JP3665155B2 - 電子部品基板の洗浄装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は電子部品基板の洗浄装置、詳しくは電子部品基板の表面にキズを付けたりダメージを与えることなく高精度で洗浄を行うことができる電子部品基板の洗浄装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体ウエハー、液晶ガラス基板、薄膜磁気ヘッド基板、ELガラス基板等の電子部品基板は電子機器にはなくてはならないものであり、現在その生産量は飛躍的に増大している。そして、この電子部品基板の製造の際にはその表面から汚染微細粒子を除去する洗浄工程を必要とするが、従来においては図1に示す様な装置においてこの洗浄作業を行っていた。
【0003】
即ち、図1において、1は水平方向に載置された電子部品基板であり、該基板1の上方にはその回転軸3が基板の送り方向と直交する様に回転ブラシ2が位置せしめられており、前記回転ブラシ2の毛状体4が電子部品基板1の表面に接触する様になっていた。
又、この回転ブラシ2の前後には洗浄剤供給用ノズル5が取付けられ、電子部品基板1の表面へ向かって洗浄剤11を噴射できる様になっており、回転ブラシ2を回転させながら洗浄剤11を噴射し、電子部品基板1の表面に付着している微細粒子6を回転ブラシ2の毛状体4の摩擦接触運動によって除去しようとするものであった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来の装置においては微細粒子6の除去は回転ブラシ2の毛状体4の物理的な摩擦接触によって行われていた為、電子部品基板1表面にキズを付けたりダメージを与えやすく、加工工程の歩留りを低下させる大きな原因となっていた。
又、物理的な摩擦接触である為、摩耗により回転ブラシ2の毛状体4自体からも微細粒子が発生してしまうといった根本的な欠点もあった。
【0005】
この発明は電子部品基板1の洗浄作業に関する上記従来の問題点を解決することを目的とするものであり、電子部品基板1に物理的に接触することなく、その表面にキズを付けたりダメージを与えることなく付着している微細粒子を効果的に除去することができる電子部品基板の洗浄装置を提供せんとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
この発明は、水平に載置された電子部品基板1の上方に、回転軸8が前記電子部品基板1の送り方向と直交し、かつその円周部9が基板1表面とわずかな空隙Gを保って非接触状態で平行になる様に円柱状をした高速回転体7を位置せしめ、該高速回転体7の前後に洗浄剤供給用ノズル10を複数個設け、前記高速回転体7を反送り方向に高速回転させると共に、電子部品基板1へ向かって洗浄剤11を噴射し、電子部品基板1上に反送り方向を向いた洗浄剤の高速流を発生させる様に洗浄装置を構成することにより、上記課題を解決せんとするものである。
【0007】
【発明の実施の形態】
図2はこの発明に係る電子部品基板の洗浄装置の一実施形態の側面図、図3は上から見たその平面図である。
図中1は電子部品基板であり、図示せざる搬送装置によりこの図1において左側から右側へ水平に送られる様になっている。そして、この電子部品基板1の上方には円柱状をなした高速回転体7が、その回転軸8が電子部品基板1の送り方向Aと直交し、かつその円周部9がわずかな空隙Gを保って電子部品基板1の表面と非接触状態で平行になる様に位置せしめられている。そして、この回転軸8は電子部品基板1の送り方向とは逆の反送り方向、つまり、この図2において時計回り方向に回転する様になっている。
【0008】
さらに、この高速回転体7の前後にはその回転軸8と平行に複数の洗浄剤供給用ノズル10が位置せしめられており、電子部品基板1に向って洗浄剤11を噴射できる様になっている。この実施の形態において高速回転体7は反送り方向に1,000rpm乃至10,000rpmで回転する様になっている。又、その円周部9はナイロン、ポリエチレン、ポリビニールアルコール、アクリル、ポリフッ化エチレン、ポリエチレンテレフタレート等の高分子材料によって構成されている。
【0009】
更に、洗浄剤供給用ノズル10から噴射される洗浄剤11としては、オゾンを含むオゾン溶解水、純水を電気分解することによって得られる電解水、及びアルコール水が好適に使用される。なお、高速回転体7の円周部9には、図4に示す様にその長手方向に溝12を設けたり、図5に示す様にその円周方向に溝12を設けても良い。
【0010】
この実施の形態は上述の通りの構成を有するものであり、高速回転体7を電子部品基板1の送り方向とは逆の方向、つまり、時計回り方向に高速回転させながら洗浄剤供給用ノズル10から洗浄剤11を電子部品基板1へ噴射させると、電子部品基板1の表面に形成された洗浄剤層13には矢印B方向の高速流14が発生し、この高速流14によって電子部品基板1上の微細粒子6は押し流されることになる。なお、高速回転体7の円周部9に溝12が設けられている場合には、更に流速の大きい高速流14を発生させることができ、一層効率的な微細粒子6の除去が可能となる。又、高速回転体7の円周部9がナイロン、ポリエチレン等の高分子材料で形成されている場合には洗浄剤11とのなじみがよくなり、より流速の大きい高速流14を発生させることが可能となる。
【0011】
【実施例1】
300mm×400mmのパターン付液晶基板に汚染微細粒子として標準ラテックス粒子1μmを1,000個付着させ、この微細粒子の付いた基板を図1に示す従来の回転ブラシタイプの洗浄装置と図2に示す本発明の洗浄装置とでそれぞれ処理し、レーザー表面パーティクルカウンターにて残留したラテックス粒子数をカウントした。又、基板表面のパターンにダメージがある否か100倍の顕微鏡で観察した。
その結果は下表の通りである。
【表1】
本発明の洗浄装置においては、パターンにキズはなく、微細粒子も従来方式と同レベルで除去されていた。
【0012】
【実施例2】
実施例1と同様な液晶基板を用意し、高速回転体7の回転数(rpm)とラテックス粒子残留数の比較を行ったところ、図5に示すグラフの通りの結果を得た。つまり、1,000rpm乃至10,000rpmの時が最も効果的に微細粒子の除去ができた。
【0013】
【発明の効果】
以上述べた通り、本発明の装置においては電子部品基板表面に全く接触しない為、微細粒子除去作業の際、基板表面をキズ付けたりダメージを与えることがなく、又、摩耗による微細粒子の発生もなく、不良品の発生を押え、加工工程の歩留りを向上させることができるすぐれた効果を有する。
【0014】
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の電子部品洗浄装置の一例の側面図。
【図2】この発明に係る電子部品洗浄装置の一実施形態の側面図。
【図3】それを上方から見た平面図。
【図4】その要部である高速回転体の一例の斜視図。
【図5】その要部である高速回転体の一例の斜視図。
【図6】本発明において、高速回転体の回転数を変化させてそれぞれ測定した結果のグラフ。
【符号の説明】
1 電子部品基板
2 回転ブラシ
3 回転軸
4 毛状体
5 洗浄剤供給用ノズル
6 微細粒子
7 高速回転体
8 回転軸
9 円周部
10 洗浄剤供給用ノズル
11 洗浄剤
12 溝
13 洗浄剤層
14 高速流
Claims (5)
- 水平に載置された電子部品基板1の上方に、回転軸8が前記電子部品基板1の送り方向と直交し、かつその円周部9が基板1表面とわずかな空隙Gを保って非接触状態で平行になる様に円柱状をした高速回転体7を位置せしめ、該高速回転体7の前後に洗浄剤供給用ノズル10を複数個設け、前記高速回転体7を反送り方向に高速回転させると共に、電子部品基板1へ向かって洗浄剤11を噴射し、電子部品基板1上に反送り方向を向いた洗浄剤の高速流を発生させる様にしたことを特徴とする電子部品基板の洗浄装置。
- 反送り方向に回転する高速回転体7の回転数が1,000rpm乃至10,000rpmであることを特徴とする請求項1記載の電子部品基板の洗浄装置。
- 反送り方向に回転する高速回転体7の円周部9に溝12が設けられていることを特徴とする請求項1記載の電子部品基板の洗浄装置。
- 洗浄剤供給用ノズル10から噴射される洗浄剤11がオゾンを含むオゾン溶解水、純水を電気分解して得られた電解水、又はアルコール水であることを特徴とする請求項1記載の電子部品基板の洗浄装置。
- 反送り方向に回転する高速回転体7の円周部9がナイロン、ポリエチレン、ポリビニールアルコール、アクリル、ポリフッ化エチレン、ポリエチレンテレフタレート等の高分子材料によって構成されていることを特徴とする請求項1記載の電子部品基板の洗浄装置。
Priority Applications (1)
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JP32798296A JP3665155B2 (ja) | 1996-11-25 | 1996-11-25 | 電子部品基板の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP32798296A JP3665155B2 (ja) | 1996-11-25 | 1996-11-25 | 電子部品基板の洗浄装置 |
Publications (2)
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JPH10151424A JPH10151424A (ja) | 1998-06-09 |
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Family Applications (1)
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JP32798296A Expired - Fee Related JP3665155B2 (ja) | 1996-11-25 | 1996-11-25 | 電子部品基板の洗浄装置 |
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Country | Link |
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Families Citing this family (1)
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CN104438134A (zh) * | 2014-12-18 | 2015-03-25 | 合肥安晶龙电子有限公司 | 色选机背景辊筒清灰装置 |
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1996
- 1996-11-25 JP JP32798296A patent/JP3665155B2/ja not_active Expired - Fee Related
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