JP3686373B2 - 一様な,広領域切除システム - Google Patents
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Description
本発明は,目の修正外科手術を実施する方法およびシステムに関する。特に,本発明は,ほぼ一様な深さで目の組織を切除するように形成されたエネルギーの分布のプロフィールをもつレーザービームを提供する,外科手術方法およびシステムに関する。
【0002】
紫外線および赤外線レーザーシステムおよび方法が今や,視覚欠陥を修正するために,角膜への,眼の外科手術の際に使用されている。レーザー屈折矯正角膜切除術として一般的に参照されるこれらの手順は,一般的に,角膜からの間質(stromal)組織の微細な層を除去し,その屈折力を変えるために,紫外線または赤外線レーザーを採用する。紫外線レーザー切除手順において,照射は,近接しかつ下側に位置する組織に熱ダメージを与えない光分解プロセスにおいて,角膜組織を切除する。照射表面での分子が,残部基質を加熱することなく,より小さな揮発性小部分に破壊される。切除の機構は光化学作用,すなわち分子間力を直接破壊するものである。切除は,近視,遠視,および乱視の修正のような,種々の目的のため,角膜の輪郭または形状を変化させるために,間質組織を除去する。このようなシステムおよび方法は,ここに開示文献として組み込まれるが以下の米国特許および出願に開示されている。"Method for Ophthalmological Surgery"と題する1987年5月19日に発行された米国特許第4,665,913号,"Method and Apparatus for Analysis and Correction of Abnormal Refractive Errors of the Eye"と題する1987年6月2日に発行された米国特許第4,669,466号,"Method for Performing Ophthalmic Laser Surgery"と題する1988年3月22日に発行された米国特許第4,732,148号,"Method of Laser-Sculpture of the Optically Used Portion of the Corner"と題する1988年9月13日に発行された米国特許第4,700,172号,"Method of Laser-Sculpture of the Optically Used Portion of the Corner"と題する1988年9月27日に発行された米国特許第4,773,414号,"Laser Surgery Method and Apparatus"と題する1987年10月16日に出願された米国特許出願109,812号,"Photorefractive keratectomy"と題する1992年11月17日に発行された米国特許第5,163,934号,"Method and Apparatus for Temporal and Spatial Integration"と題する1995年1月4日に出願された米国特許出願08/368,799号,"Method and Apparatus for Combined Cylindrical and Spherical Eye Corrections"と題する1993年10月15日に出願された米国特許出願08/138,552号,"Method and System for Laser Treatment of Refractive Errors Using Offset Imaging"と題する1993年5月7日に出願された米国特許出願第08/058,599号,"Method and System for Ablating Surfaces with Partially Overlapping Craters Having Consistent Curvature"と題する1999年4月30日に出願された米国特許出願第09/303,810号(代理人番号18158-011400)。
【0003】
屈折外科手術ではしばしば,角膜組織を選択的に除去するために,レーザー切除が使用され,これにより,近視,遠視,乱視または他の屈折欠陥を減少させるために角膜が再整形(resculpting)される。この再整形は一般的に,角膜にわたるレーザーエネルギーの量を変化させることに向けられる。レーザーはしばしば,一連のレーザーパルスからなるビームを形成し,レーザーシステムは一般的に,所望の再整形のために,これらパルスの大きさ,形状および/または位置を変化させる。
【0004】
目のレーザー外科手術システムにおいて使用されるレーザーはしばしば,レーザービームの断面にわたって測定されるガウスエネルギー分布のプロフィールを有するビームを形成する。これらシステムはしばしば,そのエネルギー分布をより一様なプロフィールに修正する光学系要素(ときに,積分器として参照される)を含む。残念ながら,本発明に関連しておこなった研究では,断面積にわたって広がる一様なエネルギー分布のプロフィールをもつレーザービームが,目の組織を除去または整形するために使用されたとき,切除深さは一様でなくなることが分かった。添付の図面の図1に示されているように,一様なエネルギー分布のプロフィールをもつレーザービームが符号10により示され,最終的な切除深さが符号20により示されている。この不一様な切除深さは,再整形手順の全体の正確さを悪くし,そのためこれらシステムの利点が制限される。
【0005】
上記の点に鑑み,目のレーザー外科手術のための改良された装置およびシステム,ならびに方法を提供することが望まれている。これらの改良点が,レーザーシステムの複雑さおよびコストを低減し,単純化された理論的な切除深さ計算に基づくよりも,切除の際の実際の経験を反映したレーザー切除アルゴリズムまたは処理プロトコルを使用するときには,さらに望ましいものである。これら改良点が全体の処理時間を長くすることなく,そして,付加的な切除エッジ誘導表面粗さを避けるように,所望の再整形をなすために使用される個々の切除の回数を減少させるときには,さらに利点がある。
【0006】
発明の要約
本発明の一態様にしたがって,目の修正外科手術を実行する方法が提供されるが,その方法は,レーザービーム(断面積を有する)を患者の目の角膜領域に向ける工程と,レーザービームの断面積が患者の目の角膜領域に向けられるとき,ほぼ一様な切除深さをもたらすように,不一様なエネルギー分布のプロフィールをもつ最終的なレーザービームを与えるため,レーザービームの断面積にわたって広がるエネルギー分布のプロフィールを適応させる工程とを含む。
【0007】
適応工程は,レーザービームが周囲の低いエネルギー領域により囲まれる,中央に位置するより高いエネルギー領域をもつようにすることを含む。
【0008】
本発明はさらに,断面積にわたって広がる,ほぼガウスエネルギー分布のプロフィールをもつレーザービームを発生することを含み,適応工程はガウスプロフィールを変更し,最終的なエネルギー分布のプロフィールを与える。
【0009】
適応工程は,回折光学系を通して,レーザービームの方向付けを行うことを含むことができる。
【0010】
レーザービームの断面積の形状は円形でもよい。
【0011】
本発明は,レーザービームを,ほぼ回転対称な開口に通すことを含む。
【0012】
ほぼ回転対称な開口は,角膜領域上に,当該虹彩ダイヤフラムの,焦点はずれの像を形成するように,角膜領域から除去される距離に結像される虹彩ダイヤフラムにより定義することができる。
【0013】
これに代えて,ほぼ回転対称な開口は,角膜領域上に結像される虹彩ダイヤフラムにより定義することができ,本方法は,結像した虹彩ダイヤフラムを回転することを含む。
【0014】
レーザービームは或る位置にある一連のパルスを含むことができ,本方法はレーザービームパルスの間で,虹彩ダイヤフラムを,角度をつけてずらすことを含む。
【0015】
最終的なレーザービームの断面積は,目の外科手術の全サイトにおいて,上皮層を一様に切除するように,目の外科手術の全サイトにわたって広がる上皮層の面積と対応する。
【0016】
本方法は,最終的なレーザービームを使用して,外科手術を行うすべてのところにわたって上皮層を一様に切除し,次に,上皮層が一様に切除された後に,目の間質表面の少なくとも一部を必要な形状に整形するために,レーザービームの断面積の一部を選択的にマスクすることを含むことができる。
【0017】
本発明の他の態様にしたがって,提供される目の外科手術システムが,断面積と,その断面積にわたって広がるエネルギー分布のプロフィールをもつレーザービームを発生するレーザー,およびレーザービームの断面積が患者の目の角膜領域に向けられときに,ほぼ一様な切除深さを形成する不一様な最終的なエネルギー分布のプロフィールをもつ最終的なレーザービームを与えるために,レーザービームのエネルギー分布のプロフィールを適応させる,レーザービームのところに位置する光学系要素とを含む。
【0018】
最終的なエネルギー分布は,周囲のより低いエネルギー領域により囲まれる,中央に位置するより高いエネルギー領域をもつものとすることができる。
【0019】
レーザービームは,断面積にわたって広がる,ほぼガウスエネルギー分布のプロフィールをもつことができる。
【0020】
光学系要素は,最終的なレーザービームを形成するためにレーザービームが通過する回折光学系を含むことができる。
【0021】
最終的なレーザービームの断面の形状は円形でもよい。
【0022】
目の修正外科手術システムはさらに,ほぼ回転対称の開口を画成する調節部を含むことができる。
【0023】
目の修正外科手術システムはさらに,焦点はずれの虹彩像を患者の目に向ける結象システムを含むことができる。
【0024】
回転対称の開口は結像した虹彩により画成することができ,本システムは,結像した虹彩をレーザービームの軸線に関して,角度を付けてずらすために,結像した虹彩と関連した駆動調節部をさらに含む。
【0025】
最終的なレーザービームの断面積は,目の外科手術の全サイトにわたって上皮層を一様に切除するために,目の外科手術の全サイトにわたって広がる上皮層の面積に対応し得る。
【0026】
目の修正外科手術システムはさらに,上皮層が一様に切除された後に,間質表面を整形するために,レーザービームの位置を選択的にマスクをするマスキング調節部を含むことができる。
【0027】
本発明は,添付図面を参照して例示により記述される。
【0028】
図1に示されているように,断面積14にわたって広がっている,一様なエネルギー分布のプロフィール(符号12により略示されている)を有するレーザービームが符号10により一般的に示されている。レーザービーム10は,目の修正外科手術手順の間,患者の目の切除のために使用される。患者の目の表面の一部が符号22により示されている。レーザービーム10の断面積14は典型的に円形である。このようなレーザービーム10が修正外科手術のコースにおいて使用されるとき,不一様な深さの切除断面が形成されることが分かった。符号20はレーザー10により,患者の目の上に形成された,典型的な不一様な深さの切除面積を示す。特に,切除20の深さは,中央領域で最も浅く,中央領域を囲む周囲領域で最も深くなっている。切除の不一様な深さは,図1において,図示のために誇張されている。
【0029】
図2に示されているように,本発明にしたがったレーザービームが符号30により一般的に示されている。レーザービーム30は断面積34にわたって広がる,(符号34に略示されている)不一様なエネルギー分布のプロフィールをもつ。レーザービーム30の断面積34は典型的に円形である。断面積34にわたるエネルギー分布は,中央に位置する領域においてより高く,囲む周囲領域においてより低い。レーザービーム30のエネルギー分布のプロフィールは,目の外科手術の手順の間,符号40により示されている一様な深さの目の組織において切除を行うように調節される。
【0030】
図3に示されているように,本発明にしたがった,目の修正外科手術システムが符号110により一般的に示されている。システム110はレーザービーム30を生成するように調節される。
【0031】
システム110はレーザービーム発生源112を含む。発生源112は典型的に,図3Aに示されているように,ビームの第一の断面3A‐3Aにわたって広がるガウスエネルギー分布のプロフィール115を有する。レーザービーム114の第二の断面3B‐3Bが典型的に,図3Bに示されているように,より一様なエネルギー分布のプロフィール115Xを有する。
【0032】
適切な切除レーザービーム源はエキシマ,自由電子および紫外線光およびパルス化された赤外線レーザーを放出する固体レーザーを含む。適切なエネルギー源が,エネルギーの大半が,組織内の約1umの深さで吸収されるように,組織に強く吸収されるエネルギーを放出する。適切なエキシマレーザーの例が,波長が193nmの紫外線光を放出するフッ化アルゴンエキシマレーザーである。適切な固体レーザーの例が,基本波長が1064nmのイットリウム・アルミニウム・ガーネット(YAG)レーザーから第五調波により発生する,波長が213nmの紫外線光を生成するレーザーである。以下の特許は適切な切除エネルギー源を開示し,開示内容はここに参考文献として組み込まれる。米国特許第5,782,822号(Telfair),米国特許第5,520,067号(Lin)。
【0033】
システム110はさらに,符号116により一般的に示めされているアダプター調節部を含む。アダプター調節部116は,最終的なレーザービームを与えるためにレーザービーム114の断面積にわたって広がるガウスエネルギー分布のプロフィールを適応させ,その最終的なレーザービームはレーザービーム30で,最終的なレーザービーム30の断面積が,符号118で示された患者の目の角膜領域を典型的に切除するために使用されるときに,一様な切除深さをもたらすように調節された不一様なエネルギー分布のプロフィールをもつ。
【0034】
図2に関連して記述されているように,レーザービーム30は,周囲の,より低いエネルギー密度の領域により囲まれる,中央に位置するより高いエネルギー密度の領域をもつ,断面積にわたって広がるエネルギー分布のプロフィールをもつように適応される。アダプター調節部116は典型的に光学系要素である。レーザービーム114がガウスエネルギー分布をもつ場合,光学系要素は典型的に,中央に位置するエネルギー密度を減少させ,周囲のエネルギー密度を増加させるために,ガウスエネルギー分布のプロフィールを適応させる回折光学系となる。
【0035】
アダプター調節部116が図3Cに,詳細に例示されている。レーザービーム114は最初,しばしば,実質的に矩形の断面のビーム114aからなる。上述したように,ビーム114aの第一の断面にそった密度はほぼ一様であるが,より短い垂直な断面にそった密度は実質的にガウス分布となる。ビーム114aは透明部分318(レーザービームを受け入れ,回折して変える)を含む,一般的に平坦な本体316を有する回折要素312に向けられる。回折要素312からの回折したビーム114bは,ビーム軸線にそって進み,回折したビームを収束する収斂または収束レンズ322を通る。収束ビーム114cはまたビーム軸線にそって行き,所望のエネルギー分布32および断面積34を生成する。
【0036】
例示した実施例において,透明部分318は全矩形ビーム114aを受け入れる大きさの,ほぼ矩形形状となる。矩形ではないビームに対しては,透明部分318はこれに代わり,円形,四角,または他の適当な形状であってもよい。回折要素312の透明部分318は透明媒体にエッチングされた回折パターンをもつ。透明媒体は,ガラス状のシリカ材であってもよい。透明媒体は好適には,実質的にビーム114に対し,吸収性も反射性もないものである。透明媒体を例示すると,溶融石英,石英,フッ化マグネシウム,フッ化カルシウム,フッ化リチウム,サファイアなどである。
【0037】
透明媒体318上の回折パターンは,ビームの断面積にわたって不一様性を保つが,角膜組織から一様な切除深さの切除を行うように,適応させられたエネルギー分布に,ガウス分布のレーザービームを変えるように形状付けられる。所望のエネルギー分布の計算は,一様なエネルギー分布によりなされる,切除にわたって切除深さを測定し,一様な切除深さを与えるように,局部的な切除レートにしたがってエネルギー分布を局所的に調節することにより行われる。
【0038】
収束ビーム114cの断面形状は円形,矩形などであってもよい。目のレーザー外科手術において,円形の断面積がしばしば望ましい。
【0039】
回折パターンの形状は,レーザーにより発生したビーム114aの形状,空間強度分布,および波長に強く依存してもよい。回折パターンは,ライン,スポットなどのような,適切に間隔をあけてエッチングされた複数の領域を含むでもよい。約193ナノメートル近傍にある短波長をもつエキシマレーザーにおいて,回折パターンにおけるエッチング領域の間隔は好適に,小さくかつ正確で,透明部分11の材料のドライエッチングのような既知のエッチング技術を使用して形成されてもよい。
【0040】
一様なエネルギー分布を与え,間隔および/または一時的な集積のための,関連した回折光学系は,1998年1月29に共同出願の米国特許出願番号第09/15,841号(ここに参考文献として組み込まれる)によく開示されている。これに代わるビームエネルギー適応要素116は,レンズ,プリズム,ポリマー,流体またはゲルなどを含むエネルギー吸収材を含む。実質的に一様なエネルギー分布を与えるために,空間集積のための二元光学系がDigital Optics Corporation of Charlotte(North Carolina)により設計されてはいるが,回折光学設計の業界のものは同様に回折格子を設計できる。このような回折格子は,たとえば,収束レンズ322,回折要素312,および空間集積面の間の間隔を変化させることにより,回折要素312上の回折パターンなどを変化させることにより本発明の一様な切除深さを達成するために修正できる。所望のエネルギー分布のプロフィールを与える他のビームエネルギーアダプター調節部は,1999年4月30日に共同出願した米国特許出願第09/303,810号(ここに参考文献として組み込まれる)に仔細に記述された構造と似たものでもよい。さらに,他のビームエネルギー分布適応要素は米国特許第5,610,733号(ここに参考文献として組み込まれる)に記述のものと似た構造をもってもよい。
【0041】
システム110はさらに,回転対称の開口121を定義する調節部120を含む。回転対称の開口121は結像した虹彩により画成できる。結像した虹彩と関連した駆動調節部122がレーザー処理の軸線130に関して,結像した虹彩を駆動してずらすために与えられる。駆動調節122は,目における外科手術の手順の間に,非対称な不規則性の形成を避けるために,レーザービーム30のパルス間で,結像した虹彩を駆動し,連続してずらすように調節される。システム110はさらに,目118の近くに開口121の像を形成するために結像レンズ124を含んでもよい。
【0042】
これに代えて,回転対称な開口121は患者の目に,焦点はずれの虹彩像を向ける結像システムにより画成されてもよい。一実施例において,目の修正外科手術110は,患者の目の,外科手術の全サイトにわたって広がる上皮層の面積を一様に切除するために都合よく使用できる。
【0043】
断面積にわたって広がる一様なエネルギー分布のレーザービームが外科手術のサイトにわたって広がる露出面積の切除のために使用されると,周囲部分が過度に除去され,典型的に,間質組織の過度の除去がもたれされる。図4から図6に示されているように,符号210で発生したレーザービームが,切除輻射214の一つのビームが角膜Cの間質層S全体にわたって位置する上皮層Eに向けられるように,開口212を通過するとき,中央線CLでの層の全厚さを除去するのに十分な時間の間の,上皮層Eの露出が図5に図示されているように,周囲領域Pの角膜材の過度の除去をもたらすことが分かった。図から分かるように,上皮層Eは周囲領域Pにおいて,完全に除去された。さらに,周囲領域Pの間質層Sの一部も除去された修正処理の前の,このような露出された間質表面の再形成は逆に連続処理をなす。間質表面の,初期の偶然の再整形は,たとえば,近視の場合,連続したレーザー処理のジオプトリー(平坦化)を増加させることにより補正できるが,間質材の初期の除去と初期の除去の連続した修正との組み合わせは,図6に示されているように,間質層に形成される凹部または井戸部Wをもたらす。このような結果が臨床的には十分でないことは分かっているが,所望の角膜再形成をなすために,必要な量以上に間質材を除去することは望ましくない。
【0044】
本発明のレーザービーム30により,上皮膜はより一様に除去できる。このことは,前述したように,外科手術の全サイトにわたって広がる上皮層の面積にわたって向けるときに,間質が間質組織の周囲を過度に除去することなく露出するように,上皮層を一様に除去する最終的なレーザービームを与えるために,レーザービームの断面積にわたってエネルギー分布のプロフィールを適応させることにより達成される。
【0045】
したがって,上皮層が除去された後,同じレーザービームは,既知の方法にしたがって,レーザービーム30の一部を選択的にマスキングすることにより間質層を整形するために使用することができる。このことは典型的に,直径が変化するビームを生成するように,ビームの環状周囲領域を選択的にマスキングすることにより達成できる。レーザービームの,エネルギーが強化された中央領域が,直径が減少する制御で,全体的な切除深さの増加をもたらすことに留意されたい。このことは,たとえば,より小さい切除直径で,比較的僅かなレーザービームパルスを与えるシステム110の切除パルス方向付けアルゴリズムの使用により,光屈折角膜切除術の間,典型的に保証され得る。このような場合,システム110は典型的にプロセッサにより制御されるが,そのプロセッサにおいて,アルゴリズムは,或る切除深さを達成するために,目に向けられたビームの直径と,レーザービームパルスの数との間に適切な動作関係を生じるように,プログラムされる。
【0046】
不一様なレーザービームにより与えられる一様な切除深さは,レーザー角膜曲率形成術(LASIK),光屈折角膜切除(PRK),光線療法(PTK)などを含む種々の目のレーザー治療を向上させることができる。LASIK手順は図7および図8に略示されているが,一般的に,角膜Cを微小な角膜切開刀で切開し,間質を露出するために,角膜組織のフラップ部Fをずらすことに関するものである。上述したように,不一様なエネルギー分布32をもつレーザービーム30(しばしば一つ以上のパルスからなる)が,レーザービームの断面積にわたり間質組織に一様な深さの切除40を達成する。露出された間質表面での,ビーム30の大きさ,形状,および/または位置を変化させることにより,角膜の柔軟な再整形がなされ得る。フラップ部Fが再配置されると,フラップ部は処理された表面に再度付着され,その結果組み合わされた全体の切除は治療される目の屈折特性を変化させ,視覚を改良する。
【0047】
本発明を,外科手術の全サイトにわたって一様な切除を参照して記載してきたが,一様な深さの切除に対応する,不一様なエネルギーのプロフィールをもつように,レーザービームを適応させるのと同じ原理が,外科手術のサイトにわたってレーザービームを連続して走査する,再整形手順においても使用できることは分かるであろう。この場合,外科手術のサイトの局所的な部分は,全サイトを再整形するために,所望の順序にしたがって処理される。したがって,一様な切除深さに対応する不一様なエネルギー分布のプロフィールをもつように,レーザービームを適応させることは,外科手術のサイトの一部のみに対応するレーザービームの直径についても適用され得る。
【0048】
本発明が好適な実施例を参照して図示され記述されてきたが,当業者により,種々な変化および細部が,特許請求の範囲で画成される本発明の思想および範囲から逸脱することなくなし得ることは理解されよう。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は,断面積にわたって広がる一様なエネルギー分布のプロフィールをもつレーザービームおよび患者の目における最終的な不一様な深さの切除面積の略示側面図を示す。
【図2】 図2は,断面積にわたって広がる不一様なエネルギー分布のプロフィールをもつレーザービームおよび患者の目における最終的な一様な深さの切除面積の略示側面図を示す。
【図3】 図3,本発明にしたがった目の修正外科手術システムを示す略示図を示し,図3Aおよび図3Bはレーザーにより発生したレーザービームの垂直な断面に対するエネルギー分布のプロフィールを略示し,図3Cは回折光学系およびレンズを含む,ビームエネルギーアダプター調節部を示す。
【図4】 図4は,断面積を横切って広がる一様なエネルギー分布のプロフィールをもつレーザービーム(レーザービームは,外科手術の全サイトにわたって広がる上皮層の面積を切除するために使用される)の略示側面図を示す。
【図5】 図5は,上皮層が図4のレーザーにより切除された後に,最終的な切除の略示側面図を示す。
【図6】 図6は,初期の過度な除去の修正が実行された後の,図5の最終的な切除の略示側面図を示す。
【図7】 図7は,本発明の原理にしたがって,LASIK再整形手順において不一様なレーザービームを使用して一様な切除を達成するための方法を略示する。
【図8】 図8は,本発明の原理にしたがって,LASIK再整形手順において不一様なレーザービームを使用して一様な切除を達成するための方法を略示する。
Claims (9)
- 目の修正外科手術システムであって、
断面積および該断面積にわたって広がるエネルギー分布のプロフィールを有するレーザービームを発生するレーザーと、レーザービームのところに配置される光学系要素とを含み、
該光学系要素は回折光学系からなり、該回折光学系はターゲット位置の近くで、不一様なエネルギー分布のプロフィールをもつ、最終的なレーザービームを与えるために、そのレーザービームのエネルギー分布のプロフィールを適応させる構成をもち、
不一様なエネルギー分布のプロフィールは第一のエネルギー強度をもつ中央領域と、第二のエネルギー強度をもつ周囲領域とを含み、
最終的なレーザービームがターゲット位置に位置する患者の目の角膜領域に向けられたとき、不一様なエネルギー分布のプロフィールが、不一様なレーザービームの断面領域にわたってほぼ一様な切除深さをもたらすように、一様な切除エネルギーによりもたらされる周囲の過度の切除を補償すべく、第二のエネルギー強度は第一のエネルギー強度よりも十分に低い、ところのシステム。 - レーザービームは一連のレーザーパルスからなり、
一様なエネルギーによりもたらされる周囲の過度の切除を補償し、各パルスが患者の目の角膜領域に向けられたとき、各パルスに対してほぼ一様な切除深さをもたらすように、各パルスの第二のエネルギー強度がそのパルスの第一のエネルギー強度より十分に小さくなるように、回折光学系は各パルスのエネルギー分布のプロファイルを適応させる、請求項1に記載のシステム。 - レーザービームは断面積にわたって広がる、ほぼガウスエネルギー分布のプロフィールをもつ、請求項1に記載のシステム。
- 最終的なレーザービームの断面積の形状が円形である、請求項1に記載のシステム。
- さらに、ほぼ回転対称の開口を画成する調節部を含む、請求項1に記載のシステム。
- さらに、患者の目上に焦点はずれの虹彩像を向ける結像システムを含む、請求項5に記載のシステム。
- 回転対称の開口は、結像した虹彩により画成され、
当該システムはさらに、レーザービームの軸線に関して、結像した虹彩を、角度をつけてずらす、結像した虹彩と関連した駆動調節部を含む、請求項5に記載のシステム。 - 最終的なレーザービームの断面積は、目の全外科手術のサイトにわたって上皮層の一様な切除をなすように、全外科手術のサイトにわたって広がる上皮層の面積に対応する、請求項1に記載のシステム。
- さらに、上皮層が一様に切除された後に、目の間質を整形するために、レーザービームを選択的にマスキングするマスキング調節部を含む、請求項8に記載のシステム。
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