JP3535017B2 - 偏波回転装置 - Google Patents
偏波回転装置Info
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- JP3535017B2 JP3535017B2 JP20834198A JP20834198A JP3535017B2 JP 3535017 B2 JP3535017 B2 JP 3535017B2 JP 20834198 A JP20834198 A JP 20834198A JP 20834198 A JP20834198 A JP 20834198A JP 3535017 B2 JP3535017 B2 JP 3535017B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば光通信、光
交換、光情報処理等に使用するデバイスの製造開発・選
別に適用可能な高速偏波回転装置に関する。
交換、光情報処理等に使用するデバイスの製造開発・選
別に適用可能な高速偏波回転装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】光通信、光交換、光情報処理といった光
を利用した光伝達処理システムの構築を考えると、各々
のデバイスの偏波依存性が大きな問題となる。例えば光
ファイバや光スイッチでの光損失を補償するために、減
衰した光信号を図８に示すような半導体レーザ型の光増
幅素子を用いる場合、入力信号光の偏波状態によってゲ
イン特性が変動してしまうと、受光側の受光レベルが時
間と共に変動し、受信感度が大きく低下してしまう。
を利用した光伝達処理システムの構築を考えると、各々
のデバイスの偏波依存性が大きな問題となる。例えば光
ファイバや光スイッチでの光損失を補償するために、減
衰した光信号を図８に示すような半導体レーザ型の光増
幅素子を用いる場合、入力信号光の偏波状態によってゲ
イン特性が変動してしまうと、受光側の受光レベルが時
間と共に変動し、受信感度が大きく低下してしまう。
【０００３】そのため各デバイスに対して、例えば偏波
依存性０．５ｄＢ以下といった性能が要求され、偏波依
存性の測定を行う必要がある。この際、半導体レーザ型
の光増幅素子等のデバイスに光ファイバを実装してモジ
ュールにする前の段階、すなわちチップ状態での測定を
行わなければならない。
依存性０．５ｄＢ以下といった性能が要求され、偏波依
存性の測定を行う必要がある。この際、半導体レーザ型
の光増幅素子等のデバイスに光ファイバを実装してモジ
ュールにする前の段階、すなわちチップ状態での測定を
行わなければならない。
【０００４】ところで、光増幅素子の活性層は、図８に
示すように例えば幅０．４ミクロン、厚み０．４ミクロ
ン程度の大きさであり、先球ファイバまたはレンズ付き
のファイバを微動調芯装置で最適な位置に調節し、その
状態で光信号を入力して測定を行う。出力側のファイバ
も同様である。
示すように例えば幅０．４ミクロン、厚み０．４ミクロ
ン程度の大きさであり、先球ファイバまたはレンズ付き
のファイバを微動調芯装置で最適な位置に調節し、その
状態で光信号を入力して測定を行う。出力側のファイバ
も同様である。
【０００５】最適な調芯装置の光軸に垂直方向のトレラ
ンスは非常に厳しく、結合損失の１ｄＢダウントレラン
スで０．５ミクロンぐらいしかない。微動調芯装置は
０．１ミクロン単位で位置を合わせることができるが、
例えば数十秒以上最適な状態を保ち続けることはきわめ
て困難である。
ンスは非常に厳しく、結合損失の１ｄＢダウントレラン
スで０．５ミクロンぐらいしかない。微動調芯装置は
０．１ミクロン単位で位置を合わせることができるが、
例えば数十秒以上最適な状態を保ち続けることはきわめ
て困難である。
【０００６】さて、偏波依存性の測定を行うには入力光
の偏波を回転させ、そのときのゲインを測定する。この
ため、従来は１／２波長板と１／４波長板を組み合わせ
た偏波コントローラを利用して偏波依存性の測定を行っ
ていた。
の偏波を回転させ、そのときのゲインを測定する。この
ため、従来は１／２波長板と１／４波長板を組み合わせ
た偏波コントローラを利用して偏波依存性の測定を行っ
ていた。
【０００７】図９は従来の偏波コントローラを用いた測
定を説明するための図である。図９において、１１００
は光源、１１０１は光の偏波方向を回転させる偏波コン
トローラ、１１０２は１／４波長板、１１０３は１／２
波長板、１１０４，１１０５は先球ファイバ、１１０６
は測定対象の半導体レーザ型の光増幅素子、１１０７は
受光素子である。ここで偏波面を回すのには波長板１１
０２，１１０３を機械的に回転することで実現する。
定を説明するための図である。図９において、１１００
は光源、１１０１は光の偏波方向を回転させる偏波コン
トローラ、１１０２は１／４波長板、１１０３は１／２
波長板、１１０４，１１０５は先球ファイバ、１１０６
は測定対象の半導体レーザ型の光増幅素子、１１０７は
受光素子である。ここで偏波面を回すのには波長板１１
０２，１１０３を機械的に回転することで実現する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従来は１／２波長板１
１０２と１／４波長板１１０３を組み合わせた偏波コン
トローラを利用して偏波依存性の測定を行っていたが、
全ての偏波状態を得るためには３０秒程度の時間がかか
っていた。ところが先に述べたように、先球ファイバを
数十秒以上最適な状態に保つのは難しく、偏波面を回転
する間の軸ずれにより測定精度が落ち、１ｄＢ以下の偏
波依存性を測ることが不可能であった。そのため、偏波
面を高速に回転し、調芯軸がずれる前に測定を終了でき
るような偏波回転装置が求められていた。
１０２と１／４波長板１１０３を組み合わせた偏波コン
トローラを利用して偏波依存性の測定を行っていたが、
全ての偏波状態を得るためには３０秒程度の時間がかか
っていた。ところが先に述べたように、先球ファイバを
数十秒以上最適な状態に保つのは難しく、偏波面を回転
する間の軸ずれにより測定精度が落ち、１ｄＢ以下の偏
波依存性を測ることが不可能であった。そのため、偏波
面を高速に回転し、調芯軸がずれる前に測定を終了でき
るような偏波回転装置が求められていた。
【０００９】そこで、本発明の目的は、高速処理が可能
な偏波回転装置を提供することにある。
な偏波回転装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】このような目的を解決す
るために、請求項１の発明は、光の一部を透過するとと
もに反射する透過・反射手段と、光を全反射する全反射
手段と、前記透過・反射手段と前記全反射手段の間に設
置され、光の偏波方向をｎ度（０＜ｎ＜３６０）回転す
る回転手段とを有し、前記透過・反射手段に対して単パ
ルスの光を入力し、該透過・反射手段を透過した光を前
記透過・反射手段と前記全反射手段の間をループ構造を
用いて複数回往復させることにより、光の偏波方向を所
定角度分ずつ回転させ、当該偏波方向が回転された複数
のパルスの光を前記透過・反射手段から出力させること
を特徴とする。
るために、請求項１の発明は、光の一部を透過するとと
もに反射する透過・反射手段と、光を全反射する全反射
手段と、前記透過・反射手段と前記全反射手段の間に設
置され、光の偏波方向をｎ度（０＜ｎ＜３６０）回転す
る回転手段とを有し、前記透過・反射手段に対して単パ
ルスの光を入力し、該透過・反射手段を透過した光を前
記透過・反射手段と前記全反射手段の間をループ構造を
用いて複数回往復させることにより、光の偏波方向を所
定角度分ずつ回転させ、当該偏波方向が回転された複数
のパルスの光を前記透過・反射手段から出力させること
を特徴とする。
【００１１】請求項２の発明は、請求項１に記載の偏波
回転装置において、前記透過・反射手段に入力する光
と、該透過・反射手段から出力する光を分離する分離手
段をさらに具えたことを特徴とする。
回転装置において、前記透過・反射手段に入力する光
と、該透過・反射手段から出力する光を分離する分離手
段をさらに具えたことを特徴とする。
【００１２】請求項３の発明は、請求項１または請求項
２に記載の偏波回転装置において、前記透過・反射手段
と前記全反射手段の間に、光を増幅する増幅手段を設置
することを特徴とする。
２に記載の偏波回転装置において、前記透過・反射手段
と前記全反射手段の間に、光を増幅する増幅手段を設置
することを特徴とする。
【００１３】請求項４の発明は、光の一部を透過すると
ともに反射する第１の透過・反射手段および第２の透過
・反射手段と、前記第１の透過・反射手段と前記第２の
透過・反射手段の間に設置され、光をの偏波方向をｎ度
（０＜ｎ＜３６０）回転する回転手段とを有し、前記第
１の透過・反射手段に対して単パルスの光を入力し、該
第１の透過・反射手段を透過した光を前記第１の透過・
反射手段と前記第２の透過反射手段の間をループ構造を
用いて複数回往復させることにより、光の偏波方向を所
定角度分ずつ回転させ、当該偏波方向が回転された複数
のパルスの光を前記第２の透過・反射手段から出力させ
ることを特徴とする。
ともに反射する第１の透過・反射手段および第２の透過
・反射手段と、前記第１の透過・反射手段と前記第２の
透過・反射手段の間に設置され、光をの偏波方向をｎ度
（０＜ｎ＜３６０）回転する回転手段とを有し、前記第
１の透過・反射手段に対して単パルスの光を入力し、該
第１の透過・反射手段を透過した光を前記第１の透過・
反射手段と前記第２の透過反射手段の間をループ構造を
用いて複数回往復させることにより、光の偏波方向を所
定角度分ずつ回転させ、当該偏波方向が回転された複数
のパルスの光を前記第２の透過・反射手段から出力させ
ることを特徴とする。
【００１４】請求項５の発明は、請求項４に記載の偏波
回転装置において、前記第１の透過・反射手段および前
記第２の透過・反射手段の間に光を増幅する増幅手段を
設置することを特徴とする。
回転装置において、前記第１の透過・反射手段および前
記第２の透過・反射手段の間に光を増幅する増幅手段を
設置することを特徴とする。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態を詳細に説明する。
施形態を詳細に説明する。
【００１６】（実施形態１）図１は導波路の断面構造を
示す。図１において、１０１はＩｎＰ基板、１０２は導
波層であってバンドギャップ波長１．３μｍのＩｎＧａ
ＡｓＰ（０．３μｍ厚）、１０３は厚さ１．５μｍのＩ
ｎＰで、幅１．５μｍのリッジが形成されている。１０
４は導波光である。
示す。図１において、１０１はＩｎＰ基板、１０２は導
波層であってバンドギャップ波長１．３μｍのＩｎＧａ
ＡｓＰ（０．３μｍ厚）、１０３は厚さ１．５μｍのＩ
ｎＰで、幅１．５μｍのリッジが形成されている。１０
４は導波光である。
【００１７】図２（ａ）は高速偏波回転装置の構成を示
す。図２（ａ）において、１０６，１０９は図１の導波
路であり、特に符号１０７，１０８がループ構造部分を
示す。１１０は伝搬光の５０％を透過し、５０％を反射
するコーティング、１１１は全反射コーティングであ
る。１１０と１１１のコーティングは、ＴｉＯ2 ／Ｓｉ
Ｏ2 からなる。また、１１２は伝搬光の直線偏波を５度
だけ回るような偏波ローテータである。１１４は入力光
で、図２に示すように単パルスを入力する。単パルスは
直線偏波を持つ。
す。図２（ａ）において、１０６，１０９は図１の導波
路であり、特に符号１０７，１０８がループ構造部分を
示す。１１０は伝搬光の５０％を透過し、５０％を反射
するコーティング、１１１は全反射コーティングであ
る。１１０と１１１のコーティングは、ＴｉＯ2 ／Ｓｉ
Ｏ2 からなる。また、１１２は伝搬光の直線偏波を５度
だけ回るような偏波ローテータである。１１４は入力光
で、図２に示すように単パルスを入力する。単パルスは
直線偏波を持つ。
【００１８】入力された単パルスはコーティング１１
０，１１１を往復するたびに図２（ｂ）に示すように１
０度ずつ回転し、１８周で全ての直線偏波状態を得るう
えに、コーティング１１０によってその一部１１５を出
力する。
０，１１１を往復するたびに図２（ｂ）に示すように１
０度ずつ回転し、１８周で全ての直線偏波状態を得るう
えに、コーティング１１０によってその一部１１５を出
力する。
【００１９】往復部分の長さ（共振長）を約０．５ｃｍ
と仮定すると、単パルスは１００ｐｓで１０度ずつ回る
ように出力されるので、２ｎｓ程度の短い時間で全ての
直線偏波状態を得る。従って、本装置およびオシロスコ
ープを用いた測定において、軸ずれが生じる前に偏波依
存性を求めることができる。なお、光パルスが往復する
たびに１１０での透過損や導波損によって、光パルスは
どんどん減衰するため、例えば１８周後にパルスが消滅
したら、新たな単パルス１１４を入力する。なお、偏波
ローテータとして、例えば特願平８−２７０５２７号
「非対称配置解析格子型偏波制御素子」に記載の構造を
取ることができる。
と仮定すると、単パルスは１００ｐｓで１０度ずつ回る
ように出力されるので、２ｎｓ程度の短い時間で全ての
直線偏波状態を得る。従って、本装置およびオシロスコ
ープを用いた測定において、軸ずれが生じる前に偏波依
存性を求めることができる。なお、光パルスが往復する
たびに１１０での透過損や導波損によって、光パルスは
どんどん減衰するため、例えば１８周後にパルスが消滅
したら、新たな単パルス１１４を入力する。なお、偏波
ローテータとして、例えば特願平８−２７０５２７号
「非対称配置解析格子型偏波制御素子」に記載の構造を
取ることができる。
【００２０】（実施形態２）図３は本発明実施形態２の
構成を示す。図３において、図２に示す実施形態１と同
様の箇所には同一の符号を付しており、詳細な説明を省
略する。実施形態２では図２の実施形態１に加えて２０
９の光サーキュレータ（または光カプラ）を有すること
で、入力光と出力光の分離を行っている。
構成を示す。図３において、図２に示す実施形態１と同
様の箇所には同一の符号を付しており、詳細な説明を省
略する。実施形態２では図２の実施形態１に加えて２０
９の光サーキュレータ（または光カプラ）を有すること
で、入力光と出力光の分離を行っている。
【００２１】（実施形態３）図４（ａ）は本発明実施形
態３の構成を示す。図４（ａ）において図２の実施形態
１と同様の箇所には同一の符号を付しており、詳細な説
明を省略する。図４の実施形態３は図２の実施形態１に
加えて半導体光増幅器２１５を有している。半導体光増
幅器２１５は図１の導波路にバットジョイントで接合さ
れている。この半導体光増幅器２１により一部出力光の
強度を図４（ｂ）に示すように一定に保つことができ
る。
態３の構成を示す。図４（ａ）において図２の実施形態
１と同様の箇所には同一の符号を付しており、詳細な説
明を省略する。図４の実施形態３は図２の実施形態１に
加えて半導体光増幅器２１５を有している。半導体光増
幅器２１５は図１の導波路にバットジョイントで接合さ
れている。この半導体光増幅器２１により一部出力光の
強度を図４（ｂ）に示すように一定に保つことができ
る。
【００２２】図５は半導体光増幅器２１５の断面構造を
示す。ここで２０１はｎ−ＩｎＰ基板、２０２はｎ−Ｉ
ｎＰクラッド層、２０３は厚さ０．４μｍ、幅０．４μ
ｍ、バンドギャップ波長１．５μｍのＩｎＧａＡｓＰ活
性層、２０４はｐ−ＩｎＰクラッド層であり、２０５，
２０６はＦｅ−ＩｎＰ絶縁層、２０７はｐ−ＩｎＧａＡ
ｓＰキャップ層、２０８はｎ側電極、２０９はｐ側電極
である。全長は３００μｍである。
示す。ここで２０１はｎ−ＩｎＰ基板、２０２はｎ−Ｉ
ｎＰクラッド層、２０３は厚さ０．４μｍ、幅０．４μ
ｍ、バンドギャップ波長１．５μｍのＩｎＧａＡｓＰ活
性層、２０４はｐ−ＩｎＰクラッド層であり、２０５，
２０６はＦｅ−ＩｎＰ絶縁層、２０７はｐ−ＩｎＧａＡ
ｓＰキャップ層、２０８はｎ側電極、２０９はｐ側電極
である。全長は３００μｍである。
【００２３】この（半導体）光増幅器２１５によって、
コーティング１１０による透過損や導波損を補償するこ
とができ、パルスの減衰を防ぐことができる（図４
（ｂ）参照）。ループ構造の長さを約０．５ｃｍとする
と、単パルスは１００ｐｓで１０度ずつ回るように出力
されるので、２ｎｓ程度の短い時間で全ての直線偏波状
態を得る。従って、本装置およびオシロスコープを用い
た測定において、軸ずれが生ずる前に偏波依存性を求め
ることができる。なお、光増幅器の自然放出光によって
ノイズが蓄積するため、例えば１８周後にパルスが消滅
したら、光増幅器をｏｆｆにして自然放出光を一旦リセ
ットし、そうした上で新たな単パルス１１４を入力す
る。
コーティング１１０による透過損や導波損を補償するこ
とができ、パルスの減衰を防ぐことができる（図４
（ｂ）参照）。ループ構造の長さを約０．５ｃｍとする
と、単パルスは１００ｐｓで１０度ずつ回るように出力
されるので、２ｎｓ程度の短い時間で全ての直線偏波状
態を得る。従って、本装置およびオシロスコープを用い
た測定において、軸ずれが生ずる前に偏波依存性を求め
ることができる。なお、光増幅器の自然放出光によって
ノイズが蓄積するため、例えば１８周後にパルスが消滅
したら、光増幅器をｏｆｆにして自然放出光を一旦リセ
ットし、そうした上で新たな単パルス１１４を入力す
る。
【００２４】（実施形態４）図６に示すように、コーテ
ィング１１１を全反射コーティングではなく、５０％透
過、５０％反射のコーティングを施すことで、入出力の
分離を測ることができる。ここで、入力側に右向きの入
力光に対しては損失が少なく、反対向き時の一部出力光
１１５に対しては大きな損失を有する光アイソレータを
設けることで、余分な（一部）出力光１１５をカットす
ることもできる。
ィング１１１を全反射コーティングではなく、５０％透
過、５０％反射のコーティングを施すことで、入出力の
分離を測ることができる。ここで、入力側に右向きの入
力光に対しては損失が少なく、反対向き時の一部出力光
１１５に対しては大きな損失を有する光アイソレータを
設けることで、余分な（一部）出力光１１５をカットす
ることもできる。
【００２５】（実施形態５）また、図６の実施形態４に
加えて図７に示すように（半導体）光増幅器４１５を設
けることによって、コーティング１１０による透過損や
導波損を補償することができ、パルスの減衰を防ぐこと
ができる。
加えて図７に示すように（半導体）光増幅器４１５を設
けることによって、コーティング１１０による透過損や
導波損を補償することができ、パルスの減衰を防ぐこと
ができる。
【００２６】なお、上述の実施形態において、ｎ型のＩ
ｎＰ基板を例に説明を行ったが、ｐ型の基板や他の半導
体結晶においても同様な効果を得ることができる。ま
た、活性層としてバルクのＩｎＧａＡｓＰの例を挙げて
いるが、量子井戸構造や歪み量子井戸構造（圧縮歪み、
伸張歪み）を用いてもよい。また、ＩｎＧａＡｌＡｓ
系、ＩｎＡｌＡｓ系、ＡｌＧａＡｓ系といった材料系で
も同様な効果を得ることができる。
ｎＰ基板を例に説明を行ったが、ｐ型の基板や他の半導
体結晶においても同様な効果を得ることができる。ま
た、活性層としてバルクのＩｎＧａＡｓＰの例を挙げて
いるが、量子井戸構造や歪み量子井戸構造（圧縮歪み、
伸張歪み）を用いてもよい。また、ＩｎＧａＡｌＡｓ
系、ＩｎＡｌＡｓ系、ＡｌＧａＡｓ系といった材料系で
も同様な効果を得ることができる。
【００２７】また、リッジ形状に関してコア層がリッジ
の下方に存在するが、リッジ形状作製の際、コア層の途
中までエッチングをした構造でも、本発明の趣旨を変え
るものではない。埋め込み構造の導波構造をとることも
できる。
の下方に存在するが、リッジ形状作製の際、コア層の途
中までエッチングをした構造でも、本発明の趣旨を変え
るものではない。埋め込み構造の導波構造をとることも
できる。
【００２８】また、光増幅器の埋め込み構造として、ｐ
ｎ接合による電流狭窄を用いても構わない。光増幅器と
して光ファイバアンプを用いることもできる。
ｎ接合による電流狭窄を用いても構わない。光増幅器と
して光ファイバアンプを用いることもできる。
【００２９】また、導波路として石英系の導波路や光フ
ァイバもしくは空間系を用いても構わない。
ァイバもしくは空間系を用いても構わない。
【００３０】また、５０％透過・５０％反射のミラー、
全反射ミラーとして多層膜コーティングの代わりにグレ
ーティングを用いても構わない。
全反射ミラーとして多層膜コーティングの代わりにグレ
ーティングを用いても構わない。
【００３１】
【発明の効果】以上、説明したように、請求項１、４の
発明では、コーティングのような透過・反射手段および
全反射手段（第４の実施形態では２つの透過・反射手
段）の間を往復させ、その間にローテータのような回転
手段により光の偏波方向を順次に回転させる。偏波方向
が回転した光を透過・反射手段から出力させることによ
り、従来よりも偏波面を高速で回転することができる。
発明では、コーティングのような透過・反射手段および
全反射手段（第４の実施形態では２つの透過・反射手
段）の間を往復させ、その間にローテータのような回転
手段により光の偏波方向を順次に回転させる。偏波方向
が回転した光を透過・反射手段から出力させることによ
り、従来よりも偏波面を高速で回転することができる。
【００３２】請求項２の発明では、入力光と出力光を光
サーキュレータのような分離手段により分離するので、
入力光と出力光との間の相互影響がなくなる。
サーキュレータのような分離手段により分離するので、
入力光と出力光との間の相互影響がなくなる。
【００３３】請求項３，５の発明では光の増幅により光
を往復させる間の減衰を保証できる。
を往復させる間の減衰を保証できる。
【図１】本発明実施形態１の導波路の構造を示す断面図
である。
である。
【図２】（ａ）は本発明実施形態１の高速偏波回転装置
の構成図、（ｂ）は光の偏波方向を示すタイミングチャ
ートである。
の構成図、（ｂ）は光の偏波方向を示すタイミングチャ
ートである。
【図３】本発明実施形態２の高速偏波回転装置の構成を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図４】（ａ）は本発明実施形態３の高速偏波回転装置
の構成図、（ｂ）は光の偏波方向を示すタイミングチャ
ートである。
の構成図、（ｂ）は光の偏波方向を示すタイミングチャ
ートである。
【図５】半導体光増幅器の構造を示す断面図である。
【図６】本発明実施形態４の高速偏波回転装置の構成を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図７】本発明実施形態５の高速偏波回転装置の構成を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図８】光増幅素子の構造を示す斜視図である。
【図９】従来の偏波コントローラを使用したシステムの
一例を示す構成図である。
一例を示す構成図である。
１０６，１０９ 導波路
１０７，１０８ ループ構造部分
１１２ 偏波ローテータ
１１０，１１１ コーティング
１１４ 入力光
１１５ 一部出力
２１５ （半不導体）光増幅器
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02B 27/28
G02B 6/14
G02F 1/00 - 1/125
ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (5)
- 【請求項１】 光の一部を透過するとともに反射する透
過・反射手段と、 光を全反射する全反射手段と、 前記透過・反射手段と前記全反射手段の間に設置され、
光の偏波方向をｎ度（０＜ｎ＜３６０）回転する回転手
段とを有し、前記透過・反射手段に対して単パルスの光
を入力し、該透過・反射手段を透過した光を前記透過・
反射手段と前記全反射手段の間をループ構造を用いて複
数回往復させることにより、光の偏波方向を所定角度分
ずつ回転させ、当該偏波方向が回転された複数のパルス
の光を前記透過・反射手段から出力させることを特徴と
する偏波回転装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の偏波回転装置におい
て、前記透過・反射手段に入力する光と、該透過・反射
手段から出力する光を分離する分離手段をさらに具えた
ことを特徴とする偏波回転装置。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の偏波回
転装置において、前記透過・反射手段と前記全反射手段
の間に、光を増幅する増幅手段を設置することを特徴と
する偏波回転装置。 - 【請求項４】 光の一部を透過するとともに反射する第
１の透過・反射手段および第２の透過・反射手段と、 前記第１の透過・反射手段と前記第２の透過・反射手段
の間に設置され、光をの偏波方向をｎ度（０＜ｎ＜３６
０）回転する回転手段とを有し、前記第１の透過・反射
手段に対して単パルスの光を入力し、該第１の透過・反
射手段を透過した光を前記第１の透過・反射手段と前記
第２の透過反射手段の間をループ構造を用いて複数回往
復させることにより、光の偏波方向を所定角度分ずつ回
転させ、当該偏波方向が回転された複数のパルスの光を
前記第２の透過・反射手段から出力させることを特徴と
する偏波回転装置。 - 【請求項５】 請求項４に記載の偏波回転装置におい
て、前記第１の透過・反射手段および前記第２の透過・
反射手段の間に光を増幅する増幅手段を設置することを
特徴とする偏波回転装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20834198A JP3535017B2 (ja) | 1998-07-23 | 1998-07-23 | 偏波回転装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20834198A JP3535017B2 (ja) | 1998-07-23 | 1998-07-23 | 偏波回転装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000039534A JP2000039534A (ja) | 2000-02-08 |
| JP3535017B2 true JP3535017B2 (ja) | 2004-06-07 |
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ID=16554678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20834198A Expired - Fee Related JP3535017B2 (ja) | 1998-07-23 | 1998-07-23 | 偏波回転装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3535017B2 (ja) |
-
1998
- 1998-07-23 JP JP20834198A patent/JP3535017B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000039534A (ja) | 2000-02-08 |
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