JP3582379B2 - 放電ガス処理方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えばNOx、SOx、硫化水素、アンモニア等の有害物質や悪臭物質等から成る除去対象物質を含むガスを、パルスコロナ放電と触媒の併用によって処理して、ガス中から除去対象物質を除去する放電ガス処理方法に関し、より具体的には、除去対象物質の除去率を向上させる手段に関する。
【0002】
【従来の技術】
不平等な電界を形成する対向電極間に、NOx、SOx、硫化水素、アンモニア等の有害物質や悪臭物質等から成る除去対象物質を含むガスを導入し、対向電極間に極短パルス電圧(パルス幅がμsオーダー以下)を印加することでガス中でパルスコロナ放電を発生させて放電処理を行い、かつ放電処理後のガスを触媒部に供給して、パルスコロナ放電と触媒とを併用することによる相乗効果によって、有害物質や悪臭物質等の除去対象物質を高効率で除去することを目指したパルスコロナ放電・触媒併用式の放電ガス処理装置が既に提案されている(例えば、特開平3−16616号公報参照)。
【0003】
そのような放電ガス処理装置の一例のブロック図を図1に示す。この放電ガス処理装置は、上記のような除去対象物質を含むガス4を供給するガス源2と、不平等な電界を形成する対向電極を有していて両電極間に前記ガス4が流される放電処理部6と、この放電処理部6の両電極間にパルス電圧VP を印加して前記ガス4中でパルスコロナ放電を発生させるパルス電源8と、前記放電処理部6の下流側に設けられていて当該放電処理部6から供給される前記ガス4中の除去対象物質を触媒によって分解する触媒部10とを備えている。
【0004】
上記放電処理部6の具体例として、構成が簡素で最も実用性に富むと考えられる同軸円筒状の放電処理部6の一例を図2に示す。
【0005】
この放電処理部6は、金属製で円筒状(円管状とも言える。以下同じ)の外側電極12内に、当該外側電極12よりも細く、金属製で線状の内側電極14を同軸状に配置した構造をしている。このような放電処理部6は、放電管とも呼ばれ、複数本並列に用いる場合もある。上記のような構造では、半径が小さくて電界の集中する内側電極14が高電界側になり、半径の大きい外側電極12が低電界側になる。即ち、内側電極14がコロナ電極(コロナが進展する電極)となり、接地された外側電極12が非コロナ電極となる。
【0006】
このような放電処理部6の両電極12、14間に上記ガス4を流通させ、かつ両電極12、14間にパルス電源8からパルス電圧VP を印加して両電極12、14間のガス4中でパルスコロナ放電16を発生させることによって、ガス4を放電処理することができる。パルス電圧VP は、通常は正パルスであるが負パルスでも良い。
【0007】
触媒部10は、例えばオゾン分解触媒層、添着活性炭層等から成る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
上記のようなパルスコロナ放電・触媒併用式の放電ガス処理装置を用いてガス処理実験を行ったところ、単にパルスコロナ放電と触媒を併用しただけでは、必ずしもパルスコロナ放電と触媒の併用による相乗効果を得ることができないことが分かった。
【0009】
その一例を説明すると、上記外側電極12の内径が25mm、内側電極14の外径が0.5mm、長さが300mmの1本の同軸円筒状の放電処理部6と、オゾン分解触媒層から成る触媒部10とを備える放電ガス処理装置を作製して、この放電処理部6にガス4として、硫化水素を10ppm含む大気圧空気を供給した。この例ではこの硫化水素が除去対象物質である。放電処理部6内のガス4の滞留時間は0.25秒、触媒部10内のガス4の滞留時間は0.1秒である。
【0010】
この放電処理部6に上記パルス電源8から立上り時間40ns、パルス幅60ns、波高値45kVのパルス電圧VP を繰り返し印加した。ガス4が放電処理部6を通過する間に当該ガス4に加えられるパルスコロナ放電の回数(放電ショット数)を2.5とした。この条件では、ガス4に対して単位体積当たりに投入される放電エネルギー密度は0.5Wh/Nm3 程度となり、この放電処理部6は15ppmのオゾンを生成する能力を有している。ガス4中に硫化水素を上記のように10ppm添加する場合もしない場合もオゾン生成能力は殆ど変わらない。
【0011】
上記のような条件で、放電処理部6にガス4として、硫化水素を10ppm含む大気圧空気を供給してそれを放電処理部6および触媒部10において処理したところ、触媒部10の出口での硫化水素濃度は2.5ppmであり、この放電ガス処理装置における硫化水素除去率は75%であった(実験1)。この実験1の結果を表1にまとめて示す。
【0012】
【表1】
【0013】
一方、比較のために、放電処理部6にはガス4として、硫化水素を含まない大気圧空気を供給し、この放電処理部6から触媒部10の入口に供給されるガス4に硫化水素を10ppm添加し、その他は上記実験1と同一条件で処理したところ、触媒部10の出口での硫化水素濃度はやはり2.5ppmであり、この放電ガス処理装置における硫化水素除去率はやはり75%であった(実験2)。この実験2の場合は、硫化水素の除去に放電処理部6(およびそのパルス電源8)を全く利用していないので、単なる乾式オゾン脱臭と本質的に同じである。この実験2の結果を上記表1にまとめて示す。
【0014】
この実験1および実験2の結果から分かるように、硫化水素を放電処理部6を通しても(実験1)通さなくても(実験2)、最終的な硫化水素除去率は同じ(75%)であり、パルスコロナ放電と触媒の併用による相乗効果は認められなかった。
【0015】
パルスコロナ放電と触媒の併用による相乗効果を発揮させて、除去対象物質の除去率を向上させる条件が何か欠けているものと考えられる。この発明は、このような課題を解決することを主たる目的としている。
【0016】
【課題を解決するための手段】
この発明の放電ガス処理方法は、前記ガスが前記放電処理部を通過する間に当該ガスに加えられる前記パルスコロナ放電の放電ショット数を25〜100の範囲内にすることを特徴としている。
【0017】
種々の実験の結果、放電ショット数を上記のようにすることによって、処理ガス単位体積当たりに投入される放電エネルギー密度を一定としても、パルスコロナ放電と触媒の併用による相乗効果を発揮させて、除去対象物質の除去率を向上させ得ることを見い出した。
【0018】
【発明の実施の形態】
前記図1および図2に示した構成の放電ガス処理装置を用いて、放電ショット数および印加パルス電圧の波高値を変えた以外は前記表1に示した実験1および実験2と同一条件で実験を行った。
【0019】
即ち、外側電極12の内径が25mm、内側電極14の外径が0.5mm、長さが300mmの1本の同軸円筒状の放電処理部6と、オゾン分解触媒層から成る触媒部10を備える放電ガス処理装置を用いて、この放電処理部6にガス4として、硫化水素を10ppm含む大気圧空気を供給した。放電処理部6には、パルス電源8から、立上り時間40ns、パルス幅60nsのパルス電圧VP を繰り返し印加した。ガス4が放電処理部6を通過する間に当該ガス4に加えられるパルスコロナ放電の放電ショット数を、それぞれ2.5(実験A)、5(実験B)、25(実験C)および100(実験D)とした。このとき、ガス4に対して単位体積当たりに投入される放電エネルギー密度を0.5Wh/Nm3 一定とするため、印加パルス電圧VP の波高値をそれぞれ45kV(実験A)、35kV(実験B)、25kV(実験C)および20kV(実験D)とした。
【0020】
この実験A〜実験Dの結果を求めて表2に示す。実験Aは表1の実験1と同じ条件および結果である。
【0021】
【表2】
【0022】
この表2の結果から分かるように、いずれの実験条件においても、放電処理部6の出口すなわち触媒部10の入口における硫化水素濃度はほぼ同じ(5ppm)である。オゾン濃度もほぼ同じ(15ppm)である。
【0023】
しかるに、ガス4が放電処理部6を通過する間に加えられる放電ショット数を25に増加することで、触媒部10の出口での硫化水素濃度が1.0ppmに低下して硫化水素除去率が90%に向上している(実験C)。放電ショット数を100にすると、硫化水素除去率は93%に向上している(実験D)。つまり、ガス4が放電処理部6を通過する間に加えられる放電ショット数を少なくとも25以上にすることで、触媒部10だけの乾式オゾン脱臭とは異なる効果、即ちパルスコロナ放電と触媒の併用による優れた相乗効果が得られている。その理由は次のとおりと考えられる。
【0024】
即ち、図2に示した同軸円筒状の放電処理部6を例にパルスコロナ放電の放電状態を観察すると図3および図4に示すように、コロナ電極である線状の内側電極14から非コロナ電極である円筒状の外側電極12に向かって線状の輝線18が見える。この輝線18の部分がパルスコロナ放電によるガス処理効果が顕著な部分と考えられる。この輝線18は、無数に立っているというよりは、目で見て分かる程度に粗く、従って単一の放電ショットでのパルスコロナ放電によるガス処理効果は空間的に粗いと考えられる。このため、ガス4が放電処理部6を通過する間に加えられる放電ショット数が少ないと、ガス4に対する空間的処理むらが大きい。しかし、上記輝線18は粗いものの、輝線18の発生する箇所は経時的に忙しく変化している。例えば、ある時刻では図3のようになり、別の時刻では図4のようになる。従って、ガス4が放電処理部6を通過する間に加えられる放電ショット数が多くなれば、放電処理部6におけるガス4に対する空間的処理むらが改善される。その結果、ガス4中に含まれている除去対象物質(この例の場合は硫化水素)が万遍無く励起される等して、分解されやすい形に改質され、それによって触媒部10における分解の効率が向上し、結果として、最終的な除去対象物質の除去率が向上するものと考えられる。換言すれば、放電処理部6における放電処理は触媒部10に対する前処理的であり、この放電処理部6におけるガス4の処理むらが改善されることによって、触媒部10での触媒処理の効率が向上すると言うこともできる。
【0025】
ガス4が放電処理部6を通過する間に当該ガス4に加えられる放電ショット数を25以上にするには、放電処理部6内のガス4の滞留時間τ[s]と印加パルス電圧VP の繰り返し率f[pps]の積が25以上になるように設定すれば良い。
【0026】
滞留時間τは、用途にもよるが、一般的には0.01秒〜1秒程度の範囲内である。例えば、工場における製造工程排出ガスを扱う場合等のときは比較的処理ガス流量が大きいので、放電処理部6の大型化抑制等の観点から、滞留時間τは0.1秒〜0.3秒程度以下に設定するのが好ましい。滞留時間τが1秒ならば繰り返し率fを25pps以上に、滞留時間τが0.1秒ならば繰り返し率fを250pps以上に設定すれば良い。
【0027】
上記程度の繰り返し率fであれば、パルス電源8に含まれるスイッチング手段には、サイラトロン等の放電スイッチを用いても十分に対応することができる。より長寿命化を図るためには、スイッチング手段にMOSFET(絶縁ゲート電界効果トランジスタ)、IGBT(絶縁ゲートバイポーラトランジスタ)等の固体スイッチを用いても良い。
【0028】
ガス4に加える上記放電ショット数を25よりも多くするほど除去対象物質の除去率が向上することは表2の結果から容易に推測することができる一方、あまり多くしても除去率向上が飽和することも表2の結果から容易に推測することができる。しかもパルス電源8に対する要求も厳しいものとなる。例えば、高繰り返し率対応の電源が必要になる。従って、ガス4に加える上記放電ショット数は、25〜100(25以上100以下)の範囲内がより好ましく、そのようにすれば、除去対象物質の除去率を高めると共に、パルス電源8の簡素化、低コスト化等を図ることができる。
【0029】
本発明で用いることのできる放電処理部6は、図2に示したような同軸円筒状放電管に限られるものではない。これは、図3および図4に示したようなパルスコロナ放電の状態は、同軸円筒状放電管に限られるものではなく、不平等な電界を形成するいかなる対向電極間においても同様に見られるパルスコロナ放電の本質的特性だからである。
【0030】
従って、放電処理部6は、例えば、図5に示す例のように、断面が方形(正方形または長方形)をした角筒状(角管状とも言える)の外側電極12内に線状の内側電極14を1本配置した同軸構造のものでも良い。外側電極12の断面を長方形にして、その中に内側電極14を複数本並設しても良い。
【0031】
また、例えば図6に示す例のように、放電処理部6を構成する外側電極12の内面を誘電体20で覆っておいても良い。これは、一般的に、内側電極14の交換は細いので容易であるのに対して、外側電極12の交換は他の部材に結合している等の理由で容易ではない。このような外側電極12の内面を誘電体20で覆っておくと、外側電極12の耐腐食性が向上して寿命が長くなって、外側電極12の交換頻度を下げることができる。従って、放電処理部6のメインテナンス等の簡略化を図ることができる。図5に示すような構造の放電処理部6の場合も同様である。
【0032】
【発明の効果】
以上のようにこの発明によれば、ガスが放電処理部を通過する間に当該ガスに加えられる放電ショット数を25以上にすることによって、パルスコロナ放電と触媒の併用による相乗効果を発揮させて、除去対象物質の除去率を向上させることができる。
【0033】
また、上記放電ショット数を25〜100の範囲内にすることによって、除去対象物質の除去率を高めると共に、パルス電源の簡素化、低コスト化等を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】パルスコロナ放電・触媒併用式の放電ガス処理装置の一例を示すブロック図である。
【図2】放電処理部の一例を示す斜視図である。
【図3】ある時刻におけるパルスコロナ放電の状態の一例を示す図である。
【図4】別の時刻におけるパルスコロナ放電の状態の一例を示す図である。
【図5】放電処理部の他の例を示す斜視図である。
【図6】放電処理部の更に他の例を示す斜視図である。
【符号の説明】
2 ガス源
4 ガス
6 放電処理部
8 パルス電源
10 触媒部
12 外側電極
14 内側電極
Claims (1)
- 不平等な電界を形成する対向電極を有していて両電極間に除去対象物質を含むガスが流される放電処理部と、この放電処理部の両電極間にパルス電圧を印加して前記ガス中でパルスコロナ放電を発生させるパルス電源と、前記放電処理部の下流側に設けられていて当該放電処理部から供給される前記ガス中の前記除去対象物質を触媒によって分解する触媒部とを備える放電ガス処理装置において、前記ガスが前記放電処理部を通過する間に当該ガスに加えられる前記パルスコロナ放電の放電ショット数を25〜100の範囲内にすることを特徴とする放電ガス処理方法。
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-
1998
- 1998-10-29 JP JP30810098A patent/JP3582379B2/ja not_active Expired - Lifetime
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