JP3636301B2 - インクジェット式記録ヘッド - Google Patents

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【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、インク滴を吐出するノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を介して圧電素子を設けて、圧電素子の変位によりインク滴を吐出させるインクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
インク滴を吐出するノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧電素子により変形させて圧力発生室のインクを加圧してノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット式記録ヘッドには、圧電素子の軸方向に伸長、収縮する縦振動モードの圧電アクチュエータを使用したものと、たわみ振動モードの圧電アクチュエータを使用したものの2種類が実用化されている。
【0003】
前者は圧電素子の端面を振動板に当接させることにより圧力発生室の容積を変化させることができて、高密度印刷に適したヘッドの製作が可能である反面、圧電素子をノズル開口の配列ピッチに一致させて櫛歯状に切り分けるという困難な工程や、切り分けられた圧電素子を圧力発生室に位置決めして固定する作業が必要となり、製造工程が複雑であるという問題がある。
【0004】
これに対して後者は、圧電材料のグリーンシートを圧力発生室の形状に合わせて貼付し、これを焼成するという比較的簡単な工程で振動板に圧電素子を作り付けることができるものの、たわみ振動を利用する関係上、ある程度の面積が必要となり、高密度配列が困難であるという問題がある。
【0005】
一方、後者の記録ヘッドの不都合を解消すべく、特開平5−286131号公報に見られるように、振動板の表面全体に亙って成膜技術により均一な圧電材料層を形成し、この圧電材料層をリソグラフィ法により圧力発生室に対応する形状に切り分けて各圧力発生室毎に独立するように圧電素子を形成したものが提案されている。
【0006】
これによれば圧電素子を振動板に貼付ける作業が不要となって、リソグラフィ法という精密で、かつ簡便な手法で圧電素子を作り付けることができるばかりでなく、圧電素子の厚みを薄くできて高速駆動が可能になるという利点がある。
【0007】
また、この場合、圧電材料層は振動板の表面全体に設けたままで少なくとも上電極のみを各圧力発生室毎に設けることにより、各圧力発生室に対応する圧電素子を駆動することができるが、単位駆動電圧当たりの変位量及び圧力発生室に対向する部分とその外部とを跨ぐ部分で圧電体層へかかる応力の問題から、圧電体層及び上電極からなる圧電体能動部を圧力発生室外に出ないように形成することが望ましい。
【0008】
そこで、各圧力発生室に対応する圧電素子を絶縁層で覆い、この絶縁層に各圧電素子を駆動するための電圧を供給するリード電極との接続部を形成するための窓(以下、コンタクトホールという)を各圧力発生室に対応して設け、各圧電素子とリード電極との接続部をコンタクトホール内に形成する構造が知られている。
【0009】
しかしながら、このように上電極とリード電極とを接続するためにコンタクトホールを設ける構造では、コンタクトホールを設ける部分の全体の膜厚が厚くなってしまい、変位特性が低下してしまうという問題があった。
【0010】
このような問題を解決するために、圧力発生室に対向する領域に、圧電素子の実質的な駆動部である圧電体能動部から連続して、圧電体層を有するが実質的に駆動されない圧電体非能動部を設け、コンタクトホールを設けることなくリード電極を形成した構造が提案されている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような構造では、圧電素子を駆動させることにより振動板に十分な変位量が得られるが、変形を繰り返すことによって振動板にクラック等の破壊が生じるという問題がある。この問題は、特に、圧力発生室の長手方向縁部に対向する領域で発生し易い。
【0012】
本発明は、このような事情に鑑み、圧電素子の駆動による振動板の破壊を防止したインクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置を提供することを課題とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する本発明の第1の態様は、ノズル開口に連通する圧力発生室と、この圧力発生室に対応する領域に振動板を介して設けられた下電極、圧電体層及び上電極からなる圧電素子とを備えるインクジェット式記録ヘッドにおいて、前記圧電素子は、前記圧力発生室に対向する領域内に、実質的な駆動部となる圧電体能動部と、その長手方向両端部に前記下電極を除去することにより形成され当該圧電体能動部から連続する前記圧電体層を有するが実質的に駆動されない圧電体非能動部とを有し、前記上電極から周壁上に電極配線が延設されていると共に、各圧力発生室の長手方向両端部の隅部に対向する領域の振動板が前記電極配線及び当該電極配線と同一の層からなる電極構成層によって覆われていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【0014】
かかる第1の態様では、圧力発生室の長手方向両端部に対向する領域の振動板を電極構成層によって覆うようにしたので、振動板の剛性が向上する。これにより、圧電素子の駆動による変形によって振動板が破壊されるのを防止することができる。
【0019】
本発明の第2の態様は、第1の態様において、前記圧電素子を構成する少なくとも圧電体層が、前記圧力発生室に対向する領域内に独立して形成されていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【0020】
かかる第2の態様では、圧電素子の駆動による変位量が増加する。
【0021】
本発明の第3の態様は、第1又は2の態様において、前記圧電素子の長手方向両端部近傍が前記電極構成層で覆われていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【0022】
かかる第3の態様では、圧力発生室の長手方向両端部に対向する領域の振動版の破壊が防止されると共に、圧電素子の長手方向両端部近傍の剛性が向上し、圧電素子の駆動による圧電体層の破壊が防止される。
【0023】
本発明の第4の態様は、第1〜3の何れかの態様において、前記下電極は複数の圧電素子に亘って形成され、且つ前記下電極の少なくとも前記圧力発生室の前記電極配線とは反対の端部側には、当該下電極を除去した下電極除去部が各圧力発生室毎に形成され、且つ前記電極構成層が、前記下電極除去部内のみに形成されていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【0024】
かかる第4の態様では、下電極除去部が各圧力発生室毎に設けられているので、下電極の抵抗値の増加が抑えられ、圧電素子に良好な電圧を印加することができる。
【0025】
本発明の第5の態様は、第4の態様において、前記下電極除去部が、略矩形形状を有することを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【0026】
かかる第5の態様では、下電極除去部をエッチングによって容易に形成することができる。
【0027】
本発明の第6の態様は、第1〜5の何れかの態様において、前記電極構成層は、前記下電極よりも剛性が高いことを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【0028】
かかる第6の態様では、圧力発生室の長手方向両端部に対向する領域の振動版の剛性を確実に向上することができる。
【0033】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。
【0034】
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係るインクジェット式記録ヘッドを示す分解斜視図であり、図2は、図1の平面図及び断面図である。
【0035】
図示するように、流路形成基板10は、本実施形態では面方位(110)のシリコン単結晶基板からなる。この流路形成基板10の一方の面は開口面となり、他方の面には予め熱酸化により形成した二酸化シリコンからなる、厚さ1〜2μmの弾性膜50が形成されている。
【0036】
この流路形成基板10には、シリコン単結晶基板を異方性エッチングすることにより、複数の隔壁11により区画された圧力発生室12が幅方向に並設され、その長手方向外側には、後述するリザーバ形成基板のリザーバ部に連通して各圧力発生室12の共通のインク室となるリザーバ110の一部を構成する連通部13が形成され、各圧力発生室12の長手方向一端部とそれぞれインク供給路14を介して連通されている。
【0037】
ここで、異方性エッチングは、シリコン単結晶基板をKOH等のアルカリ溶液に浸漬すると、徐々に侵食されて(110)面に垂直な第1の(111)面と、この第1の(111)面と約70度の角度をなし且つ上記(110)面と約35度の角度をなす第2の(111)面とが出現し、(110)面のエッチングレートと比較して(111)面のエッチングレートが約1/180であるという性質を利用して行われるものである。かかる異方性エッチングにより、二つの第1の(111)面と斜めの二つの第2の(111)面とで形成される平行四辺形状の深さ加工を基本として精密加工を行うことができ、圧力発生室12を高密度に配列することができる。
【0038】
本実施形態では、各圧力発生室12の長辺を第1の(111)面で、短辺を第2の(111)面で形成している。この圧力発生室12は、流路形成基板10をほぼ貫通して弾性膜50に達するまでエッチングすることにより形成されている。ここで、弾性膜50は、シリコン単結晶基板をエッチングするアルカリ溶液に侵される量がきわめて小さい。また各圧力発生室12の一端に連通する各インク供給路14は、圧力発生室12より浅く形成されており、圧力発生室12に流入するインクの流路抵抗を一定に保持している。すなわち、インク供給路14は、シリコン単結晶基板を厚さ方向に途中までエッチング(ハーフエッチング)することにより形成されている。なお、ハーフエッチングは、エッチング時間の調整により行われる。
【0039】
なお、このような流路形成基板10の厚さは、圧力発生室12を配設する密度に合わせて最適な厚さを選択する。例えば、180dpiの解像度が得られるように圧力発生室12を配置する場合、流路形成基板10の厚さは、180〜280μm程度、より望ましくは、220μm程度とするのが好適である。また、例えば、360dpiの解像度が得られるように圧力発生室12を配置する場合には、流路形成基板10の厚さは、100μm以下とするのが好ましい。これは、隣接する圧力発生室間の隔壁の剛性を保ちつつ、配列密度を高くできるからである。
【0040】
また、流路形成基板10の他方面側には、各圧力発生室12のインク供給路14とは反対側で連通するノズル開口21が穿設されたノズルプレート20が接着剤や熱溶着フィルム等を介して固着されている。なお、ノズルプレート20は、厚さが例えば、0.1〜1mmで、線膨張係数が300℃以下で、例えば2.5〜4.5[×10-6/℃]であるガラスセラミックス、又は不錆鋼などからなる。ノズルプレート20は、一方の面で流路形成基板10の一面を全面的に覆い、シリコン単結晶基板を衝撃や外力から保護する補強板の役目も果たす。また、ノズルプレート20は、流路形成基板10と熱膨張係数が略同一の材料で形成するようにしてもよい。この場合には、流路形成基板10とノズルプレート20との熱による変形が略同一となるため、熱硬化性の接着剤等を用いて容易に接合することができる。
【0041】
ここで、インク滴吐出圧力をインクに与える圧力発生室12の大きさと、インク滴を吐出するノズル開口21の大きさとは、吐出するインク滴の量、吐出スピード、吐出周波数に応じて最適化される。例えば、1インチ当たり360個のインク滴を記録する場合、ノズル開口21は数十μmの直径で精度よく形成する必要がある。
【0042】
一方、流路形成基板10に設けられた弾性膜50の上には、厚さが例えば、約0.2μmの下電極膜60と、厚さが例えば、約1μmの圧電体層70と、厚さが例えば、約0.1μmの上電極膜80とが、後述するプロセスで積層形成されて、圧電素子300を構成している。ここで、圧電素子300は、下電極膜60、圧電体層70、及び上電極膜80を含む部分をいう。一般的には、圧電素子300の何れか一方の電極を共通電極とし、他方の電極及び圧電体層70を各圧力発生室12毎にパターニングして構成する。そして、ここではパターニングされた何れか一方の電極及び圧電体層70から構成され、両電極への電圧の印加により圧電歪みが生じる部分を圧電体能動部320という。本実施形態では、下電極膜60は圧電素子300の共通電極とし、上電極膜80を圧電素子300の個別電極としているが、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障はない。何れの場合においても、各圧力発生室毎に圧電体能動部が形成されていることになる。また、ここでは、圧電素子300と当該圧電素子300の駆動により変位が生じる振動板とを合わせて圧電アクチュエータと称する。
【0043】
ここで、このような圧電素子300の構造について詳しく説明する。
【0044】
図2に示すように、圧電素子300の一部を構成する下電極膜60は、並設された複数の圧力発生室12に対向する領域に連続的に設けられ、且つ圧力発生室12の長手方向一端部近傍で圧力発生室12の幅方向に亘って除去されている。また、圧力発生室12の長手方向他端部近傍の下電極膜60は、各圧力発生室12毎にパターニングされ、例えば、略矩形形状の下電極膜除去部61が形成されており、各圧力発生室12の長手方向縁部に対向する領域の弾性膜50が露出されている。本実施形態では、このように下電極膜60をパターニングすることにより、実質的な駆動部である圧電体能動部320と、その長手方向両端部に設けられて圧電体能動部320と連続する圧電体層70を有するが駆動されない圧電体非能動部330とからなる圧電素子300が形成されている。
【0045】
また、本実施形態では、圧電体層70及び上電極膜80が、圧力発生室12に対向する領域内にパターニングされ、圧電素子300が各圧力発生室12に対向する領域に独立して設けられている。そして、上電極膜80は、圧電素子300の長手方向一端部近傍から弾性膜50上に延設されたリード電極90を介して図示しない外部配線と接続されている。
【0046】
また、本実施形態では、圧力発生室12の長手方向両側の少なくとも隅部が、リード電極90を構成する導電層と同一の電極構成層によって覆われている。
【0047】
具体的には、リード電極90は、本実施形態では、圧電体能動部320と圧電体非能動部330との境界よりも外側で、圧力発生室12よりも広い幅で延設され、圧電素子300の長手方向一端部近傍及び圧力発生室12の縁部に対向する領域の弾性膜50は、このリード電極90、すなわち電極構成層によって覆われている。
【0048】
一方、圧電素子300の長手方向他端部近傍、及び圧力発生室12の長手方向縁部に対向する領域は、リード電極90とは独立して設けられた電極構成層である保護層100によって覆われている。ここで、上述したように、圧力発生室12の長手方向他端部側には、各圧力発生室12毎に下電極膜60を除去した下電極膜除去部61が形成されて弾性膜50が露出されている。そして、保護層100は、この下電極除去部61内にパターニングされ、下電極膜60とは接触しないように形成されている。
【0049】
なお、このリード電極90及び保護層100の厚さは、特に限定されないが、剛性が下電極膜60よりも高くなる厚さとするのが好ましく、本実施形態では、下電極膜60の厚さよりも厚く形成するようにした。
【0050】
このように圧力発生室12の長手方向縁部の振動板をリード電極90及び保護層100によって覆うことにより、振動板の剛性が向上し、圧電素子300の駆動による繰り返し変形によって振動板にクラック等が発生するのを防止することができる。
【0051】
また、本実施形態では、リード電極90及び保護層100によって圧電素子300の長手方向端部近傍を覆うようにしているため、圧電素子300の長手方向端部近傍の剛性が高められ、圧電素子300の駆動時に圧電素子300の長手方向端部近傍にかかる応力が抑えられる。したがって、圧電素子300を駆動した際に、圧電素子300の長手方向端部での変位量が減少するため、繰返し変位による圧電体層70の破壊を防止することができる。
【0052】
また、保護層100がリード電極90と同一層で形成されているため、製造工程を増やす必要が無く、製造コストを増加させることなく保護層100を形成することができる。
【0053】
さらに、本実施形態では、圧力発生室12の長手方向他端部側の下電極膜60を各圧力発生室12毎に除去して下電極膜除去部61を形成するようにし、下電極膜60の除去面積を比較的小さく抑えているため、下電極膜60の抵抗値が大きく増加することがない。したがって、圧電素子300を構成する圧電体層70に良好に電圧を印加することができる。なお、下電極膜60の抵抗値が大きく増加することがなければ、勿論、下電極膜除去部61は、複数の圧力発生室12に対向する領域に亘って連続して設けるようにしてもよい。
【0054】
以下、このような圧電素子300等をシリコン単結晶基板からなる流路形成基板10上に形成するプロセスについて、図3及び図4を参照しながら説明する。なお、図3及び図4は、圧力発生室12の長手方向の断面図である。
【0055】
まず、図3(a)に示すように、流路形成基板10となるシリコン単結晶基板のウェハを約1100℃の拡散炉で熱酸化して二酸化シリコンからなる弾性膜50を形成する。
【0056】
次に、図3(b)に示すように、スパッタリングで下電極膜60を弾性膜50の全面に形成後、下電極膜60をパターニングして全体パターンを形成する。すなわち、圧力発生室12の長手方向一端部側は、圧力発生室12の幅方向に亘って除去し、圧力発生室12の長手方向他端部側は、各圧力発生室12毎に独立した下電極膜除去部61を形成する。この下電極膜60の材料としては、白金等が好適である。これは、スパッタリング法やゾル−ゲル法で成膜する後述の圧電体層70は、成膜後に大気雰囲気下又は酸素雰囲気下で600〜1000℃程度の温度で焼成して結晶化させる必要があるからである。すなわち、下電極膜60の材料は、このような高温、酸化雰囲気下で導電性を保持できなければならず、殊に、圧電体層70としてチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)を用いた場合には、酸化鉛の拡散による導電性の変化が少ないことが望ましく、これらの理由から白金が好適である。
【0057】
次に、図3(c)に示すように、圧電体層70を成膜する。この圧電体層70は、結晶が配向していることが好ましい。例えば、本実施形態では、金属有機物を触媒に溶解・分散したいわゆるゾルを塗布乾燥してゲル化し、さらに高温で焼成することで金属酸化物からなる圧電体層70を得る、いわゆるゾル−ゲル法を用いて形成することにより、結晶が配向している圧電体層70とした。圧電体層70の材料としては、チタン酸ジルコン酸鉛系の材料がインクジェット式記録ヘッドに使用する場合には好適である。なお、この圧電体層70の成膜方法は、特に限定されず、例えば、スパッタリング法で形成してもよい。
【0058】
さらに、ゾル−ゲル法又はスパッタリング法等によりチタン酸ジルコン酸鉛の前駆体膜を形成後、アルカリ水溶液中での高圧処理法にて低温で結晶成長させる方法を用いてもよい。
【0059】
何れにしても、このように成膜された圧電体層70は、バルクの圧電体とは異なり結晶が優先配向しており、且つ本実施形態では、圧電体層70は、結晶が柱状に形成されている。なお、優先配向とは、結晶の配向方向が無秩序ではなく、特定の結晶面がほぼ一定の方向に向いている状態をいう。また、結晶が柱状の薄膜とは、略円柱体の結晶が中心軸を厚さ方向に略一致させた状態で面方向に亘って集合して薄膜を形成している状態をいう。勿論、優先配向した粒状の結晶で形成された薄膜であってもよい。なお、このように薄膜工程で製造された圧電体層の厚さは、一般的に0.2〜5μmである。
【0060】
次に、図3(d)に示すように、上電極膜80を成膜する。上電極膜80は、導電性の高い材料であればよく、アルミニウム、金、ニッケル、白金等の多くの金属や、導電性酸化物等を使用できる。本実施形態では、白金をスパッタリングにより成膜している。
【0061】
次に、図4(a)に示すように、圧電体層70及び上電極膜80のみをエッチングして圧電体能動部320及び圧電体非能動部330からなる圧電素子300のパターニングを行う。すなわち、圧力発生室12に対向する領域で、下電極膜60が形成された領域が圧電体能動部320となり、下電極膜60が除去されている領域が圧電体非能動部330となる。
【0062】
次に、図4(b)に示すように、リード電極90及び保護層100を形成する。具体的には、例えば、金(Au)等からなる導電層91を流路形成基板10の全面に形成すると共に各圧電素子300毎にパターニングして、圧電素子300の長手方向一端部側に上電極膜80と外部配線とを接続するリード電極90を形成すると共に、他端部側に保護層100を形成する。なお、このリード電極90及び保護層100は、例えば、ニッケル(Ni)、チタン(Ti)、銅(Cu)等の密着層を介して設けるようにしてもよい。
【0063】
以上が膜形成プロセスである。このようにして膜形成を行った後、前述したアルカリ溶液によるシリコン単結晶基板の異方性エッチングを行い、図4(c)に示すように、圧力発生室12、連通部13及びインク供給路14等を形成する。
【0064】
なお、実際には、このような一連の膜形成及び異方性エッチングによって、一枚のウェハ上に多数のチップを同時に形成し、プロセス終了後、図1に示すような一つのチップサイズの流路形成基板10毎に分割する。そして、分割した流路形成基板10に、後述するリザーバ形成基板30及びコンプライアンス基板40を順次接着して一体化し、インクジェット式記録ヘッドとする。
【0065】
すなわち、図1及び図2に示すように、圧力発生室12等が形成された流路形成基板10の圧電素子300側には、リザーバ110の少なくとも一部を構成するリザーバ部31を有するリザーバ形成基板30が接合されている。このリザーバ部31は、本実施形態では、リザーバ形成基板30を厚さ方向に貫通して圧力発生室12の幅方向に亘って形成されている。そして、このリザーバ部31が、弾性膜50及び下電極膜60を貫通して設けられる貫通孔51を介して流路形成基板10の連通部13と連通され、各圧力発生室12の共通のインク室となるリザーバ110が構成されている。
【0066】
このリザーバ形成基板30としては、例えば、ガラス、セラミック材料等の流路形成基板10の熱膨張率と略同一の材料を用いることが好ましく、本実施形態では、流路形成基板10と同一材料のシリコン単結晶基板を用いて形成した。これにより、上述のノズルプレート20の場合と同様に、熱硬化性の接着剤を用いた高温での接着であっても両者を確実に接着することができる。したがって、製造工程を簡略化することができる。
【0067】
さらに、このリザーバ形成基板30には、封止膜41及び固定板42とからなるコンプライアンス基板40が接合されている。ここで、封止膜41は、剛性が低く可撓性を有する材料(例えば、厚さが6μmのポリフェニレンスルフィド(PPS)フィルム)からなり、この封止膜41によってリザーバ部31の一方面が封止されている。また、固定板42は、金属等の硬質の材料(例えば、厚さが30μmのステンレス鋼(SUS)等)で形成される。この固定板42のリザーバ110に対向する領域は、厚さ方向に完全に除去された開口部43となっているため、リザーバ110の一方面は可撓性を有する封止膜41のみで封止され、内部圧力の変化によって変形可能な可撓部32となっている。
【0068】
また、このリザーバ110の長手方向略中央部外側のコンプライアンス基板40上には、リザーバ110にインクを供給するためのインク導入口35が形成されている。さらに、リザーバ形成基板30には、インク導入口35とリザーバ110の側壁とを連通するインク導入路36が設けられている。
【0069】
一方、リザーバ形成基板30の圧電素子300に対向する領域には、圧電素子300の運動を阻害しない程度の空間を確保した状態で、その空間を密封可能な圧電素子保持部33が設けられている。そして、圧電素子300の少なくとも圧電体能動部320は、この圧電素子保持部33内に密封され、大気中の水分等の外部環境に起因する圧電素子300の破壊を防止している。
【0070】
なお、このように構成したインクジェット式記録ヘッドは、図示しない外部インク供給手段と接続したインク導入口35からインクを取り込み、共通インク室110からノズル開口21に至るまで内部をインクで満たした後、図示しない外部の駆動回路からの記録信号に従い、上電極膜80と下電極膜60との間に電圧を印加し、弾性膜50、下電極膜60及び圧電体層70をたわみ変形させることにより、圧力発生室12内の圧力が高まりノズル開口21からインク滴が吐出する。
【0071】
なお、本実施形態では、圧電体層70及び上電極膜80を各圧力発生室12に対向する領域にパターニングして、圧電素子300を各圧力発生室12に対向する領域に独立して設けるようにしたが、これに限定されず、例えば、図5に示すように、圧電素子300の長手方向端部、すなわち、圧電体非能動部330が、圧力発生室12の外側まで延設されていてもよい。
【0072】
(他の実施形態)
以上、本発明の各実施形態を説明したが、インクジェット式記録ヘッドの基本的構成は上述したものに限定されるものではない。
【0073】
また、これら各実施形態のインクジェット式記録ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するインク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成して、インクジェット式記録装置に搭載される。図6は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図である。
【0074】
図6に示すように、インクジェット式記録ヘッドを有する記録ヘッドユニット1A及び1Bは、インク供給手段を構成するカートリッジ2A及び2Bが着脱可能に設けられ、この記録ヘッドユニット1A及び1Bを搭載したキャリッジ3は、装置本体4に取り付けられたキャリッジ軸5に軸方向移動自在に設けられている。この記録ヘッドユニット1A及び1Bは、例えば、それぞれブラックインク組成物及びカラーインク組成物を吐出するものとしている。
【0075】
そして、駆動モータ6の駆動力が図示しない複数の歯車およびタイミングベルト7を介してキャリッジ3に伝達されることで、記録ヘッドユニット1A及び1Bを搭載したキャリッジ3はキャリッジ軸5に沿って移動される。一方、装置本体4にはキャリッジ軸5に沿ってプラテン8が設けられており、図示しない給紙ローラなどにより給紙された紙等の記録媒体である記録シートSがプラテン8に巻き掛けられて搬送されるようになっている。
【0076】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、圧電体能動部と下電極膜を除去することによって形成された圧電体非能動部とを有する圧電素子が圧力発生室に対向する領域に形成されると共に上電極から周壁上に電極配線が延設され、且つ圧力発生室の長手方向の少なくとも隅部がこの電極配線を構成する導電層と同一の電極構成層で覆われるようにしたので、圧力発生室の長手方向縁部の振動板の剛性が向上し、圧電素子の駆動による変形によって振動板にクラック等が発生するのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記録ヘッドの概略を示す斜視図である。
【図2】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記録ヘッドの平面図及び断面図である。
【図3】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記録ヘッドの製造工程を示す断面図である。
【図4】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記録ヘッドの製造工程を示す断面図である。
【図5】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記録ヘッドの他の例を示す平面図及び断面図である。
【図6】本発明の一実施形態に係るインクジェット式記録装置の概略図である。
【符号の説明】
10 流路形成基板
11 隔壁
12 圧力発生室
13 連通部
14 インク供給路
20 ノズルプレート
30 リザーバ形成基板
40 コンプライアンス基板
50 弾性膜
60 下電極膜
70 圧電体層
80 上電極膜
90 リード電極
100 保護層
300 圧電素子
320 圧電体能動部
330 圧電体非能動部

Claims (6)

  1. ノズル開口に連通する圧力発生室と、この圧力発生室に対応する領域に振動板を介して設けられた下電極、圧電体層及び上電極からなる圧電素子とを備えるインクジェット式記録ヘッドにおいて、
    前記圧電素子は、前記圧力発生室に対向する領域内に、実質的な駆動部となる圧電体能動部と、その長手方向両端部に前記下電極を除去することにより形成され当該圧電体能動部から連続する前記圧電体層を有するが実質的に駆動されない圧電体非能動部とを有し、前記上電極から周壁上に電極配線が延設されていると共に、各圧力発生室の長手方向両端部の隅部に対向する領域の振動板が前記電極配線及び当該電極配線と同一の層からなる電極構成層によって覆われていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
  2. 請求項1において、前記圧電素子を構成する少なくとも圧電体層が、前記圧力発生室に対向する領域内に独立して形成されていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
  3. 請求項1又は2において、前記圧電素子の長手方向両端部近傍が前記電極構成層で覆われていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
  4. 請求項1〜3の何れかにおいて、前記下電極は複数の圧電素子に亘って形成され、且つ前記下電極の少なくとも前記圧力発生室の前記電極配線とは反対の端部側には、当該下電極を除去した下電極除去部が各圧力発生室毎に形成され、且つ前記電極構成層が、前記下電極除去部内のみに形成されていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
  5. 請求項4において、前記下電極除去部が、略矩形形状を有することを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
  6. 請求項1〜5の何れかにおいて、前記電極構成層は、前記下電極よりも剛性が高いことを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
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