JPH10113547A - 希釈率可変のガス希釈装置 - Google Patents

希釈率可変のガス希釈装置

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JPH10113547A
JPH10113547A JP8266027A JP26602796A JPH10113547A JP H10113547 A JPH10113547 A JP H10113547A JP 8266027 A JP8266027 A JP 8266027A JP 26602796 A JP26602796 A JP 26602796A JP H10113547 A JPH10113547 A JP H10113547A
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gas
diluted
dilution
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flow
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Osamu Kawabayashi
修 川林
Akira Shimizu
明 清水
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 吸着性の強いガスであっても希釈率を可変で
きるガス希釈装置を提供する。 【解決手段】 被希釈ガス１と希釈ガス２とを混合希釈
するガス希釈装置において、流量制御器３と流量制御素
子７とを順次被希釈ガス流路を介して設けると共に前記
流量制御器と流量制御素子の中間に一端を大気圧力に開
放された差圧圧力調整器４を接続してなる被希釈ガスの
流路系６に被希釈ガス１を通過させることにより被希釈
ガス１を所定圧力に制御し、流量を安定化させ、希釈ガ
スの流路系に設けた別の可変流量調整器５で調整した希
釈ガス２を前記被希釈ガス１と混合させるようにしたこ
とを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は吸着性の強いガスの
希釈率が可変可能なガス希釈装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ボンベ詰め標準ガスが製作できない低濃
度の標準ガスが必要な場合は、希釈器で希釈ガス（ゼロ
ガス）とボンベ詰めの標準ガスを混合希釈するか、パー
ミェーション方式で発生させるか、主にいずれかの方法
がとられてきた。パーミェーション方式は、多孔質の容
器の中に揮発した時に必要となる成分になる液を入れた
もの（パーミェーションチューブ）を一定温度にすると
時間対蒸発量が一定となり、希釈ガス量を調整して一定
の希釈率を得る方式であるが、安定に蒸発させるにはパ
ーミェーションチューブを長時間一定温度の恒温槽の中
に入れておく必要があるのと、パーミェーションチュー
ブによって蒸発量（パーミェーションレート）にバラツ
キがあるので、蒸発前と一定時間蒸発させた後にわずか
の重量の差を測って発生濃度を求めなければならない。
【０００３】一方、混合希釈方式は、被希釈ガスと希釈
ガスとが各々一定流量にできれば希釈率は一定となり、
安定した希釈混合ガスが得られる。希釈の方法は、各々
のガスを一定圧力に制御して、キャピラリー（抵抗であ
っても良い）で各々のガス流量を一定にして混合する方
法と、マスフローコントローラーで各々のガス流量を制
御して混合希釈する方法が現在実用化されている希釈方
式である。
【０００４】ここでキャピラリーを使う方法はほとんど
流量を変化できないので、連続的に大幅に希釈率が可変
できない。又、マスフローコントローラー方式は、制御
するガス成分等によるセンサー部の汚れによって、設定
した流量が変化する問題がある。アンモニア等の吸着し
やすいガスの場合には、圧力調整器やマスフローコント
ローラーにガス中の吸着しやすい成分のみが吸着され
て、被希釈ガス、及び希釈ガスの流量から計算した濃度
比率や希釈比率にならず、又、時間や周囲温度と共に変
化するといった問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は従来技術の前
記問題点を解決した新規の希釈率可変の混合希釈装置を
提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記の目的は以下の手段
によって達成される。
【０００７】すなわち、本発明は被希釈ガスと希釈ガス
で混合希釈するガス希釈装置において、流量制御器と流
量制御素子とを順次被希釈ガス流路を介して設けると共
に前記流量制御器と流量制御素子の中間に一端を大気圧
力に開放された差圧圧力調整器を接続してなる被希釈ガ
スの流路系に被希釈ガスを通過させることにより被希釈
ガスを所定圧力に制御し、流量を安定化させ、希釈ガス
の流路系に設けた別の可変流量調整器で調整した希釈ガ
スを前記被希釈ガスと混合させるようにしたことを特徴
とする希釈率可変のガス希釈装置を提案するものであ
る。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面を参照して更
に詳細に説明する。
【０００９】図１は本発明のガス希釈装置の一例を示す
模式図である。
【００１０】本発明は図１に示すように被希釈ガス１と
希釈ガス２とを混合希釈する混合希釈装置であって、流
量制御器３例えば抵抗、キャピラリー等と流量制御素子
７例えばキャピラリー、抵抗等とを順次被希釈ガス流路
６を介して設けると共に流路制御器３と流量制御素子７
の中間の被希釈ガス流路６に一端を大気圧力に開放され
た差圧圧力調整器４を接続してなる被希釈ガス流路系６
に被希釈ガス１を通過させることにより該被希釈ガス１
を所定圧力０．２〜３ｋｇ／ｃｍ2に制御し、流量を安
定化させ、希釈ガスの流路系８に設けた別の可変流量調
整器５で調整した希釈ガス２を前記被希釈ガス１とを混
合させるようにしたガス希釈装置である。 本発明で
は、被希釈ガスの流量制御素子７にキャピラリーを用い
るが、圧力制御の方法に圧力調整器を通らないように
し、希釈ガスの制御にはマスフローコントローラー等の
可変流量調整器５を用いたものである。
【００１１】差圧圧力調整器４の一方は、大気圧に開放
されている。差圧圧力調整器４は、両端の圧力が上昇す
ると、両端が一定圧力となるように差圧圧力調整器４の
通過抵抗を減らして、中を流れるガス流量を多くするよ
う自動調整するようになっている。もしＡ点の圧力が高
くなったとしたら、Ｃ点の圧力も高くなろうとするが、
差圧圧力調整器４は、Ｃ点を一定圧力に保とうとしてＣ
−Ｄ間を流れる流量を増加させる。すると、流量制御器
（抵抗）３の両端の差圧が増えＣ点の圧力を下げるの
で、Ｃ点はほとんど一定圧力に保たれる。一定圧力に制
御されているＣ点から流量制御素子７で一定流量に制御
して、希釈ガスと混合希釈される。
【００１２】ここで被希釈ガスは、流量制御器３、及び
流量制御素子７を通るが、いずれもアンモニアガス等の
吸着しにくい材質のみで構成した部品が使え、希釈ガス
には可変流量調整器を使用しても吸着による誤差がほと
んど発生しない吸着性の強いガス用の希釈率が可変でき
る希釈器が出来上がる。
【００１３】アンモニアガス等の吸着しにくい材質とし
ては４フッ化テフロン、３フッ化テフロン、ガラス等が
挙げられる。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、吸着性の強い被希釈ガ
スを安定に吸着による誤差が殆ど発生せずに所定圧力に
制御でき、流量を安定化でき、希釈率を可変できるもの
である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のガス希釈装置の一例を示す模式図であ
る。
【符号の説明】
１ 被希釈ガス ２ 希釈ガス ３ 流量制御器 ４ 差圧圧力調整器 ５ 流量調整器 ６ 被希釈ガス流路 ７ 流量制御素子 ８ 希釈ガス流路

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 被希釈ガスと希釈ガスとを混合希釈する
    ガス希釈装置において、流量制御器と流量制御素子とを
    順次被希釈ガス流路を介して設けると共に前記流量制御
    器と流量制御素子の中間に一端を大気圧力に開放された
    差圧圧力調整器を接続してなる被希釈ガスの流路系に被
    希釈ガスを通過させることにより被希釈ガスを所定圧力
    に制御し、流量を安定化させ、希釈ガスの流路系に設け
    た別の可変流量調整器で調整した希釈ガスを前記被希釈
    ガスと混合させるようにしたことを特徴とする希釈率可
    変のガス希釈装置。
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