JP3538123B2 - Stacked multi-chip semiconductor device - Google Patents

Stacked multi-chip semiconductor device

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JP3538123B2
JP3538123B2 JP2000204078A JP2000204078A JP3538123B2 JP 3538123 B2 JP3538123 B2 JP 3538123B2 JP 2000204078 A JP2000204078 A JP 2000204078A JP 2000204078 A JP2000204078 A JP 2000204078A JP 3538123 B2 JP3538123 B2 JP 3538123B2
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宗博 山田
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    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は情報機器等に用いられる
半導体装置に係り、特に、大容量でかつ接続部の高信頼
度を確保することのできる積層マルチチップ半導体装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device used for information equipment and the like, and more particularly to a laminated multi-chip semiconductor device having a large capacity and a high reliability of a connection portion.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体メモリは大型コンピュータ、ワー
クステーション、パーソナルコンピュータ、ワードプロ
セッサ等の情報機器に多量に使用されており、今後これ
らの機器の高性能化、多機能化、製品拡大がさらに進む
と予想されることから、ここで用いられる半導体メモリ
の需要も加速度的に増大して行くものと考えられる。こ
の場合、大容量のメモリを必要とする装置では、機器内
で半導体メモリの占める実装面積が益々増大する傾向に
あり、機器の小型化、軽量化を阻害する最大の要因とな
っている。
2. Description of the Related Art Semiconductor memories are used in large quantities in information devices such as large computers, workstations, personal computers, word processors, etc., and it is expected that these devices will have higher performance, more functions, and more products in the future. Therefore, it is considered that the demand for the semiconductor memory used here is also increasing at an accelerating rate. In this case, in a device that requires a large-capacity memory, the mounting area occupied by the semiconductor memory in the device tends to increase more and more, which is the biggest factor that hinders miniaturization and weight reduction of the device.

【0003】この問題を解決する方法として、従来から
強力に推し進められているチップ内素子の高集積化によ
り1チップ当りのメモリ容量を増大する方法、または、
パッケージされたメモリモジュールをプリント配線板に
高密度に実装する方法、あるいは、特開昭 59‐180386
号公報及び特開昭 61‐101067号公報記載のように、複
数個の半導体チップを厚さ方向に積み重ねて高密度化を
図る方法がある。
As a method of solving this problem, a method of increasing the memory capacity per chip, which has been strongly promoted in the past, by increasing the integration of elements in the chip, or
A method of mounting a packaged memory module on a printed wiring board at high density, or
As described in Japanese Patent Application Laid-Open No. H06-101067 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-101067, there is a method of stacking a plurality of semiconductor chips in a thickness direction to increase the density.

【0004】これらの方法のうち、チップ内素子を高密
度化する方法は、従来技術の延長では解決できない新し
い局面にきており、新技術、新生産設備の開発が必要に
なってきている。また、プリント配線板に高密度実装す
る方法は、モジュールの小型化、プリント配線板への両
面実装、ZIP (zigzag in‐line‐package)部品の採用な
どが行われているが、1個のチップを1パッケージとし
たモジュールを使用する限りでは、これ以上の大幅な高
密度化は困難な状況にある。
[0004] Among these methods, the method of increasing the density of elements in a chip has come to a new stage which cannot be solved by extension of the conventional technology, and it is necessary to develop new technology and new production equipment. In addition, high-density mounting on printed wiring boards involves miniaturization of modules, double-sided mounting on printed wiring boards, and the use of ZIP (zigzag in-line-package) components. It is difficult to achieve further higher densification as long as a module in which a single package is used is used.

【0005】これに対し、複数個の IC チップを厚さ方
向に積み重ねる方法が極めて有利であり、これまで、種
々の提案がなされている。
On the other hand, a method of stacking a plurality of IC chips in the thickness direction is extremely advantageous, and various proposals have been made so far.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報における開示を含めこれまでに提示されている方法で
は、各層の端子を密着して接続する構造であるため、接
続の信頼性が十分に確保できないという不具合点があっ
た。
However, the methods proposed so far, including the disclosure in the above publication, have a structure in which the terminals of each layer are connected in close contact with each other, so that the reliability of the connection cannot be sufficiently ensured. There was a problem.

【0007】本発明の目的は、上記従来技術の有してい
た課題を解決して、接続部の高信頼性を確保した大容量
のマルチチップ半導体装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a large-capacity multi-chip semiconductor device which solves the above-mentioned problems of the prior art and secures high reliability of a connection portion.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的は、フィルムキ
ャリアテープに半導体チップを電気的に接続したテープ
キャリアパッケージを、少なくともその一面に接続端子
を有するコネクタ枠を介して複数個積層接続した積層マ
ルチチップ半導体装置において、上記コネクタ枠の少な
くとも一面に上記接続端子厚さよりも厚く絶縁膜を形成
したマルチチップ半導体装置とすること、あるいは、上
記コネクタ枠の少なくとも一面の端子の一部に突起を形
成したマルチチップ半導体装置とすること、あるいは、
フィルムキャリアテープに半導体チップを電気的に接続
したテープキャリアパッケージを少なくともその一面に
配線パターンを有するコネクタ枠を介して複数個積層接
続した積層マルチチップ半導体装置において、上記コネ
クタ枠の一端をコネクタ枠端部に露出させた構造とした
積層マルチチップ半導体装置とすること、あるいは、少
なくとも一面に配線パターンを有するフィルムキャリア
テープに半導体チップを電気的に接続したテープキャリ
アパッケージをコネクタ枠を介して複数個積層接続した
積層マルチチップ半導体装置において、上記フィルムキ
ャリアパッケージのリードを該コネクタ枠端子の端部面
と同一か、またはそれ以上に露出させたテープキャリア
パッケージを有する構成とした積層マルチチップ半導体
装置とすることによって達成することができる。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a multi-layered tape carrier package comprising a plurality of tape carrier packages in which a semiconductor chip is electrically connected to a film carrier tape through a connector frame having connection terminals on at least one surface thereof. In the chip semiconductor device, a multi-chip semiconductor device in which an insulating film is formed thicker than the connection terminal thickness on at least one surface of the connector frame, or a projection is formed on a part of the terminal on at least one surface of the connector frame A multi-chip semiconductor device, or
In a laminated multi-chip semiconductor device in which a plurality of tape carrier packages in which semiconductor chips are electrically connected to a film carrier tape are laminated and connected via a connector frame having a wiring pattern on at least one surface thereof, one end of the connector frame is connected to one end of the connector frame. A multi-layer semiconductor device having a structure exposed to the outside, or a plurality of tape carrier packages in which semiconductor chips are electrically connected to a film carrier tape having a wiring pattern on at least one surface via a connector frame. In the connected laminated multi-chip semiconductor device, there is provided a laminated multi-chip semiconductor device having a configuration in which a tape carrier package in which the lead of the film carrier package is the same as or more than the end surface of the connector frame terminal is exposed. Especially It can be achieved me.

【0009】[0009]

【作用】上記構成とすることによって、各層間の接合は
んだ厚さをある一定厚さ以上に確保するとともに、接続
部に十分なはんだを供給することができ、接続部の接続
の高信頼性を確保することができる。
According to the above configuration, the thickness of the joint solder between the layers can be secured to a certain thickness or more, and a sufficient amount of solder can be supplied to the connection portion. Can be secured.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明マルチチップ半導体装置の構成
について参考例及び実施例によって具体的に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The structure of a multichip semiconductor device according to the present invention will be specifically described below by reference examples and examples.

【0011】マルチチップ半導体装置の参考例を図1〜
12により、本発明の一実施例を図13〜16により説明す
る。なお、各図において同一符号は同一内容を示し、ま
た、テープキャリアパッケージ(以下、TCP と略称する)
及びコネクタ枠を複数段積み重ねた図においては、下段
から上段に、各符号数字の後に a、b、c、d 等の記号を
付して区分した。
Reference examples of a multi-chip semiconductor device are shown in FIGS.
12, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the drawings, the same reference numerals indicate the same contents, and a tape carrier package (hereinafter abbreviated as TCP).
In the figures in which the connector frames are stacked in a plurality of stages, the symbols are affixed after the reference numerals, such as a, b, c, and d, from the bottom to the top.

【0012】まず、図1は、TCP 1とコネクタ枠2とを
交互に積み重ね、電気的に接続した本発明マルチチップ
半導体装置6をはんだ5によってマザーボード4に接続
したモジュールの断面を示した図である。すなわち、コ
ネクタ枠2と TCP 1とが4段交互に積み重ねられ、最
上層に蓋を付され、はんだによって接合されてマルチチ
ップ半導体装置6となり、このマルチチップ半導体装置
6がはんだ5によってマザーボード4上に配置接続され
ていることを示す。
First, FIG. 1 is a diagram showing a cross section of a module in which a multi-chip semiconductor device 6 of the present invention, in which TCPs 1 and connector frames 2 are alternately stacked and electrically connected, is connected to a motherboard 4 by solder 5. is there. That is, the connector frame 2 and the TCP 1 are alternately stacked in four layers, the top layer is covered, and joined by solder to form a multi-chip semiconductor device 6, which is mounted on the mother board 4 by the solder 5. To be connected.

【0013】次に、図2に TCP 1の平面図、図3に図
2 A‐A 部の断面を示す。これらの図において、半導体
チップ10の上面にバンプ11が形成されており、該バンプ
11にフィルムキャリアテープ12上に形成されたインナー
リード13が接続されており、フィルムキャリアテープ12
の基材の一部で構成されるサポートリング14がリードを
保持するとともに、インナーリード13からアウターリー
ド15へのリードピッチを広げるための配線エリアの役目
を有している。
Next, FIG. 2 shows a plan view of the TCP 1, and FIG. 3 shows a cross section taken along the line AA of FIG. In these figures, a bump 11 is formed on the upper surface of a semiconductor chip 10 and the bump 11
An inner lead 13 formed on the film carrier tape 12 is connected to the
The support ring 14 composed of a part of the base material holds the lead and has a role of a wiring area for expanding a lead pitch from the inner lead 13 to the outer lead 15.

【0014】半導体チップ10の表面及びインナーリード
ボンディング部を含めサポートリング部14にかけて保護
コート樹脂16が塗布されている。短辺方向に配置される
リードにはチップ選択バンプ17につながるチップ選択リ
ード18、その他のバンプ11につながる共通リード15、さ
らにバンプとはつながらないダミーリード19がある。ま
た、長辺方向のサポートリング14上には仮固定リード20
が配置されている。
A protective coating resin 16 is applied to the surface of the semiconductor chip 10 and the support ring portion 14 including the inner lead bonding portion. The leads arranged in the short side direction include a chip selection lead 18 connected to the chip selection bump 17, a common lead 15 connected to other bumps 11, and a dummy lead 19 not connected to the bump. A temporary fixed lead 20 is provided on the support ring 14 in the long side direction.
Is arranged.

【0015】次に、図4にコネクタ枠の平面図、図5に
コネクタ枠の一部の平面拡大図、図6に図5の側面図、
図7に図5の A‐A 部の断面図を示す。この図4〜7に
おいて、基材25の表裏面には表面端子26と裏面端子27と
が形成されており、表裏面の端子は表裏のランド28を有
する端面スルーホール29によって電気的に接続されてい
る。端子の内側部分には表面スペーサ30、裏面スペーサ
31が形成されている。また、長手方向の基材25面上には
仮固定用端子32が配置されている。
Next, FIG. 4 is a plan view of the connector frame, FIG. 5 is an enlarged plan view of a part of the connector frame, FIG. 6 is a side view of FIG.
FIG. 7 is a sectional view taken along the line AA in FIG. In FIGS. 4 to 7, front and rear terminals 26 and 27 are formed on the front and back surfaces of the base material 25, and the terminals on the front and back surfaces are electrically connected by end through holes 29 having lands 28 on the front and back surfaces. ing. Front spacer 30 and back spacer on the inside of the terminal
31 are formed. A temporary fixing terminal 32 is disposed on the surface of the base material 25 in the longitudinal direction.

【0016】図8は接続部の一部拡大断面図である。こ
の図において、第1段目のコネクタ枠2aには表面端子
26a、裏面端子27aがが形成され、その端子の上面には表
面スペーサ30a、裏面スペーサ31aが形成されている。表
面端子26aと裏面端子27aとは端面スルーホール29aによ
って接続されている。第2段目のコネクタ枠2bも第1
段目のコネクタ枠2aと同じ構造である。TCP 1aのア
ウターリード15aは表面スペーサ30aと裏面スペーサ31b
とに挾まれた形で表面端子26aと裏面端子27bとの間を通
り、コネクタ枠の端部に達している。また、はんだ33a
は端面スルーホール29a、表面端子26a、裏面端子27bを
濡らし接続部全体に充填されている。
FIG. 8 is a partially enlarged sectional view of the connecting portion. In this figure, the first-stage connector frame 2a has surface terminals.
26a and a back surface terminal 27a are formed, and a top surface spacer 30a and a back surface spacer 31a are formed on the upper surface of the terminal. The front terminal 26a and the back terminal 27a are connected by an end face through hole 29a. The second-stage connector frame 2b is also the first
It has the same structure as the connector frame 2a of the tier. The outer lead 15a of the TCP 1a has a front spacer 30a and a rear spacer 31b.
It passes between the front terminal 26a and the back terminal 27b in such a manner as to be sandwiched between them and reaches the end of the connector frame. Also, solder 33a
Wets the end face through hole 29a, the front surface terminal 26a, and the back surface terminal 27b, and is filled in the entire connection portion.

【0017】マザーボード4には基板端子34が形成され
ており、該基板端子34の上には基板スペーサ35が形成さ
れている。基板スペーサ35とコネクタ枠2aの裏面スペ
ーサ31aとは対向して接しており、これらのスペーサに
よって一定の間隔を保持された基板端子34とコネクタ枠
2aの裏面端子27aとの間にははんだ5が充填されてい
る。
A substrate terminal 34 is formed on the motherboard 4, and a substrate spacer 35 is formed on the substrate terminal 34. The board spacer 35 and the backside spacer 31a of the connector frame 2a are opposed to and in contact with each other, and the solder 5 is provided between the board terminal 34 and the backside terminal 27a of the connector frame 2a, which are kept at a fixed interval by these spacers. Is filled.

【0018】図9はマルチチップ半導体装置6の動作を
説明するための回路ブロック図である。この図におい
て、半導体チップ10a、10b、10c、10d にはアドレス端
子40、データ入出力端子41、ライトイネーブル端子42、
アウトイネーブル端子43、電源端子44、グランド端子4
5、チップ選択端子46a、46b、46c、46d が電気的に接続
されている。これらの端子の内、チップ選択端子46a〜4
6dはそれぞれの半導体チップ10a〜10dに独立に接続され
ているが、その他の端子は半導体チップ10a〜10dに共通
に接続されている。なお、図9においてアドレス端子40
及びデータ入力端子41は1本のラインで示してあるが、
実際の配線では複数本で構成されている。これに対し、
ライトイネーブル端子42、アウトイネーブル端子43、電
源端子44、グランド端子45及びチップ選択端子46a〜46d
は実際の配線ではそれぞれ各1本の場合が多い。
FIG. 9 is a circuit block diagram for explaining the operation of the multi-chip semiconductor device 6. In this figure, semiconductor chips 10a, 10b, 10c, 10d have address terminals 40, data input / output terminals 41, write enable terminals 42,
Out enable terminal 43, power supply terminal 44, ground terminal 4
5. The chip selection terminals 46a, 46b, 46c, 46d are electrically connected. Of these terminals, chip select terminals 46a-4
6d is independently connected to each of the semiconductor chips 10a to 10d, but the other terminals are commonly connected to the semiconductor chips 10a to 10d. Note that in FIG.
And the data input terminal 41 is shown by one line,
Actual wiring is composed of a plurality of wires. In contrast,
Write enable terminal 42, out enable terminal 43, power supply terminal 44, ground terminal 45, and chip selection terminals 46a to 46d
Are often one each in actual wiring.

【0019】この回路において、まず半導体チップ10へ
のデータの書き込みはアドレス線とデータ線に必要な情
報を電気信号として与えておき、書き込み許可信号線を
onにしておいて、情報を記憶させたいチップのチップ
選択端子を on にすることにより、選択されたチップの
希望のアドレスに所定の情報が記憶される。他の3個の
チップは、それぞれのチップ選択端子が off に保たれ
ているため、チップ内部の情報の変化はない。同様に、
チップからの情報の読み出しは、情報を取り出したいア
ドレスを示す信号をアドレス線に与えておき、データ入
出力許可端子をon にしておいて、情報を取り出したい
チップ選択端子を on にすることによって、選択したチ
ップの希望するアドレスからの情報がデータ入出力端子
に出力される。
In this circuit, first, when writing data to the semiconductor chip 10, necessary information is given as electrical signals to address lines and data lines, and a write enable signal line is
By turning on the chip selection terminal of the chip in which information is to be stored while it is on, predetermined information is stored at a desired address of the selected chip. The other three chips have their chip selection terminals kept off, so that the information inside the chips does not change. Similarly,
To read information from a chip, a signal indicating an address from which information is to be extracted is given to an address line, a data input / output permission terminal is turned on, and a chip selection terminal from which information is to be extracted is turned on. Information from a desired address of the selected chip is output to the data input / output terminal.

【0020】図10はチップ選択端子部の斜視図である。
この図において、マザーボード4上にはチップ選択端子
50a〜50dが、また、コネクタ枠2上にはチップ選択端子
51a〜51dが形成されている。また、TCP 1 側には各段の
半導体チップ10の共通位置にそれぞれのチップ選択バン
プ17a〜17dが形成されており、これらのバンプ17a〜17d
に接続して各段によってパターン形状の異なるチップ選
択リード18a〜18dが形成されており、コネクタ枠2のチ
ップ選択端子51に接続されている。TCP 1のフィルム上
にはチップ上のバンプと接続されない3個のダミーリー
ド19が形成されており、このダミーリード19はコネクタ
枠2の端子と接続されている。
FIG. 10 is a perspective view of the chip selection terminal portion.
In this figure, a chip selection terminal is provided on the motherboard 4.
50a to 50d, and a chip selection terminal on connector frame 2
51a to 51d are formed. Also, on the TCP 1 side, respective chip selection bumps 17a to 17d are formed at common positions of the semiconductor chips 10 of each stage, and these bumps 17a to 17d are formed.
And chip selection leads 18a to 18d having different pattern shapes are formed by each stage, and are connected to the chip selection terminals 51 of the connector frame 2. Three dummy leads 19 that are not connected to the bumps on the chip are formed on the TCP 1 film, and the dummy leads 19 are connected to the terminals of the connector frame 2.

【0021】図11、12 はコネクタ枠端子と TCP 1 リー
ド及びマルチチップ半導体装置6とマザーボード4との
接続状態を示す接続部の拡大断面図で、図11は共通端子
部(図9の A‐A 部位置)、図12 は第4段目の半導体10d
がマザーボードと接続している(図9の B‐B 位置)チッ
プ選択位置の接続部の拡大断面図である。図11 におい
て、マザーボード4の表面には基板端子34が形成されて
おり、基板端子34上には基板スペーサ35が形成されてい
る。コネクタ枠2aとコネクタ枠2bとはTCP1aのアウタ
ーりード15aを挾んではんだによって接続されている。
同様に、コネクタ枠2bとコネクタ枠2c、コネクタ枠2
cとコネクタ枠2d、コネクタ枠2dと蓋3もそれぞれの
TCP 1 のアウターリード15を挾み込んではんだ33によっ
て接続されている。コネクタ枠2aとマザーボード4と
ははんだ5によって接続されている。
FIGS. 11 and 12 are enlarged sectional views of a connection portion showing a connection state between the connector frame terminal and the TCP 1 lead and between the multi-chip semiconductor device 6 and the motherboard 4. FIG. 11 shows a common terminal portion (A-line in FIG. 9). FIG. 12 shows the fourth stage semiconductor 10d.
FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view of a connection portion at a chip selection position connected to a motherboard (a position BB in FIG. 9). In FIG. 11, a substrate terminal 34 is formed on the surface of the motherboard 4, and a substrate spacer 35 is formed on the substrate terminal 34. The connector frame 2a and the connector frame 2b are connected by solder with the outer lead 15a of the TCP 1a interposed therebetween.
Similarly, connector frame 2b, connector frame 2c, connector frame 2
c and connector frame 2d, connector frame 2d and lid 3
The outer leads 15 of TCP 1 are sandwiched and connected by solder 33. The connector frame 2 a and the motherboard 4 are connected by solder 5.

【0022】図12において、チップ選択バンプ17dはチ
ップ選択リード18dと接続されており、また、各コネク
タ枠間はダミーリード19を間に挾んではんだ33a〜33dに
よってつながっており、さらにマザーボード4上に配置
されたチップ選択基板端子50dと電気的に接続される。
これに対し、第1段〜第3段のチップ選択バンプ17a〜1
7cはこの断面位置ではリードとはつながっていない。
In FIG. 12, a chip selection bump 17d is connected to a chip selection lead 18d, and the connector frames are connected by solders 33a to 33d with a dummy lead 19 interposed therebetween. Is electrically connected to the chip selection substrate terminal 50d arranged at the same time.
On the other hand, the first to third chip select bumps 17a to 17a
7c is not connected to the lead at this cross-sectional position.

【0023】このような構成において、本発明になるマ
ルチチップ半導体装置の各部の詳細構造について以下に
説明する。
In such a configuration, the detailed structure of each part of the multichip semiconductor device according to the present invention will be described below.

【0024】まず、図1において、マザーボード4は単
層及び多層の配線を有するプリント配線板であって、そ
の表面に本図に示すマルチチップ半導体装置6と共にそ
の他の半導体部品及び一般電気部品を搭載したもので
(配線及びその他の部品は図示せず)、入出力、演算、記
憶、表示などの機能を備えた電子デバイスの一部であ
る。
First, in FIG. 1, a mother board 4 is a printed wiring board having single-layer and multi-layer wirings, and has a multi-chip semiconductor device 6 shown in FIG. With
(Wiring and other components are not shown), which is a part of an electronic device having functions such as input / output, calculation, storage, and display.

【0025】図2、3において、半導体チップ10はシリ
コンからなり内部にメモリ素子を形成したもので、4M
ビットの記憶容量を有するダイナミック・ランダム・ア
クセスメモリである。半導体チップ10の表面には信号の
入出力用の端子としてめっき法によって形成された金バ
ンプ11及び17が配置されている。
2 and 3, the semiconductor chip 10 is made of silicon and has a memory element formed therein.
It is a dynamic random access memory having a bit storage capacity. On the surface of the semiconductor chip 10, gold bumps 11 and 17 formed by plating as signal input / output terminals are arranged.

【0026】フィルムキャリアテープ12はポリイミドフ
ィルムに銅箔を固着してその銅箔をパターニングしてリ
ードとしたもので、パターニング後のリード表面にはニ
ッケルを下地として金めっきを施してある。
The film carrier tape 12 is formed by fixing copper foil to a polyimide film and patterning the copper foil to form a lead. The lead surface after patterning is gold-plated with nickel as a base.

【0027】半導体チップ10上のバンプ11及び17にフィ
ルムキャリアテープに形成したインナーリード13を位置
合わせし、インナーリード13の上から加熱ブロックを押
し当てて、金‐金の熱圧着ボンディング法によって接続
する。
The inner leads 13 formed on the film carrier tape are aligned with the bumps 11 and 17 on the semiconductor chip 10, and a heating block is pressed from above the inner leads 13 to be connected by a gold-gold thermocompression bonding method. I do.

【0028】ここで、半導体チップ10上のバンプ11及び
17の形成は特にめっき法による形成に限定されるもので
はなく、予め別工程で形成しておいた金の小片を固着さ
せること、あるいはワイヤボンディングの原理を用いて
金線をバンプ11及び17の形状に熱圧着させることなどの
方法も適用できる。また、材料も金に限定されるもので
はなく、銅、ニッケル及びこれらの合金であってもよ
い。
Here, the bumps 11 on the semiconductor chip 10 and
The formation of 17 is not particularly limited to the formation by the plating method, but it is possible to fix a small piece of gold formed in a separate step in advance, or to apply a gold wire to the bump 11 A method such as thermocompression bonding to a shape can also be applied. The material is not limited to gold, but may be copper, nickel, or an alloy thereof.

【0029】また、フィルムキャリアテープ上のリード
の表面処理についても、金めっきに限定されるものでは
なく、すずめっき、はんだめっき等も十分適用可能であ
る。また、リードの材質も銅に限定されるものではな
く、銅合金、鉄、鉄合金等も適用することができる。
The surface treatment of the leads on the film carrier tape is not limited to gold plating, and tin plating, solder plating, etc. can be applied sufficiently. Further, the material of the lead is not limited to copper, and copper alloy, iron, iron alloy, and the like can be applied.

【0030】また、保護コートは、チップ10の表面及び
インナーリード13部を保護するもので、本参考例ではエ
ポキシ系の樹脂を用いた。なお、チップ上のバンプ11及
び17の配置は図2においては短辺上のものを示したが、
長辺上に配置されるもの、四辺に配置されるもの、チッ
プの中央部に配置されるものも当然含まれる。
The protective coat protects the surface of the chip 10 and the inner lead 13 and is made of epoxy resin in this embodiment. Although the arrangement of the bumps 11 and 17 on the chip is shown on the short side in FIG. 2,
Naturally, those arranged on the long sides, those arranged on the four sides, and those arranged at the center of the chip are also included.

【0031】図2において、長辺上に形成された仮固定
用リードは TCP 1 とコネクタ枠2を位置合わせして固
定するときの仮接続用に用いるものである。すなわち、
TCP1 とコネクタ枠2を複数段積層接続する工程におい
て、まず一組の TCP 1 とコネクタ枠2とを仮固定して
コネクタ枠付き TCP (以下、枠付き TCP と略称する)と
するが、このとき、コネクタ枠2と TCP 1 との位置合
わせはそれぞれの上に設けた位置合わせマーク(図示せ
ず)を用いて行い、TCP 1 の上記仮固定用リードをコネ
クタ枠の仮固定用端子に熱圧着する。
In FIG. 2, the temporary fixing leads formed on the long sides are used for temporary connection when the TCP 1 and the connector frame 2 are aligned and fixed. That is,
In the step of stacking and connecting TCP1 and connector frame 2 in a plurality of stages, first, a set of TCP 1 and connector frame 2 are temporarily fixed to form a TCP with a connector frame (hereinafter abbreviated as TCP with a frame). The alignment between the connector frame 2 and the TCP 1 is performed using an alignment mark (not shown) provided on each of them, and the temporary fixing lead of the TCP 1 is thermocompression-bonded to the temporary fixing terminal of the connector frame. I do.

【0032】図4〜図8に示すコネクタ枠2は、TCP 1
を複数個積層接続するときの各 TCP1 のリード間を接続
し、同時に TCP 1 間の間隔を一定に保つためのもので
ある。
The connector frame 2 shown in FIGS.
This is to connect the leads of each TCP1 when multiple layers are connected, and to keep the interval between TCP1s constant at the same time.

【0033】図4〜図8において、コネクタ枠2は、ガ
ラスエポキシ基材25の両面銅張積層板を用いて表裏にパ
ターンを形成して接続端子とし、該表裏パターンを接続
するためのスルーホールを形成し、接続端子の一部にス
ペーサとなる樹脂層をスクリーン印刷法によって形成し
た後、金型により図4に示した形状に外形の打ち抜きを
行う。表裏パターン及びスルーホールは銅めっきの上に
はんだめっき処理を施す。上記の打ち抜きに際しては、
スルーホールの中心線に沿って切断するように金型を設
計することにより、スルーホールの内壁の一部を露出さ
せた端面スルーホール29の形成を行う。仮固定用端子
は、上述したように、TCP 1 との仮接続に用いる。
In FIGS. 4 to 8, the connector frame 2 is formed as a connection terminal by forming a pattern on the front and back using a double-sided copper-clad laminate of a glass epoxy base material 25, and a through hole for connecting the front and back pattern. Is formed, and a resin layer serving as a spacer is formed on a part of the connection terminal by a screen printing method. Then, the outer shape is punched into a shape shown in FIG. The front and back patterns and through holes are subjected to solder plating on copper plating. In the above punching,
By designing the mold so as to cut along the center line of the through hole, the end face through hole 29 exposing a part of the inner wall of the through hole is formed. The temporary fixing terminal is used for temporary connection with TCP 1 as described above.

【0034】本参考例においてはコネクタ枠2にガラス
エポキシ基材25の両面銅張積層板を用いたが、コネクタ
枠2の材質はこれに限定されるものではなく、その他の
有機樹脂あるいはセラミック等の無機系材料を用いるこ
ともできる。
In this embodiment, a double-sided copper-clad laminate of a glass epoxy base material 25 is used for the connector frame 2, but the material of the connector frame 2 is not limited to this, and other materials such as organic resin or ceramic may be used. Can be used.

【0035】スペーサ30及び31は積層接続時のはんだ接
続層の厚さを確保し、かつ、接続部のはんだが TCP 1
リードを伝わって内部に侵入しないようにするためのも
ので、はんだ付け温度に耐えるエポキシ系の樹脂を用い
ているが、これもエポキシ系樹脂に限定されるものでは
なく、その他の有機樹脂あるいはセラミック等の無機系
材料を用いることができる。また、表裏パターン形成時
に、図に示すスペーサ位置のパターンの一部を凸状にめ
っきあるいはエッチング処理によって形成することも可
能である。表裏パターンの内スペーサで覆われた部分以
外の面が接続に寄与する接続端子となる。コネクタ枠上
の端子表面にははんだめっきを施しているが、これもは
んだに限るものではなく、金、すずあるいはスルーホー
ルを形成したときの銅であってもよい。
The spacers 30 and 31 ensure the thickness of the solder connection layer at the time of lamination connection, and the solder at the connection portion is TCP 1
Epoxy resin is used to prevent solder from penetrating inside through the leads.Epoxy resin that can withstand the soldering temperature is used, but this is not limited to epoxy resin. And other inorganic materials. Further, when forming the front and back patterns, it is also possible to form a part of the pattern at the spacer position shown in the figure in a convex shape by plating or etching. The surface of the front and back patterns other than the portion covered by the spacer becomes the connection terminal contributing to the connection. Although the surface of the terminal on the connector frame is plated with solder, it is not limited to solder, but may be gold, tin, or copper when a through hole is formed.

【0036】図2及び図10において、マルチチップ半導
体装置6上のチップ選択用バンプ17は、チップ10上の定
位置に配置されるため、チップの種類は積層される段に
影響されることなく一種類でよい。また、コネクタ枠2
についても各段とも同じパターン位置のものでよく、こ
れも一種類でよい。これに対し、フィルムキャリアテー
プ12は、各段に対してパターン形状が異なるため、それ
ぞれのパターンに応じた4種類のものを用意している。
TCP 1 上のダミーリード19は、図12に示すように、チッ
プ選択端子部の各段のコネクタ枠2間の接続を行うため
のものである。
In FIGS. 2 and 10, the chip selecting bumps 17 on the multi-chip semiconductor device 6 are arranged at fixed positions on the chip 10, so that the type of the chip is not affected by the stacked stages. One type is sufficient. Also, connector frame 2
May be at the same pattern position in each stage, and may be of one type. On the other hand, since the film carrier tape 12 has a different pattern shape for each stage, four types are prepared according to the respective patterns.
As shown in FIG. 12, the dummy leads 19 on the TCP 1 are used to make connections between the connector frames 2 at each stage of the chip selection terminal portion.

【0037】図1及び図10に示す蓋は、内部のくり抜き
のない印刷配線板を用いることによってマルチチップ半
導体装置6をマザーボード4に実装したときの内部保護
を行うと共に、表面に形成した端子の面積を広くとるこ
とによって、4段積層した時点での電気的特性検査を容
易に行えるようにしたものである。
The lid shown in FIGS. 1 and 10 protects the interior of the multi-chip semiconductor device 6 when it is mounted on the motherboard 4 by using a printed wiring board having no internal hollow, and also has terminals formed on the surface. By increasing the area, it is possible to easily perform the electrical characteristic inspection at the time of stacking four layers.

【0038】ここで、TCP 1 とコネクタ枠2との積層接
続方法について説明する。TCP 1 とコネクタ枠2との積
層接続は、まず各段の TCP 1 とコネクタ枠2とを位置
合わせ、仮固定して枠付き TCP 1 とした後、該枠付き
TCP 1 を4段位置合わせし、さらに最上層に蓋を位置合
わせして積層接続する。ここで、枠付き TCP 1 の仮固
定には、パルスヒート方式の加熱圧着方式によって、コ
ネクタ枠2の仮固定用端子32と TCP 1 の仮固定用リー
ド20を圧着する。この場合、コネクタ枠2の端子にはん
だめっきを、TCP 1 のりードに金めっきを用いているた
め、フラックスの使用なしではんだリフロー接続が可能
であり、この工程を経た後の洗浄が不要であるという利
点がある。なお、本参考例では熱圧着による仮固定につ
いて説明したが、接着剤による固定、機械的挾みつけに
よる固定等の方法も適用可能である。
Here, a method of laminating the TCP 1 and the connector frame 2 will be described. The stacked connection between the TCP 1 and the connector frame 2 is performed by first aligning the TCP 1 and the connector frame 2 in each stage, temporarily fixing the TCP 1 with the frame, and then forming the TCP 1 with the frame.
TCP 1 is aligned in four steps, and the lid is aligned with the uppermost layer, and stacked and connected. Here, for the temporary fixing of the framed TCP 1, the temporary fixing terminal 32 of the connector frame 2 and the temporary fixing lead 20 of the TCP 1 are crimped by a heating and pressure bonding method of a pulse heating method. In this case, since solder plating is used for the terminals of the connector frame 2 and gold plating is used for the TCP 1 paste, solder reflow connection is possible without using flux, and cleaning after this process is unnecessary. There is an advantage that there is. In the present embodiment, temporary fixing by thermocompression bonding has been described, but a method of fixing with an adhesive, fixing by mechanical clamping, or the like is also applicable.

【0039】また、この枠付き TCP 1 の4個と最上層
の蓋の仮固定には、第1番目から順次一段づつ位置合わ
せし、接着剤で仮固定して行く方法をとった。この場
合、各接続層の厚さが一定になるように、接着剤の硬化
時に上段の枠付き TCP 1 を一定荷重で押し付ける方法
をとった。枠付き TCP 1 4個と最上層の蓋を位置合わ
せし、仮固定した後、接続部にはんだ付け用のフラック
スを塗布し、端面スルーホール29部を溶融はんだに浸漬
することによって接続部のはんだ付けを行った。
In order to temporarily fix the four TCPs 1 with the frame and the lid on the uppermost layer, a method was adopted in which the steps were sequentially aligned one by one from the first position and temporarily fixed with an adhesive. In this case, a method was used in which the upper framed TCP 1 was pressed with a constant load when the adhesive was cured so that the thickness of each connection layer was constant. After aligning the four TCP1s with the frame and the lid on the top layer and temporarily fixing them, apply a soldering flux to the joints and immerse the end face through-holes 29 in the molten solder to solder the joints. Was attached.

【0040】このようにしてはんだ接続したマルチチッ
プ半導体装置6をはんだ印刷を施したマザーボード4上
に位置合わせ配置し、ベーパーリフローソルダリングに
よりはんだ接続を行ってマルチチップ半導体モジュール
とした。
The multi-chip semiconductor device 6 thus solder-connected is positioned and arranged on the mother board 4 on which solder printing has been performed, and solder connection is performed by vapor reflow soldering to obtain a multi-chip semiconductor module.

【0041】図11はこのマルチチップ半導体モジュール
の接続部の断面を示す図で、マザーボード4とマルチチ
ッップ半導体装置6及び各段のコネクタ枠の端子と TCP
1のリードとがはんだによって完全に接続されているこ
とを示している。
FIG. 11 is a view showing a cross section of a connection portion of the multi-chip semiconductor module. The mother board 4, the multi-chip semiconductor device 6, the terminals of the connector frame of each stage, and the TCP
This indicates that the lead 1 is completely connected by solder.

【0042】次に、本発明の実施例について、図13、14
によって説明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
It will be explained by.

【0043】図13はコネクタ枠2の端子と TCP 1 のア
ウターリードとの接続部の断面図である。この図におい
て、コネクタ枠2a の表面端子26aとコネクタ枠2b の
裏面端子27bとで挾まれた TCP 1 のアウターリード15a
はコネクタ枠2の端部からLだけ張り出した構造であ
る。
FIG. 13 is a sectional view of a connection portion between the terminal of the connector frame 2 and the outer lead of TCP 1. In this figure, the outer lead 15a of TCP 1 sandwiched between the front terminal 26a of the connector frame 2a and the rear terminal 27b of the connector frame 2b.
Has a structure in which only L extends from the end of the connector frame 2.

【0044】図14は図13に示した接続部の平面図であ
る。この図において、アウターリード15の先端部分は元
部分よりも幅広になっており、ランド28とほぼ同じ広さ
になっている。また、図15及び図16ははんだ接続後の接
続部の断面の拡大図で、図15はリードのはんだ濡れ性が
良好な接続部、図16は濡れ性の悪い接続部の状態を示し
たものである。
FIG. 14 is a plan view of the connecting portion shown in FIG. In this figure, the tip portion of the outer lead 15 is wider than the original portion, and is almost the same size as the land 28. FIGS. 15 and 16 are enlarged views of the cross section of the connection portion after the solder connection. FIG. 15 shows a state of the connection portion having good solder wettability of the lead, and FIG. It is.

【0045】本実施例はマルチチップ半導体装置の組
立、はんだ接続時の TCP 1 のリードのはんだ濡れ性検
査を確実に行い得る構造を提供するものである。すなわ
ち、図13及び図14に示したようにアウターリードをコネ
クタ枠2の端部から張り出させることによって、また、
アウターリード15の先端部の幅を端面スルーホール29の
幅と同等にすることによって、はんだ濡れ性が良好な場
合は図15に示すように良好なはんだフィレット60が形成
され、濡れ性が悪い場合には図16に示すようにはんだフ
ィレットが形成されないことから、はんだ濡れ性の検査
を外観から容易に検査することができるものである。
The present embodiment provides a structure capable of reliably performing an inspection of the solder wettability of the lead of TCP 1 at the time of assembling the multi-chip semiconductor device and connecting the solder. That is, by protruding the outer lead from the end of the connector frame 2 as shown in FIGS.
By making the width of the tip portion of the outer lead 15 equal to the width of the end face through-hole 29, when the solder wettability is good, a good solder fillet 60 is formed as shown in FIG. 15 and when the wettability is poor. Since no solder fillet is formed as shown in FIG. 16, solder wettability can be easily inspected from the appearance.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上述べてきたように、マルチチップ半
導体装置を本発明構成の装置とすることによって、従来
技術の有していた課題を解決して、接続部の高信頼性を
確保した大容量のマルチチップ半導体装置を提供するこ
とができた。
As described above, by using a multi-chip semiconductor device according to the present invention as a device according to the present invention, it is possible to solve the problems of the prior art and secure a high reliability of the connection portion. A multi-chip semiconductor device having a large capacity can be provided.

【0047】すなわち、コネクタ枠の端子上にスペーサ
を設けたことにより端子とリードとの間に一定の間隔を
設けることができ、はんだ溶融接続時のはんだ浸透性の
向上と接続部のはんだ中に占める金の含有率を大幅に低
下させることができ、接続信頼性の大幅な向上を図るこ
とができた。また、端面スルーホール構造にしてコネク
タ枠の接続部を端面に露出させ、また同時に TCP リー
ドの端部も露出する構造にすることにより、接続状態の
外観検査が一目で行えるようになり、品質の向上と生産
性の向上が図れるようになった。さらに、溶融はんだ法
によるはんだ接続が可能になって接続プロセスの単純化
が図れ、かつ、TCP リード表面の金が溶融はんだ中に拡
散することによって、接続部の金含有量を微量に抑える
ことができ、接続の信頼性を大幅に向上させることがで
きた。
That is, by providing the spacers on the terminals of the connector frame, a certain distance can be provided between the terminals and the leads, so that the solder permeability at the time of solder fusion connection is improved, and The occupying gold content could be greatly reduced, and the connection reliability could be greatly improved. In addition, by adopting a structure that exposes the connection part of the connector frame to the end face by using a through hole structure at the end face and also exposes the end part of the TCP lead at the same time, the appearance of the connection state can be inspected at a glance, and the quality can be improved. Improvements and productivity have been achieved. Furthermore, the solder connection by the molten solder method is possible, simplifying the connection process, and the gold on the TCP lead surface diffuses into the molten solder, so that the gold content of the connection part can be suppressed to a very small amount. This greatly improved the reliability of the connection.

【0048】[0048]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】マルチチップ半導体装置の接続部の断面図。FIG. 1 is a cross-sectional view of a connection portion of a multi-chip semiconductor device.

【図2】TCP の平面図。FIG. 2 is a plan view of a TCP.

【図3】図2の A‐A 部の断面図。FIG. 3 is a sectional view taken along the line AA in FIG. 2;

【図4】コネクタ枠の平面図。FIG. 4 is a plan view of a connector frame.

【図5】コネクタ枠の一部拡大平面図。FIG. 5 is a partially enlarged plan view of the connector frame.

【図6】コネクタ枠の側面図。FIG. 6 is a side view of the connector frame.

【図7】コネクタ枠の A‐A 部の断面図。FIG. 7 is a sectional view of an AA portion of the connector frame.

【図8】マルチチップ半導体装置の一部拡大断面図。FIG. 8 is a partially enlarged cross-sectional view of the multi-chip semiconductor device.

【図9】マルチチップ半導体装置の回路ブロック図。FIG. 9 is a circuit block diagram of a multichip semiconductor device.

【図10】チップ選択端子部の斜視図。FIG. 10 is a perspective view of a chip selection terminal unit.

【図11】共通端子部の接続部拡大断面図。FIG. 11 is an enlarged sectional view of a connection portion of a common terminal portion.

【図12】チップ選択端子部の接続部拡大断面図。FIG. 12 is an enlarged sectional view of a connection portion of a chip selection terminal portion.

【図13】本発明に係るマルチチップ半導体装置のコネ
クタ枠端子と TCP のアウターリードとの接続部の断面
図。
FIG. 13 is a cross-sectional view of a connection portion between a connector frame terminal and a TCP outer lead of the multi-chip semiconductor device according to the present invention.

【図14】図13の接続部の平面図。FIG. 14 is a plan view of the connection unit in FIG. 13;

【図15】リードのはんだ濡れの良い接続部の拡大断面
図。
FIG. 15 is an enlarged cross-sectional view of a connection portion of a lead with good solder wettability.

【図16】リードのはんだ濡れの悪い接続部の拡大断面
図。
FIG. 16 is an enlarged cross-sectional view of a connection portion of a lead having poor solder wettability.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…TCP (テープキャリアパッケージ)、2…コネクタ
枠、4…マザーボード、5、33 …はんだ、6…マルチ
チップ半導体装置、10 …半導体チップ、15 …アウター
リード、18 …チップ選択リード、19 …ダミーリード、
26 …表面端子、27 …裏面端子、29 …端面スルーホー
ル、30 …表面スペーサ、31 …裏面スペーサ、50 …チ
ップ選択基板端子、51 …チップ選択端子、60 …フィレ
ット。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... TCP (tape carrier package), 2 ... Connector frame, 4 ... Motherboard, 5 and 33 ... Solder, 6 ... Multi-chip semiconductor device, 10 ... Semiconductor chip, 15 ... Outer lead, 18 ... Chip selection lead, 19 ... Dummy Lead,
26 ... front terminal, 27 ... rear terminal, 29 ... end face through hole, 30 ... front spacer, 31 ... rear spacer, 50 ... chip selection board terminal, 51 ... chip selection terminal, 60 ... fillet.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 大之 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株式会社日立製作所 生産技術研究所内 (72)発明者 宮野 一郎 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株式会社日立製作所 生産技術研究所内 (72)発明者 山崎 和夫 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株式会社日立製作所 半導体設計開発セ ンタ内 (72)発明者 山田 宗博 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株式会社日立製作所 半導体設計開発セ ンタ内 (56)参考文献 特開 平2−134859(JP,A) 特開 平2−198148(JP,A) 特開 昭61−63048(JP,A) 特開 昭59−222947(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 25/10 H01L 25/11 H01L 25/18 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Hiroyuki Tanaka 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside Hitachi, Ltd. Production Engineering Laboratory (72) Inventor Ichiro Miyano 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Kazuo Yamazaki, Inventor, Hitachi, Ltd. Production Technology Laboratory (72) Kazuo Yamazaki 5-2-1, Kamizuhoncho, Kodaira-shi, Tokyo Hitachi, Ltd. 5-20-1, Mizumotocho Inside Semiconductor Design and Development Center, Hitachi, Ltd. (56) References JP-A-2-134859 (JP, A) JP-A-2-198148 (JP, A) JP-A-61-1986 63048 (JP, A) JP-A-59-222947 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 25/10 H01L 25/11 H01L 25/18

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】少なくとも一面に配線パターンを有するフ
ィルムキャリアテープに半導体チップを電気的に接続し
たテープキャリアパッケージを、コネクタ枠を介して複
数個積層接続した積層マルチチップ半導体装置におい
て、積層した各テープキャリアパッケージのリードを上
記コネクタ枠の端部から突出するように張り出させかつ
その突出するように張り出させたリードを介して上記
ネクタ枠の表面から裏面にまたがる端子の間にはんだフ
ィレットを形成して上記テープキャリアパッケージを複
数個積層接続したことを特徴とする積層マルチチップ半
導体装置。
1. A laminated multi-chip semiconductor device in which a plurality of tape carrier packages each having a semiconductor chip electrically connected to a film carrier tape having a wiring pattern on at least one surface are connected and laminated via a connector frame. the co lead carrier package through leads not overhang as flared allowed and its projected so as to project from an end portion of the connector frame
Form a solder fillet between terminals extending from the front side to the back side of the connector frame to duplicate the tape carrier package.
A stacked multi-chip semiconductor device, characterized in that several stacked connections are made .
【請求項2】基板と接続する上記テープキャリアパッケ
ージを除くその他の積層されたテープキャリアパッケー
ジ間において上記リードを上記コネクタ枠の端部から突
出するように張り出させかつその突出するように張り出
させたリードを介して上記コネクタ枠の表面から裏面に
またがる端子の間にはんだフィレットを形成して上記テ
ープキャリアパッケージを複数個積層接続したことを特
徴とする請求項1記載の積層マルチチップ半導体装置。
2. A lead projecting from an end of the connector frame between other laminated tape carrier packages except the tape carrier package connected to a substrate, and projecting so as to protrude therefrom. From the front to the back of the connector frame through the lead
Said tape to form a solder fillet between the terminal across
2. The stacked multi-chip semiconductor device according to claim 1, wherein a plurality of loop carrier packages are stacked and connected.
【請求項3】上記コネクタ枠の端部近傍に位置するテー
プキャリアパッケージのリード幅を上記コネクタ枠の端
子幅と同等かそれ以上に広くしたことを特徴とする請求
項1または2記載の積層マルチチップ半導体装置。
3. The multi-layer structure according to claim 1, wherein a lead width of the tape carrier package located near an end of the connector frame is equal to or larger than a terminal width of the connector frame. Chip semiconductor device.
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