JP3544836B2 - Air washer - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体工場等における空気調和装置に係り、空気中の塵埃や有害ガスを除去するとともに、飽和効率の高い加湿を行なうエアワッシャに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来のエアワッシャとしては、例えば特開平7−96122号公報に開示するものがあり、その概要を図10に示す。図10において、エアワッシャlは、空気が上流側から下流側に向けて通過する水噴霧室2を備え、水噴霧室2のほぼ中央に空気の流れ方向(図中に矢印で示す)に延びる仕切板3を設け、仕切板3に対向して水噴霧装置4のノズル4aを配置している。
【0003】
このエアワッシャ1において、仕切板3に衝突するように、水噴霧装置4のノズル4aから清浄水を噴霧水として噴霧すると、水噴霧室2を通過する空気中の塵埃が噴霧水に衝突し、塵埃は噴霧水とともに仕切板3に達して仕切板3の表面に形成する水膜に補えられて、水膜の落下とともに仕切板3に沿って流下する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上記したエアワッシャ1は、空気中の塵埃の除去を目的としたものであり、このエアワッシャlで空気を飽和状態付近まで加湿するには、水噴霧室2における空気の流量に対する噴霧水量の割合を、塵埃を除去するための通常の割合より高く設定する必要があり、水噴霧装置4のノズル4aに清浄水を圧送するためのポンプに大きな出力のものを要することになり、空気に効率よく加湿することができなかった。
【0005】
ところで、水噴霧室2を通過する空気中の有害ガス成分を噴霧水によって吸収除去しようとする場合には、有害ガスの除去性能を維持するために、噴霧水の清浄度を所定値以上に保つ必要があり、噴霧水を循環利用する場合には、噴霧水に取り込んだ有害ガス成分の濃度が所定値以下を保つように、新たに清浄水を補給する必要がある。
【0006】
しかし、系内を循環する循環水に対して清浄水を供給するに際し、循環水を一時的に貯留する水槽へ清浄水を供給する場合には、水槽内に滞留する循環水中の有害ガス成分の濃度を希釈することになり、言い換えると補給水として供給する清浄水が水槽中の有害ガス成分によって汚濁されるので、補給する清浄水の清浄性を十分に活用することができなかった。しかも、補給水の全量に純水を使用する場合には多量の純水を要し、純水製造装置に容量の大きなものが必要となり、コストが高くなる問題があった。
【0007】
本発明は上記した課題を解決するものであり、空気中の塵埃や有害ガスを確実に除去するとともに、清浄水として使用する純水の供給量を低減し、かつ飽和効率の高い加湿を行なうエアワッシャを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記した課題を解決するために、本発明の請求項1に係るエアワッシャは、空気入口と空気出口とを有し、空気入口から空気出口に向かって空気流が生じる水噴霧室と、水噴霧室の空気入口に配置する第1ワッシャメディアと、水噴霧室内に空気流を横切って配置する第2ワッシャメディアと、水噴霧室の空気出口に配置する第3ワッシャメディアと、水噴霧室内の第1ワッシャメディアより下流側に位置し、空気流とは逆方向に向けて第1ワッシャメディアに達する噴霧水を噴霧する第1段ノズルと、水噴霧室内の第2ワッシャメディアより下流側に位置し、空気流とは逆方向に向けて、もしくは順方向に向けて噴霧水を噴霧する第2段ノズルと、水噴霧室内に位置して流下する噴霧水を受け止める貯水槽と、貯水槽内の循環水を第1段ノズルに循環供給する循環水供給系と、補給水を第2段ノズルに供給する補給水供給系とを備え、第2段ノズルに補給水を供給する補給水供給系は、補給水として清浄水もしくは純水を供給するものである。
【0009】
上記した構成により、請求項1に係るエアワッシャにおいて、水噴霧室の空気入口から第1ワッシャメディアを通して流入する空気流に対し、その流れに対向するように貯水槽からの水を第1段ノズルから噴霧すると、噴霧水が空気中の塵埃や有害ガスに衝突し、衝突した空気中の塵埃や有害ガスが噴霧水とともに第1ワッシャメディアに達し、第1ワッシャメディアが塵埃や有害ガスを伴った噴霧水を捕捉する。
【0010】
第1ワッシャメディアに達した噴霧水は、第1ワッシャメディアに付着した塵埃を洗い流して流下するとともに有害ガスを取り込んで貯水槽へ流入し、流下する過程において蒸発して空気を加湿する。
【0011】
第lワッシャメディアに衝突しなかった噴霧水は、一部が水噴霧室の天井面、壁面または貯水面に衝突するが、それ以外は空気流に乗って移動し、その過程において蒸発して空気を加湿するとともに、空気中の塵埃や有害ガスを取り込んで第2ワッシャメディアに達し、第2ワッシャメディアが塵埃や有害ガスを伴った噴霧水を捕捉する。
【0012】
第2ワッシャメディアに達した噴霧水は、第2ワッシャメディアに付着した塵埃を洗い流して流下するとともに有害ガスを取り込んで貯水槽へ流入し、流下する過程において蒸発して空気を加湿する。貯水槽に滞留する循環水は、循環水供給系を通って循環し、再び第1段ノズルから噴霧する。
【0013】
このように、第1段ノズルから噴霧水を空気流に対向するように噴射し、折り返すように空気を加湿するので、空気の流量に対する噴霧水の量の割合を低く設定しても、第lおよび第2ワッシャメディアによって空気中の塵埃や有害ガスを十分に除去するとともに効率よく空気を加湿でき、循環水供給系におけるポンプ等のアクチュエータの出力を低減することができる。
【0014】
第2ワッシャメディアを通過した空気流に対し、清浄な補給水を第2段ノズルから噴霧すると、清浄な水の噴霧水が空気中に残存する塵埃や有害ガスに衝突し、衝突した塵埃や有害ガスが噴霧水とともに第3ワッシャメディアに達し、第3ワッシャメディアが塵埃や有害ガスを伴った噴霧水を捕捉する。
【0015】
第3ワッシャメディアに達した噴霧水は、第3ワッシャメディアに付着した塵埃を洗い流して流下するとともに有害ガスを取り込んで貯水槽へ流入し、流下する過程において蒸発して空気を加湿する。
【0016】
このように、第2段ノズルから噴霧する清浄な水は、初期清浄度を保った状態で噴霧水となるので、第1ワッシャメディアおよび第2ワッシャメディアを通過した有害ガスに対して、その清浄性を有効に活かして高い除去性能を発揮することができる。貯水槽へ流入した清浄な水は補給水として循環水に合流し、循環水供給系を通って第1段ノズルから循環水として噴霧する。第3ワッシャメディアを通過した空気は、浄化して十分に加湿した清浄な空気として空気出口から流出する。
【0017】
補給水は、空気の加湿に伴って減少する循環水の減少量を補うとともに、循環水中の有害ガス濃度を一定値以下に維持するために必要な量を第2段ノズルと貯水槽へ供給し、貯水槽の水位を保つ位置に設けるオーバーフロー管から余分となる水を排出する。
【0018】
エアワッシャは、第2段ノズルに補給水を供給する補給水供給系が、補給水として純水を供給することにより、純水のより清浄性を活かした有害ガスの除去を行ないつつ、全ての補給水を純水にしなくてもよいので、純水の使用量を低減することができる。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図1〜図3に示すように、エアワッシャ10は、矩形の流路断面を有する本体ケーシング11の内部に、所定長さの水噴霧室12を有している。水噴霧室12は、その一端に形成した空気入口12aにおいてダクト(図示せず)に接続しており、このダクトから流入する空気Aが水噴霧室12の流路を通って他端に形成した空気出口12bから流出する。
【0020】
水噴霧室12には、空気入口12aに位置して第1ワッシャメディア13を配置し、水噴霧室12の流路の途中に位置して第2ワッシャメディア14を配置し、空気出口12bに位置して第3ワッシャメディア15を配置しており、第1ワッシャメディア13と第2ワッシャメディア14の間を第1段エアワッシャ部12cとし、第2ワッシャメディア14と第3ワッシャメディア15の間を第2段エアワッシャ部12dとしている。各ワッシャメディア13、14、15は、噴霧水を補足する線材からなるマット状のもので、空気流の流路断面とほぼ等しい形状を有し、ポリ塩化ビニルデン系繊維やステンレスの線材等からなり、たとえば25mm〜50mm程度の厚みを有するマット状のものである。
【0021】
水噴霧室12の内部には、後述する循環水供給系に連通する複数の第1段ノズル16を第1ワッシャメディア13より下流側に位置して配置するとともに、後述する補給水供給系に連通する複数の第2段ノズル17を第2ワッシャメディア14より下流側に位置して配置している。第1段ノズル16は、空気流とは逆方向に向けて第1ワッシャメディア13に達する噴霧水を噴霧するものであり、第2段ノズル17は、空気流とは逆方向に向けて第2ワッシャメディア14に達しない噴霧水を噴霧するものである。
【0022】
第1段ノズル16からの噴霧水の圧力は、水噴霧室12内に所定流量の空気を流しているときに噴霧水の一部1/3程度)が第1ワッシャメディア13に衝突する程度に設定する。また、残りの水の一部(1/3程度、全水量の2/9)が、水噴霧室12内において天井面、壁面等に衝突し、その残りの水(全水量の5/9)が空気の流れに乗って移動し、第2ワッシャメディア14に衝突するように設定する。
【0023】
第2段ノズル17からの噴霧水の圧力は、水噴霧室12内に所定流量の空気を流しているときに、噴霧水が第2ワッシャメディア14に衝突する前に、空気の流れに乗って移動して第3ワッシャメディア15に衝突するように設定する。
【0024】
水噴霧室12の下部には、流下する噴霧水を受け止める貯水槽18が設けてあり、貯水槽18に滞留する循環水を第1段ノズル16第1段ノズルに循環供給する循環水供給系19が水噴霧室12の下部に連通して設けてある。
【0025】
循環水供給系19は、貯水槽18の下部に開口する吸込管20と、吸込管20に接続した循環ポンプ21と、循環ポンプ21を駆動するモータ22と、循環ポンプ21の吐出口に接続して水噴霧室12の上方に配置した第1段吐出管23と、第1段吐出管23から分岐して水噴霧室12の第1段エアワッシャ部12cに垂直方向に配設した複数の第1段分岐管24とからなり、各第1段分岐管24に前述した複数の第1段ノズル16を設けている。
【0026】
第2段ノズルに補給水を供給する補給水供給系25は、清浄水供給装置(図示せず)もしくは純水供給装置(図示せず)に接続して水噴霧室12の上方に配置した第2段吐出管26と、第2段吐出管26から分岐して水噴霧室12の第2段エアワッシャ部12dに垂直方向に配設した複数の第2段分岐管27とからなり、各第2段分岐管27に前述した複数の第2段ノズル17を設けている。
【0027】
貯水槽18には、オバーフロー管28と、補給水として清浄水を供給する第2補給水供給管29が連通し、供給管29は清浄水供給装置(図示せず)に連通している。
【0028】
水噴霧室12の下流側には、水噴霧室12を通過した空気に含まれる水滴等を除去するエリミネータ30が配置してあり、水噴霧室12の空気出口12bには、水噴霧室12と同様の流路断面形状を有する所定長さの冷却室31が接続してある。冷却室31の内部には冷却器として冷却コイル32が設けてあり、冷却室31の下方にはドレンパン33が形成したある。このドレンパン33の凹みには冷却室31の外部へ通じるドレンパイプ34が接続してある。水噴霧室12の下流側には送風機(図示せず)が配置してあり、この送風機を作動することによって水噴霧室12の流路に空気を導く。
【0029】
本実施の形態においては、第2段ノズル17は、空気流とは逆方向に向けて第2ワッシャメディア14に達しない噴霧水を噴霧するものであるが、図6から図7に示すように、第2段ノズル17は、空気流と順方向に向けて噴霧水を噴霧するものであっても良い。
【0030】
上記した構成における作用を説明する。空気Aは空気入口12aから第1ワッシャメディア13を通して水噴霧室12の第1段エアワッシャ部12cに流入する。この空気流に対し、その流れに対向するように貯水槽18からの循環水を第1段ノズル16から噴霧する。噴霧水は空気中の塵埃や有害ガスに衝突し、衝突した空気中の塵埃や有害ガスが噴霧水とともに第1ワッシャメディア13に達し、第1ワッシャメディア13が塵埃や有害ガスを伴った噴霧水を捕捉する。第1ワッシャメディア13では、噴霧水が第1ワッシャメディア13に付着した塵埃を洗い流して流下するとともに、有害ガスを取り込んで貯水槽18へ流入する。噴霧水は流下する過程において蒸発して空気を加湿する。
【0031】
第lワッシャメディア13に衝突しなかった噴霧水は、一部が水噴霧室12の天井面、壁面または貯水面に衝突するが、それ以外は空気流に乗って移動し、その過程において蒸発して空気を加湿するとともに、空気中の塵埃や有害ガスを取り込んで第2ワッシャメディア14に達し、第2ワッシャメディア14が塵埃や有害ガスを伴った噴霧水を捕捉する。第2ワッシャメディア14では、噴霧水が第2ワッシャメディア14に付着した塵埃を洗い流して流下するとともに、有害ガスを取り込んで貯水槽18へ流入する。噴霧水は流下する過程において蒸発して空気を加湿する。貯水槽18に滞留する循環水は、循環水供給系19を通って循環し、再び第1段ノズル16から噴霧する。
【0032】
第2ワッシャメディア14を通過した空気流は、水噴霧室12の第2段エアワッシャ部12dに流入する。この空気流に対して、清浄水もしくは純水を第2段ノズル17から噴霧すると、清浄水もしくは純水の噴霧水が空気中に残存する塵埃や有害ガスに衝突し、衝突した塵埃や有害ガスが噴霧水とともに第3ワッシャメディア15に達し、第3ワッシャメディア15が塵埃や有害ガスを伴った噴霧水を捕捉する。
【0033】
第3ワッシャメディア15では、噴霧水が第3ワッシャメディア15に付着した塵埃を洗い流して流下するとともに、有害ガスを取り込んで貯水槽18へ流入する。噴霧水は流下する過程において蒸発して空気を加湿する。
【0034】
貯水槽へ流入した清浄水もしくは純水は、補給水として循環水に合流し、循環水供給系19を通って第1段ノズル16から循環水として噴霧する。
第3ワッシャメディア15を通過した空気は、浄化して十分に加湿した清浄な空気として空気出口からエリミネータ30に流入し、エリミネータ30において空気中の水滴を除去する。エリミネータ30から流出する空気は冷却室31に導き、冷却コイル32によって冷却する。
【0035】
上述した過程において、循環水は空気の加湿に伴って減少するので、この循環水の減少量を補うとともに、循環水中の有害ガス濃度を一定値以下に維持するために必要な必要補給水量の補給水を循環水の循環系に補給する。第2段エアワッシャ部12dにおいて清浄水もしくは純水が貯水槽18へ補給水として流入するので、この水量を必要補給水量から減じ、その量を補給水として第2補給水供給管29から貯水槽18に供給する。第2補給水供給管29から供給する補給水は、純水でなく、適度に浄化した水道水等の清浄水(塩素を除去したもの)を使用する。
【0036】
図5に示す湿り空気線図は、図4に示すエアワッシャの各位置における空気の状態変化を示しており、図4および図5において、▲1▼〜▲5▼は互いに対応している。すなわち、▲1▼は第1ワッシャメディア13の直前の状態、▲2▼は第1ワッシャメディア13を通過直後の状態、▲3▼は第2ワッシャメディア14を通過直後の状態、▲4▼はエリミネータ22を通過直後の状態、▲5▼は冷却コイル32を通過直後の状態を示す。
【0037】
第1段ノズル16からの噴霧水は加熱・冷却しないので、▲1▼から▲4▼までの過程において空気は断熱変化し、湿球温度一定の線上をその相対湿度を高めるように変位する。その後、▲4▼から▲5▼までの過程では、冷却コイル32によって要求する絶対湿度まで飽和線に沿うように冷却する。ここで、▲1▼から▲4▼までの区間Bにおける乾球温度(横軸)の温度差と、▲1▼から▲1▼−▲4▼線と飽和線との交点(飽和点C)までの区間Aにおける乾球温度(横軸)の温度差との割合がエアワッシャの効率である。
(実施例1)
以下に、アンモニアガスを除去対象ガスとする場合の必要補給水量について説明する。
【0038】
ここで、ガス除去率η、必要補給水量QF(m3/s)、風量QG(m3/s)、蒸発(加湿)水量QB(m3/s)、噴霧水中のガス濃度CW(mol/m3)、第1段エアワッシャ部12cの入口空気のガス濃度CG1(mol/m3)、第2段エアッシャ部12dの入口空気のガス濃度CG2(mol/m3)とすると、循環水噴霧の場合の必要補給水量QF(m3/s)=QG・η・CGin/100CW+QBとなる。
【0039】
また、水・空気比=噴霧水量(kg/h)/空気量(kg/h)、空気量(kg/h)=風量(m3/h)×1.2(標準空気の密度kg/m3)である。
今、風量QG=9000m3/h(2.5m3/s,10800kg/h)、入口空気のガス濃度CG1=5.0×10-6mol/m3、乾球温度20℃、相対湿度45%とすると、蒸発(加湿)水量QB=0.8×10-5m3/sとなる。循環水噴霧量108リッター/分(1.8×10-3m3s)とすると、水・空気比0.6となる。図8は、水・空気比0.6におけるアンモニアガスのCW/CG1とガス除去率η1の関係を示すものである。第1段エアワッシャ部12cでの目標ガス除去率η1を85%とした場合に、必要補給水量QF=2.21×10-4m3/s(13.3リッター/分)となる。これは、水・空気比0.074に相当する。
【0040】
図9は、純水噴霧の場合における水・空気比とアンモニアガスのガス除去率η2の関係を示すものであり、第2段エアワッシャ部12dにおける噴霧水量(純水)を7リッター/分とすると、ガス除去率η2は40パーセントとなり、水・空気比0.04に相当する。
【0041】
よって、総合ガス除去率ηT=η1+(100−η1)・η2/100は91パーセントとなり、補給水供給管29による補給水量は、13.4−7.0=6.4リッター/分(全補給水の48%)となる。
【0042】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、第1段ノズルから噴霧水を空気流に対向するように噴射し、折り返すように空気を加湿するので、空気の流量に対する噴霧水の量の割合を低く設定しても、第lおよび第2ワッシャメディアによって空気中の塵埃を十分に除去するとともに効率よく空気を加湿でき、循環水供給系におけるポンプ等のアクチュエータの出力を低減することができる。
【0043】
第2段ノズルから噴霧する清浄水もしくは純水は、初期清浄度を保った状態で噴霧水となるので、第1ワッシャメディアおよび第2ワッシャメディアを通過した有害ガスに対して、その清浄性を有効に活かして高い除去性能を発揮することができる。
【0044】
第2段ノズルへの補給水を純水とし、貯水槽への補給水を清浄水とすることにより、純水のより清浄性を活かした有害ガスの除去を行ないつつ、全ての補給水を純水にしなくてもよいので、純水の使用量を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態を示すエアワッシャの平断面図である。
【図2】同エアワッシャの縦断面図である。
【図3】同エアワッシャの横断面図である。
【図4】同エアワッシャにおける噴霧水の流れを示す模式図である。
【図5】同エアワッシャにおける空気の状態変化を示す湿り空気線図である。
【図6】本発明の他の実施形態を示すエアワッシャの平断面図である。
【図7】同エアワッシャにおける噴霧水の流れを示す模式図である。
【図8】同エアワッシャの水・空気比0.6におけるアンモニアガスのCW/CG1とガス除去率η1の関係を示すグラフ図である。
【図9】同エアワッシャの純水噴霧における水・空気比とアンモニアガスのガス除去率η2の関係を示すグラフ図である。
【図10】従来のエアワッシャの構成を示す模式図である。
【符号の説明】
10 エアワッシャ
11 本体ケーシング
12 水噴霧室
12a 空気入口
12b 空気出口
12c 第1段エアワッシャ部
12d 第2段エアワッシャ部
13 第1ワッシャメディア
14 第2ワッシャメディア
15 第3ワッシャメディア
16 第1段ノズル
17 第2段ノズル
18 貯水槽
19 循環水供給系
20 吸込管
21 循環ポンプ
22 モータ
23 第1段吐出管
24 第1段分岐管
25 補給水供給系
26 第2段吐出管
27 各第2段分岐管
28 オバーフロー管
29 第2補給水供給管
30 エリミネータ
31 冷却室
32 冷却コイル
33 ドレンパン
34 ドレンパイプ[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an air conditioner in a semiconductor factory or the like, and relates to an air washer that removes dust and harmful gas from air and performs humidification with high saturation efficiency.
[0002]
[Prior art]
A conventional air washer is disclosed, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-96122, and its outline is shown in FIG. In FIG. 10, the
[0003]
In the
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
The above-mentioned
[0005]
By the way, when the harmful gas component in the air passing through the
[0006]
However, when supplying clean water to the circulating water circulating in the system and supplying the clean water to the water tank that temporarily stores the circulating water, the harmful gas components in the circulating water that stays in the water tank are Since the concentration is diluted, that is, the clean water supplied as make-up water is polluted by the harmful gas components in the water tank, the cleanliness of the replenished clean water cannot be fully utilized. In addition, when pure water is used for the entire amount of make-up water, a large amount of pure water is required, and a large-capacity pure water production apparatus is required, resulting in an increase in cost.
[0007]
The present invention has been made to solve the above-described problems, and reliably removes dust and harmful gas from the air, reduces the supply amount of pure water used as clean water, and performs humidification with high saturation efficiency. The purpose is to provide washers.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-mentioned problem, an air washer according to
[0009]
According to the above configuration, in the air washer according to
[0010]
The spray water that has reached the first washer medium is washed off dust adhering to the first washer medium, flows down, takes in harmful gas, flows into the water storage tank, evaporates in the course of flowing down, and humidifies the air.
[0011]
Part of the spray water that has not collided with the first washer medium collides with the ceiling surface, wall surface or water storage surface of the water spray chamber, but otherwise moves along with the air flow, evaporating in the process and evaporating air. While humidifying the air and taking in dust and harmful gas from the air to reach the second washer media, which catches spray water with dust and harmful gas.
[0012]
The spray water that has reached the second washer medium rinses away dust adhering to the second washer medium, flows down, takes in harmful gas, flows into the water storage tank, evaporates in the process of flowing down, and humidifies the air. The circulating water staying in the water storage tank circulates through the circulating water supply system and is sprayed again from the first stage nozzle.
[0013]
As described above, since the spray water is injected from the first-stage nozzle so as to be opposed to the air flow and the air is humidified so as to be turned back, even if the ratio of the spray water amount to the air flow rate is set low, In addition, dust and harmful gas in the air can be sufficiently removed by the second washer media, and the air can be efficiently humidified, so that the output of an actuator such as a pump in the circulating water supply system can be reduced.
[0014]
When clean replenishing water is sprayed from the second stage nozzle against the air flow that has passed through the second washer media, the spray water of clean water collides with dust and harmful gas remaining in the air, and collides with the dust and harmful gas. The gas reaches the third washer media together with the spray water, and the third washer media captures the spray water with dust and harmful gas.
[0015]
The spray water that has reached the third washer medium is washed off dust adhering to the third washer medium, flows down, takes in harmful gas, flows into the water storage tank, and evaporates in the process of flowing down to humidify the air.
[0016]
As described above, the clean water sprayed from the second-stage nozzle becomes sprayed water while maintaining the initial cleanliness, so that the harmful gas that has passed through the first washer media and the second washer media is cleaned. High removal performance can be exhibited by effectively utilizing the properties. The clean water that has flowed into the water storage tank joins the circulating water as makeup water, and is sprayed as circulating water from the first stage nozzle through the circulating water supply system. The air that has passed through the third washer medium flows out of the air outlet as clean air that is purified and sufficiently humidified.
[0017]
Make-up water supplements the amount of circulating water that decreases with humidification of the air, and supplies the necessary amount of harmful gas in the circulating water to the second-stage nozzle and the water tank to maintain the concentration of harmful gas below a certain value. Then, excess water is discharged from an overflow pipe provided at a position for maintaining the water level in the water storage tank.
[0018]
In the air washer, the makeup water supply system that supplies makeup water to the second stage nozzle supplies pure water as makeup water, thereby removing all harmful gases utilizing the cleanliness of pure water. Since the make-up water does not have to be pure water, the amount of pure water used can be reduced.
[0019]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIGS. 1 to 3, the
[0020]
In the
[0021]
Inside the
[0022]
The pressure of the spray water from the
[0023]
The pressure of the spray water from the
[0024]
At the lower part of the
[0025]
The circulating
[0026]
The makeup
[0027]
An
[0028]
An
[0029]
In the present embodiment, the
[0030]
The operation of the above configuration will be described. The air A flows from the
[0031]
Part of the spray water that has not collided with the
[0032]
The air flow that has passed through the
[0033]
In the
[0034]
The clean water or pure water that has flowed into the water storage tank joins the circulating water as makeup water, and is sprayed as circulating water from the
The air that has passed through the
[0035]
In the above process, the circulating water decreases with the humidification of the air, so the amount of circulating water is compensated for, and the required amount of replenishing water required to maintain the concentration of harmful gas in the circulating water at a certain value or less is supplemented. Supply water to the circulating water circulation system. Since clean water or pure water flows into the
[0036]
The psychrometric chart shown in FIG. 5 shows a change in the state of air at each position of the air washer shown in FIG. 4. In FIGS. 4 and 5, (1) to (5) correspond to each other. That is, (1) is the state immediately before passing through the
[0037]
Since the spray water from the
(Example 1)
Hereinafter, the required amount of makeup water when ammonia gas is used as the removal target gas will be described.
[0038]
Here, the gas removal rate η, the required make-up water quantity Q F (m 3 / s), the air quantity Q G (m 3 / s), the evaporation (humidification) water quantity Q B (m 3 / s), and the gas concentration C in the spray water W (mol / m 3 ), gas concentration C G1 (mol / m 3 ) of inlet air of the first-stage
[0039]
Water / air ratio = spray water volume (kg / h) / air volume (kg / h), air volume (kg / h) = air volume (m 3 /h)×1.2 (standard air density kg / m) 3 ).
Now, the air volume Q G = 9000m 3 /h(2.5m 3 / s, 10800kg / h), the gas concentration of the inlet air C G1 = 5.0 × 10 -6 mol /
[0040]
FIG. 9 shows the relationship between the water / air ratio and the gas removal rate η 2 of ammonia gas in the case of pure water spraying. The amount of sprayed water (pure water) in the second-stage
[0041]
Thus, overall gas removal rate η T = η 1 + (100 -η 1) ·
[0042]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the spray water is injected from the first-stage nozzle so as to face the air flow, and the air is humidified so as to be turned back. Even if it is set low, the dust in the air can be sufficiently removed by the first and second washer media and the air can be efficiently humidified, and the output of an actuator such as a pump in the circulating water supply system can be reduced.
[0043]
Since the clean water or pure water sprayed from the second stage nozzle becomes spray water while maintaining the initial cleanliness, the cleanliness of the harmful gas passing through the first washer media and the second washer media is improved. High removal performance can be exhibited by making effective use of it.
[0044]
Pure water is used as the make-up water for the second stage nozzle and clean water is used as the make-up water for the water storage tank. Since it is not necessary to use water, the amount of pure water used can be reduced.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan sectional view of an air washer showing an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a vertical sectional view of the air washer.
FIG. 3 is a cross-sectional view of the air washer.
FIG. 4 is a schematic diagram showing a flow of spray water in the air washer.
FIG. 5 is a psychrometric chart showing a state change of air in the air washer.
FIG. 6 is a plan sectional view of an air washer showing another embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a schematic diagram showing a flow of spray water in the air washer.
FIG. 8 is a graph showing a relationship between C W / C G1 of ammonia gas and a gas removal rate η 1 of the air washer at a water / air ratio of 0.6.
FIG. 9 is a graph showing a relationship between a water / air ratio and a gas removal rate η 2 of ammonia gas in the pure water spray of the air washer.
FIG. 10 is a schematic diagram showing a configuration of a conventional air washer.
[Explanation of symbols]
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