JP3611258B2 - ガス精製装置 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は、石炭ガス化プロセスの生成ガスなどのような高温高圧の還元性ガス中に含まれる硫化水素を除去するガス精製装置に係わり、特に、副生成物として石膏を生成する反応器の小型化又は簡素化等が実現できるガス精製装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、石油資源の枯渇、価格の高騰から、燃料(または原料)の多様化が叫ばれ、石炭や重質油(タールサンド油、オイルシェール油、大慶重油、マヤ原油、或いは減圧残油など)の利用技術開発が進められており、その一つとして、石炭や重質油をガス化して発電等に利用する技術が注目されている。
しかし、このガス化生成ガスには、数100〜数1000ppmの硫化水素を含み、これは公害防止のため、或いは交流機器(例えばガスタービン等)の腐食防止等のため、除去する必要が有る。この除去方法としては、熱経済的にも有利でプロセス構成も簡素なものとして、乾式法があり、例えば特開昭63−123801号公報や、特開平1−254226号公報等に示された乾式のガス精製方法が従来知られている。
これは、Fe等の金属酸化物を吸着剤として使用し、ガス中に含まれる硫黄化合物を吸着剤で硫化物として吸着除去し、吸着能の低下した吸着剤を酸素含有ガスで焙焼して吸着剤を再生し、この焙焼反応により生成した亜硫酸ガスを含む再生ガスを反応器に導き、ガス吹込み手段により酸素含有ガス(通常空気)とともに反応器中に供給されたカルシウム化合物含有スラリ内に吹込んで、カルシウム化合物含有スラリと前記再生ガス及び酸素含有ガスとを気液接触させることにより、前記反応器内において、亜硫酸ガスの吸収と石膏の析出とを行わせるものである。
このガス精製技術は、上記公報に見られるように、反応器を圧力容器とし、再生ガスや酸化用空気を高圧状態(例えば10kg/cm2 )で反応器内に吹込んでカルシウム化合物含有スラリと気液接触させるもので、前記ガス吹込み手段としては、通常ロータリーアトマイザーと呼ばれるものが、採用されていた。
このロータリーアトマイザーは、反応器の底部に貫通させた中空回転軸の上端から、この中空回転軸を回転させつつガスを噴射するもので、噴射する気泡が比較的大径で、攪拌作用も少なく、中空回転軸上端の噴射口の周囲の比較的狭い領域にのみ気泡が分散されるものであった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記従来のガス精製技術は、吹込まれる再生ガスや酸化用空気が高圧である分だけガスの容量が小さくなり、原理的には、常圧(大気圧)で気液接触させる場合よりも反応器を格段に小型なもの(上下に細長いもの)とすることができて、設置スペースの縮小等が図れるといった優れた利点が有するものである。
しかし、ガス吹込み手段としてロータリーアトマイザーを使用していたため、再生ガスや酸化用空気を、微細な気泡として、かつ反応器の内径全体に均一に分散させることが困難で、結果的にガスを高圧状態で吹込むことによる利点(反応器の小型化)が十分に実現できず、また反応器の構造が複雑となる問題があった。
これは、前述したようにロータリーアトマイザーは、噴射される気泡が比較的大径で、拡散作用も少ないため、接触効率が悪く、気泡が分散される幅方向の領域が同じ面積だけ確認できても吸収反応や酸化反応が十分に進まないという欠点があり、結果として例えば反応器の上下長さ(スラリの液面高さ)をかなり長くするなどして、気液接触が行われる有効容積を大きく確保する必要性があった。また、前述したようにロータリーアトマイザーは、中空回転軸上端の噴射口(実用上最大径30cm程度)の周囲の比較的狭い領域にのみ気泡が分散されるものであったため、例えば内径が3m程度の反応器内の全体に気泡を分散させようとすると、反応器底部に多数のロータリーアトマイザーを並べて配設する必要があり、構造が複雑になりコスト高になる問題があった。
特に、ロータリーアトマイザーのモータを反応器の外に配設し、その回転軸を反応器の壁を貫通させて配設した従来の構成では、この回転軸の貫通部における軸封(シール)に反応器内外の圧力差に耐え得る特殊なものを使用する必要があり、実用上の問題が著しかった。
【0004】
そこで本発明は、再生ガス中の亜硫酸ガスの吸収及び石膏の生成を行う反応器の小型化及び簡素化が上記従来の限界を越えて可能になるガス精製装置を提供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、[請求項1]記載の発明によるガス精製装置は、石炭や重質油などの加圧ガス化によって得られる高温高圧還元性ガス中に含まれる硫黄化合物を吸着剤で硫化物として吸着除去し、吸着後の吸着剤を酸素含有ガスで焙焼して吸着剤を再生し、この焙焼反応により生成した亜硫酸ガスを含む再生ガスを反応器に導き、ガス吸込み手段により酸素含有ガスとともに反応器中に供給されたカルシウム化合物含有スラリ内に吹込んで、カルシウム化合物含有スラリと前記再生ガス及び酸素含有ガスとを気液接触させることにより、前記反応器内において、亜硫酸ガスの吸収と石膏の析出とを行わせるガス精製装置において、前記反応器を、前記再生ガスが少なくとも大気圧よりも高圧な状態で吹込み可能な圧力容器により構成し、前記ガス吹込み手段を、前記反応器の底部に水平回転可能に配された攪拌棒と、この攪拌棒に一体的に設けられてこの攪拌棒の近傍に前記再生ガス及び酸素含有ガスを噴射するガス供給管とを備える構成とし、前記攪拌棒とともに回転する前記ガス供給管に対して、前記再生ガス及び酸素含有ガスを供給する固定配管を接続するためのロータリージョイントと、前記攪拌棒及びガス供給管の回転を駆動するモータとを、前記圧力容器内に配設したことを特徴とする。
【0007】
【作用】
本発明では、反応器を再生ガスが高圧な状態で吹込み可能な圧力容器により構成しているから、吹込まれる再生ガスや酸化用空気が高圧である分だけガスの容量が小さくなり、常圧(大気圧)で気液接触させる場合よりも反応器を格段に小型なもの(上下に細長いもの)とすることができる。
そしてさらに、ガス吹込み手段を、反応器の底部に水平回転可能に配された攪拌棒と、この攪拌棒に一体的に取付けられてこの攪拌棒の近傍に再生ガス及び酸素含有ガスを噴射するガス供給管とを備える構成とした。このため、再生ガス及び酸素含有ガスをガス供給管から噴射しつつ攪拌棒を回転させると、攪拌棒の背面側に再生ガスや酸素含有ガスが供給されてなる気相域が定常的に発生し、攪拌棒の回転により生じる渦力によりこの気相域終縁部が千切れ現象を起こし、この気相域終端部から再生ガス等の略均一な多数の微細気泡が連続的に発生する。そして、これら気泡は、攪拌棒が回転する全周にわたる広い領域に分散し、攪拌棒により攪拌されるスラリの流れに巻き込まれながら反応器内を上昇して、スラリと効率良く接触する。
【0008】
また、ガス供給管に対して再生ガス及び酸素含有ガスを供給する固定配管を接続するためのロータリージョイントと、攪拌棒及びガス供給管の回転を駆動するモータとを、圧力容器内に配設した場合には、回転軸を反応器の壁に貫通させて設ける必要がなくなり、特殊な軸封が不要となる。
【0009】
【実施例】
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
図1は本実施例のガス精製装置のガス精製部の構成を示す図であり、図2は同装置の石膏回収部の構成を示す図、図3は同装置の石膏回収部における反応器の構造を示す図、図4はこの反応器に設けられたガス吹込み手段(アーム回転式エアスパージャ)の作用を示す図である。
まず、ガス精製部の構成について説明する。
図1に示すように、本実施例のガス精製装置のガス精製部に、この場合固定床式の反応塔1を三つ有する乾式のもので、各反応塔は、内部に、Fe,Zn,Mo,Mn,Cu,W等の金属酸化物からなるハニカム状の吸着剤2が装填され、後述の吸収工程、再生工程及び還元工程が順次実施される圧力容器である。なお、図1では、図中左側の反応塔1において吸収工程が、中央の反応塔1において還元工程が、右側の反応塔1において再生工程が行われている状態を示している。
このガス精製部には、ガス配管ラインとして、精製(硫黄分除去)しようとする高温高圧還元性ガスA(以下、還元性ガスAという。)を後述の吸収工程のために導入する第1ガス導入ライン11と、還元性ガスAを後述の還元工程のために導入する第2ガス導入ライン12と、精製後の高温高圧還元性ガスB(以下、精製ガスBという。)を導出する精製ガス導出ライン13と、後述の再生工程において反応塔1から排出されるガスC(以下、再生ガスCという。)を導出するための再生ガス導出ライン14と、後述の再生工程において反応塔1に供給されるガスD(以下、再生循環ガスDという。)を導入するための再生循環ガス導入ライン15と、還元工程を行っている反応塔1から出たガス(以下、還元ガスという)を吸収工程を行っている反応塔1に導入するための還元ガス戻しライン16とが設けられている。
【0010】
そして、各反応塔1の還元性ガスAの入口と、上記第1ガス導入ライン11,第2ガス導入ライン12又は再生ガス導出ライン14とを、開閉自在に接続するバルブとして、それぞれバルブ21,22,23が設けられ、また、各反応塔1の還元性ガスAの出口と、精製ガス導出ライン13,再生循環ガス導入ライン15又は還元ガス戻しライン16とを、開閉自在に接続するバルブとして、それぞれバルブ24,25,26が反応塔毎に設けられている。
これらバルブは、図示省略した制御装置によりその作動が制御され、各反応塔で行われる工程の種類に応じて切換えられるように構成されている。なお、図1では、黒く塗り潰して図示したバルブは閉じた状態となっており、そうでないバルブは開状態にあることを示している。
またこの場合、精製部には、二つの熱交換器31,32が設けられ、熱交換器31では、再生ガスCにより再生循環ガスDが加熱され、熱交換器32では、例えば還元性ガスAにより再生循環ガスDが加熱されるように構成されている。なおこの場合、ガス化炉において発生した還元性ガスAが、第1ガス導入ライン11等に導入される前に、熱交換器32を経由するように構成すればよい。
また、再生循環ガス導入ライン15の上流側には、再生循環ガスDを圧送する送風機35(ブロワ等)が設けられている。
【0011】
次に、石膏回収部の構成について図2を参照して説明する。
本装置の石膏回収部は、図2に示すように、カルシウム化合物含有スラリ(この場合石灰石スラリ)が供給される反応器50と、この反応器50内に支持されて水平回転し、反応器50内のスラリを攪拌するとともに供給されたガス(再生ガスCと後述するコンプレッサから供給される空気の混合ガス)をスラリ中に微細な気泡として効率良く吹込むアーム回転式のエアスパージャ60とを備える湿式のものである。
上記反応器50は、外周に水冷用のジャケット51(冷媒通路)が設けられた略円筒状の圧力容器で、ジャケット51には冷却水供給ライン71から冷却水E(冷媒)が供給されるようになっている。なお図3において、符号52で示すものは、後述する再生ガス導入ライン81及び空気供給ライン85を接続するための接続用配管(固定配管)であり、反応器50の上部の壁を貫通して後述のロータリージョイント65に接続されている。また図3において、符号53,54,55で示すものは、反応器50内と後述の再生循環ガス導出ライン90,スラリ抜出しライン94,石灰石スラリ供給ライン102とをそれぞれ接続するための接続用配管である。
【0012】
エアスパージャ60は、図3に示すように、反応器50の上部に水平に設けられた支持壁56上に設置された駆動支持部61と、この駆動支持部61内に設けられた軸受け(図示省略)に上端部を支持されて反応器50の中心を底部まで伸びるように配設された中空回転軸62と、この中空回転軸62の下端に固定された水平攪拌棒63と、中空回転軸62から伸びて開口端64aが攪拌棒63の下側に延長されたガス供給管64と、回転する中空回転軸62の上端を前述の接続用配管52に接続するためのロータリージョイント65と、駆動支持部61に取付けられ駆動支持部61内に設けられた回転伝達機構(図示略)を介して中空回転軸62の回転を駆動するモータ65とを備える。なお、中空回転軸62の回転数は、例えば50〜150rpmに設定されている。
【0013】
そして、図2に示すように、反応器50のジャケット51に流す冷却水の流量は、反応器50内にスラリの温度を検出する温度センサ72の出力信号を受けて、冷却水供給ライン71に設けられた流量調整弁73の開度を制御する温度コントローラ74により調整されるようになっている。
温度コントローラ74は、温度センサ72の出力値と目標値との偏差に応じて、温度センサ72の出力値が目標値に一致する方向に流量調整弁73を制御する機能を有する電気回路であり、その制御目標値が、例えばα型半水石膏が析出する温度範囲(120℃〜160℃)に設定可能となっている。
すなわち、この温度コントローラ74は、流量調整弁73を駆動するアクチュエータに制御信号を出力して流量調整弁73の開度を制御するもので、例えばその制御目標値が、α型半水石膏が析出する温度範囲(例えば、140℃)に設定され、温度センサ72の出力値が140℃を越えると、その越えた度合いに応じて流量調整弁73の開度を増加させ、温度センサ72の出力値が140℃より低下すると、その低下した度合いに応じて流量調整弁73の開度を低下させるように、制御信号の値を変化させる機能を有する。
なお、ジャケット51に供給され、反応器50から熱を奪った冷却水は、排水ライン75から排水されるようになっている。
【0014】
アーム回転式のエアスパージャ60には、前述の再生ガス導出ライン14に接続された再生ガス導入ライン81と接続用配管52を介して、再生ガスCが供給されるようになっている。この再生ガス導入ライン81には、流量調整弁82が設けられ、圧力センサ83の出力値に基づく圧力コントローラ84の制御により、反応器50内の圧力を所定値に制御するように流量調整弁82の開度が調整されるようになっている。
また、アーム回転式のエアスパージャ60には、空気供給ライン85と接続用配管52を介して、コンプレッサー86から空気Fが供給されるようになっている。この空気供給ライン85には、流量調整弁87が設けられ、流量センサ88の出力値に基づく第1流量コントローラ89の制御により、空気の供給量を所定値に制御するように流量調整弁87の開度が調整されるようになっている。
そして、反応器50の上部(接続用配管53)には、再生循環ガス導出ライン90が接続されており、反応器50に再生ガスCと空気とが混合されて吹き込まれ、スラリにより亜硫酸ガスを吸収されて発生するガス(即ち、再生循環ガスD)が、この再生循環ガス導出ライン90を経由して、図1に示した精製部の送風機35に供給されるようになっている。この再生循環ガス導出ライン90には、流量調整弁91が設けられ、流量センサ92の出力値に基づく第2流量コントローラ93の制御により、再生循環ガスDの供給量を所定値に制御するように流量調整弁91の開度が調整されるようになっている。
なお、この再生循環ガス導出ライン90には、ミストエリミネータを設けて、反応器50から導出されるガス中のミスト(反応器50内のスラリがミスト化したもの)が除去され、反応器50内に戻されるようにしてもよい。
【0015】
また、反応器50の下部(接続用配管54)には、スラリ抜出しライン94が接続され、反応器50内のスラリが分離機供給タンク95に抜出されるようになっている。このスラリ抜出しライン94には、流量調整弁96が設けられ、反応器50の液面高さを検出するレベルセンサ97の出力値に基づくレベルコントローラ98の制御により、反応器50の液面高さを所定値に制御するように流量調整弁96の開度が調整されるようになっている。
そして、分離機供給タンク95内のスラリは、固液分離機99に導入されて固液分離されて、その固形分(石膏G)が採取され、ろ液はろ液タンク100に取込まれて、ポンプ101により後述の石灰石スラリタンク103に供給されるようになっている。ここで、固液分離機99としては、連続遠心式のものが使用できる。
【0016】
また、反応器50の上部(接続用配管55)には、石灰石スラリが供給される石灰石スラリ供給ライン102が接続され、石灰石スラリタンク103内の石灰石スラリが、ポンプ104により供給されるようになっている。ここで、石灰石スラリタンク103は、図示省略したレベルコントローラ等の機能により、その液面レベルを略一定に保持するように、ろ液タンク100からのろ液や補給水Hが供給されるとともに、図示省略したサイロから、これら水分の供給量に応じた量の石灰石I(CaCO3 )の粉体が適宜供給されるもので、石灰石と水分とを混合する攪拌機103aを有する。また、ポンプ104は、例えばプランジャ式のポンプで、石灰石スラリを昇圧し反応器50内に圧入するものである。
この石灰石スラリ供給ライン102には、流量調整弁105が設けられ、流量センサ106の出力値に基づく第3流量コントローラ107の制御により、石灰石スラリの供給量を所定値に制御するように流量制御弁105の開度が調整されるようになっている。
なおこの場合、第3流量コントローラ107の制御目標値は、反応器50内のスラリのpH値を検出するpHセンサ108の出力値に基づくpHコントローラ109の出力信号により適宜変更されるようになっており、これにより、反応器50内のpH値が、後述する反応器50内における吸収反応や酸化反応が効率良く進行する最適なpH値(例えば、pH=5〜6)に維持されるように、石灰石スラリの供給量が制御されるようになっている。
【0017】
次に、以上のように構成されたガス精製装置において実施されるガス精製及び石膏回収の動作について説明する。
発電システム等において、ガス化炉(図示省略)で生成されるガス化ガスは、炉出口直後において、通常1000〜2000℃であるが、通常炉出口側に設けられたスチームヒータ(図示省略)により熱回収されて250〜550℃程度に冷却され、さらに除塵装置(図示省略)によりダストを除去された後、還元性ガスAとして、図1に示す精製部に導入される。
ここで、還元性ガスAは、水素(H2 )及び一酸化炭素(CO)を主成分とするもので、通常数10〜数1000ppmの硫化水素(H2 S)、硫化カルボニル(COS)等の硫黄化合物が含まれており、その圧力は25〜30kg/cm2程度の高圧となる。
【0018】
精製部に導入された還元性ガスAは、主に第1ガス導入ライン11からバルブ21を通って、吸収工程の状態にある反応塔1(図1では左側の反応塔1)に導入され、ハニカム状の吸着剤(例えばFe3 O4 )と効果的に接触し、例えば下記「化1」に示す式(1),(2)の吸収反応により硫化水素(H2 S)及び硫化カルボニル(COS)等が硫化物として吸収除去され、バルブ24及び精製ガス導出ライン13を経由して精製ガスBとして排出され、発電システム等における交流機器(ガスタービン等)に送られる。
【0019】
【化1】
3H2S+Fe3O4+H2 → 3FeS+4H2O …(1)
3COS+Fe3O4+CO → 3FeS+4CO2 …(2)
【0020】
また、精製部に導入された還元性ガスAの一部は、第2ガス導入ライン12及びバルブ22を通って、還元工程の状態にある反応塔1(図1では中央の反応塔1)に導入され、再生後の吸着剤(例えばFe2 O3 )と効果的に接触し、例えば下記「化2」に示す式(3),(4)の還元反応により、吸着剤を吸収能力のある状態(例えばFe3 O4 )に変える。なお、この還元性ガスAの一部は、還元工程の状態にある反応塔1を出ると、例えばバルブ26及び還元ガス戻しライン16を通って吸収工程の状態にある反応塔1の中間部に導入され、上記吸収反応により硫化水素(H2 S)及び硫化カルボニル(COS)等が吸収除去され、バルブ24及び精製ガス導出ライン13を経由して精製ガスBとして排出される。ここで、この還元性ガスAの一部は、吸収工程の状態にある反応塔1の例えば入口に戻すようにしてもよい。
【0021】
【化2】
3Fe2O3+H2 → 2Fe3O4 +H2O …(3)
3Fe2O3+CO → 2Fe3O4 +CO2 …(4)
【0022】
また、上記吸収工程や還元工程と同時に、残りの反応塔1(図1では右側の反応塔1)では、硫化物となった吸着剤を焙焼する再生工程が行われる。すなわち、再生循環ガス導入ライン15及びバルブ25を通して残りの反応塔1内に、再生循環ガスDが導入され、この再生循環ガスD中の酸素と吸着剤とが下記「化3」に示す式(5)の焙焼反応を起こして、吸着剤が再生される。
【0023】
【化3】
4FeS+7O2 → 2Fe2O3 +4SO2 …(5)
【0024】
こうして、この再生工程において発生した再生ガスCは、亜硫酸ガス(SO2 )を高濃度(例えば0.5〜10%程度)に含むガスとなり、バルブ23及び再生ガス導出ライン14を通って図2に示す石膏回収部に送られる。
ここで、再生ガスCは、窒素(N2 )を主成分(例えば85〜95%程度)として、亜硫酸ガス(SO2 )の他に、微量の二酸化炭素,水分及び酸素を含むガスであり、通常圧力は例えば10〜25kg/cm2程度であり、また、反応塔1の出口では通常600℃程度となり、熱交換器31により冷却された後でも、400℃程度の高温高圧ガスとして石膏回収部に送られる。
【0025】
上記石膏回収部に送られた再生ガスCは、再生ガス導入ライン81を経由して、圧力コントローラ84及び流量調整弁82の動作によりその流量を調整されつつ、空気供給ライン85から供給された空気Fと混合されて、アーム回転式エアスパージャ60により、反応器50のスラリ中に微細な気泡として吹込まれる。すなわち、接続用配管52及びロータリージョイント65を介して中空回転軸62内に圧入された再生ガスC及び空気Fは、ガス供給管64の開口端64aから噴射され、図4に示す如く攪拌棒63の回転により攪拌棒63の背面側に生じた気相域67に供給される。そして、この気相域67に供給された再生ガスC及び空気Fは、攪拌棒の回転により生じる渦力により気相域終縁部68が千切れ現象を起こすことにより、この気相域終端部68から略均一な多数の微細気泡69となって連続的にスラリ中に吹込まれる。そして、これら気泡69は、攪拌棒63が回転する全周にわたる広い領域(即ち、反応器50内の幅方向略全体)に分散し、攪拌棒63により攪拌されるスラリの流れに巻き込まれながら反応器50内を上昇して、スラリと効率良く接触する。
【0026】
このため、吹込まれた再生ガスCは、含有していたほとんどの亜硫酸ガスを、反応器50内にスラリ中に吸収され、最終的には、亜硫酸ガスを高い除去率で除去された清浄なガスとなって、未反応の空気とともに、再生循環ガス導出ライン90から導出され、再生循環ガスDとして精製部に送られる。
一方、再生ガスC中の亜硫酸ガスを吸収したスラリは、吹込まれた空気中の酸素と接触して全量酸化され、さらには中和反応を起こして石膏となる。
この際、反応器50内の圧力は、再生ガスCの高圧を利用して、前述の圧力コントローラ84の制御により、例えば5〜25kg/cm2程度の高圧に維持して、上記吸収及び酸化反応等を少ない気体ボリュームで効率良く行うことができる。
また、反応器50内のスラリの温度は、再生ガスCの温度、及び上記吸収及び酸化反応による発熱により、そのまま放置すれば極めて高温となるので、前述のジャケット51への冷却水の流量を温度コントローラ74で調整することにより、所定の石膏を析出させるための所望温度に制御可能となる。
【0027】
したがって、温度コントローラ74の制御目標値が、二水石膏が析出する温度範囲(120℃以下、好ましくは100℃以下)に設定されている場合には、反応器50内で起きる主な反応は下記「化4」に示す反応式(6)乃至(8)となり、上記中和反応で析出する石膏は二水石膏となる。
【0028】
【化4】
SO2 +H2O → H++HSO3 − …(6)
H++HSO3 − +1/2O2 → 2H++SO4 2− …(7)
2H+ +SO4 2−+CaCO3 +H2O→ CaSO4・2H2O+CO2 …(8)
【0029】
また、温度コントローラ74の制御目標値が、α型半水石膏が析出する温度範囲(120〜160℃)に設定されている場合には、反応器50内で起きる主な反応は上記反応式(6)乃至(7)と、下記「化5」に示す反応式(9)となり、析出する石膏はα型半水石膏となる。
【0030】
【化5】
2H+ +SO4 2−+CaCO3 +1/2H2O→ α−CaSO4 ・1/2H2O+H2O+CO2 …(9)
【0031】
なおこの際、空気供給ライン85から供給される空気の流量は、第1流量コントローラ89による流量調整弁87の開度調整により、反応器50内のスラリに溶け込んだ亜硫酸が酸化されて消失するのに必要な酸素量と、精製部の再生工程において必要な酸素量とを考慮した値に連続的に制御される。
すなわち、本実施例の場合には、空気供給ライン85から供給される空気中の酸素は、再生循環ガスD中に含有されて精製部に送られ、精製部の再生工程においても使用される必要があるので、例えば図示省略した精製部の制御装置から第1流量コントローラ89に指令が送られ、再生工程に必要な酸素量に応じた空気量が上記空気流量の制御目標値に加えられるようになっている。
なお、反応器50内のスラリに溶け込んだ亜硫酸が酸化されて消失するのに必要な酸素量は、例えばスラリの酸化還元電位を検出することにより、亜硫酸濃度と酸化還元電位の相関関係に基づいて判定することができる。
【0032】
上記(6)乃至(9)式に示す反応により、反応器50内には、石膏と吸収剤である少量の石灰石(CaCO3 )が定常的に懸濁し、これらがスラリ抜出しライン94から分離機供給タンク95に抜出される。
そして、分離機供給タンク95内のスラリは、固液分離機99に導入されて固液分離されて、その固形分(石膏G)が採取され、ろ液はろ液タンク100に取込まれて、ポンプ101により石灰石スラリタンク103に供給されて循環使用される。
【0033】
また、反応器50への石灰石スラリの供給は、ポンプ104により石灰石スラリ供給ライン102を経由して行われるわけであるが、この供給流量は、pHコントローラ109と第3流量コントローラ107の流量調整弁105の制御により調整される。例えば、第3流量コントローラ107には、反応器50に導入される再生ガスCの流量や亜硫酸ガス濃度を検出する図示省略したセンサからの検出信号も入力されるようになっており、第3流量コントローラ107は、これら検出器からの出力値に基づいて吸収剤(この場合石灰石)の基本的な必要供給量(化学量論的当量に基づくもの)を算出し、石灰石スラリの制御目標速度を基本的にこの必要供給量に相当する値に設定して、流量調整弁105の開度を基本的に調節する。そして、この基本動作に加えて、pHコントローラ109の制御により、反応器50内のpH値が例えばpH設定値である5よりも低下すると比例感度に応じた分の追加吸収剤供給量が算出されて制御目標流量に加えられるようになっており、常に反応器50内のpH値が最適値に維持される。
【0034】
以上説明したように、上記実施例のガス精製装置によれば、亜硫酸ガスを多量に含む再生ガスCと空気Fが高圧な状態で導入される反応器50には、酸化のための空気や、吸収剤としての石灰石スラリが、略過不足なく最適な流量に連続的に調整されて効率良く供給され、しかも、反応器50内に導入された再生ガスCと空気Fは、エアスパージャ60により反応器50内全体に微細な気泡として吹込まれ、亜硫酸ガスを吸収する前述の反応と、石膏を析出するための前述の酸化反応とが少ない容積で効率良く行われる。
【0035】
したがって、反応器50を従来よりも小型にしても、所定の処理ガス量に十分対応でき、装置の設置スペースの縮小等が従来の限界が越えて実現できる。また、ガス吹込み手段としては、上記エアスパージャ60を一つ設置するだけですむので、構成が簡単になり装置のコスト低減、保守作業の容易化等にも貢献できる。
【0036】
また上記実施例では、エアスパージャ60におけるロータリージョイント65やモータ66を反応器50内に配設し、回転軸が反応器50の壁を貫通しない構成としたから、特殊な軸封が必要なく、この点においてもコスト低減等がなされ、結果として大幅なコスト低減や保守作業の容易化等がなされる。
【0037】
なお、本発明は上記実施例に限られず各種の態様がありうる。
例えば、本発明のガス吹込み手段は、上記実施例のような攪拌棒とガス供給管とが別体として設けられている構成に限られず、ガス供給管自体が攪拌棒として機能する構成もありうる。いいかえると、攪拌棒を中空状にしこの攪拌棒に形成した開口又はノズル等から、攪拌棒内に圧入した再生ガス等を噴射させるように構成してもよい。
【0038】
また、ガス供給管から再生ガス等を噴射する部分(例えば上記実施例における開口端64a)を攪拌棒の長て方向の多数箇所に設置することができる。攪拌棒を反応器の内径に応じて長尺なものとし、必要に応じて再生ガス等を噴射する部分をより多数箇所に設ければ、処理ガス量が増加して反応器の径を大きく変更する場合でも、このガス吹込み手段一つで反応器内全体に効率よく再生ガス等を吹込むことができる。
【0039】
また、上記実施例では、ガス供給管64の開口端64aを下方に伸ばした構成としているが、この態様に限られないこともいうまでもない。但し、このような構成とすると、ガスの流れに抗して管内に混入するスラリの飛沫が早期に管外に放出され、管内へのスケールの固着を抑制できる。
また、精製部における反応塔として、固定床式以外のタイプ(例えば、流動床式や移動床式)を使用してもよいこともいうまでもない。
【0040】
【発明の効果】
本発明のガス精製装置によれば、反応器内に導入された再生ガスと酸素含有ガスは、ガス吹込み手段により反応器内全体に微細な気泡として吹込まれ、亜硫酸ガスを吸収する反応と、石膏を析出するための酸化反応とが少ない容積で効率良く行われる。
したがって、反応器を従来よりも小型にしても、所定の処理ガス量に十分対応でき、装置の設置スペースの縮小等が従来の限界を越えて実現できる。また、ガス吹込み手段は、従来のロータリーアトマイザーのように複数設置する必要がないので、構成が簡単になり装置のコスト低減、保守作業の容易化等にも貢献できる。
【0041】
また、ガス吹込み手段におけるロータリージョイントやモータを反応器内に配設したので、回転軸が反応器(圧力容器)の壁を貫通しない構成となるから、内外差圧に耐え得る特殊な軸封が必要なく、この点においてもコスト低減等がなされ、結果として大幅なコスト低減や保守作業の容易化がなされる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例であるガス精製装置の精製部の構成を示す図である。
【図2】同装置における石膏回収部の構成を示す図である。
【図3】同装置における石膏回収部の反応器の構成を示す図である。
【図4】同装置における石膏回収部の反応器内に設けられたガス吹込み手段の作用を示す図である。
【符号の説明】
2 吸着剤
50 反応器
52 接続用配管(固定配管)
60 エアスパージャ(ガス吹込み手段)
63 攪拌棒
64 ガス供給管
65 ロータリージョイント
66 モータ
A 高温高圧還元性ガス
C 再生ガス
E 空気(酸素含有ガス)
Claims (1)
- 石炭や重質油などの加圧ガス化によって得られる高温高圧還元性ガス中に含まれる硫黄化合物を吸着剤で硫化物として吸着除去し、吸着後の吸着剤を酸素含有ガスで焙焼して吸着剤を再生し、この焙焼反応により生成した亜硫酸ガスを含む再生ガスを反応器に導き、ガス吸込み手段により酸素含有ガスとともに反応器中に供給されたカルシウム化合物含有スラリ内に吹込んで、カルシウム化合物含有スラリと前記再生ガス及び酸素含有ガスとを気液接触させることにより、前記反応器内において、亜硫酸ガスの吸収と石膏の析出とを行わせるガス精製装置において、
前記反応器を、前記再生ガスが少なくとも大気圧よりも高圧な状態で吹込み可能な圧力容器により構成し、
前記ガス吹込み手段を、前記反応器の底部に水平回転可能に配された攪拌棒と、この攪拌棒に一体的に設けられてこの攪拌棒の近傍に前記再生ガス及び酸素含有ガスを噴射するガス供給管とを備える構成とし、
前記攪拌棒とともに回転する前記ガス供給管に対して、前記再生ガス及び酸素含有ガスを供給する固定配管を接続するためのロータリージョイントと、前記攪拌棒及びガス供給管の回転を駆動するモータとを、前記圧力容器内に配設したことを特徴とするガス精製装置。
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