JP3532108B2 - 吸着塔の運転管理方法および装置 - Google Patents
吸着塔の運転管理方法および装置Info
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- JP3532108B2 JP3532108B2 JP35985298A JP35985298A JP3532108B2 JP 3532108 B2 JP3532108 B2 JP 3532108B2 JP 35985298 A JP35985298 A JP 35985298A JP 35985298 A JP35985298 A JP 35985298A JP 3532108 B2 JP3532108 B2 JP 3532108B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、浄水処理、下水処
理、し尿処理、工場排水処理、埋立浸出水処理等の水処
理において使用される吸着塔の運転管理方法および装置
に関する。
理、し尿処理、工場排水処理、埋立浸出水処理等の水処
理において使用される吸着塔の運転管理方法および装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】浄水処理、下水処理、し尿処理、工場排
水処理、埋立浸出水処理等の水処理では、水中の微量な
有機物、酸化剤、ある種の重金属類などを除去するの
に、吸着塔が使用されることがある。
水処理、埋立浸出水処理等の水処理では、水中の微量な
有機物、酸化剤、ある種の重金属類などを除去するの
に、吸着塔が使用されることがある。
【０００３】吸着塔に充填された充填剤は通水するにし
たがって飽和し、流出する処理水中の除去対象物質濃度
が上昇してくるので、予め設定した濃度に達した時点で
交換・再生するようにしている。
たがって飽和し、流出する処理水中の除去対象物質濃度
が上昇してくるので、予め設定した濃度に達した時点で
交換・再生するようにしている。
【０００４】充填剤の交換または再生の時期を決定する
に当たっては、処理水中の除去対象物質濃度をオンライ
ンで連続的に監視するか、連続監視できない除去対象物
質については、処理水を採取して処理施設内であるいは
外部の分析機関で分析するようにしている。
に当たっては、処理水中の除去対象物質濃度をオンライ
ンで連続的に監視するか、連続監視できない除去対象物
質については、処理水を採取して処理施設内であるいは
外部の分析機関で分析するようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、オンラ
インで連続監視できない除去対象物質を処理施設内で分
析する場合は、分析設備並びに手間を要し、外部の分析
機関に依頼して分析する場合は、コストが高くなるだけ
でなく、結果が出るまでに時間がかかる。
インで連続監視できない除去対象物質を処理施設内で分
析する場合は、分析設備並びに手間を要し、外部の分析
機関に依頼して分析する場合は、コストが高くなるだけ
でなく、結果が出るまでに時間がかかる。
【０００６】ところが、たとえば浄水処理分野で近年、
ヒ素の水質基準値が０．０１μｇ／Ｌと厳しくなり、吸
着塔でのヒ素除去に対して、処理水中のヒ素濃度を毎日
監視するよう定めた地方自治体もある。しかるにヒ素分
析には上記したように分析設備並びに手間、時間を要す
るので、簡易水道施設等では毎日の監視は困難なのが現
状である。
ヒ素の水質基準値が０．０１μｇ／Ｌと厳しくなり、吸
着塔でのヒ素除去に対して、処理水中のヒ素濃度を毎日
監視するよう定めた地方自治体もある。しかるにヒ素分
析には上記したように分析設備並びに手間、時間を要す
るので、簡易水道施設等では毎日の監視は困難なのが現
状である。
【０００７】本発明は上記問題を解決するもので、処理
水質を容易に監視することができ、充填剤の交換または
再生時期を遅滞なく行える吸着塔の運転管理方法および
装置を提供することを目的とするものである。
水質を容易に監視することができ、充填剤の交換または
再生時期を遅滞なく行える吸着塔の運転管理方法および
装置を提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
に本発明は、フッ素とヒ素を除去対象物質として含んだ
被処理液が通液される吸着塔の運転管理方法であって、
処理液中への漏出が許容される上限濃度値に連続監視不
可能なヒ素より早く達する連続監視可能なフッ素を選定
除去対象物質とし、被処理液を吸着塔に通液する際に、
流出する処理液中の選定除去対象物質の濃度を連続監視
し、選定除去対象物質の濃度が上限濃度値に達した時点
で吸着塔内の充填剤を交換または再生してヒ素が上限濃
度値以上に漏出することを防止することを特徴とする吸
着塔の運転管理方法を提供する。
に本発明は、フッ素とヒ素を除去対象物質として含んだ
被処理液が通液される吸着塔の運転管理方法であって、
処理液中への漏出が許容される上限濃度値に連続監視不
可能なヒ素より早く達する連続監視可能なフッ素を選定
除去対象物質とし、被処理液を吸着塔に通液する際に、
流出する処理液中の選定除去対象物質の濃度を連続監視
し、選定除去対象物質の濃度が上限濃度値に達した時点
で吸着塔内の充填剤を交換または再生してヒ素が上限濃
度値以上に漏出することを防止することを特徴とする吸
着塔の運転管理方法を提供する。
【０００９】上記した吸着塔の運転管理方法を実施する
運転管理装置であって、除去対象物質のフッ素とヒ素を
吸着する複数の吸着塔を互いに直列に連通する送液配管
系と、各吸着塔の流入側に連通する流入配管系と、各吸
着塔の流出側に連通する流出配管系と、前記各配管系に
介装されて所定の吸着塔を通る流路を形成する複数の自
動弁と、前記流出配管系により導出された処理液中に含
まれた前記除去対象物質のうちで選定除去対象物質に設
定するフッ素の濃度を監視する水質監視装置と、前記選
定除去対象物質について設定された上限濃度値を記憶
し、前記自動弁と水質監視装置とに接続して設けられた
制御装置とを備え、この制御装置により、水質監視装置
における選定除去対象物質の測定濃度値が前記上限濃度
値に達した時点で自動弁を開閉操作して、最上流の吸着
塔を除いた別途の流路を形成してヒ素が上限濃度値以上
に漏出することを防止するように構成したことを特徴と
する吸着塔の運転管理装置を提供する。
運転管理装置であって、除去対象物質のフッ素とヒ素を
吸着する複数の吸着塔を互いに直列に連通する送液配管
系と、各吸着塔の流入側に連通する流入配管系と、各吸
着塔の流出側に連通する流出配管系と、前記各配管系に
介装されて所定の吸着塔を通る流路を形成する複数の自
動弁と、前記流出配管系により導出された処理液中に含
まれた前記除去対象物質のうちで選定除去対象物質に設
定するフッ素の濃度を監視する水質監視装置と、前記選
定除去対象物質について設定された上限濃度値を記憶
し、前記自動弁と水質監視装置とに接続して設けられた
制御装置とを備え、この制御装置により、水質監視装置
における選定除去対象物質の測定濃度値が前記上限濃度
値に達した時点で自動弁を開閉操作して、最上流の吸着
塔を除いた別途の流路を形成してヒ素が上限濃度値以上
に漏出することを防止するように構成したことを特徴と
する吸着塔の運転管理装置を提供する。
【００１０】また上記した吸着塔の運転管理装置におい
て、制御装置に、選定除去対象物質の測定濃度値が上限
濃度値に達した時点で運転管理者に警報を発する警報手
段を設けたことを特徴とする吸着塔の運転管理装置を提
供する。
て、制御装置に、選定除去対象物質の測定濃度値が上限
濃度値に達した時点で運転管理者に警報を発する警報手
段を設けたことを特徴とする吸着塔の運転管理装置を提
供する。
【００１１】ここで、各除去対象物質について設定する
上限濃度は水質基準値以下、好ましくは水質基準値未満
の所定濃度とする。上限濃度値に最も早く達する除去対
象物質は予備試験により、あるいは文献により選定す
る。
上限濃度は水質基準値以下、好ましくは水質基準値未満
の所定濃度とする。上限濃度値に最も早く達する除去対
象物質は予備試験により、あるいは文献により選定す
る。
【００１２】したがって、選定除去対象物質の濃度が上
限濃度値に達した時点では、選定除去対象物質は水質基
準値（あるいはそれより低い所定濃度）にあり、その他
の除去対象物質は水質基準値以下にあるので、その時点
を、充填剤を交換または再生すべき時期として決定する
ことができる。
限濃度値に達した時点では、選定除去対象物質は水質基
準値（あるいはそれより低い所定濃度）にあり、その他
の除去対象物質は水質基準値以下にあるので、その時点
を、充填剤を交換または再生すべき時期として決定する
ことができる。
【００１３】よって、上記したようにして、選定除去対
象物質のみの濃度を監視し、上限濃度値に達した時点を
検知することにより、充填剤を交換または再生すべき時
期を容易に決定できる。
象物質のみの濃度を監視し、上限濃度値に達した時点を
検知することにより、充填剤を交換または再生すべき時
期を容易に決定できる。
【００１４】そしてその時には充填剤を交換または再生
し、複数の吸着塔がある場合には別途の流路に切り換え
るという運転を行うことにより、処理液の水質を常時高
く維持できる。
し、複数の吸着塔がある場合には別途の流路に切り換え
るという運転を行うことにより、処理液の水質を常時高
く維持できる。
【００１５】選定除去対象物質が連続監視可能な物質で
ある場合には、測定結果が速やかに得られるため処理液
の水質を確実に高く維持できるが、連続監視できない選
定除去対象物質であっても、上限濃度を幾分低く設定
し、適当時間間隔で測定することで、処理液の水質を保
証できる。
ある場合には、測定結果が速やかに得られるため処理液
の水質を確実に高く維持できるが、連続監視できない選
定除去対象物質であっても、上限濃度を幾分低く設定
し、適当時間間隔で測定することで、処理液の水質を保
証できる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面を
参照しながら説明する。図１に示した浄水処理設備にお
いて、第１吸着塔１、第２吸着塔２、第３吸着塔３はフ
ッ素とヒ素とを除去するものであり、各塔内には活性ア
ルミナ４が充填されている。各吸着塔間には、第１吸着
塔１の下部と第２吸着塔２の上部とを連通する送液配管
５と、第２吸着塔２の下部と第３吸着塔３の上部とを連
通する送液配管６と、第３吸着塔３の下部と第１吸着塔
１の上部とを連通する送液配管７とが設けられている。
各送液配管５，６，７には電磁弁（空気作動弁など、他
の自動弁でもよい）５ａ，６ａ，７ａが介装されてい
る。
参照しながら説明する。図１に示した浄水処理設備にお
いて、第１吸着塔１、第２吸着塔２、第３吸着塔３はフ
ッ素とヒ素とを除去するものであり、各塔内には活性ア
ルミナ４が充填されている。各吸着塔間には、第１吸着
塔１の下部と第２吸着塔２の上部とを連通する送液配管
５と、第２吸着塔２の下部と第３吸着塔３の上部とを連
通する送液配管６と、第３吸着塔３の下部と第１吸着塔
１の上部とを連通する送液配管７とが設けられている。
各送液配管５，６，７には電磁弁（空気作動弁など、他
の自動弁でもよい）５ａ，６ａ，７ａが介装されてい
る。
【００１７】第１吸着塔１、第２吸着塔２、第３吸着塔
３の上部にはそれぞれ、流入配管８，９，１０が電磁弁
８ａ，９ａ，１０ａを介して連通している。第３吸着塔
３、第１吸着塔１、第２吸着塔２の下部にはそれぞれ、
流出配管１１およびその管路途中で開口する流出配管１
２，１３が電磁弁１１ａ，１２ａ，１３ａを介して連通
している。
３の上部にはそれぞれ、流入配管８，９，１０が電磁弁
８ａ，９ａ，１０ａを介して連通している。第３吸着塔
３、第１吸着塔１、第２吸着塔２の下部にはそれぞれ、
流出配管１１およびその管路途中で開口する流出配管１
２，１３が電磁弁１１ａ，１２ａ，１３ａを介して連通
している。
【００１８】流出配管１１は、処理水排出系１４を備え
た処理水槽１５へ導かれており、流出配管１１の管路途
中には、管内を流れる処理液中に含まれるフッ素の濃度
を測定するフッ素濃度計１６が設けられている。
た処理水槽１５へ導かれており、流出配管１１の管路途
中には、管内を流れる処理液中に含まれるフッ素の濃度
を測定するフッ素濃度計１６が設けられている。
【００１９】制御装置１７はフッ素濃度計１６に信号ラ
イン１８により接続するとともに、各電磁弁５ａ〜１３
ａに信号ライン１９（図を簡略化するために一部のみ図
示する）により接続して設けられており、フッ素につい
て予め設定された上限濃度値（水質基準値を下回る所定
濃度値）を記憶し、フッ素濃度計１６での測定濃度値が
前記上限濃度値に達した時点でいずれかの電磁弁５ａ〜
１３ａを開閉操作して、最上流の吸着塔を除いた流路を
形成するように構成されている。
イン１８により接続するとともに、各電磁弁５ａ〜１３
ａに信号ライン１９（図を簡略化するために一部のみ図
示する）により接続して設けられており、フッ素につい
て予め設定された上限濃度値（水質基準値を下回る所定
濃度値）を記憶し、フッ素濃度計１６での測定濃度値が
前記上限濃度値に達した時点でいずれかの電磁弁５ａ〜
１３ａを開閉操作して、最上流の吸着塔を除いた流路を
形成するように構成されている。
【００２０】上記した構成を有する吸着設備の運転方法
を説明する。運転開始時には電磁弁８ａ，５ａ，１３ａ
が開放されており、被処理液は流入配管８、第１吸着塔
１、送液配管５、第２吸着塔２へと順次に流れ、被処理
液中のフッ素およびヒ素は、第１吸着塔１および第２吸
着塔２の内部に充填された活性アルミナ４により吸着除
去され、清浄な処理水２０が流出配管１３，流出配管１
１を通じて処理水槽１５へ導出される。
を説明する。運転開始時には電磁弁８ａ，５ａ，１３ａ
が開放されており、被処理液は流入配管８、第１吸着塔
１、送液配管５、第２吸着塔２へと順次に流れ、被処理
液中のフッ素およびヒ素は、第１吸着塔１および第２吸
着塔２の内部に充填された活性アルミナ４により吸着除
去され、清浄な処理水２０が流出配管１３，流出配管１
１を通じて処理水槽１５へ導出される。
【００２１】このとき、流出配管１１の内部を流れる処
理液２０中に含まれるフッ素の濃度がフッ素濃度計１６
により連続測定され、測定データが制御装置１７に送信
されていて、送信された測定濃度値が上述した上限濃度
値に達した時点で制御装置１７により電磁弁８ａ，５ａ
が閉塞され、電磁弁９ａ，６ａが開放される。
理液２０中に含まれるフッ素の濃度がフッ素濃度計１６
により連続測定され、測定データが制御装置１７に送信
されていて、送信された測定濃度値が上述した上限濃度
値に達した時点で制御装置１７により電磁弁８ａ，５ａ
が閉塞され、電磁弁９ａ，６ａが開放される。
【００２２】これにより、被処理液は、流入配管９、第
２吸着塔２、送液配管６、第３吸着塔３へと順次に流
れ、被処理液中のフッ素およびヒ素は上記と同様にして
活性アルミナ４により吸着除去され、清浄な処理水２０
が流出配管１１を通じて処理水槽１５へ導出される。そ
の間に、第１吸着塔１の内部の活性アルミナ４を交換す
る。
２吸着塔２、送液配管６、第３吸着塔３へと順次に流
れ、被処理液中のフッ素およびヒ素は上記と同様にして
活性アルミナ４により吸着除去され、清浄な処理水２０
が流出配管１１を通じて処理水槽１５へ導出される。そ
の間に、第１吸着塔１の内部の活性アルミナ４を交換す
る。
【００２３】このときも、流出配管１１の内部を流れる
処理液２０中に含まれるフッ素の濃度がフッ素濃度計１
６により連続測定され、測定データが制御装置１７に送
信されていて、送信された測定濃度値が上述した上限濃
度値に達した時点で制御装置１７により電磁弁９ａ，６
ａが閉塞され、電磁弁１０ａ，７ａが開放される。
処理液２０中に含まれるフッ素の濃度がフッ素濃度計１
６により連続測定され、測定データが制御装置１７に送
信されていて、送信された測定濃度値が上述した上限濃
度値に達した時点で制御装置１７により電磁弁９ａ，６
ａが閉塞され、電磁弁１０ａ，７ａが開放される。
【００２４】これにより、被処理液は、流入配管１０、
第３吸着塔３、送液配管７、第１吸着塔１へと順次に流
れ、被処理液中のフッ素およびヒ素は上記と同様にして
活性アルミナ４により吸着除去され、清浄な処理水２０
が流出配管１２，流出配管１１を通じて処理水槽１４へ
導出される。その間に、第２吸着塔２の内部の活性アル
ミナ４を交換する。
第３吸着塔３、送液配管７、第１吸着塔１へと順次に流
れ、被処理液中のフッ素およびヒ素は上記と同様にして
活性アルミナ４により吸着除去され、清浄な処理水２０
が流出配管１２，流出配管１１を通じて処理水槽１４へ
導出される。その間に、第２吸着塔２の内部の活性アル
ミナ４を交換する。
【００２５】このようにして、連続監視可能なフッ素を
指標として、上流側の吸着塔の活性アルミナ４が破過に
達した時期が検知されて、上流側の吸着塔を除いた流路
に切り換えられ、その間に、破過に達した活性アルミナ
４が交換されるので、処理液２０中のフッ素濃度は常に
上限濃度以下、つまり水質基準値を下回る濃度に維持さ
れる。このことは処理液２０中のヒ素濃度も常に水質基
準値以下に維持されることを意味し、処理液の水質は高
く維持される。
指標として、上流側の吸着塔の活性アルミナ４が破過に
達した時期が検知されて、上流側の吸着塔を除いた流路
に切り換えられ、その間に、破過に達した活性アルミナ
４が交換されるので、処理液２０中のフッ素濃度は常に
上限濃度以下、つまり水質基準値を下回る濃度に維持さ
れる。このことは処理液２０中のヒ素濃度も常に水質基
準値以下に維持されることを意味し、処理液の水質は高
く維持される。
【００２６】このようなフッ素濃度とヒ素濃度との関係
は、活性アルミナ吸着カラムでは、図２に示したような
フッ素およびヒ素の破過曲線が得られることに基くもの
である。
は、活性アルミナ吸着カラムでは、図２に示したような
フッ素およびヒ素の破過曲線が得られることに基くもの
である。
【００２７】図３に示したように、制御装置１７に、運
転管理者の近傍のテレメータ２１などの警報装置を電話
回線２２を通じて接続しておき、選定除去対象物質の測
定濃度値が上限濃度値に達した時点で制御装置１７より
テレメータ２１に警報信号を送るようにしてもよい。
転管理者の近傍のテレメータ２１などの警報装置を電話
回線２２を通じて接続しておき、選定除去対象物質の測
定濃度値が上限濃度値に達した時点で制御装置１７より
テレメータ２１に警報信号を送るようにしてもよい。
【００２８】この場合、テレメータ２１で警報を認めた
運転管理者は速やかに浄水処理設備に出向いて、制御装
置１７により適切な電磁弁が開閉され流路変更が行われ
たことを確認するか、制御装置１７に弁開閉操作機能を
担わせていない場合は手動で適切な電磁弁を開閉して流
路変更を行う。
運転管理者は速やかに浄水処理設備に出向いて、制御装
置１７により適切な電磁弁が開閉され流路変更が行われ
たことを確認するか、制御装置１７に弁開閉操作機能を
担わせていない場合は手動で適切な電磁弁を開閉して流
路変更を行う。
【００２９】上記したような方法は、その他の充填剤と
除去対象物質との組み合わせにおいても実施可能であ
る。たとえば、骨炭を充填した吸着塔においても、フッ
素とヒ素とを含んだ被処理液の吸着処理をフッ素のみの
監視で良好に運転管理できる。
除去対象物質との組み合わせにおいても実施可能であ
る。たとえば、骨炭を充填した吸着塔においても、フッ
素とヒ素とを含んだ被処理液の吸着処理をフッ素のみの
監視で良好に運転管理できる。
【００３０】また、スミキレート（登録商標）ＭＣ−７
５として市販されているキレート樹脂を充填した吸着塔
において、Ｃｕ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｆｅ，Ｓｎを含んだ被処
理液の吸着処理を、Ｃｕのみを監視して良好に運転管理
できる。
５として市販されているキレート樹脂を充填した吸着塔
において、Ｃｕ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｆｅ，Ｓｎを含んだ被処
理液の吸着処理を、Ｃｕのみを監視して良好に運転管理
できる。
【００３１】
【発明の効果】以上のように、本発明の運転管理方法に
よれば、複数の除去対象物質を含んだ被処理液が通液さ
れる吸着塔を運転管理するに際し、処理液中への漏出が
許容される上限濃度に最も早く達する除去対象物質を選
定しておくことにより、この選定除去対象物質のみを監
視することで、他の除去対象物質は監視することなく、
充填剤を交換または再生する時期を決定することがで
き、処理液の水質を常時高く維持できる。
よれば、複数の除去対象物質を含んだ被処理液が通液さ
れる吸着塔を運転管理するに際し、処理液中への漏出が
許容される上限濃度に最も早く達する除去対象物質を選
定しておくことにより、この選定除去対象物質のみを監
視することで、他の除去対象物質は監視することなく、
充填剤を交換または再生する時期を決定することがで
き、処理液の水質を常時高く維持できる。
【００３２】また本発明の運転管理装置によれば、選定
除去対象物質が連続監視可能な物質である場合には特
に、オンライン監視装置などで容易に監視し、適切に対
処できる。
除去対象物質が連続監視可能な物質である場合には特
に、オンライン監視装置などで容易に監視し、適切に対
処できる。
【００３３】したがって、各除去対象物質を処理施設内
あるいは外部の分析機関で分析していた従来の方式に比
べて、処理液の水質を保証できるだけでなく、分析設備
や手間、コスト、時間を低減できる。
あるいは外部の分析機関で分析していた従来の方式に比
べて、処理液の水質を保証できるだけでなく、分析設備
や手間、コスト、時間を低減できる。
【図１】本発明の一実施形態における吸着塔の運転管理
装置の概略全体構成を示した説明図である。
装置の概略全体構成を示した説明図である。
【図２】本発明の吸着塔の運転管理の原理を説明する、
フッ素およびヒ素の破過曲線と水質基準値との関係を示
したグラフである。
フッ素およびヒ素の破過曲線と水質基準値との関係を示
したグラフである。
【図３】本発明の他の実施形態における吸着塔の運転管
理装置の概略全体構成を示した説明図である。
理装置の概略全体構成を示した説明図である。
１，２，３ 吸着塔
５，６，７ 送液配管
８，９，10 流入配管
11，12，13 流出配管
16 フッ素濃度計
17 制御装置
21 テレメータ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 西本 信太郎
大阪府大阪市浪速区敷津東一丁目２番47
号 株式会社クボタ内
(56)参考文献 特開 平８−24852（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C02F 1/28
C02F 1/42
C02F 1/00
Claims (3)
- 【請求項１】 フッ素とヒ素を除去対象物質として含ん
だ被処理液が通液される吸着塔の運転管理方法であっ
て、処理液中への漏出が許容される上限濃度値に連続監
視不可能なヒ素より早く達する連続監視可能なフッ素を
選定除去対象物質とし、被処理液を吸着塔に通液する際
に、流出する処理液中の選定除去対象物質の濃度を連続
監視し、選定除去対象物質の濃度が上限濃度値に達した
時点で吸着塔内の充填剤を交換または再生してヒ素が上
限濃度値以上に漏出することを防止することを特徴とす
る吸着塔の運転管理方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の吸着塔の運転管理方法を
実施する運転管理装置であって、除去対象物質のフッ素
とヒ素を吸着する複数の吸着塔を互いに直列に連通する
送液配管系と、各吸着塔の流入側に連通する流入配管系
と、各吸着塔の流出側に連通する流出配管系と、前記各
配管系に介装されて所定の吸着塔を通る流路を形成する
複数の自動弁と、前記流出配管系により導出された処理
液中に含まれた前記除去対象物質のうちで選定除去対象
物質に設定するフッ素の濃度を監視する水質監視装置
と、前記選定除去対象物質について設定された上限濃度
値を記憶し、前記自動弁と水質監視装置とに接続して設
けられた制御装置とを備え、この制御装置により、水質
監視装置における選定除去対象物質の測定濃度値が前記
上限濃度値に達した時点で自動弁を開閉操作して、最上
流の吸着塔を除いた別途の流路を形成してヒ素が上限濃
度値以上に漏出することを防止するように構成したこと
を特徴とする吸着塔の運転管理装置。 - 【請求項３】 請求項２記載の吸着塔の運転管理装置に
おいて、制御装置に、選定除去対象物質の測定濃度値が
上限濃度値に達した時点で運転管理者に警報を発する警
報手段を設けたことを特徴とする吸着塔の運転管理装
置。
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| JP35985298A JP3532108B2 (ja) | 1998-12-18 | 1998-12-18 | 吸着塔の運転管理方法および装置 |
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| JP35985298A JP3532108B2 (ja) | 1998-12-18 | 1998-12-18 | 吸着塔の運転管理方法および装置 |
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| JP2000176443A JP2000176443A (ja) | 2000-06-27 |
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-
1998
- 1998-12-18 JP JP35985298A patent/JP3532108B2/ja not_active Expired - Fee Related
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