JP3679872B2 - 希釈率可変のガス希釈装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は吸着性の強いガスの希釈率が可変可能なガス希釈装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ボンベ詰め標準ガスが製作できない低濃度の標準ガスが必要な場合は、希釈器で希釈ガス（ゼロガス）とボンベ詰めの標準ガスを混合希釈するか、パーミェーション方式で発生させるか、主にいずれかの方法がとられてきた。パーミェーション方式は、多孔質の容器の中に揮発した時に必要となる成分になる液を入れたもの（パーミェーションチューブ）を一定温度にすると時間対蒸発量が一定となり、希釈ガス量を調整して一定の希釈率を得る方式であるが、安定に蒸発させるにはパーミェーションチューブを長時間一定温度の恒温槽の中に入れておく必要があるのと、パーミェーションチューブによって蒸発量（パーミェーションレート）にバラツキがあるので、蒸発前と一定時間蒸発させた後にわずかの重量の差を測って発生濃度を求めなければならない。
【０００３】
一方、混合希釈方式は、被希釈ガスと希釈ガスとが各々一定流量にできれば希釈率は一定となり、安定した希釈混合ガスが得られる。希釈の方法は、各々のガスを一定圧力に制御して、キャピラリー（抵抗であっても良い）で各々のガス流量を一定にして混合する方法と、マスフローコントローラーで各々のガス流量を制御して混合希釈する方法が現在実用化されている希釈方式である。
【０００４】
ここでキャピラリーを使う方法はほとんど流量を変化できないので、連続的に大幅に希釈率が可変できない。又、マスフローコントローラー方式は、制御するガス成分等によるセンサー部の汚れによって、設定した流量が変化する問題がある。アンモニア等の吸着しやすいガスの場合には、圧力調整器やマスフローコントローラーにガス中の吸着しやすい成分のみが吸着されて、被希釈ガス、及び希釈ガスの流量から計算した濃度比率や希釈比率にならず、又、時間や周囲温度と共に変化するといった問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は従来技術の前記問題点を解決した新規の希釈率可変の混合希釈装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
前記の目的は以下の手段によって達成される。
【０００７】
すなわち、本発明は被希釈ガスと希釈ガスで混合希釈するガス希釈装置において、流量制御器と流量制御素子とを順次被希釈ガス流路を介して設けると共に前記流量制御器と流量制御素子の中間に一端を大気圧力に開放された差圧圧力調整器を接続してなる被希釈ガスの流路系に被希釈ガスを通過させることにより被希釈ガスを所定圧力に制御し、流量を安定化させ、希釈ガスの流路系に設けた別の可変流量調整器で調整した希釈ガスを前記被希釈ガスと混合させるようにしたことを特徴とする希釈率可変のガス希釈装置を提案するものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図面を参照して更に詳細に説明する。
【０００９】
図１は本発明のガス希釈装置の一例を示す模式図である。
【００１０】
本発明は図１に示すように被希釈ガス１と希釈ガス２とを混合希釈する混合希釈装置であって、流量制御器３例えば抵抗、キャピラリー等と流量制御素子７例えばキャピラリー、抵抗等とを順次被希釈ガス流路６を介して設けると共に流路制御器３と流量制御素子７の中間の被希釈ガス流路６に一端を大気圧力に開放された差圧圧力調整器４を接続してなる被希釈ガス流路系６に被希釈ガス１を通過させることにより該被希釈ガス１を所定圧力０．２〜３ｋｇ／ｃｍ2に制御し、流量を安定化させ、希釈ガスの流路系８に設けた別の可変流量調整器５で調整した希釈ガス２を前記被希釈ガス１とを混合させるようにしたガス希釈装置である。 本発明では、被希釈ガスの流量制御素子７にキャピラリーを用いるが、圧力制御の方法に圧力調整器を通らないようにし、希釈ガスの制御にはマスフローコントローラー等の可変流量調整器５を用いたものである。
【００１１】
差圧圧力調整器４の一方は、大気圧に開放されている。差圧圧力調整器４は、両端の圧力が上昇すると、両端が一定圧力となるように差圧圧力調整器４の通過抵抗を減らして、中を流れるガス流量を多くするよう自動調整するようになっている。もしＡ点の圧力が高くなったとしたら、Ｃ点の圧力も高くなろうとするが、差圧圧力調整器４は、Ｃ点を一定圧力に保とうとしてＣ−Ｄ間を流れる流量を増加させる。すると、流量制御器（抵抗）３の両端の差圧が増えＣ点の圧力を下げるので、Ｃ点はほとんど一定圧力に保たれる。一定圧力に制御されているＣ点から流量制御素子７で一定流量に制御して、希釈ガスと混合希釈される。
【００１２】
ここで被希釈ガスは、流量制御器３、及び流量制御素子７を通るが、いずれもアンモニアガス等の吸着しにくい材質のみで構成した部品が使え、希釈ガスには可変流量調整器を使用しても吸着による誤差がほとんど発生しない吸着性の強いガス用の希釈率が可変できる希釈器が出来上がる。
【００１３】
アンモニアガス等の吸着しにくい材質としては４フッ化テフロン、３フッ化テフロン、ガラス等が挙げられる。
【００１４】
【発明の効果】
本発明によれば、吸着性の強い被希釈ガスを安定に吸着による誤差が殆ど発生せずに所定圧力に制御でき、流量を安定化でき、希釈率を可変できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のガス希釈装置の一例を示す模式図である。
【符号の説明】
１ 被希釈ガス
２ 希釈ガス
３ 流量制御器
４ 差圧圧力調整器
５ 流量調整器
６ 被希釈ガス流路
７ 流量制御素子
８ 希釈ガス流路
Claims (1)
- 被希釈ガスと希釈ガスとを混合希釈するガス希釈装置において、流量制御器と流量制御素子とを順次被希釈ガス流路を介して設けると共に前記流量制御器と流量制御素子の中間に一端を大気圧力に開放された差圧圧力調整器を接続してなる被希釈ガスの流路系に被希釈ガスを通過させることにより被希釈ガスを所定圧力に制御し、流量を安定化させ、希釈ガスの流路系に設けた別の可変流量調整器で調整した希釈ガスを前記被希釈ガスと混合させるようにしたことを特徴とする希釈率可変のガス希釈装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26602796A JP3679872B2 (ja) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | 希釈率可変のガス希釈装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26602796A JP3679872B2 (ja) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | 希釈率可変のガス希釈装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10113547A JPH10113547A (ja) | 1998-05-06 |
| JP3679872B2 true JP3679872B2 (ja) | 2005-08-03 |
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ID=17425377
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26602796A Expired - Fee Related JP3679872B2 (ja) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | 希釈率可変のガス希釈装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3679872B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111473921B (zh) * | 2020-04-16 | 2022-09-09 | 国网湖南省电力有限公司 | 一种六氟化硫泄露报警装置的检测系统 |
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1996
- 1996-10-07 JP JP26602796A patent/JP3679872B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10113547A (ja) | 1998-05-06 |
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| RD14 | Notification of resignation of power of sub attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7434 Effective date: 20031107 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050426 |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080520 Year of fee payment: 3 |
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| S531 | Written request for registration of change of domicile |
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| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090520 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110520 Year of fee payment: 6 |
|
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