JP3612654B2 - X線分析装置 - Google Patents
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】
この発明は、試料に1次X線を照射して、発生する2次X線を分析するために用いるX線分析装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来のX線分析装置として、例えば、図5に示すような装置がある。この装置において、X線源1から発生した1次X線2が試料台3に固定された試料4に照射され、試料4から発生した2次X線5は、発散スリット6により発散され、弯曲分光素子7に入射されて所望の特性X線8に分光され、受光スリット9で焦点を結び、検出器10へ入射され、その強度が測定される。ここで、試料4は直径30mmのものが標準的に用いられ、その大きさから、両スリット6,9の位置ならびに弯曲分光素子7の位置および入射面の面積等が決められる。このように決められた条件を満たすよう、X線源1および試料台4を有する試料室11と、発散スリット6、弯曲分光素子7、受光スリット9および検出器10を有する分光室12とが、連結固定されている。
【0003】
この従来の装置を使用して分析する際、分析したい試料4が直径30mmよりも小さい場合、または、試料4の分析したい部分が直径30mmよりも小さい場合(以下、総合して分析したい面を分析面、その面積を分析面積と呼ぶ)には、図6に示すように、X線源1と試料4との間に、分析面積S1 に対応した適切な孔径を有する照射制限絞り13を進出させ、分析面にのみ1次X線2を照射し、分析面のみから発生した2次X線5を発散スリット6から通過させている。照射制限絞り13は、分析面積S1 の大小に応じられるよう、複数の相異なる孔径のものが用意されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、例えば、図6のように照射制限絞り13を用いた際の分析面積S1 が、図5のように用いない際の分析面積S0 (直径30mmより225πmm2 である)の4分の1であったとすると、分析面に照射される1次X線2の強度(強度とは、単位面積当たりでなく、総量を意味するものとする。以下同じ。)は、もとの照射量の概ね4分の3が照射制限絞り13により遮断されるため、約4分の1に減少し、その結果、分析面から発生する2次X線5の強度もやはり約4分の1に減少する。
【0005】
一方、最終的に検出器10に入射する2次X線の強度は、分析面上の1点から発散スリット6を見込む立体角αにも比例するが、この立体角αについては、図6のように照射制限絞り13を用いた場合と、図5のように用いない場合とにおいて、変わりはない。結局、照射制限絞り13を用いると、検出器10に入射する2次X線の強度が、約4分の1に減少することになる。すなわち、照射制限絞り13を用いて分析面積S1 を減少させると、検出器10に入射する2次X線の強度が分析面積S1 に比例して減少してしまい、分析面積S1 が小さくなるほど得られる2次X線の強度が不足して、正確な分析が困難になる。
【0006】
そこで本発明は、分析面積が小さくなっても、得られる2次X線の強度が不足せず、正確な分析ができるX線分析装置を提供することを目的とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項1のX線分析装置は、1次X線を発生するX線源と、1次X線が照射された試料から発生する2次X線が入射される検出器とを備えたX線分析装置において、前記X線源が、モータの回転によって、前記試料に対して、前記1次X線の照射方向に沿って移動自在である。そして、前記モータと、移動指令信号を受けて前記モータを適切に回転させて、前記試料の分析面の面積が減少しても、分析面に照射される前記1次X線の強度の総量が変わらないように、前記1次X線の照射方向に沿って、前記X線源を前記試料に接近させる制御手段とを有する移動手段を備えている。
【0008】
【作用および効果】
請求項1のX線分析装置によれば、制御手段が、移動指令信号を受けてモータを適切に回転させて、試料の分析面の面積が減少しても、分析面に照射される1次X線の強度(強度の総量)が変わらないように、1次X線の照射方向に沿って、X線源を試料に接近させるので、分析面積が減少しても、分析面に照射される1次X線の強度は変わらない。したがって、分析面積が小さくなっても、得られる2次X線の強度が不足せず、正確な分析ができる。
【0009】
【実施例】
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明する。本発明の実施例のX線分析装置は、図1に示すように、試料室20と、X線源14と、移動手段32と、金属ベローズ31とを備え、また、図5の従来の装置と同様に、発散スリット6、弯曲分光素子7、受光スリット9および検出器10を有する分光室12を、図1の紙面手前方向(図2の平面図でいえば、下方向)に備えている。試料室20は、試料4が固定される試料台3を有している。1次X線2を発生するX線源14は、試料室20上部に設けられた孔30に挿入されている。筒状で可撓性を有する金属ベローズ31は、前記孔30の縁部の室内側とX線源14の先端付近に設けられたカラー部19とに連結されることにより、X線源14が移動しても、試料室20の気密を維持する。
【0010】
移動手段32は、X線源14上部に設けられた1対の螺合支持部15の雌ねじ部16に貫通螺合する2本のボールねじ21a,21bと、X線源14上部に設けられた1対のスライド支持部17(手前側の1つのみ図示)にスライド軸受け18を介して貫通する2本のスライドシャフト28(手前側の1本のみ図示)と、一方のボールねじ21aの一端に回転軸を連結されたモータ26と、そのモータ26等が取り付けられる取り付け板29と、移動指令信号を受けてモータ26を適切に回転させる制御手段33とを有している。
【0011】
2本のボールねじ21a,21bと2本のスライドシャフト28は、いずれも、X線源14から発生する1次X線2の照射方向に沿っており、互いに平行で、それらの軸方向からみた平面図である図2に示すように、それらの端面の中心が、正方形の頂点の位置となるように配置されている。図1に戻り、一方のボールねじ21aは、両端部を除いて雄ねじが形成されており、その一端を回転軸受け25を介して試料室20の上部に回転自在に支持され、X線源14上部に設けられた雌ねじ部16に螺合し、他端近傍を回転軸受け24を介して取り付け板29に回転自在に支持され、他端をモータ26の回転軸に連結されている。
【0012】
また、一方のボールねじ21aには、モータ26と取り付け板29との間において、歯車22aが設けられ、その歯車22aに螺合するタイミングベルト23を介して、そのタイミングベルト23に螺合する歯車22bを設けられた他方のボールねじ21bと連動して回転する。他方のボールねじ21bの構成は、端部がモータ26の回転軸に連結されていない点を除いて、一方のボールねじ21aと同様である。
【0013】
2本のスライドシャフト28(手前側の1本のみ図示)は、その一端が試料室20の上部にねじ止め等で固定され、X線源14上部に設けられたスライド支持部17をスライド軸受け18を介して貫通し、他端がねじ止め等で取り付け板29に固定されている。モータ26は、その側面に設けられた1対のステー27を介してねじ止め等で取り付け板29に固定されている。この構成により、X線源14は、モータ26の回転によって、試料室20中の試料4に対して、2本のボールねじ21a,21bおよび2本のスライドシャフト28に沿って移動自在である。
【0014】
次に、本実施例の装置の動作について説明する。簡単のため、分析面積S0 の標準的な大きさの試料4を分析する際のこの装置の光学系のみを図3に示す。この状態では、図5に示した従来の装置における標準的な大きさの試料4を分析する際の状態と変わるところはない。ここで、例えば、分析面積S1 がS0 の4分の1となるような分析面を分析する際には、図1の制御手段33に手動動作で移動指令信号を入力することによって、モータ26を一定量回転させ、X線源14を、2本のボールねじ21a,21bおよび2本のスライドシャフト28に沿って、すなわち1次X線2の照射方向に沿って、試料4に対し接近させる。
【0015】
この状態の光学系のみを図4に示す。この状態において、分析面積S1 、すなわち試料4において1次X線2が照射される面積が、S0 の4分の1となる点については従来の装置と同様であるが、本実施例においては、分析面積S0 の試料4を分析した際と同じ照射量の1次X線2が、遮断されることなく、分析面積S1 の分析面に集中して照射される。このため、分析面積が減少しても、分析面に照射される1次X線の強度は変わらず、その結果、分析面から発生する2次X線5の強度もやはり変わらない。
【0016】
一方、前述したように、最終的に検出器10に入射する2次X線の強度は、分析面上の1点から発散スリット6を見込む立体角αにも比例するが、この立体角α(図3および図4には図示せず)については、従来装置と同様に、試料4と発散スリット6との位置関係が変化しないことから、X線源14が移動しても変化しない。結局、分析面積S1 が小さくなっても、検出器10において得られる2次X線の強度は変わらず、正確な分析ができる。
【0017】
なお、本発明が適用される試料4から発生する2次X線5は、蛍光X線に限らず、コンプトン散乱線にも適用可能である。また、前記実施例では、X線源として、筒状でその端面からX線を発生する端窓式X線管を用いたが、本発明では、これに限らず、筒状でその周面からX線を発生する横窓式X線管を用いることもできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のX線分析装置を示す概略正面部分断面図である。
【図2】本発明の一実施例のX線分析装置を示す概略平面図である。
【図3】標準サイズの分析面を分析する際の本発明の一実施例のX線分析装置における光学系を示す概略側面図である。
【図4】標準サイズよりも小さい分析面を分析する際の本発明の一実施例のX線分析装置における光学系を示す概略側面図である。
【図5】標準サイズの分析面を分析する際の従来のX線分析装置を示す概略側面部分断面図である。
【図6】標準サイズよりも小さい分析面を分析する際の従来のX線分析装置を示す概略側面部分断面図である。
【符号の説明】
2…1次X線、4…試料、5…試料から発生する2次X線、10…検出器、14…X線源、32…移動手段。
【産業上の利用分野】
この発明は、試料に1次X線を照射して、発生する2次X線を分析するために用いるX線分析装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来のX線分析装置として、例えば、図5に示すような装置がある。この装置において、X線源1から発生した1次X線2が試料台3に固定された試料4に照射され、試料4から発生した2次X線5は、発散スリット6により発散され、弯曲分光素子7に入射されて所望の特性X線8に分光され、受光スリット9で焦点を結び、検出器10へ入射され、その強度が測定される。ここで、試料4は直径30mmのものが標準的に用いられ、その大きさから、両スリット6,9の位置ならびに弯曲分光素子7の位置および入射面の面積等が決められる。このように決められた条件を満たすよう、X線源1および試料台4を有する試料室11と、発散スリット6、弯曲分光素子7、受光スリット9および検出器10を有する分光室12とが、連結固定されている。
【0003】
この従来の装置を使用して分析する際、分析したい試料4が直径30mmよりも小さい場合、または、試料4の分析したい部分が直径30mmよりも小さい場合(以下、総合して分析したい面を分析面、その面積を分析面積と呼ぶ)には、図6に示すように、X線源1と試料4との間に、分析面積S1 に対応した適切な孔径を有する照射制限絞り13を進出させ、分析面にのみ1次X線2を照射し、分析面のみから発生した2次X線5を発散スリット6から通過させている。照射制限絞り13は、分析面積S1 の大小に応じられるよう、複数の相異なる孔径のものが用意されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、例えば、図6のように照射制限絞り13を用いた際の分析面積S1 が、図5のように用いない際の分析面積S0 (直径30mmより225πmm2 である)の4分の1であったとすると、分析面に照射される1次X線2の強度(強度とは、単位面積当たりでなく、総量を意味するものとする。以下同じ。)は、もとの照射量の概ね4分の3が照射制限絞り13により遮断されるため、約4分の1に減少し、その結果、分析面から発生する2次X線5の強度もやはり約4分の1に減少する。
【0005】
一方、最終的に検出器10に入射する2次X線の強度は、分析面上の1点から発散スリット6を見込む立体角αにも比例するが、この立体角αについては、図6のように照射制限絞り13を用いた場合と、図5のように用いない場合とにおいて、変わりはない。結局、照射制限絞り13を用いると、検出器10に入射する2次X線の強度が、約4分の1に減少することになる。すなわち、照射制限絞り13を用いて分析面積S1 を減少させると、検出器10に入射する2次X線の強度が分析面積S1 に比例して減少してしまい、分析面積S1 が小さくなるほど得られる2次X線の強度が不足して、正確な分析が困難になる。
【0006】
そこで本発明は、分析面積が小さくなっても、得られる2次X線の強度が不足せず、正確な分析ができるX線分析装置を提供することを目的とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項1のX線分析装置は、1次X線を発生するX線源と、1次X線が照射された試料から発生する2次X線が入射される検出器とを備えたX線分析装置において、前記X線源が、モータの回転によって、前記試料に対して、前記1次X線の照射方向に沿って移動自在である。そして、前記モータと、移動指令信号を受けて前記モータを適切に回転させて、前記試料の分析面の面積が減少しても、分析面に照射される前記1次X線の強度の総量が変わらないように、前記1次X線の照射方向に沿って、前記X線源を前記試料に接近させる制御手段とを有する移動手段を備えている。
【0008】
【作用および効果】
請求項1のX線分析装置によれば、制御手段が、移動指令信号を受けてモータを適切に回転させて、試料の分析面の面積が減少しても、分析面に照射される1次X線の強度(強度の総量)が変わらないように、1次X線の照射方向に沿って、X線源を試料に接近させるので、分析面積が減少しても、分析面に照射される1次X線の強度は変わらない。したがって、分析面積が小さくなっても、得られる2次X線の強度が不足せず、正確な分析ができる。
【0009】
【実施例】
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明する。本発明の実施例のX線分析装置は、図1に示すように、試料室20と、X線源14と、移動手段32と、金属ベローズ31とを備え、また、図5の従来の装置と同様に、発散スリット6、弯曲分光素子7、受光スリット9および検出器10を有する分光室12を、図1の紙面手前方向(図2の平面図でいえば、下方向)に備えている。試料室20は、試料4が固定される試料台3を有している。1次X線2を発生するX線源14は、試料室20上部に設けられた孔30に挿入されている。筒状で可撓性を有する金属ベローズ31は、前記孔30の縁部の室内側とX線源14の先端付近に設けられたカラー部19とに連結されることにより、X線源14が移動しても、試料室20の気密を維持する。
【0010】
移動手段32は、X線源14上部に設けられた1対の螺合支持部15の雌ねじ部16に貫通螺合する2本のボールねじ21a,21bと、X線源14上部に設けられた1対のスライド支持部17(手前側の1つのみ図示)にスライド軸受け18を介して貫通する2本のスライドシャフト28(手前側の1本のみ図示)と、一方のボールねじ21aの一端に回転軸を連結されたモータ26と、そのモータ26等が取り付けられる取り付け板29と、移動指令信号を受けてモータ26を適切に回転させる制御手段33とを有している。
【0011】
2本のボールねじ21a,21bと2本のスライドシャフト28は、いずれも、X線源14から発生する1次X線2の照射方向に沿っており、互いに平行で、それらの軸方向からみた平面図である図2に示すように、それらの端面の中心が、正方形の頂点の位置となるように配置されている。図1に戻り、一方のボールねじ21aは、両端部を除いて雄ねじが形成されており、その一端を回転軸受け25を介して試料室20の上部に回転自在に支持され、X線源14上部に設けられた雌ねじ部16に螺合し、他端近傍を回転軸受け24を介して取り付け板29に回転自在に支持され、他端をモータ26の回転軸に連結されている。
【0012】
また、一方のボールねじ21aには、モータ26と取り付け板29との間において、歯車22aが設けられ、その歯車22aに螺合するタイミングベルト23を介して、そのタイミングベルト23に螺合する歯車22bを設けられた他方のボールねじ21bと連動して回転する。他方のボールねじ21bの構成は、端部がモータ26の回転軸に連結されていない点を除いて、一方のボールねじ21aと同様である。
【0013】
2本のスライドシャフト28(手前側の1本のみ図示)は、その一端が試料室20の上部にねじ止め等で固定され、X線源14上部に設けられたスライド支持部17をスライド軸受け18を介して貫通し、他端がねじ止め等で取り付け板29に固定されている。モータ26は、その側面に設けられた1対のステー27を介してねじ止め等で取り付け板29に固定されている。この構成により、X線源14は、モータ26の回転によって、試料室20中の試料4に対して、2本のボールねじ21a,21bおよび2本のスライドシャフト28に沿って移動自在である。
【0014】
次に、本実施例の装置の動作について説明する。簡単のため、分析面積S0 の標準的な大きさの試料4を分析する際のこの装置の光学系のみを図3に示す。この状態では、図5に示した従来の装置における標準的な大きさの試料4を分析する際の状態と変わるところはない。ここで、例えば、分析面積S1 がS0 の4分の1となるような分析面を分析する際には、図1の制御手段33に手動動作で移動指令信号を入力することによって、モータ26を一定量回転させ、X線源14を、2本のボールねじ21a,21bおよび2本のスライドシャフト28に沿って、すなわち1次X線2の照射方向に沿って、試料4に対し接近させる。
【0015】
この状態の光学系のみを図4に示す。この状態において、分析面積S1 、すなわち試料4において1次X線2が照射される面積が、S0 の4分の1となる点については従来の装置と同様であるが、本実施例においては、分析面積S0 の試料4を分析した際と同じ照射量の1次X線2が、遮断されることなく、分析面積S1 の分析面に集中して照射される。このため、分析面積が減少しても、分析面に照射される1次X線の強度は変わらず、その結果、分析面から発生する2次X線5の強度もやはり変わらない。
【0016】
一方、前述したように、最終的に検出器10に入射する2次X線の強度は、分析面上の1点から発散スリット6を見込む立体角αにも比例するが、この立体角α(図3および図4には図示せず)については、従来装置と同様に、試料4と発散スリット6との位置関係が変化しないことから、X線源14が移動しても変化しない。結局、分析面積S1 が小さくなっても、検出器10において得られる2次X線の強度は変わらず、正確な分析ができる。
【0017】
なお、本発明が適用される試料4から発生する2次X線5は、蛍光X線に限らず、コンプトン散乱線にも適用可能である。また、前記実施例では、X線源として、筒状でその端面からX線を発生する端窓式X線管を用いたが、本発明では、これに限らず、筒状でその周面からX線を発生する横窓式X線管を用いることもできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のX線分析装置を示す概略正面部分断面図である。
【図2】本発明の一実施例のX線分析装置を示す概略平面図である。
【図3】標準サイズの分析面を分析する際の本発明の一実施例のX線分析装置における光学系を示す概略側面図である。
【図4】標準サイズよりも小さい分析面を分析する際の本発明の一実施例のX線分析装置における光学系を示す概略側面図である。
【図5】標準サイズの分析面を分析する際の従来のX線分析装置を示す概略側面部分断面図である。
【図6】標準サイズよりも小さい分析面を分析する際の従来のX線分析装置を示す概略側面部分断面図である。
【符号の説明】
2…1次X線、4…試料、5…試料から発生する2次X線、10…検出器、14…X線源、32…移動手段。
Claims (1)
- 1次X線を発生するX線源と、
1次X線が照射された試料から発生する2次X線が入射される検出器とを備えたX線分析装置において、
前記X線源が、モータの回転によって、前記試料に対して、前記1次X線の照射方向に沿って移動自在であり、
前記モータと、移動指令信号を受けて前記モータを適切に回転させて、前記試料の分析面の面積が減少しても、分析面に照射される前記1次X線の強度の総量が変わらないように、前記1次X線の照射方向に沿って、前記X線源を前記試料に接近させる制御手段とを有する移動手段を備えたことを特徴とするX線分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16008995A JP3612654B2 (ja) | 1995-06-01 | 1995-06-01 | X線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16008995A JP3612654B2 (ja) | 1995-06-01 | 1995-06-01 | X線分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08327568A JPH08327568A (ja) | 1996-12-13 |
JP3612654B2 true JP3612654B2 (ja) | 2005-01-19 |
Family
ID=15707628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16008995A Expired - Fee Related JP3612654B2 (ja) | 1995-06-01 | 1995-06-01 | X線分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3612654B2 (ja) |
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1995
- 1995-06-01 JP JP16008995A patent/JP3612654B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
JPH08327568A (ja) | 1996-12-13 |
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