JP3526892B2 - ホルムアルデヒド含有ガスの浄化方法 - Google Patents
ホルムアルデヒド含有ガスの浄化方法Info
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Description
ガスの浄化処理方法に関するもので、より詳細には、塗
装排ガス等に含有され、従来捕捉の困難であったホルム
アルデヒドを有効に捕捉し、浄化する方法に関する。特
に、本発明は、低濃度のホルムアルデヒドを含む有機溶
剤排ガスを疎水性ゼオライトを担持したフィルターを用
いて効果的に浄化する方法を提供するものである。
化学スモッグの発生要因である。また、それらの多くは
有臭であり、工場が住宅地に隣接している場合にはしば
しば悪臭公害として捉えられることがある。
としては、吸着式溶剤回収法(吸着剤に吸着させて回収
する方法)、酸化分解法(高温に加熱し酸化分解させる
方法)等が広範に行われてきた。これらの方法が急速に
普及したのは排ガスを浄化するという目的と同時に、炭
化水素類を溶剤またはエネルギーとして回収できるとい
う経済的なメリットがあったためと考えられる。
った経済的なメリットを期待出来ない排ガスに対して
も、その浄化に取り組まなければならない状況になって
いる。すなわち、低濃度の排ガス浄化が、特に臭気対策
として必要になっている。なかでも、化学工場、塗装工
場、飼料工場などの排ガスに数ppm〜数十ppm含ま
れるホルムアルデヒドについてはこれまで有効な対策が
なかった。
m以下の場合は、多量の補助燃料が必要となるため経済
性が失われる。
に浄化する方法として、ハニカム式濃縮装置により連続
的に排ガス中の炭化水素を濃縮し、濃縮された小風量の
排ガスを小型の回収装置或いは酸化分解装置で処理する
方式がある。しかし、炭化水素排ガス中にホルムアルデ
ヒドが含まれる場合には、その沸点が−19.5℃と低
く吸着剤に捕捉されにくいためその処理が困難であっ
た。
として活性炭が広範に使用されてきた。しかし、活性炭
自体は可燃性の物質であり活性炭を吸着剤として使用す
る排ガス浄化装置には潜在的に火災や爆発などの危険が
あった。
回避する方法として、不燃性の吸着剤を使用することが
考えられ、新しい吸着剤として疎水性を高めたゼオライ
トが使用され始めている(特表昭60−501495号
公報および特開昭64−85113号公報)。
再生過程で触媒性を示さないゼオライト系吸着剤とし
て、特開平4−210235号公報では、水熱処理した
疎水性ゼオライトを、特開平4−244230号公報で
はアルカリ金属イオン型の疎水性ゼオライトを提供して
いる。また、特開平5−23586号公報は、高沸点成
分を含む排ガスの浄化に対して、吸着剤として固体酸量
0.1mmol/g以下でSiO2/Al 2O3モル比50以上
のゼオライトを提供している。
イトの排ガス浄化装置への適用に関する応用研究は始ま
ったばかりであり、特にその吸着特性については未だ十
分に解明されているとは言い難い。
ライト結晶内の細孔に捕捉されるので、ゼオライト結晶
単位容積当たりの細孔の占める容積(以下、空隙率とい
う)の大きいものほど有機化合物を多く吸着すると考え
られる。実際に大部分の有機溶剤排ガスについてこのこ
とが確認され、通常は空隙率が0.268ml/gとゼ
オライトの中でも最も大きいフォージャサイト型ゼオラ
イトが最も一般的に使用されている。
サイト型ゼオライトを吸着剤としたハニカム式濃縮装置
でホルムアルデヒドを含む排ガスの浄化を試みた。しか
しホルムアルデヒドの濃度が50ppm以下領域ではホ
ルムアルデヒドは吸着されず、ホルムアルデヒドを含む
排ガスの浄化がまったく行われないことが判明した。
機溶剤排ガスの最適な疎水性ゼオライトを用いたハニカ
ム式濃縮装置による浄化方法を提供すべく鋭意検討を重
ねた。
0以上のZSM−5型ゼオライトを50kg/m3以上
の量で有するハニカム構造フィルターが、ホルムアルデ
ヒドの吸着に有効であることを見いだした。
ルデヒドを含む有機溶剤排ガスを疎水性ゼオライトのフ
ィルターを用いて効果的に浄化する方法を提供するにあ
る。
ヒドを含有するガスの浄化に最適な、SiO2 /Al 2
O3 モル比100以上のZSM−5型ゼオライトを50
kg/m3 以上の量で有するハニカム構造フィルターに
0.2〜0.5秒間接触させる方法を提供するものであ
る。
置換体のAlO4それぞれの四面体で、それらがお互い
に頂点の酸素原子を共有し、3次元方向に発達した結晶
構造を形成している。その結果、ゼオライト結晶は他の
鉱物にみられないような非常に大きな空洞や孔路を有し
ている。これらの細孔の入口径はゼオライトによってこ
となるが、通常3〜9オングストロームであり、種々の
分子を細孔内部に捕捉することができる。また、結晶内
部にはAlO4 の負電荷を補うために陽イオンが存在し
ている。この陽イオンによって形成された静電場の影響
により極性分子や分極性分子を選択的に吸着する。汎用
の吸着剤として一般的に使用されているA型ゼオライ
ト、X型ゼオライト等のSiO2/Al 2O3モル比は2
〜5と低く、これらのゼオライトは有機化合物よりも水
を選択的に吸着する。したがって、有機溶剤を含む排ガ
スの浄化用吸着剤としては適当ではない。
0以上で親水性を失い、次第に疎水性を示すようにな
る。このように疎水性を示すゼオライトは、有機溶剤を
含む排ガスの浄化に対して、活性炭と同様に疎水性吸着
剤として有用である。特に、水分が共存する系でも有機
溶剤に対する吸着容量の低下が小さく一定の吸着性能を
示すため気象条件によってその性能が低下する事はな
い。
ヒドを含む有機溶剤排ガスの浄化という課題に対して、
当初疎水性のフォージャサイト型ゼオライトを吸着剤と
したハニカム式溶剤濃縮装置を使用して検討を重ねた。
しかし、一般的な有機溶剤は吸着できるのに、ホルムア
ルデヒドだけは全く吸着されず、十分な排ガス浄化がで
きなかった。
オライトについてホルムアルデヒドの吸着等温線を測定
した。その結果、これまでの知見では予測できなかった
ことであるが、ZSM−5型の結晶構造を有する疎水性
ゼオライトのみが特異的に高いホルムアルデヒドの吸着
特性を示すことがわかった。
着サイトは、結晶内の細孔であるが、その表面は結晶構
造に関係なく酸素原子で形成されている。従って、この
ZSM−5型に対するホルムアルデヒドの特異的な吸着
はその特殊な細孔構造によるものではないかと推定され
る。
型のゼオライト結晶の空孔率は0.268ml/gであ
り、ZSM−5型の場合は0.199ml/gである。
また、窒素吸着法により求めた比表面積はフォージャサ
イト型で約700m2 /g、ZSM−5型で約300m
2 /gである。疎水性ゼオライトは実質的に珪素と酸素
から形成されており、吸着剤の表面状態によって吸着力
が決まるならば、低濃度でもZSM−5型に対してフォ
ージャサイト型の疎水性ゼオライトは常に高い吸着量を
示すはずである。しかし、フォージャサイト型の疎水性
ゼオライトは50ppm以下の濃度域でホルムアルデヒ
ドを全く吸着しないにもかかわらず、ZSM−5型のそ
れは常温でたしかにホルムアルデヒドを吸着する。たと
えば、50ppmのホルムアルデヒドを、30℃におい
て、疎水性のZSM−5型ゼオライトは約1.5g/1
00g吸着するが、疎水性のフォージャサイト型は0.
1g/100g以下の吸着量しか示さない。
アルデヒドに対して格段に優れた吸着性を示すことが判
明したので、さらにハニカム式濃縮装置への適用につい
て検討を行った。
カム構造を有するセラミック繊維のローターに疎水性ゼ
オライトを担持した主要部からなり、このローターは、
吸着部と再生部とにシールで区分され、ローターの各部
分は吸着部と再生部とに交互に出入りする構造になって
いる。ローターは低速で回転し、疎水性ゼオライトに吸
着されたホルムアルデヒドや有機溶剤は再生部で熱風に
より連続的に脱着される。このため、吸着部のローター
は常にホルムアルデヒドや有機溶剤を吸着することがで
きる。
て、疎水性ZSM−5型ゼオライトを担持したものを製
作し、ホルムアルデヒドを含む有機溶剤排ガスの浄化に
適用した。
トの量、即ちローター単位容積当たりの重量(kg/m
3 )は、ローターの有機溶剤保持量および濃縮倍率を決
定する因子であり、特に重要である。ローターに吸着さ
れた有機溶剤は、再生部においてローターから脱着され
るが、このとき熱風とローターの間で熱交換が行われる
ので、吸着された有機溶剤あたりの再生に必要な熱風量
はゼオライトの容積あたりの量が多いほど少なくてす
み、濃縮倍率も高く取れる。実際には、50kg/m3
以上の量があれば、十分な浄化性能及び経済的な有機溶
剤濃縮性能が達成される。
持したローターにおいて、排ガスのローター内における
滞留時間、すなわち接触時間が0.2〜0.5秒の条件
で、最も効率良くホルムアルデヒドが除去された。接触
時間が0.2秒以下の場合は、ローター部におけるホル
ムアルデヒド分子の拡散過程が律速となり、ホルムアル
デヒドの吸着が十分に行われなかったと考えられる。一
方、0.5秒以上の場合は排ガスの浄化は申し分なく達
成されるものであるが、接触時間を長くするということ
は一定の処理ガス量に対して大型のローターを必要とす
ることであり、過大な設備投資につながるので好ましく
ない。
の種類にもよるが、ホルムアルデヒドだけであれば10
0℃以上の温度で行えば良い。
含有ガスとしては、ホルムアルデヒドを比較的低濃度で
含む任意のガス、例えば、化学工場、塗装工場、飼料工
場などの排ガスに適用することができる。
溶剤濃度がメタン換算で500〜5000ppmであ
り、かつホルムアルデヒド濃度が5〜100ppmであ
る排ガス、特に塗料やインクの乾燥乃至焼き付け排ガス
の処理に有用である。
が使用されているが、樹脂の主成分や樹脂の硬化剤成分
として、或いは樹脂の変性剤成分として、フェノール−
ホルムアルデヒド樹脂や、メラミン−ホルムアルデヒド
樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂が使用されているこ
とが多い。
は、樹脂の重縮合により、或いは樹脂の熱分解により、
樹脂中のホルムアルデヒドが発生する。このホルムアル
デヒドは、濃度が比較的低いものであるが、本発明によ
れば、このホルムアルデヒドを有効に除去することがで
きる。
としては、水性塗料乃至インクの乾燥乃至焼き付け排ガ
スや、無溶剤型乃至低溶剤型の塗料乃至インクからの排
ガスが挙げられる。水性塗料乃至インクの場合、溶剤の
主たるものは勿論水であるが、樹脂分の水に対する溶解
性や分散性を向上させ、塗料等に造膜性を付与するた
め、極性有機溶媒等が必ず含有されている。無溶剤型乃
至低溶剤型の塗料乃至インクでは、液状の樹脂分が、紫
外線、放射線、触媒等の作用により硬化して、緻密な被
覆となるものであるが、基体への濡れ性や塗装性等を高
めるために、若干の溶剤が希釈剤として含まれている場
合がほとんどである。また、無溶剤型乃至低溶剤型の塗
料では、塗膜の硬化は紫外線等により行われるとして
も、塗膜の硬化を完結させ、塗膜の歪を取り除くため、
熱処理を行うのが一般的である。従って、排出される排
ガスには、低濃度の有機溶剤成分が含有されているが、
本発明によれば、この様な塗料乃至インクの処理時の排
ガスから、低濃度の有機溶剤成分をも同時に除去するこ
とができる。
は、SiO2/Al 2O3のモル比が100以上、特に2
00乃至5000の範囲にあるのがよい。このZSM−
5型ゼオライトは、上記シリカ分及びアルミナ分に加え
て、ナトリウム等のアルカリ金属分を含有していてもよ
く、またアルカリ金属分が水素に置換された水素型ゼオ
ライトであってもよい。
表面積は、一般に300乃至400m2 /gの範囲にあ
り、一方細孔容積は、0.18〜0.21cc/gの範
囲にあることが望ましい。また、その粒子径は、一般に
1乃至5μmの範囲内にある。
の方法、例えば、シリカ源、アルミナ源、アルカリ金属
成分及び水を、塩基性有機窒素化合物をテンプレートと
して水熱処理する方法や、テンプレートを用いることな
く、水性コロイドシリカゾル、アルミン酸アルカリ、及
び水酸化アルカリを水熱処理する方法等により得られ
る。
ルターとしては、既に指摘した通り、ハニカム構造を有
するセラミック繊維のローターに疎水性ゼオライトを担
持させたものが有利に使用されるが、これに限定される
ことなく、他のハニカム基体にZSM−5型ゼオライト
を担持させたものや、ZSM−5型ゼオライトを、必要
によりクレイ等の無機成形助剤や樹脂等の有機成形助剤
と共に、ハニカムに成形したものを用いることもでき
る。
填量は、50kg/m3 以上、特に70乃至150kg
/m3 の範囲にあることが好ましい。ZSM−5型ゼオ
ライトの充填量が余り大きくなりすぎると、ガスの圧損
が増大し、コストも高くなるので好ましくない。
いが、一般に400乃至6000mm程度のものが適当
であり、吸着部と脱着部との面積比率は、一般に7:1
乃至3:1の範囲にあるのがよい。ローターの回転速度
は、1.5乃至8回転/時間、特に2乃至5回転/分の
範囲で変化させることができる。
の吸着性の点で、ハニカムフィルターに、60℃以下、
特に40℃以下の温度で供給することが好ましい。勿
論、排ガスが上記温度よりも高温である場合には、冷却
し、または排ガス中にタール分や粉塵が含有されている
場合には集塵操作を行うことができる。
溶剤濃度を100ppm以下となし、かつ同時にホルム
アルデヒド濃度を5ppm以下とすることが望ましい。
0℃の温度で、また吸着剤の吸着平衡特性によっても相
違するが、脱着−吸着の温度差が30乃至450℃、特
に80乃至200℃となるように、吸着処理を行うこと
が好ましい。脱着用高温キャリアーガスは、処理用ガス
の一部を、上記温度に加熱して、用いるのが好ましい。
濃度に濃縮されており、有機成分の濃度は、一般に爆発
下限界値の30%以下の範囲であり、濃縮の程度は、5
乃至15倍のオーダーである。このため、この濃縮ガス
は、少ない燃料での混燃で、或いは触媒との接触による
酸化で容易に処理を行えるという利点を与える。
を図1に示す。本実施例で使用するローター式吸着装置
1は、吸着剤ローター2からなっており、この吸着剤ロ
ーター2は、吸着域3、脱着域4及び冷却域5をこの順
序に横切るように設けられている。
を、吸着域3に供給して、有機成分を吸着剤ローター2
に吸着させ、前記ガスの一部を冷却域5に供給し、この
ガス7を熱交換器8により高温に加熱し、この高温ガス
9を、前記吸着装置の脱着域4に供給し、有機成分を脱
着して、有機成分の濃縮ガス10を生成させる。
気処理装置11に供給し、濃縮ガス中の有機成分を酸化
燃焼させることにより、大気中に放出可能なガスに転化
する。このガスは高温であるので、前述した熱交換器8
に供給し、脱着用高温ガスへの加熱に利用する。
0mmφであった。ローター2の約75%は吸着部であ
り、残り約25%は再生部(脱着域4及び冷却域5)で
ある。ローターは4rpmで回転し、再生部には180
℃の熱風が供給され、ホルムアルデヒド及び有機溶剤を
吸着した部分は連続的に再生される。
オライトを100kg/m3で担持したハニカムロータ
ーを用い有機溶剤排ガスの浄化試験を行った。排ガスの
温度、組成を表1に示す。
の排ガス中の全有機溶剤濃度(以下THCという)およ
びホルムアルデヒド濃度を表2に示す。この結果から、
接触時間が0.2秒以上であれば、ホルムアルデヒドを
含む排ガスの浄化が有効に行われることがわかる。
ト型ゼオライトを100kg/m3で担持したハニカム
ローターを用い、実施例1と同様に有機溶剤排ガスの浄
化実験を行った。結果を表3に示す。THC濃度は低下
しているがホルムアルデヒドはほとんど除去されていな
いことがわかる。
ムアルデヒド含有ガスの浄化が可能になった。特に、ホ
ルムアルデヒドの濃度が50ppm以下である有機溶剤
排ガスがハニカム式濃縮装置において可能になった意義
は大きい。すなわち、人体に有害なホルムアルデヒドの
放出が抑制するため経済的で、装置の発火などの危険性
のない方法が提供された。
る。
Claims (2)
- 【請求項1】 ホルムアルデヒド含有ガスをSiO2 /
Al 2 O3 モル比100以上のZSM−5型ゼオライト
を50kg/m3以上の量で有するハニカム構造フィル
ターに0.2〜0.5秒間接触させることを特徴とする
ホルムアルデヒド含有ガスの浄化方法。 - 【請求項2】 全有機溶剤濃度がメタン換算で500〜
5000ppmであり、かつホルムアルデヒド濃度が5
〜100ppmであるホルムアルデヒド含有ガスを、前
記接触により、全有機溶剤濃度を100ppm以下とな
し、かつ同時にホルムアルデヒド濃度を5ppm以下と
する請求項1記載の方法。
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JP23040593A JP3526892B2 (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | ホルムアルデヒド含有ガスの浄化方法 |
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JPH0780248A JPH0780248A (ja) | 1995-03-28 |
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Cited By (1)
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1993
- 1993-09-16 JP JP23040593A patent/JP3526892B2/ja not_active Expired - Fee Related
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