JP3610075B2 - Ｘ線撮像装置 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明はＸ線撮像装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
Ｘ線撮像の目的で、ＣＣＤのような固体撮像素子が用いられる。ここで、固体撮像素子はＸ線に感度を持たないので、固体撮像素子の前面にはシンチレータが設けられる。Ｘ線が入射されるとシンチレータが発光し、この可視光はファイバ光学プレート（ＦＯＰ）などを介して固体撮像素子に入射される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記のようなＸ線撮像装置は、一般には容器に収められ、Ｘ線撮像に使用される。すると、シンチレータからの発光は、固体撮像素子の方向だけでなく、その反対方向にも生じるため、容器の内面で反射されてシンチレータに再入射され、そのままＦＯＰを通って固体撮像素子に検出されることがある。
【０００４】
このため、Ｘ線撮像の解像度が低下しやすかった。特に、容器を反射性の大きいアルミニウム（Ａｌ）で形成すると、反射光による解像度低下は著しい。
【０００５】
本発明は、このような課題を解決することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、被写体を透過したＸ線源からのＸ線を検出することにより、前記被写体のＸ線透過像を撮像するＸ線撮像装置において、被写体で放出される二次Ｘ線および外来光を透過せず、被写体を透過したＸ線源からのＸ線のみを選択的に透過する容器と、この容器の内部に設けられた撮像デバイスと、この撮像デバイスの受光面側に設けられたファイバ光学プレートと、このファイバ光学プレートの前面に設けられてＸ線の入射により発光するシンチレータとを備え、上記容器の内面にはシンチレータからの光の反射を防止する処理が施されていることを特徴とする。
【０００７】
【作用】
本発明の構成によれば、容器が例えばＡｌ容器のように、外来光と二次Ｘ線を透過しない構成なので、Ｘ線撮像に係わる高エネルギーのＸ線のみを透過させる。また、容器の内面には、シンチレーション光の反射防止処理がされているので、シンチレータからの光の再入射による解像度の低下が生じない。
【０００８】
【実施例】
以下、図１により実施例に係るＸ線撮像装置を説明する。
【０００９】
図１は断面構造を示し、Ｘ線源１とＸ線撮像装置２の間には被写体３が置かれている。Ｘ線撮像装置２は例えばＡｌ製の容器２１を有し、この内部にはＸ線の入射方向から順に、シンチレータ２２、ＦＯＰ２３および固体撮像デバイス２４がセットされている。そして、容器２１の内面には反射防止膜２５が形成されている。
【００１０】
ここで、厚さ１〜２ｍｍのＡｌ板からなる容器２１は、外来光と、低エネルギー（１０ｋｅＶ以下）の軟Ｘ線を透過しない性質を有し、反射防止膜２５は可視光を反射させない性質を有している。一方、Ｘ線源１は高エネルギー（１００ｋｅＶ程度）の硬Ｘ線を投射する能力を有し、被写体３はこの硬Ｘ線の一部を透過させつつ、二次Ｘ線としての軟Ｘ線を放出する性質を有する。
【００１１】
次に、上記実施例の作用を説明する。Ｘ線源１から硬Ｘ線が被写体３に照射されると、被写体３の材質や厚さに応じた割合で硬Ｘ線が透過し、同時に軟Ｘ線が二次放出される。これらＸ線のうち、硬Ｘ線は容器２１および反射防止膜２５を透過してシンチレータ２２に入射され、軟Ｘ線は容器２１で吸収あるいは反射される。このため、信号成分の硬Ｘ線のみが容器２１内に入射される。
【００１２】
硬Ｘ線がシンチレータ２２に入射すると可視光が生成され、固体撮像デバイス２４に向かう方向の成分はＦＯＰ２３を通って固体撮像デバイス２４で検出される。このため、被写体３のイメージングが可能となる。これに対し、固体撮像デバイス２４に向かう方向以外のシンチレーション光は、容器２１の内面の反射防止膜２５で吸収される。このため、反射光がシンチレータ２２にフィードバックされてＦＯＰ２３から固体撮像デバイス２４に入射し、解像度が低下するという事態にならない。
【００１３】
なお、ＦＯＰ２３は軟Ｘ線を不完全ながら吸収する性質も有しているので、残った軟Ｘ線の入射により固体撮像デバイス２４でキャリアが生成し、解像度が低下するようなこともなく、また固体撮像デバイス２４を長寿命にできる。
【００１４】
本発明における容器２１としては、Ａｌ製のものに限らず、軟Ｘ線および外来光を反射あるいは吸収して、硬Ｘ線を透過する性質を持っていればよい。また、内面の反射防止処理は、誘電体多層膜のコーティングにより実現してもよく、黒色アルマイト加工などにより実現してもよい。
【００１５】
【発明の効果】
以上の通り、本発明の構成によれば、容器が例えばＡｌ容器のように、外来光と二次Ｘ線を透過しない構成なので、Ｘ線撮像に係わる高エネルギーのＸ線（硬Ｘ線）のみを透過させる。また、容器の内面には、シンチレーション光の反射防止処理がされているので、シンチレータからの光の再入射による解像度の低下が生じない。このため、簡単な構成によって、大幅な解像度の向上が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例の構成図である。
【符号の説明】
１…Ｘ線源、２…Ｘ線撮像装置、２１…容器、２２…シンチレータ、２３…ＦＯＰ（ファイバ光学プレート）、２４…固体撮像デバイス、２５…反射防止膜、３…被写体。
Claims (1)
- 被写体を透過したＸ線源からのＸ線を検出することにより、前記被写体のＸ線透過像を撮像するＸ線撮像装置において、
前記被写体で放出される二次Ｘ線および外来光を透過せず、前記被写体を透過した前記Ｘ線源からのＸ線のみを選択的に透過する容器と、
この容器の内部に設けられた撮像デバイスと、
この撮像デバイスの受光面側に設けられたファイバ光学プレートと、
このファイバ光学プレートの前面に設けられてＸ線の入射により発光するシンチレータと
を備え、前記容器の内面には前記シンチレータからの光の反射を防止する処理が施されていることを特徴とするＸ線撮像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07429092A JP3610075B2 (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | Ｘ線撮像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07429092A JP3610075B2 (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | Ｘ線撮像装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05281157A JPH05281157A (ja) | 1993-10-29 |
| JP3610075B2 true JP3610075B2 (ja) | 2005-01-12 |
Family
ID=13542860
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07429092A Expired - Lifetime JP3610075B2 (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | Ｘ線撮像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3610075B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5807589B2 (ja) * | 2012-02-29 | 2015-11-10 | 株式会社大真空 | シンチレータ素子保持モジュールおよび当該シンチレータ素子保持モジュールを用いた放射光発生装置 |
| JP6529258B2 (ja) * | 2014-12-26 | 2019-06-12 | 京セラ株式会社 | 間接撮影用レンズ装置 |
-
1992
- 1992-03-30 JP JP07429092A patent/JP3610075B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05281157A (ja) | 1993-10-29 |
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