JP3655009B2 - ボイラ給水管の腐食防止皮膜形成装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば汽力発電プラントにおいて、復水器からボイラへボイラ水を供給する給水管の内面に酸化鉄の腐食防止皮膜を形成するボイラ給水管の腐食防止皮膜形成装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、ボイラ給水管の腐食防止皮膜形成装置は、ポンプによりボイラ給水管に接続されたバイパス管からボイラ水を吸い込み、その吸い込んだボイラ水に酸素製造装置から供給される酸素ガスを溶解している。そして、その酸素ガスを含有するボイラ水を再度ボイラ給水管に還元することにより、ボイラ給水管内面に酸化鉄の腐食防止皮膜が形成されるようになっている。
【0003】
ところが、従来の腐食防止皮膜形成装置では、何らかの原因で酸素製造装置に異常が発生した際には酸素ガスが正常に供給されないことから、ボイラ給水管に酸化鉄の腐食防止皮膜を形成することができないという問題があった。
【0004】
そこで、酸素製造装置を2台設け、一方の酸素ガス発生装置をメイン側酸素製造装置とし、他方の酸素製造装置をサブ側酸素ガス発生装置としている。すなわち、通常時にはメイン側酸素製造装置が駆動され、サブ側酸素製造装置は停止される。一方、メイン側酸素製造装置に異常が発生した際には、メイン側酸素製造装置を停止させ、サブ側酸素製造装置を駆動させる。これにより、メイン側酸素製造装置に代わってサブ側酸素製造装置からバイパス管に酸素ガスが供給される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記酸素製造装置を2台設けた腐食防止皮膜形成装置においては、次のような問題があった。
【0006】
(1)メイン側酸素製造装置からサブ側酸素製造装置に駆動が切り替わった直後においては、サブ側酸素製造装置から正常濃度の酸素ガスが製造されない。すなわち、酸素製造装置は駆動を開始してから所定時間経過しないと正常濃度の酸素を製造することができない。そのため、メイン側酸素製造装置からサブ側酸素製造装置への駆動切り替わり直後においては低濃度の酸素ガスがボイラ給水管に供給されることから、効率良くボイラ給水管に酸化鉄の腐食防止皮膜を形成することができないという問題があった。
【0007】
(2)低濃度の酸素ガスには腐食性ガスが含まれていることが多い。そのため、腐食を防止するために酸素ガスを供給しているにもかかわらず、低濃度の酸素ガスが供給されている場合には、腐食を進行させるおそれもある。
【0008】
本発明は、上記問題を解消するためになされたものであり、その目的は、酸素製造装置に異常が発生してもボイラ給水管に所定濃度の酸素ガスを供給することが可能なボイラ給水管の腐食防止皮膜形成装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記問題を解決するために、請求項1に記載の発明では、ポンプによりボイラ水を加圧し、その加圧されたボイラ水をエジェクタへ圧送して同エジェクタ内に負圧を発生させ、その負圧により酸素製造装置にて製造された酸素をエジェクタ内に吸い込んで、ボイラ水に酸素を溶解させた後、そのボイラ水をボイラ給水管に供給してボイラ給水管内面に酸化鉄の腐食防止皮膜を形成するボイラ給水管の腐食防止皮膜形成装置において、前記酸素製造装置をエジェクタに対して複数台並列に設けるとともに、各酸素製造装置の下流側に酸素製造装置とエジェクタ側及び外部のいずれかを連通させる切換弁をそれぞれ設けたことをその要旨とする。
【0010】
請求項2に記載の発明では、前記切換弁と各酸素酸素製造装置との間には、酸素製造装置にて製造される酸素濃度を測定する共通の酸素濃度計が接続されていることをその要旨とする。
【0011】
請求項3に記載の発明では、前記エジェクタと各酸素製造装置との間には、酸素製造装置にて製造された酸素を貯留するレシーバタンクが設けられ、駆動する酸素製造装置を他の酸素製造装置に切換する際、切換駆動された酸素製造装置にて製造された酸素の濃度が所定濃度となるまでは、当該酸素製造装置とレシーバタンクとの間の連通を遮断することをその要旨とする。
【0012】
従って、請求項1に記載の発明においては、酸素製造装置はエジェクタに対して複数台並列に設けられていることから、何らかの原因で酸素製造装置に異常が発生した際等には、酸素製造装置駆動手段により他の酸素製造装置が切換駆動される。これにより、ボイラ水に酸素を溶解する動作を継続することが可能となる。また、酸素製造装置の駆動開始直後には、その酸素製造装置にて製造される酸素の濃度は低いことから、酸素製造装置の駆動開始直後には切換弁を切換操作して酸素製造装置と外部とを連通させる。また、酸素濃度が所定値となったら、切換弁を切換操作して酸素製造装置とエジェクタ側とを連通させる。
【0013】
請求項2に記載の発明においては、請求項1に記載の発明の作用に加え、共通の酸素濃度計により各酸素製造装置にて製造される酸素の濃度が測定される。
請求項3に記載の発明においては、請求項1又は請求項2に記載の発明の作用に加え、酸素製造装置にて製造された酸素は一旦レシーバタンクに貯留された後、エジェクタ側に供給される。酸素製造装置の切換駆動時には、駆動された酸素製造装置からレシーバタンクへの酸素の供給が遮断される。そして、切換駆動された酸素製造装置にて製造される酸素の濃度が所定濃度に達した際には、その酸素製造装置とレシーバタンクとの間が連通される。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に基づいて説明する。
図1に示すように、ボイラ11には炭素鋼からなるボイラ給水管12が接続され、ボイラ11にはボイラ給水管12を介してポンプ13によりボイラ水が圧送される。前記ボイラ給水管12にはバイパス管14が接続され、同バイパス管14の途中にはバイパス管用ポンプ15が接続されている。同ポンプ15の駆動に伴い、ボイラ給水管12からバイパス管14内にボイラ水が吸い込まれる。バイパス管用ポンプ15よりも下流側におけるバイパス管14の部位にはエジェクタ16が接続されている。このエジェクタ16には酸素吸込管17を介してレシーバタンク18が接続されている。
【0015】
前記酸素吸込管17には流量調整弁19、同流量調整弁19よりも上流側の部位に流量計20が接続されている。前記レシーバータンク18には酸素流入管22が接続されている。酸素流入管22はメイン管25とサブ管26とに分岐されている。メイン管25にはメイン酸素製造装置27が接続されている。また、メイン管25にはメイン側三方切換弁29、同三方切換弁29よりも下流側の部位において逆止弁30が接続されている。
【0016】
一方、サブ管26にはサブ酸素製造装置31が接続されている。なお、サブ酸素製造装置31は前記メイン酸素製造装置27と同構成である。また、サブ管26にも前記メイン管25と同様にサブ側三方切換弁33、逆止弁34が接続されている。前記両三方切換弁29,33にはそれぞれドレン管35,36が接続されている。
【0017】
前記レシーバータンク18には酸素濃度測定管37を介して酸素濃度計38が接続されている。酸素濃度計38よりも上流側における酸素濃度測定管37の部位には濃度測定用三方切換弁39が接続されている。また、酸素濃度計38にはドレン弁42が接続されている。前記濃度測定用三方切換弁39には、前記メイン酸素製造装置27とメイン側三方切換弁29との間におけるメイン管25がメイン側接続管40により接続されている。また、三方切換弁39には、前記サブ酸素製造装置31とサブ側三方切換弁33との間におけるサブ管26がサブ側接続管41により接続されている。
【0018】
次に、本実施形態の電気的構成を図2のブロック図に基づいて説明する。
腐食防止皮膜形成装置を駆動制御するコントローラCには各種弁29,33,39,42、酸素製造装置27,31、酸素濃度計38が接続されている。コントローラCは酸素濃度計38により検出される酸素濃度に基づき、各種弁29,33,39,42の駆動制御を行う。
【0019】
また、コントローラCには流量調整弁19及び流量計20が接続されている。流量計20は酸素吸込管17を流動する酸素の流量を測定し、その測定結果をコントローラCに出力する。流量調整弁19は酸素吸込管17を流動する酸素の流量を調整する。コントローラCは流量計20からの測定結果に基づき、流量調整弁19の開度量を変化させる。すなわち、コントローラCは流量計20の検出結果に基づき流量調整弁19の開度量をフィードバック制御する。さらに、コントローラCにはバイパス管用ポンプ15及びタンク内ガス圧力計43が接続されている。
【0020】
次にコントローラCが実行する制御内容を図3及び図4のフローチャートに基づいて説明する。
まず、ステップ101においては、メイン酸素製造装置27を駆動させる。ステップ102においてはメイン側三方切換弁29を切換動作させ、メイン酸素製造装置27とドレンとの間を連通させる。ステップ103においては、濃度測定用三方切換弁39を切換動作させ、メイン酸素製造装置27と酸素濃度計38との間を連通させる。次のステップ104においては、メイン酸素製造装置27にて製造された酸素濃度値を酸素濃度計38から入力する。ステップ105においては、検出された酸素濃度が予め設定された設定値以上か否かを判別する。ここで、検出された酸素濃度が設定値以上の場合には、ステップ106に移行する。一方、検出された酸素濃度が設定値以上でない場合には、ステップ104に戻り、酸素濃度が設定値以上となるまでステップ104、105の処理を繰り返す。
【0021】
ステップ106においては、メイン側三方切換弁29を切換動作させ、メイン酸素製造装置27とレシーバタンク18との間を連通させる。ステップ107においては、濃度測定用三方切換弁39を切換動作させ、レシーバタンク18と酸素濃度計38との間を連通させる。ステップ108においては、流量計20の測定値に基づき流量調整弁19の開度量を制御する。
【0022】
ステップ109においては、酸素濃度計38からレシーバタンク18内の酸素濃度値及びタンク内ガス圧力計43からレシーバタンク18内の酸素圧力値を入力する。次のステップ110においては、レシーバタンク18内の酸素濃度値が設定値以上か否かを判別するとともに、レシーバタンク18内の酸素圧力値が設定値以上か否かを判別する。ここでいずれの値も設定値以上の場合には、ステップ108に戻り、以降の処理を繰り返す。一方、レシーバタンク18内の酸素濃度値、あるいは圧力値のいずれか一方でも設定値以上でない場合には、ステップ111に移行する。ステップ111においては、メイン酸素製造装置27の駆動を停止する。ステップ112においては、サブ側三方切換弁33を切換駆動し、サブ酸素製造装置31とドレンとの間を連通させる。ステップ113においては、濃度測定用三方切換弁39を切換動作して、サブ酸素製造装置31と酸素濃度計38との間を連通させる。
【0023】
次のステップ114においては、サブ酸素製造装置にて製造された酸素濃度値を酸素濃度計38から入力する。ステップ115においては、検出された酸素濃度値が予め設定された設定値以上か否かを判別する。ここで、検出された酸素濃度が設定値以上の場合には、ステップ116に移行する。一方、検出された酸素濃度が設定値以上でない場合には、ステップ114に戻り、酸素濃度値が設定値以上となるまでステップ114、115の処理を繰り返す。
【0024】
次のステップ116においては、サブ側三方切換弁33を切換動作して、サブ酸素製造装置31とレシーバタンク18との間を連通させ、ステップ117に移行する。ステップ117においては、濃度測定用三方切換弁39を切換駆動し、レシーバタンク18と酸素濃度計38との間を連通させる。ステップ118においては、流量計20の測定値に基づき流量調整弁19の開度量を制御する。ステップ119においては、酸素濃度計38からレシーバタンク18内の酸素濃度値及びタンク内ガス圧力計43からレシーバタンク18内の圧力値を入力する。そして、次のステップ120において、レシーバタンク18内の酸素濃度値及び圧力値がともに設定値以上か否かを判別する。ここで、両値が設定値以上の場合には前記ステップ118に戻り以降の処理を繰り返す。一方、両値が設定値以上でない場合には一旦装置の駆動を停止させるか、再度ステップ101に戻る。
【0025】
次に、本実施の形態における作用について説明する。
バイパス管用ポンプ15によりボイラ給水管12からボイラ水が吸い込まれると、そのボイラ水は勢いよくエジェクタ16に圧送される。エジェクタ16内をボイラ水が勢いよく流動することによりエジェクタ16内には負圧が発生する。
【0026】
また、これと同時にメイン酸素製造装置27にて酸素が製造され、その製造された酸素が設定濃度となるとレシーバタンク18にその酸素が貯留される。そして、レシーバタンク18内の酸素はエジェクタ16内に発生する負圧により酸素吸込管17からエジェクタ16内に吸い込まれる。
【0027】
このとき、何らかの原因でメイン酸素製造装置27に異常が発生し、メイン酸素製造装置27にて製造された酸素濃度が設定値未満となった場合には、ボイラ水への酸素含有量が減少することから、酸素濃度が低いままで装置を駆動しても正常にボイラ給水管12に酸化防止皮膜が形成されない。そこで、本実施の形態では、メイン酸素製造装置27にて製造された酸素濃度が設定値未満となった場合にはメイン酸素製造装置27の駆動が停止され、サブ酸素製造装置31が切換駆動される。このとき、サブ酸素製造装置31の駆動開始直後には酸素濃度が低いことから、サブ酸素製造装置31にて製造される酸素濃度が所定値となるまで、サブ酸素製造装置31にて製造された酸素が外部に排出される。従って、サブ酸素製造装置31にて製造された酸素はレシーバタンク18には供給されず、ボイラ水には溶解されない。
【0028】
サブ酸素製造装置31にて製造される酸素濃度が所定値以上となるまでの間は、レシーバタンク18に貯留されている所定濃度以上の酸素がバイパス管14内を流動するボイラ水に溶解される。そして、サブ酸素製造装置31からの酸素濃度が所定値以上になると、サブ酸素製造装置31がレシーバタンク18に供給される。
【0029】
以上詳述したように、本実施の形態では次のような効果を得ることができる。
(1)酸素を製造する装置(メイン酸素製造装置27とサブ酸素製造装置31)を、エジェクタ16に対して2台並列に設け、その内1台の酸素製造装置27を駆動するとともに、その駆動された酸素製造装置27とエジェクタ16側との間を連通するように構成した。これにより、一方の酸素製造装置27に異常が発生して使用不能となっても他の酸素製造装置31に切り換えることにより装置全体を停止させることなく連続してボイラ給水管内の腐食防止皮膜の形成動作を行うことができる。
【0030】
(2)酸素製造装置27,31とレシーバタンク18との間に酸素製造装置27,31とレシーバタンク18との間を連通させ、及び切換操作して酸素製造装置27,31と外部とを連通させる三方切換弁29,33を設けた。そして、酸素濃度が設定値以上となるまでは、酸素製造装置27,31と外部とを連通させ、酸素製造装置27,31にて製造された低濃度の酸素を外部に排出されるようにした。これにより、低濃度の酸素がレシーバタンク18に供給されるのを防止できる。その結果、常時設定濃度の酸素をバイパス管14内に供給することができるので、効率良く、かつ正常にボイラ給水管12内に腐食防止皮膜を形成することができる。
【0031】
(3)共通の酸素濃度計38によりメイン酸素製造装置27にて製造された酸素濃度、サブ酸素製造装置31にて製造された酸素濃度及びレシーバタンク18内の酸素濃度を測定することができるので、コストの低減を図ることができる。
【0032】
(4)メイン酸素製造装置27からサブ酸素製造装置31に切換駆動された際に、サブ酸素製造装置31にて製造された酸素の濃度が設定濃度以上になるまでは、レシーバタンク18内に既に貯留されている設定濃度以上の酸素がエジェクタ16内に吸い込まれるようにした。これにより、酸素製造装置27,31にて製造される酸素の濃度が設定濃度に達するのを待つことなく、ボイラ水への酸素を溶解する動作を行うことができる。
【0033】
(5)レシーバタンク18に設けられたタンク内ガス圧力計43によりタンク18内の酸素圧力が監視されていることから、酸素製造装置からの酸素漏れ等の異常を容易に検出することができる。
【0034】
なお、本発明は次のように実施してもよい。
(1)酸素製造装置の数を3台以上として具体化してもよい。
(2)レシーバタンク18を省略して具体化してもよい。
【0035】
(3)上記実施形態では、コントローラCが電気的に制御するように構成したが、コントローラCの代わりに作業者が各種弁等の機器操作を行うようにしてもよい。
【0036】
【発明の効果】
請求項1に記載の発明によれば、何らかの原因で酸素製造装置に異常が発生しても、他の酸素製造装置を駆動させることにより連続してボイラ水への酸素の溶解動作を行うことができる。その結果、酸素製造装置に腐食防止皮膜形成装置全体を停止させる必要がなくなる。また、常時所定濃度の酸素をエジェクタ側に供給することができるので、効率良く、かつ正常にボイラ給水管内に腐食防止皮膜を形成することができる。
【0037】
請求項2に記載の発明によれば、請求項1に記載の発明の効果に加え、酸素濃度計を複数設けることなく、各酸素製造装置にて製造される酸素の濃度を測定することができるので、コストの低減を図ることができる。
【0038】
請求項3に記載の発明によれば、請求項1又は請求項2に記載の発明の効果に加え、酸素製造装置の駆動開始直後でも、エジェクタ側に所定濃度の酸素を供給することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明を具体化した一実施形態における腐食防止皮膜形成装置の概略的回路図。
【図2】 電気的構成を説明するブロック図。
【図3】 コントローラの制御内容を説明するフローチャート。
【図4】 同じくコントローラの制御内容を説明するフローチャート。
【符号の説明】
12…ボイラ給水管、15…ポンプとしてのバイパス管用ポンプ、16…エジェクタ、18…レシーバタンク、27…メイン酸素製造装置、31…サブ酸素製造装置、29…切換弁としてのメイン側三方切換弁、33…切換弁としてのサブ側三方切換弁、38…酸素濃度計。
Claims (3)
- ポンプによりボイラ水を加圧し、その加圧されたボイラ水をエジェクタへ圧送して同エジェクタ内に負圧を発生させ、その負圧により酸素製造装置にて製造された酸素をエジェクタ内に吸い込んで、ボイラ水に酸素を溶解させた後、そのボイラ水をボイラ給水管に供給してボイラ給水管内面に酸化鉄の腐食防止皮膜を形成するボイラ給水管の腐食防止皮膜形成装置において、
前記酸素製造装置をエジェクタに対して複数台並列に設けるとともに、各酸素製造装置の下流側に酸素製造装置とエジェクタ側及び外部のいずれかを連通させる切換弁をそれぞれ設けたことを特徴とするボイラ給水管の腐食防止皮膜形成装置。 - 前記切換弁と各酸素酸素製造装置との間には、酸素製造装置にて製造される酸素濃度を測定する共通の酸素濃度計が接続されている請求項1に記載のボイラ給水管の腐食防止皮膜形成装置。
- 前記エジェクタと各酸素製造装置との間には、酸素製造装置にて製造された酸素を貯留するレシーバタンクが設けられ、駆動する酸素製造装置を他の酸素製造装置に切換する際、切換駆動された酸素製造装置にて製造された酸素の濃度が所定濃度となるまでは、当該酸素製造装置とレシーバタンクとの間の連通を遮断する請求項1又は請求項2に記載のボイラ給水管の腐食防止皮膜形成装置。
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