】第1実施形態における書込制御回路の内部ブロックを示す図である。
【図3】第1実施形態の動作タイミング図である。
【図4】第1実施形態の効果を説明する図である。
【図5】第2実施形態における書込制御回路の内部ブロックを示す図である。
【図6】第2実施形態の動作タイミング図である。
【図7】第3実施形態のブロック図である。
【図8】第3実施形態の書込制御回路5の内部ブロックを示す図である。
【図9】第4実施形態のブロック図である。
【図10】(a)は、“1”データの書込時におけるセルトランジスタのドレイン電流の時間変化およびセルトランジスタのしきい値電圧の時間変化を示す図であり、(b)は、昇圧回路の一例の回路図である。
【図11】(a)は、第2の従来技術を用いた不揮発性半導体メモリのブロック図であり、(b)は、第2の従来技術と第1の従来技術とを組み合わせた場合のVpp電源電流を示す図である。
【図12】(a)は、第3の従来技術のブロック図であり、(b)は、第3の従来技術による書込における電流を示した図である。
【符号の説明】
1 フラッシュメモリ部
2 昇圧回路
3 電流検知回路
4 書込回路
5,5a,5b,5c 書込制御回路
6 タイマ
7 発振器
11,31 カウントパルス生成回路
12 カウンタ
13,23 書込信号生成回路
21 カウント値シフト回路
22 開始時信号生成回路
32 書込カウント値判別回路
DTCT 検知信号
WT 書込信号[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory, and more particularly to a nonvolatile semiconductor memory including a booster circuit that generates a program voltage.
[0002]
[Prior art]
In a nonvolatile semiconductor memory such as an EEPROM or a flash memory, a memory cell is composed of a cell transistor having a floating gate between the gate and the surface of the semiconductor substrate, and the threshold value of the cell transistor is changed by changing the amount of charge in the floating gate. Data is stored by changing the voltage. For example, writing “1” data to the memory cell is performed by setting the gate voltage Vg = 9 V, the drain voltage Vd = 5 V, and the source voltage = 0 V (ground potential) to move electrons moving from the source to the drain to the floating gate. And the threshold voltage of the cell transistor is increased. FIG. 10A is a diagram showing the time change of the drain current of the cell transistor and the time change of the threshold voltage of the cell transistor when “1” data is written. When “1” data is written, the drain current of the cell transistor once rises to several hundred μA, and then the threshold voltage increases and the drain current decreases due to the injection of electrons into the floating gate.
[0003]
In a nonvolatile semiconductor memory such as an EEPROM or a flash memory, such memory cells are provided in an array, and data is written to or read from a memory cell selected by an external address. In recent nonvolatile semiconductor memories, it is common to incorporate a booster circuit that generates a program power supply (Vpp power supply) voltage for supplying a high voltage to the drain and gate of a cell transistor at the time of writing. FIG. 10B is a circuit diagram of an example of the booster circuit. The power supply voltage VCC supplied from the outside is boosted by the periodic signal PA and the signal PB of the opposite phase to generate the Vpp power supply voltage. The current supply capability of the booster circuit depends on the frequencies of PA and PB and the capacitance value of the boosting capacitor. However, in order to increase the frequency, a MOS transistor having a large channel width is required, and in order to increase the capacitance value, it is necessary to increase the size of the push-up capacitor. Remarkably large. Assuming that the booster circuit has a practical size, in a nonvolatile semiconductor memory having a multi-bit configuration of input / output bits, the program power supply (Vpp power supply) current Ipp at the time of writing exceeds the current supply capability of the booster circuit and the Vpp power supply voltage In some cases, this causes a drop and leads to a writing failure. For this reason, for example, in a flash memory in which one word consists of 16 bits, a divisional writing technique is used in which the number of bits to be simultaneously written is 4 bits and 1 word (16 bits) is written by four times of writing. For example, if the maximum value of the drain current that flows when data “1” is written to one cell transistor is 250 μA, the Vpp power supply current Ipp in 16-bit batch writing is 0.25 mA × 16 = 4 mA. Considering the variation in the write characteristics of the transistors, the current supply capability of the booster circuit is about twice that of 8 mA, and it is difficult to incorporate the booster circuit in the nonvolatile semiconductor memory. On the other hand, when divided writing is performed every 4 bits, the Vpp power supply current Ipp is 0.25 mA × 4 = 1 mA, and the current supply of the booster circuit is taken into consideration even when the variation in the write characteristics of the cell transistor is taken into consideration. Since the capacity is only required to be about 2 mA, the booster circuit can be incorporated in the nonvolatile semiconductor memory.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the divided writing technique of the first conventional example, a new problem that the writing time increases is caused. For example, if writing is completed in 2 μS when 16 bits can be written at once, a writing time of 2 μS × 4 = 8 μS is required in divided writing every 4 bits.
[0005]
A second prior art for shortening the writing time is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 11-260084. FIG. 11A is a block diagram of a nonvolatile semiconductor memory using the second prior art. In FIG. 11 (a), the read system is omitted for the sake of brevity, and only the write system is shown. In the
[0006]
The second prior art is effective for shortening the writing time, but it is not improved in that the booster circuit must supply a large Vpp power supply current Ipp. By combining the second prior art with the first prior art, it is possible to reduce the current supply burden of the booster circuit and shorten the writing time. That is, as shown in FIG. 11B, when 4 bits are divided and written, if the average writing time TA = 1 μS for simultaneous writing of 4 bits, the writing time of 1 word (16 bits) is reduced. The speed can be increased to 4 μS, and the current supply capability of the booster circuit can be reduced to 2 mA.
[0007]
Japanese Patent Laid-Open No. 11-176179 discloses a third conventional technique for improving the writing time and the burden of current supply of the booster circuit. FIG. 12 is a block diagram of the third prior art. The
[0008]
As described above, by applying the first conventional technique and the second conventional technique in combination to the nonvolatile semiconductor memory, or by applying the third conventional technique to the nonvolatile semiconductor memory, the booster circuit Thus, it is possible to obtain a nonvolatile semiconductor memory in which the burden of current supply is small and the writing time is shortened.
[0009]
However, as one word of instructions of a microcomputer increases from 16 bits to 32 bits and 64 bits, it is inevitable that the input / output bits of the nonvolatile semiconductor memory will also increase in number. It is necessary to further reduce the burden of current supply of the booster circuit than the level that can be realized by combining the second conventional technique and the third conventional technique.
[0010]
An object of the present invention is to provide a first conventional technique and a second conventional technique while maintaining a practical writing time substantially equal to the combination of the first conventional technique and the second conventional technique and the third conventional technique. The burden of boosting circuit current supply can be further reduced compared to the level that can be realized by combining the technology and the third prior art, and the increase in the occupied area of the boosting circuit can be suppressed even when the number of bits is increased. It is to provide a non-volatile semiconductor memory.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
The nonvolatile semiconductor memory of the present invention is a nonvolatile semiconductor memory having a booster circuit for generating a program power supply voltage and a nonvolatile memory unit having a plurality of input / output bits, and the program supplied to the nonvolatile memory unit by the booster circuit The power supply current is monitored, and when the program power supply current is less than a preset reference current value, the write operation of the write circuit provided corresponding to each of the plurality of input / output bits is sequentially started at a predetermined time interval, When the program power supply current is equal to or higher than the reference current value, a means for stopping the start of the write circuit corresponding to the next bit during the period until the program power supply current decreases again below the reference current value is provided.
[0012]
The non-volatile semiconductor memory of the present invention is a non-volatile semiconductor memory having a booster circuit for generating a program power supply voltage and a non-volatile memory unit having an input / output of n (n ≧ 4 integer) bits. Monitors the program power supply current supplied by the current detection circuit and outputs a detection signal as an active level during a period that is equal to or higher than a preset reference current value, and inputs a write start signal to start write control. When the detection signal is at the inactive level, the write signal corresponding to each of the n input / output bits is sequentially output as the active level at a predetermined time interval, and when the detection signal is at the active level, the next write signal is output. And a write control circuit for stopping the active level of the write signal provided corresponding to each of the n input / output bits. The writing operation and the n writing circuit to start, may be configured with when you type.
[0013]
Further, the write control circuit inputs a write start signal to start the write control, and a predetermined decrement value m (an integer of m ≧ 2) among write signals corresponding to n input / output bits. The write signals of the same number are output as the active level simultaneously with the start of the write control, and the write signals corresponding to the remaining (nm) input / output bits are input when the detection signal is at the inactive level. A write signal corresponding to each of the output bits may be sequentially output as an active level at a predetermined time interval, and when the detection signal is at an active level, output of the next write signal may be stopped.
[0014]
Furthermore, the write control circuit inputs the write start signal to start the write control. When the detection signal is at the inactive level, the input data among the write signals corresponding to each of the n input / output bits. Selects only the write signal corresponding to the bit that is the data value to write the memory cell to the high threshold voltage state, and sequentially outputs it as an active level at a time interval of a predetermined time or more, and when the detection signal is at the active level The output of the next write signal may be stopped.
[0015]
Furthermore, the write circuits are provided corresponding to n input / output bits and are grouped into a plurality of groups equal to or less than a predetermined number of simultaneous write bits p (an integer of p ≧ 2) to correspond to each group. The write operation is started when the active level of the write signal is input, and the write control circuit starts the write control by inputting the write start signal. When the detection signal is at the inactive level, the write signal corresponding to each of the plurality of write circuit groups is sequentially output as the active level at a predetermined time interval, and when the detection signal is at the active level, the next write signal You may comprise so that an output may be stopped.
[0016]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Next, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram of a first embodiment of a nonvolatile semiconductor memory of the present invention. The nonvolatile semiconductor memory includes a
[0017]
The
[0018]
Each of the write circuits 4-0 to 4-15 has a flash memory portion when the data value of the corresponding input data D [0] to D [15] is a predetermined value “1” at the time of writing. The Vpp power supply voltage is supplied to the selected digit line of each of the lower memory cell arrays.
[0019]
[0020]
The
[0021]
Write
[0022]
The
[0023]
FIG. 2 is a diagram showing an internal block of the
[0024]
The count
[0025]
In the present invention, the
[0026]
When detection signal DTCT is at an inactive low level (that is, when Vpp power supply current Ipp is less than reference current Iref), count
[0027]
In the
[0028]
When detection signal DTCT is at the high level of the active level (that is, when Vpp power supply current Ipp is greater than or equal to reference current Iref), count
[0029]
FIG. 3 is an operation timing chart of the first embodiment. The operation of the first embodiment will be described with reference to FIGS.
[0030]
In the
[0031]
Next, the Vpp power supply voltage boosted by the
[0032]
Similarly, when the second count pulse CP is output from the count
[0033]
As long as the Vpp power supply current Ipp is less than the reference current value, the count pulse is output by the count
[0034]
Next, when the fourth count pulse CP is output from the count
[0035]
When the Vpp power supply current Ipp decreases below the reference current value Iref and the detection signal DTCT becomes low level, the fifth count pulse CP is output from the count
[0036]
When the
[0037]
FIG. 4 is a diagram for explaining the effect of the first embodiment, and corresponds to FIG. 12B showing the effect of the third prior art in FIG. In the figure, Ip0, IP1,..., IP15 indicate currents flowing through the write circuits 4-0, 4-1,. In FIG. 4 and FIG. 12B, the current characteristics of the memory cells are assumed to be the same. In FIG. 12B, since the Vpp power supply current Ipp is continuously increased from the time T6 to the time T9, the booster circuit is required to have the ability to continuously supply this level of Ipp. If not satisfied, the Vpp power supply voltage is lowered and the cell transistor cannot be written to a sufficiently high threshold voltage.
[0038]
On the other hand, in FIG. 4, when the Vpp power supply current Ipp is equal to or higher than the reference current value Iref, the start of the writing circuit corresponding to the next bit is stopped, so that Ipp temporarily increases and the Vpp power supply voltage decreases. However, when the write circuit for the next bit is started, Vpp can be recovered to a normal voltage, so that the writing failure of the cell transistor is prevented. As in the case of the third prior art, if the write time for 1 bit is 2 μS and the period of the count pulse CP is 0.2 μS, the write time for 1 word (16 bits) in FIG. 2 μS × 17 + 2 μS = 5.4 μS. The current supply capability of the booster circuit should be about 3 times with a margin of about 2 times the average characteristics (250 μA) such as Ip0 and Ip1 even if variations in characteristics of memory cells such as Ip5 and Ip7 are taken into account. This is sufficient and is about 750 μA. The reference current value Iref is preferably set to a value between the average Ipp (in the example, 500 μA) and the current supply capability of the booster circuit (in the example, 750 μA).
[0039]
As described above, when the first prior art and the second prior art are combined, the average write time per 4 bits can be shortened to 1 μS, and the 16 bit write time can be reduced. Although it is 4 μS and writing can be performed in 26% shorter time than the present embodiment, the current supply capability of the booster circuit is required to be about 2 mA, which is 2.7 times that of the present embodiment. In the third prior art, the 16-bit writing time is 5 μS, and writing can be performed in 8% shorter time than the present embodiment. However, the current supply capability of the booster circuit is required to be about 1 mA. 33% larger. As described above, in the nonvolatile semiconductor memory to which the present embodiment is applied, the combination of the first conventional technique and the second conventional technique or the practical writing time close to the third conventional technique is maintained. The current supply burden of the booster circuit can be further reduced as compared with the level that can be realized by combining the prior art and the second prior art or the third prior art.
[0040]
Next, another embodiment of the nonvolatile semiconductor memory of the present invention will be described. FIG. 5 is a diagram showing an internal block of the write control circuit in the second embodiment. Unlike the first embodiment, the second embodiment is configured by replacing the
[0041]
Referring to FIG. 5, the write control circuit 5a according to the second embodiment includes a count
[0042]
The count
[0043]
FIG. 6 is an operation timing chart of the non-volatile semiconductor memory according to the second embodiment configured with a reduced value m = 2. Hereinafter, the operation of the second embodiment will be described with reference to FIG. 1, FIG. 5, and FIG.
[0044]
When the write start signal WST is input, the write signals WT [15] and WT [14] corresponding to the decrement value (2) counted from the initial value (15) of the
[0045]
The subsequent operation is the same as that of the first embodiment. When the Vpp power supply current Ipp increases to the reference current Iref or more, the detection signal DTCT becomes a high level, and the count
[0046]
In the present embodiment, since the number of write circuits corresponding to the decrement value are simultaneously started when writing is started, a new effect that the writing time can be shortened as compared with the first embodiment occurs.
[0047]
FIG. 7 is a block diagram of a third embodiment of the nonvolatile semiconductor memory of the present invention. The third embodiment differs from the first embodiment of FIG. 1 in that only the write circuit corresponding to the input / output bit for which input data is “1” and data “1” needs to be written is operated. Instead of the
[0048]
FIG. 8 is a diagram showing an internal block of the
[0049]
The operation of the third embodiment will be described. Input data D [15] to D [0] are input to the write count
[0050]
If the count value CNT input to the write count
[0051]
FIG. 9 is a block diagram of a nonvolatile semiconductor memory according to a fourth embodiment of the present invention. The fourth embodiment is different from the first embodiment in that a plurality of (two in FIG. 9) write circuits are simultaneously started by one write signal, and the
[0052]
The internal block of the
[0053]
In the operation of this embodiment, every time the write signal WT [i-j] changes to high level, the two write circuits 4-i and 4-j included in the corresponding write circuit group are started simultaneously. Only the point which makes it differ from 1st Embodiment. The other operations are the same as in the first embodiment. When the Vpp power supply current Ipp increases to the reference current Iref or more, the detection signal DTCT becomes high level, and the count
[0054]
In the present embodiment, p write circuits are simultaneously started and writing is performed. Therefore, the non-volatile semiconductor memory is equipped with a booster circuit capable of supplying the Vpp power supply current Ipp necessary for p simultaneous write operations. If it is, the writing time can be shortened as compared with the first embodiment and the second embodiment.
[0055]
In the above description, the input data D [15] to D [0] are described as external input data. However, for example, internal data such as code data in a nonvolatile semiconductor memory equipped with ECC (error correction code) is used. It may be generated input data.
[0056]
In the above description, the nonvolatile semiconductor device has been described as having 16 input / output bits. However, the present invention is not limited to this, and is a power of 2 such as 4 bits, 8 bits, or 32 bits. Since it may be applicable to a configuration having extra parity bits and ECC code bits in addition to this, it has generally n (n ≧ 4) integer input / output bits. It can be applied to semiconductor circuits.
[0057]
The state in which the memory cell is written and the threshold voltage of the cell transistor is increased is defined as the data “1” holding state, and the state in which the memory transistor is erased and the threshold voltage of the cell transistor is decreased. Although described as the holding state of “0”, these are definitions for convenience, and the correspondence relationship between the level of the threshold voltage and the data “1” and “0” may be reversed.
[0058]
Further, although the write start signal WST has been described as a signal input from the outside, the write start signal WST may be a signal generated in the nonvolatile semiconductor memory based on a write command input from the outside.
[0059]
Further, the
[0060]
【The invention's effect】
As described above, in the nonvolatile semiconductor memory to which the present invention is applied, the current detection circuit constantly monitors the Vpp power supply current Ipp supplied from the booster circuit at the time of writing, and it is written that Ipp increases to the reference current Iref or more. The detection signal is sent to the write control circuit as an active level, and the write control circuit operates to stop generating a new write signal until the detection signal returns to the inactive level. Thus, the first conventional technique and the second conventional technique are maintained while maintaining a practical writing time substantially equal to the combination of the first conventional technique and the second conventional technique or the third conventional technique. The burden of current supply of the booster circuit can be further reduced than the level that can be realized by the combination or the third prior art. Therefore, in the nonvolatile semiconductor memory to which the present invention is applied, an increase in the area occupied by the booster circuit can be suppressed even when the number of input / output bits is further increased, and the cost can be reduced with a small chip area.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram of a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing an internal block of a write control circuit in the first embodiment.
FIG. 3 is an operation timing chart of the first embodiment.
FIG. 4 is a diagram illustrating the effect of the first embodiment.
FIG. 5 is a diagram showing an internal block of a write control circuit in a second embodiment.
FIG. 6 is an operation timing chart of the second embodiment.
FIG. 7 is a block diagram of a third embodiment.
FIG. 8 is a diagram showing an internal block of a
FIG. 9 is a block diagram of a fourth embodiment.
FIG. 10A is a diagram showing the time change of the drain current of the cell transistor and the time change of the threshold voltage of the cell transistor at the time of writing “1” data, and FIG. It is a circuit diagram of an example.
FIG. 11A is a block diagram of a non-volatile semiconductor memory using the second prior art, and FIG. 11B is a diagram showing Vpp when the second prior art and the first prior art are combined. It is a figure which shows a power supply current.
FIG. 12A is a block diagram of a third prior art, and FIG. 12B is a diagram showing a current in writing according to the third prior art.
[Explanation of symbols]
1 Flash memory
2 Booster circuit
3 Current detection circuit
4 Write circuit
5, 5a, 5b, 5c Write control circuit
6 Timer
7 Oscillator
11, 31 Count pulse generation circuit
12 counters
13, 23 Write signal generation circuit
21 Count value shift circuit
22 Start signal generation circuit
32 Write count value discrimination circuit
DTCT detection signal
WT write signal
Claims (8)
前記昇圧回路が前記不揮発性メモリ部に供給するプログラム電源電流を監視し、プログラム電源電流が予め設定されたリファレンス電流値未満のときには前記複数入出力ビットのそれぞれに対応して設けられた書き込み回路の書込動作を所定の時間間隔で順次始動させ、プログラム電源電流がリファレンス電流値以上のときには再度プログラム電源電流がリファレンス電流値未満に減少するまでの期間次のビットに対応する書込回路の始動を停止する手段を備えることを特徴とする不揮発性半導体メモリ。In a non-volatile semiconductor memory having a booster circuit that generates a program power supply voltage and a non-volatile memory unit having a plurality of input / output bits,
The booster circuit monitors a program power supply current supplied to the nonvolatile memory unit, and when the program power supply current is less than a preset reference current value, a write circuit provided corresponding to each of the plurality of input / output bits The write operation is sequentially started at a predetermined time interval, and when the program power supply current is equal to or higher than the reference current value, the write circuit corresponding to the next bit is started again until the program power supply current decreases below the reference current value again. A non-volatile semiconductor memory comprising means for stopping.
前記昇圧回路が供給するプログラム電源電流を監視し予め設定されたリファレンス電流値以上である期間には検知信号をアクティブレベルとして出力する電流検知回路と、
書込開始信号を入力して書込制御を開始し前記検知信号がインアクティブレベルのときにはn個の入出力ビットのそれぞれに対応する書込信号を所定の時間間隔で順次アクティブレベルとして出力し、前記検知信号がアクティブレベルのときには次の書込信号の出力を停止する書込制御回路と、
n個の入出力ビットに対応して設けられそれぞれに対応する書込信号のアクティブレベルを入力したときに書込動作を開始するn個の書込回路と、を備えることを特徴とする不揮発性半導体メモリ。In a non-volatile semiconductor memory having a booster circuit for generating a program power supply voltage and a non-volatile memory unit having an input / output n (n ≧ 4) integer configuration,
A current detection circuit that monitors a program power supply current supplied by the booster circuit and outputs a detection signal as an active level in a period that is equal to or greater than a preset reference current value;
A write start signal is input to start write control, and when the detection signal is in an inactive level, a write signal corresponding to each of n input / output bits is sequentially output as an active level at a predetermined time interval, A write control circuit for stopping the output of the next write signal when the detection signal is at an active level;
a non-volatile circuit comprising n write circuits provided corresponding to n input / output bits and starting a write operation when an active level of a write signal corresponding to each of the input / output bits is input. Semiconductor memory.
検知信号がインアクティブレベルのときにクロック信号に同期したカウントパルスを出力し前記検知信号がアクティブレベルのときにはカウントパルスの生成を停止するカウントパルス生成回路と、
書込開始信号を入力したのちの最初のカウントパルスで(n−1)がカウント値の初期値として設定されカウントパルスを入力する毎に1ずつカウントダウンするとともに前記カウント値を出力するカウンタと、
前記カウント値を入力する毎に前記カウント値に対応する書込信号をアクティブレベルとして出力する書込信号生成回路とを有することを特徴とする請求項2記載の不揮発性半導体メモリ。The write control circuit includes:
A count pulse generation circuit that outputs a count pulse synchronized with a clock signal when the detection signal is at an inactive level and stops generating a count pulse when the detection signal is at an active level;
(N-1) is set as the initial value of the count value at the first count pulse after inputting the write start signal, and each time the count pulse is input, the counter counts down by 1 and outputs the count value;
3. The nonvolatile semiconductor memory according to claim 2, further comprising a write signal generation circuit that outputs a write signal corresponding to the count value as an active level each time the count value is input.
前記昇圧回路が供給するプログラム電源電流を監視し予め設定されたリファレンス電流値以上である期間には検知信号をアクティブレベルとして出力する電流検知回路と、
書込開始信号を入力して書込制御を開始しn個の入出力ビットに対応する書込信号のうち予め決められた減数値m(m≧2の整数)の個数の書込信号については書込制御の開始と同時にアクティブレベルとして出力し残りの(n−m)個の入出力ビットに対応する書込信号については前記検知信号がインアクティブレベルのときには入出力ビットのそれぞれに対応する書込信号を所定の時間間隔で順次アクティブレベルとして出力し、前記検知信号がアクティブレベルのときには次の書込信号の出力を停止しする書込制御回路と、
n個の入出力ビットに対応して設けられそれぞれに対応する書込信号のアクティブレベルを入力したときに書込動作を開始するn個の書込回路と、を備えることを特徴とする不揮発性半導体メモリ。In a non-volatile semiconductor memory having a booster circuit for generating a program power supply voltage and a non-volatile memory unit having an input / output n (n ≧ 4) integer configuration,
A current detection circuit that monitors a program power supply current supplied by the booster circuit and outputs a detection signal as an active level in a period that is equal to or greater than a preset reference current value;
With respect to the number of write signals corresponding to a predetermined decrement value m (m ≧ 2) among the write signals corresponding to n input / output bits, the write control is started by inputting the write start signal. The write signal corresponding to the remaining (nm) input / output bits that are output at the same time as the start of the write control and corresponding to the remaining (n−m) input / output bits are written corresponding to the input / output bits when the detection signal is at the inactive level. A write control circuit that sequentially outputs an active signal at a predetermined time interval as an active level, and stops output of a next write signal when the detection signal is at an active level;
a non-volatile circuit comprising n write circuits provided corresponding to n input / output bits and starting a write operation when an active level of a write signal corresponding to each of the input / output bits is input. Semiconductor memory.
検知信号がインアクティブレベルのときにクロック信号に同期したカウントパルスを出力し前記検知信号がアクティブレベルのときにはカウントパルスの生成を停止するカウントパルス生成回路と、
書込開始信号を入力したのちの最初のカウントパルスで(n−1)がカウント値の初期値として設定されカウントパルスを入力する毎に1ずつカウントダウンするとともに前記カウント値を出力するカウンタと、
前記カウント値を入力して予め決められた減数値m(m≧2の整数)を前記カウント値から減算してシフト済カウント値として出力するカウント値シフト回路と、
前記書込開始信号を入力すると前記カウンタに設定される初期値から数えて減数値mの個数分の書込信号を同時にアクティブレベルとして出力する開始信号生成回路と、
前記シフト済カウント値を入力する毎に前記シフト済カウント値に対応する書込信号をアクティブレベルとして出力する書込信号生成回路とを有することを特徴とする請求項4記載の不揮発性半導体メモリ。The write control circuit includes:
A count pulse generation circuit that outputs a count pulse synchronized with a clock signal when the detection signal is at an inactive level and stops generating a count pulse when the detection signal is at an active level;
(N-1) is set as the initial value of the count value at the first count pulse after inputting the write start signal, and each time the count pulse is input, the counter counts down by 1 and outputs the count value;
A count value shift circuit that inputs the count value and subtracts a predetermined decrement value m (an integer of m ≧ 2) from the count value and outputs it as a shifted count value;
A start signal generation circuit for simultaneously outputting as many active signals as the decrement value m counted from the initial value set in the counter when the write start signal is input;
5. The nonvolatile semiconductor memory according to claim 4, further comprising: a write signal generation circuit that outputs a write signal corresponding to the shifted count value as an active level each time the shifted count value is input.
前記昇圧回路が供給するプログラム電源電流を監視し予め設定されたリファレンス電流値以上である期間には検知信号をアクティブレベルとして出力する電流検知回路と、
書込開始信号を入力して書込制御を開始し前記検知信号がインアクティブレベルのときにはn個の入出力ビットのそれぞれに対応する書込信号のうち入力データがメモリセルを高しきい値電圧状態に書き込むデータ値であるビットに対応する書込信号のみを選択し所定の時間間隔で順次アクティブレベルとして出力し、前記検知信号がアクティブレベルのときには次の書込信号の出力を停止する書込制御回路と、n個の入出力ビットに対応して設けられそれぞれに対応する書込信号のアクティブレベルを入力したときに書込
動作を開始するn個の書込回路と、を備えることを特徴とする不揮発性半導体メモリ。In a non-volatile semiconductor memory having a booster circuit for generating a program power supply voltage and a non-volatile memory unit having an input / output n (n ≧ 4) integer configuration,
A current detection circuit that monitors a program power supply current supplied by the booster circuit and outputs a detection signal as an active level in a period that is equal to or greater than a preset reference current value;
When a write start signal is input to start write control and the detection signal is in an inactive level, the input data among the write signals corresponding to each of the n input / output bits causes the memory cell to have a high threshold voltage. Only a write signal corresponding to a bit that is a data value to be written in a state is selected and sequentially output as an active level at a predetermined time interval. When the detection signal is at an active level, the output of the next write signal is stopped A control circuit; and n write circuits that are provided corresponding to n input / output bits and start a write operation when an active level of a write signal corresponding to each of the control circuits is input. A non-volatile semiconductor memory.
検知信号がインアクティブレベルのときにクロック信号に同期したカウントパルスを出力し次パルス生成要求信号のアクティブレベルを入力した場合には出力中のカウントパルスを中断し新規にカウントパルスを生成して出力し前記検知信号がアクティブレベルのときにはカウントパルスの生成を停止するカウントパルス生成回路と、
書込開始信号を入力したのちの最初のカウントパルスで(n−1)がカウント値の初期値として設定されカウントパルスを入力する毎に1ずつカウントダウンするとともに前記カウント値を出力するカウンタと、
前記カウント値を入力して入力データとしてメモリセルを高しきい値電圧状態に書き込むデータ値を入力したビットに対応するカウント値と一致するかを判別し一致するときには前記次パルス生成要求信号をインアクティブレベルにするとともに前記カウント値を書込カウント値として出力し前記ビットに対応するカウント値と一致しないときには前記次パルス生成要求信号をアクティブレベルとして出力する書込カウント値判別回路と、
前記書込カウント値を入力する毎に前記書込カウント値に対応する書込信号をアクティブレベルとして出力する書込信号生成回路とを有することを特徴とする請求項6記載の不揮発性半導体メモリ。The write control circuit includes:
When the detection signal is in the inactive level, a count pulse synchronized with the clock signal is output, and when the active level of the next pulse generation request signal is input, the output count pulse is interrupted and a new count pulse is generated and output. A count pulse generation circuit that stops generating the count pulse when the detection signal is at an active level;
(N-1) is set as the initial value of the count value at the first count pulse after inputting the write start signal, and each time the count pulse is input, the counter counts down by 1 and outputs the count value;
When the count value is input and the data value for writing the memory cell to the high threshold voltage state as input data is matched with the count value corresponding to the input bit, the next pulse generation request signal is input when they match. A write count value determination circuit that sets the active level and outputs the count value as a write count value and outputs the next pulse generation request signal as an active level when the count value does not match the bit value;
7. The nonvolatile semiconductor memory according to claim 6, further comprising a write signal generation circuit that outputs a write signal corresponding to the write count value as an active level each time the write count value is input.
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