JP3588599B2 - 半導体バッファ能力調整方法、半導体バッファ能力調整システム、及び半導体装置 - Google Patents
半導体バッファ能力調整方法、半導体バッファ能力調整システム、及び半導体装置 Download PDFInfo
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置のバッファ能力を調整する半導体バッファ能力調整方法、半導体バッファ能力調整システム、及び半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、用途に応じて様々な半導体装置が開発・製造されている。半導体装置には、メモリコントローラに接続して使用される単体の半導体メモリや、当該半導体メモリを複数個基板上に搭載してモジュール化したものなど、種々なものがある。
【0003】
半導体装置は、一定以上の安定した信号品質を保証するため、適度な信号緩衝能力(以下、バッファ能力と呼ぶ)を有するように設計・製造されなければならない。
【0004】
例えば、印加される負荷が大きすぎる場合には、寄生入力容量が増加し、半導体の入力信号波形の立ち上がりがなまってしまうため、バッファ能力を上げる必要がある。一方、印加される負荷が小さすぎる場合には、寄生入力容量が減少し、半導体の入力信号波形の立ち上がりがオーバーシュートしてしまうため、バッファ能力を下げる必要がある。このようなことを考慮し、半導体装置は、そのバッファ能力が入力側に接続されるべき回路の負荷の応じた適切な値となるように設計・製造される。
【0005】
このように、半導体装置のバッファ能力は、高すぎても低すぎても良くなく、負荷に応じて適度に設定されなければならない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、実際に製造された半導体装置においては、設計方法、製造方法、使用環境などの違いによって、その電気特性にばらつきが生じるものである。例えば、半導体装置の製造工程(エッチング、蒸着など)における半導体や絶縁体の寸法(厚さなど)のずれが特性のばらつきを生じさせる。
【0007】
特性のばらつきの種類としては、半導体の入力容量のばらつきや、半導体内部におけるクランプダイオードの特性のばらつきなどが挙げられる。また、半導体の信号を伝達するプリント基板におけるインピーダンスのばらつきもある。
【0008】
こうした特性のばらつきが限度を超えると、半導体装置のバッファ能力が変動し、信号波形の品質が悪化する。これは、半導体装置の誤動作や素子破壊の原因となる。
【0009】
本発明は上記実状に鑑みてなされたものであり、半導体装置のバッファ能力を適度に設定することによって信号波形の品質を向上させることが可能な、半導体バッファ能力調整方法、半導体バッファ能力調整システム、及び半導体装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る半導体装置は、半導体装置の固有の電気的特性を示す特性情報を記憶した記憶部を具備し、その記憶部に記憶されている前記特性情報に基づいて、前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整できるようにしたことを特徴とする。
【0011】
また、本発明に係る半導体装置は、半導体装置のスルーレート、ドライブ能力、電圧振幅、電流特性のうちの少なくとも一つを示す特性情報を記憶した記憶部を具備し、その記憶部に記憶されている特性情報を参照して前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整できるようにしたことを特徴とする。
【0012】
また、本発明に係る半導体装置は、半導体装置の製造メーカ、製造工場、製造ロット、製造プロセスのうちの少なくとも一つを示す属性情報を記憶した記憶部を具備し、その記憶部に記憶されている属性情報を参照して前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整できるようにしたことを特徴とする。
【0013】
また、本発明に係る半導体バッファ能力調整システムは、半導体装置の特性ばらつき情報、前記半導体装置の特性情報、前記半導体装置の属性情報のうちの少なくとも一つを記憶した記憶部を有する半導体装置と、前記記憶部に記憶されている情報に基づいて前記半導体装置のバッファ能力を調整する手段とを具備したことを特徴とする。
【0014】
また、本発明に係る半導体バッファ能力調整システムは、半導体装置の固有の電気的特性を示す特性情報を記憶した記憶部を具備する半導体装置と、前記記憶部に記憶されている情報に基づいて前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整する手段とを具備したことを特徴とする。
【0015】
また、本発明に係る半導体バッファ能力調整システムは、半導体装置と、前記半導体装置の温度を検出する温度センサと、前記温度センサから得られる温度情報に基づいて前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整する手段とを具備したことを特徴とする。
【0016】
また、本発明に係る半導体バッファ能力調整方法は、半導体装置のバッファ能力を調整する半導体バッファ能力調整方法であって、
前記半導体装置の固有の電気的特性を示す特性情報を当該半導体装置の内部に予め記憶しておき、
前記特性情報に基づいて前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整することを特徴とする。
【0017】
また、本発明に係る半導体バッファ能力調整方法は、半導体装置のバッファ能力を調整する半導体バッファ能力調整方法であって、前記半導体装置のスルーレート、ドライブ能力、電圧振幅、電流特性のうちの少なくとも一つを示す特性情報を当該半導体装置の内部に予め記憶しておき、前記特性情報に基づいて前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整することを特徴とする。
【0018】
また、本発明に係る半導体バッファ能力調整方法は、半導体装置のバッファ能力を調整する半導体バッファ能力調整方法であって、前記半導体装置の製造メーカ、製造工場、製造ロット、製造プロセスのうちの少なくとも一つを示す属性情報を当該半導体装置の内部に予め記憶しておき、前記属性情報に基づいて前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整することを特徴とする。
【0019】
また、本発明に係る半導体バッファ能力調整方法は、半導体装置のバッファ能力を調整する半導体バッファ能力調整方法であって、
前記半導体装置の特性ばらつき情報、前記半導体装置の特性情報、前記半導体装置の属性情報のうちの少なくとも一つを当該半導体装置の内部に予め記憶しておき、
前記属性情報に基づいて前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整することを特徴とする。
【0020】
また、本発明に係る半導体バッファ能力調整方法は、半導体装置のバッファ能力を調整する半導体バッファ能力調整方法であって、前記半導体装置の温度を温度センサで検出し、前記温度センサから得られる温度情報に基づいて前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整することを特徴とする。
【0021】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。
【0022】
図1は、本発明の一実施形態に係る半導体バッファ能力調整システムの構成を示す図である。図1のシステムでは、メモリモジュールに実装した複数の半導体メモリがバッファ能力の調整の対象となる。なお、このシステムは、例えばパーソナルコンピュータや携帯情報端末などの電子機器の形で実現される。
【0023】
本システムは、複数の半導体メモリ(DRAMなど)1a〜1dが実装されたメモリモジュール2と、主にハードウェア構成に関する設定処理を行うBIOS(Basic Input/Output System)3と、メモリバスを通じてメモリモジュール2のデータ入出力を制御するメモリコントローラ4を有している。
【0024】
メモリモジュール2上の各半導体メモリは、その設計段階や製造段階における様々な要因により、電気的特性のばらつき(例えば半導体装置の入力容量のばらつきや、半導体装置内部におけるクランプダイオードの特性のばらつき、半導体装置の信号を伝達するプリント基板におけるインピーダンスのばらつき)が生じている。このようなばらつきがあると、各半導体メモリの入力信号波形の品質が低下する。例えば、図4に示される入力信号波形(3種類)のうち、図4(a)が望ましい波形であるとすると、図4(b)のように入力信号波形の立ち上がりがオーバーシュートし、バッファ能力が強すぎる状態となったり、図4(c)のように入力信号波形の立ち上がりがなまり、バッファ能力が弱すぎる状態となったりする。
【0025】
このようなことを考慮し、本実施形態では、メモリモジュール2には各半導体メモリの特性のばらつき(半導体装置の入力容量のばらつき、半導体装置内部におけるクランプダイオードの特性のばらつき、半導体装置の信号を伝達するプリント基板におけるインピーダンスのばらつき等)を数値などで表現した「特性ばらつき情報」を記憶したROM5が実装される。よって、ROM5に記憶された特性ばらつき情報を参照することにより、半導体装置のバッファ能力を調整し、適切な信号品質を得られるようにすることが可能となる。なお、上記特性ばらつき情報は、半導体装置の製造段階で測定したデータであり、製品出荷前にROM5に記憶される。
【0026】
また、上記ROM5に特性ばらつき情報を記憶させる代わりに、予め測定した各半導体メモリの「スルーレート」、「ドライブ能力」、「電圧振幅」、「電流特性」などを示す特性情報を記憶させるようにしてもよい。このような特性情報からも特性のばらつきを把握することができ、バッファ能力の最適値を求めることができる。
【0027】
また、半導体装置における特性のばらつきは、「製造メーカ」、「製造工場」、「製造ロット」、「製造プロセス」等によって違いが出てくる。これは、製造時の環境、装置、条件の違いによって生じるが、逆に、「製造メーカ」、「製造工場」、「製造ロット」、「製造プロセス」が同じであれば、ばらつきの傾向は同じである。よって、これら属性情報を特性ばらつき情報の代わりにROM5に記憶させるようにしてもよい。
【0028】
また、上記特性ばらつき情報、特性情報、属性情報を同時にROM5に記憶させるようにしてもよい。
【0029】
BIOS3は、起動された際に主にハードウェア構成に関する設定処理を行うが、その際にROM5に記憶されている特性ばらつき情報をサイドバンドバスを通じて読み込み、その特性ばらつき情報に基づいて、各半導体メモリのバッファ能力の最適値を求め、半導体メモリ1a〜1dのバッファ能力を適度に調整するための設定処理をローカルバスを通じてメモリコントローラ4に対して行う。
【0030】
例えば、BIOS3は、図4(b)に示したように入力信号波形の立ち上がりがオーバーシュートし、バッファ能力が高すぎる状態となっている半導体メモリについては、バッファ能力を下げるための設定処理を行う。一方、図4(c)に示したように入力信号波形の立ち上がりがなまり、バッファ能力が低すぎる状態となっている半導体メモリについては、バッファ能力を上げるための設定処理を行う。
【0031】
なお、BIOS3が行う上記処理を、OSの下に管理されるアプリケーションプログラムなどで行うように構成してもよい。
【0032】
メモリコントローラ4は、BIOS3によって設定された内容に従い、各半導体メモリのバッファ能力を適度にする信号強度の信号をメモリモジュール2(各半導体メモリ)に供給する。
【0033】
例えば、メモリコントローラ4は、BIOS3によってバッファ能力を下げるための設定処理がなされた場合には、対応する半導体メモリに供給する信号の強度を下げる。一方、メモリコントローラ4は、BIOS3によってバッファ能力を上げるための設定処理がなされた場合には、対応する半導体メモリに供給する信号の強度を上げる。
【0034】
図2は、図1に示したシステムの変形例を示す図である。なお、図1と共通する構成要素には同一の符号を付し、その具体的な説明を省略する。
【0035】
図1のシステムではメモリモジュールに実装した複数の半導体メモリ1a〜1dがバッファ能力の調整の対象であったのに対し、図2のシステムでは単体のメモリモジュール1がバッファ能力の調整の対象となる。
【0036】
また、図1のシステムでは各半導体メモリの特性ばらつき情報をROM5に記憶したが、図2のシステムでは半導体メモリ1の特性ばらつき情報を当該半導体メモリ1の内部に記憶する。すなわち、半導体メモリ1は、特性ばらつき情報を格納するための記憶部を有している。なお、特性ばらつき情報は、製造段階において予め測定しておいたデータであり、製品出荷前にその記憶部に記憶される。
【0037】
なお、上記記憶部に特性ばらつき情報を記憶させる代わりに、予め測定した各半導体メモリの「スルーレート」、「ドライブ能力」、「電圧振幅」、「電流特性」などを示す特性情報を記憶させるようにしてもよく、また、「製造メーカ」、「製造工場」、「製造ロット」、「製造プロセス」などを示す属性情報を記憶させるようにしてもよい。また、上記特性ばらつき情報、特性情報、属性情報を同時に記憶部に記憶させるようにしてもよい。
【0038】
BIOS3は、起動された際には半導体メモリ1内の記憶部から特性ばらつき情報をサイドバンドバスを通じて読み込み、その特性ばらつき情報に基づいて、半導体メモリ1のバッファ能力の最適値を求め、当該半導体メモリ1のバッファ能力を適度に調整するための設定処理をローカルバスを通じてメモリコントローラ4に対して行う。
【0039】
メモリコントローラ4は、BIOS3によって設定された内容に従い、半導体メモリ1のバッファ能力を適度にする信号強度の信号を当該半導体メモリ1に供給する。
【0040】
図3は、図2に示したシステムの変形例を示す図である。なお、図2と共通する構成要素には同一の符号を付し、その具体的な説明を省略する。
【0041】
図2のシステムでは半導体メモリ1の記憶部に記憶された特性ばらつき情報に基づいてバッファ能力の最適値を求める構成としたが、図3のシステムでは半導体メモリ1の近傍に当該半導体メモリ1の温度を検出する温度センサ6を設け、その温度センサ6から得られる温度情報に基づいてバッファ能力の最適値を求める構成となっている。
【0042】
半導体の特性は、製造工程などに起因してばらつくだけでなく、温度変化によってもばらつく。導体中に電子が通過する場合、温度が高ければ直列抵抗が大きくなるためである。そこで図3のシステムでは、温度情報に基づいてバッファ能力の最適値を求めるようにしている。
【0043】
BIOS3は、起動された際には温度センサ6から半導体メモリ1の温度情報を読み込み、その温度情報に基づいて、半導体メモリ1のバッファ能力の最適値を求め、当該半導体メモリ1のバッファ能力を適度に調整するための設定処理をローカルバスを通じてメモリコントローラ4に対して行う。
【0044】
また、メモリコントローラ4は、BIOS3によって設定された内容に従い、半導体メモリ1のバッファ能力を適度にする信号強度の信号を当該半導体メモリ1に供給する。
【0045】
なお、図2の構成と図3の構成とを組み合わせ、特性ばらつき情報と温度情報とを併用してバッファ能力の最適値を求めるようにしてもよい。
【0046】
図5は、半導体装置の特性ばらつき情報を取得する手法を分類して示す図である。
【0047】
符号Aは、半導体装置の特性ばらつき情報を、所定の記憶媒体(磁気記憶装置など)に格納しておき、そこから必要時に特性ばらつき情報を読み出す手法を示している。この場合の記憶媒体としては、情報を記憶して読み出せるものであれば種類は問わない。
【0048】
符号Bは、半導体装置の特性ばらつき情報を、所定の素子部品を用いて保存しておき、そこから必要時に特性ばらつき情報を読み出す手法を示している。例えば抵抗やヒューズを用いて信号のハイ/ローの組合せからなるデジタルデータにより特性ばらつき情報を表現したり、受動素子の定数を所定の値に設定することによって特性ばらつき情報を表現したりすることが可能である。この場合の素子部品としては、情報を保存して読み出せるものであれば種類は問わない。
【0049】
符号Cは、半導体装置の特性ばらつき情報を、その半導体装置自身の中に保存しておき、そこから必要時に特性ばらつき情報を読み出す手法を示している。半導体装置内には、例えば上述の符号A及びBの手法で使用した記憶媒体及び素子部品を内蔵させてもよい。ところで、半導体の製造処理はウェーハ単位で実施するため、同じウェーハ、ダイではばらつきの傾向は同じである。そのため、半導体装置内に受動部品を形成し、その値を調べることにより、半導体装置自身の特性のばらつきを知得することができる。
【0050】
符号Dは、半導体装置を実際に動作させ、波形測定を行うことにより、特性ばらつき情報を得る手法を示している。例えば、周知の時間分域反射率測定法(TDR:Time Domain Reflectometry)の技術を用い、バッファを駆動させてそのバッファに返ってきた反射波を計測することにより、半導体装置のばらつきを知得することができる。また、バッファの出力タイミングを変化させ、データ転送の成功/失敗の境界を調べることにより、半導体装置のばらつきを知得することができる。
【0051】
図6は、図1のシステムにおけるメモリコントローラ4の内部に設けられるバッファ能力調整用回路の一構成例を示す図である。なお、説明の簡単化のため、同図では一つの半導体メモリに対応する回路構成のみを示しているが、実際には、調整の対象となる半導体メモリの数と同じ数の調整用回路が設けられる。
【0052】
メモリコントローラ4の内部には、レジスタ41、信号制御部42、ドライバ43などが設けられる。
【0053】
レジスタ41は、半導体装置のバッファ能力を調整するためのバッファ能力調整用データを設定するためのものである。このレジスタ41に対する設定処理は、BIOS3などのソフトウェアによって行われる。
【0054】
信号制御部42は、レジスタ41に設定されたデータの内容に従ってドライバ43の信号出力を制御する。
【0055】
ドライバ43は、信号制御部42に制御され、半導体装置へ供給すべき信号の強度を変更して出力する。
【0056】
なお、上記回路構成は、図2や図3のシステムにおけるメモリコントローラ4にも適用できる。
【0057】
次に、図7を参照して、図1のシステムの動作について説明する。
システムの電源がオンされると(ステップA1)、BIOS3が起動される(ステップA2)。これにより、システム内のハードウェアに関する設定処理が行われる。その際に、メモリモジュール2のROM5に記憶されている特性ばらつき情報がBIOS3によって読み出される(ステップA3)。
【0058】
そして、BIOS3により、読み出された特性ばらつき情報に基づいて各半導体メモリのバッファ能力の最適値が導出され(ステップA4)、半導体メモリ1a〜1dのバッファ能力を適度に調整するための設定処理がメモリコントローラ4に対して行われる(ステップA5)。
【0059】
メモリコントローラ4に対する設定処理が行われると、その設定内容に従って、半導体メモリ1のバッファ能力を適度にする信号強度の信号がメモリコントローラ4から半導体メモリ1に供給される(ステップA6)。
【0060】
なお、上記ステップA4において導出されたバッファ能力の最適値を所定の記憶部に保存しておき、次回システムが起動されたときにはROM5からの読み出し処理を行わずに、保存しておいた最適値を使用してメモリコントローラ4に対する設定処理を行うようにしてもよい。
【0061】
図2のシステムの動作は、図1のシステムの動作と同様である。ただし、バッファ能力の調整の対象は一つの半導体メモリ1となる。また、特性ばらつき情報は半導体メモリ1内の記憶部に記憶されているため、特性ばらつき情報はその記憶部から読み出されることになる。
【0062】
次に、図8を参照して、図3のシステムの動作について説明する。
システムの電源がオンされると(ステップB1)、BIOS3が起動される(ステップB2)。これにより、システム内のハードウェアに関する設定処理が行われる。その際に、半導体メモリ1の温度を検出する温度センサから、温度情報がBIOS3によって読み出される(ステップB3)。
【0063】
そして、BIOS3により、読み出された温度情報に基づいて各半導体メモリのバッファ能力の最適値が導出され(ステップB4)、半導体メモリ1a〜1dのバッファ能力を適度に調整するための設定処理がメモリコントローラ4に対して行われる(ステップB5)。
【0064】
メモリコントローラ4に対する設定処理が行われると、その設定内容に従って、半導体メモリ1のバッファ能力を適度にする信号強度の信号がメモリコントローラ4から半導体メモリ1に供給される(ステップB6)。
【0065】
このように、本実施形態によれば、メモリモジュールや半導体メモリなどの半導体装置の特性ばらつき情報もしくは特性情報、属性情報を予め所定の位置に保存しておき、半導体装置の使用時にはその情報を参照することによって半導体装置のバッファ能力を適度に設定することが可能となる。また、半導体装置を実際に動作させ、波形測定を行って特性ばらつき情報を得ることによって半導体装置のバッファ能力を適度に設定することも可能となる。また、半導体装置の温度情報を利用することによっても、半導体装置のバッファ能力を適度に設定することが可能となる。これにより、半導体装置にて適切な信号品質が得られるため、当該半導体装置の誤動作防止や素子破壊防止を実現できる。
【0066】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内で種々変形して実施することが可能である。
【0067】
【発明の効果】
以上詳記したように本発明によれば、半導体装置のバッファ能力を適度に設定し、信号波形の品質を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る半導体バッファ能力調整システムの構成を示す図。
【図2】図1に示したシステムの変形例を示す図。
【図3】図2に示したシステムの変形例を示す図。
【図4】半導体の入力信号波形を説明するための図。
【図5】半導体装置の特性ばらつき情報を取得する手法を分類して示す図。
【図6】図1のシステムにおけるメモリコントローラの内部に設けられるバッファ能力調整用回路の一構成例を示す図。
【図7】図1のシステムの動作を説明するためのフローチャート。
【図8】図3のシステムの動作を説明するためのフローチャート。
【符号の説明】
1…半導体メモリ
2…メモリモジュール
3…BIOS
4…メモリコントローラ
5…ROM
6…温度センサ
41…レジスタ
42…信号制御部
43…ドライバ
Claims (13)
- 半導体装置の固有の電気的特性を示す特性情報を記憶した記憶部を具備し、その記憶部に記憶されている前記特性情報に基づいて、前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整できるようにしたことを特徴とする半導体装置。
- 前記特性情報は、前記半導体装置の製造段階において測定されたものであることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 半導体装置のスルーレート、ドライブ能力、電圧振幅、電流特性のうちの少なくとも一つを示す特性情報を記憶した記憶部を具備し、その記憶部に記憶されている特性情報を参照して前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整できるようにしたことを特徴とする半導体装置。
- 半導体装置の製造メーカ、製造工場、製造ロット、製造プロセスのうちの少なくとも一つを示す属性情報を記憶した記憶部を具備し、その記憶部に記憶されている属性情報を参照して前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整できるようにしたことを特徴とする半導体装置。
- 半導体装置の特性ばらつき情報、前記半導体装置の特性情報、前記半導体装置の属性情報のうちの少なくとも一つを記憶した記憶部を有する半導体装置と、
前記記憶部に記憶されている情報に基づいて前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整する手段と
を具備したことを特徴とする半導体バッファ能力調整システム。 - 半導体装置の固有の電気的特性を示す特性情報を記憶した記憶部を具備する半導体装置と、
前記記憶部に記憶されている情報に基づいて前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整する手段と
を具備したことを特徴とする半導体バッファ能力調整システム。 - 半導体装置と、
前記半導体装置の温度を検出する温度センサと、
前記温度センサから得られる温度情報に基づいて前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整する手段と
を具備したことを特徴とする半導体バッファ能力調整システム。 - 半導体装置のバッファ能力を調整する半導体バッファ能力調整方法であって、
前記半導体装置の固有の電気的特性を示す特性情報を当該半導体装置の内部に予め記憶しておき、
前記特性情報に基づいて前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整することを特徴とする半導体バッファ能力調整方法。 - 前記特性情報は、前記半導体装置の製造段階において測定されたものであることを特徴とする請求項8記載の半導体バッファ能力調整方法。
- 半導体装置のバッファ能力を調整する半導体バッファ能力調整方法であって、
前記半導体装置のスルーレート、ドライブ能力、電圧振幅、電流特性のうちの少なくとも一つを示す特性情報を当該半導体装置の内部に予め記憶しておき、
前記特性情報に基づいて前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整することを特徴とする半導体バッファ能力調整方法。 - 半導体装置のバッファ能力を調整する半導体バッファ能力調整方法であって、
前記半導体装置の製造メーカ、製造工場、製造ロット、製造プロセスのうちの少なくとも一つを示す属性情報を当該半導体装置の内部に予め記憶しておき、
前記属性情報に基づいて前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整することを特徴とする半導体バッファ能力調整方法。 - 半導体装置のバッファ能力を調整する半導体バッファ能力調整方法であって、
前記半導体装置の特性ばらつき情報、前記半導体装置の特性情報、前記半導体装置の属性情報のうちの少なくとも一つを当該半導体装置の内部に予め記憶しておき、
前記属性情報に基づいて前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整することを特徴とする半導体バッファ能力調整方法。 - 半導体装置のバッファ能力を調整する半導体バッファ能力調整方法であって、
前記半導体装置の温度を温度センサで検出し、
前記温度センサから得られる温度情報に基づいて前記半導体装置への入力信号を調整することにより、前記半導体装置のバッファ能力を調整することを特徴とする半導体バッファ能力調整方法。
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