JP3526728B2 - 酸化・拡散チューブ、キャップ、小キャップ及び炉 - Google Patents
酸化・拡散チューブ、キャップ、小キャップ及び炉Info
- Publication number
- JP3526728B2 JP3526728B2 JP20873297A JP20873297A JP3526728B2 JP 3526728 B2 JP3526728 B2 JP 3526728B2 JP 20873297 A JP20873297 A JP 20873297A JP 20873297 A JP20873297 A JP 20873297A JP 3526728 B2 JP3526728 B2 JP 3526728B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cap
- oxidation
- diffusion
- groove
- furnace
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
散又は酸化等に用いる酸化・拡散チューブ、キャップ、
小キャップ及び炉において、酸化・拡散チューブとキャ
ップ又はキャップと小キャップの接合時に、それらが取
り外しにくくなることを防いだ、不純物の拡散又は酸化
等に用いる酸化・拡散チューブ、キャップ、小キャップ
及び炉に関するものである。
物などの拡散等の工程を幾度となく繰り返し、最終完成
品(チップ)を製造するわけであるが、これら酸化や不
純物などの拡散等の工程では従来から酸化又は拡散炉が
非常によく使用される。
に複数枚のウェーハを収納し、そのボートを炉内に入
れ、適当な温度、圧力、時間、ガス雰囲気の中で酸化・
拡散等を行うことにより、炉内の複数枚のウェーハに同
時にかつ一様でほとんどバラツキのない酸化又は拡散等
の処理を施すことが出来る。図13に従来の酸化・拡散
チューブの断面図、図14に従来のキャップの断面図、
図15に従来の小キャップの断面図を示す。
口部分拡大図2に示されるキャップ(図14)との接合
部分3を有する酸化・拡散チューブ(図13)を適当な
温度に加熱しておいて、まず、キャップを開け、酸化・
拡散チューブの中の炉口部分4に複数枚のウェーハを収
納したボートを入れ、小キャップ(図15)をはずして
いる状態のキャップを閉め、小キャップを閉める部分の
穴8から引出棒を挿入してボートを炉の中心(均熱)部
分5に移動させた後、小キャップを閉め、ガス導入口1
からガス排出孔9に適当なガスを流すことにより、適当
な温度、圧力、時間、ガス雰囲気の中でウェーハに酸化
・拡散等を行う。図16に従来の酸化・拡散チューブに
従来のキャップを接合させた場合の断面図、図17に従
来のキャップに従来の小キャップを接合させた場合の断
面図を示す。
散時には、外部との気密性を保つため、漏れのない確実
な接合が要求される。したがって、図16及び図17に
示すとおり、酸化・拡散時は、接合時の炉口部分拡大図
11の酸化・拡散チューブとそのキャップとの接合部分
12及びキャップと小キャップとの接合部分13は完全
に密着している。しかし、取り外し(開閉)の機会も多
いことから、取り外しがしやすいように、従来から接合
部分には図13から図15に示すような傾斜構造(すり
合わせによる接合部分)が施されている場合が多い。す
なわち、酸化・拡散チューブのキャップとの接合部分
3、キャップの酸化・拡散チューブとの接合部分6、キ
ャップの小キャップとの接合部分7及び小キャップのキ
ャップとの接合部分10には傾斜構造が施されている。
また、他の従来例として、自動的にキャップが開閉でき
る酸化・拡散炉や、複数の小キャップ用の穴を持つキャ
ップも存在する。
から図15に示すような従来型の酸化・拡散チューブ、
キャップ及び小キャップでは次の様な問題点を有してい
た。 (1).図16及び図17の接合部分は酸化・拡散時には、
外部との気密性を保つため、漏れのない確実な接合が要
求されるが、逆に取外し時には非常に取り外しにくい場
合があるという欠点があった。
機会の多い接合部分にも引っ付き、特に粘性のある副産
物は取外し時に非常に取り外しにくい結果をもたらす場
合があった。 (3).取外しがしにくい場合は時間を要するため、生産性
が低下したり、酸化・拡散チューブ内のウェーハの処理
条件が異なってしまうので、歩留りの低下を招く場合が
ある。
分を横からたたいたりしてなんとかはずそうとする場合
があるが、最悪の場合、炉内のウェーハが割れて炉内に
散乱する場合や、酸化・拡散チューブ、キャップ又は小
キャップが割れてしまう場合があり、生産性の低下のほ
かに作業環境の汚染、炉の破損等、多大な損害を被る場
合がある。
拡散時に外部との気密性を保つため、漏れのない確実な
接合を実現しながら、拡散時の粘性のある副産物が発生
した場合であっても容易にその取外しを行うことができ
る酸化・拡散用の酸化・拡散チューブ、キャップ、小キ
ャップ及び炉を提供することである。
に本発明は次の構成を有する。すなわち本発明は、不純
物の拡散又は酸化に用いる炉で使用される酸化・拡散チ
ューブにおいて、前記酸化・拡散チューブは、前記キャ
ップとの接合時に接合部分の接触面を減らすため、該酸
化・拡散チューブの接合部分に溝を設け、前記接合時
に、前記溝にNF3、NF4又はSF6の内の少なくとも
1つを含むガスを流し、酸化・拡散チューブとキャップ
が取り外しにくくなることを防いだことを特徴とするも
のである。これにより、確実な接合を維持しつつ、接合
の接触面積を小さくすることが可能になる。
にして、その溝にガスを流すことにより、溝にたまった
拡散等による副産物をガスで押し出すことから、従来例
よりも格段に容易にその取外しを行うことができるため
に、好ましい。さらに、溝に流す上記ガスをNF3、C
F4又はSF6とすることにより、これらのガスは、拡散
時の粘性のある副産物を溶かすことからより一層、副産
物の除去に効果を発揮するため、好ましい。
散チューブ、キャップ及び小キャップの断面図を示す。
図1では、炉口部分拡大図2に、酸化・拡散チューブの
キャップとの接合部分3に接触面積を減らすため削り取
った部分14を設けることが示されている。図2には、
キャップの酸化・拡散チューブとの接合部分4に接触面
積を減らすため削り取った部分14を設けることが示さ
れている。図3には、小キャップのキャップとの接合部
分10に接触面積を減らすため削り取った部分14を設
けることが示されている。図4には、キャップの小キャ
ップとの接合部分7に接触面積を減らすため削り取った
部分14を設けることが示されている。
のキャップを接合させた場合の断面図、図6に本発明の
キャップに従来の小キャップを接合させた場合の断面図
を示す。図5では、酸化・拡散チューブとキャップとの
接合時の炉口部分拡大図11に、その接合部分12の酸
化・拡散チューブ側に接触面積を減らすため削り取った
部分14を設ける点が示されている。図6では、キャッ
プと小キャップとの接合部分13のキャップ側に接触面
積を減らすため削り取った部分14を設ける点が示され
ている。本発明では、接合部分全体よりも接触面積が小
さいが、一部の接触部分が存在することから、外部との
気密性は保たれ、漏れのない確実な接合が実現できる。
プ及び小キャップを使用した場合、拡散等で発生した副
産物は脱着機会の多い接合部分にも引っ付き、特に粘性
のある副産物は取外し時に非常に取外しにくい結果をも
たらす場合があったが、本発明は接合部分全体よりも接
触面積が小さく、かつ、それらの副産物は接触面積を小
さくするために削り取られた空間に留まるので、本発明
を使用すれば従来例と比べ開閉の作業性が向上する。
面積、形状や削り取る部分の面積、形状等については特
に述べなかったが、これらの面積、形状等が本発明の主
旨に差異をもたらさないことはいうまでもない。また、
実施の形態として図5、図6を挙げたが、酸化・拡散チ
ューブ、キャップ及び小キャップのどちらか一方に本発
明を使用した場合、そのすべての図示はしていないが、
上記した本発明の効果が得られることは明らかである。
異なった形状の本発明の酸化・拡散チューブ、キャップ
及び小キャップの断面図を示す。図7には、酸化・拡散
チューブのキャップとの接合部分3に螺旋状の溝15を
設けることが示されている。図8には、キャップの酸化
・拡散チューブとの接合部分6に螺旋状の溝15を設け
ることが示されている。図9には、小キャップのキャッ
プとの接合部分10に螺旋状の溝15を設けることが示
されている。このように、酸化・拡散チューブ、キャッ
プ又は小キャップのそれぞれの削り取った部分の形状を
螺旋状にしても前述のように、外部との気密性は保た
れ、漏れのない確実な接合が実現でき、拡散等の副産物
は螺旋状に削り取った溝に留まるので、本実施の形態の
場合でも従来例と比べ、開閉の作業性が向上する。
深さ等の形状については特に述べなかったが、これら溝
の形状が本発明の主旨に差異をもたらさないことはいう
までもない。図11に従来の酸化・拡散チューブに本発
明のキャップを接合させた場合の断面図、図12に本発
明のキャップに従来の小キャップを接合させた場合の断
面図を示す。本発明の接合部分には導入口16から排出
口17まで一連の溝15が施されていて、接合部分全体
よりも接触面積が小さいが、一部の接触部分が存在する
ことから、外部との気密性は保たれ、漏れのない確実な
接合が実現できる。
と小キャップのどちらか一方に本発明を使用した場合、
図示はしていないものも含め、上記した本発明の効果が
得られることは明らかである。また、図8、図10から
図12に示したような螺旋状溝の出入口16、17より
ガスを流すことにより、溝にたまった拡散等による副産
物はガスで押し出されることから容易に取り除くことが
出来、その結果、従来と比較して開閉の作業性が格段に
向上する。ガスの種類、流量等については特に規定しな
いが、炉口は高温であるので、高温で爆発、分解等が生
じないガスであれば、本発明の主旨を達成できるものと
考えられるため、必ずしもガスの種類が本発明の主旨に
差異をもたらすものではない。
層を設ける場合、主にPOCl3等を拡散ソースとして
使用する。この拡散では、非常に粘性のある副産物が生
成され、キャップ、小キャップの取外し時に非常に取り
外しがしにくいという結果をまれにもたらす。
の部分に流せば、溝にたまった拡散等による副産物はガ
スで押し出され、かつこれらのガスは、拡散時の粘性の
ある副産物を溶かすことからより一層、副産物の除去に
効果を発揮し、開閉の作業性が向上する。
ば、酸化・拡散時に外部との気密性を保ち、漏れのない
確実な接合を実現しながら、拡散時の粘性のある副産物
が発生した場合であっても容易にその取外しを行うこと
ができるため、作業性が向上し、また、歩留りの低下、
作業環境の汚染等の低減に著しい効果を発揮する。
をはめ込んだ(接合した)場合の断面図。
んだ(接合した)場合の断面図。
プをはめ込んだ(接合した)場合の断面図。
込んだ(接合した)場合の断面図。
をはめ込んだ(接合した)場合の断面図。
んだ(接合した)場合の断面図。
Claims (9)
- 【請求項1】 不純物の拡散又は酸化に用いる炉で使用
される酸化・拡散チューブにおいて、 前記酸化・拡散チューブは、前記キャップとの接合時に
接合部分の接触面を減らすため、該酸化・拡散チューブ
の接合部分に溝を設け、 前記接合時に、前記溝にNF3、NF4又はSF6の内の
少なくとも1つを含むガスを流し、酸化・拡散チューブ
とキャップが取り外しにくくなることを防いだことを特
徴とする不純物の拡散又は酸化に用いる炉で使用される
酸化・拡散チューブ。 - 【請求項2】 不純物の拡散又は酸化に用いる炉で使用
されるキャップにおいて、 前記キャップは、前記酸化・拡散チューブとの接合時に
接合部分の接触面積を減らすため、該キャップの接合部
分に溝を設け、 前記接合時に、前記溝にNF3、NF4又はSF6の内の
少なくとも1つを含むガスを流し、酸化・拡散チューブ
とキャップが取り外しにくくなることを防いだことを特
徴とするキャップ。 - 【請求項3】 不純物の拡散又は酸化に用いる炉におい
て、 接合部分の接触面積を減らすため、請求項1及び請求項
2に記載された不純物の拡散又は酸化に用いる炉で使用
される酸化・拡散チューブとキャップを同時に用いたこ
とを特徴とする炉。 - 【請求項4】 不純物の拡散又は酸化に用いる炉で使用
されるキャップにはめられる小キャップにおいて、 前記キャップとの接合時に接合部分の接触面積を減らす
ため、小キャップの接合部分に溝を設け、 前記接合時に、前記溝にNF3、NF4又はSF6の内の
少なくとも1つを含むガスを流し、キャップと小キャッ
プが取り外しにくくなることを防いだことを特徴とする
小キャップ。 - 【請求項5】 不純物の拡散又は酸化に用いる炉で使用
されるキャップにおいて、 小キャップとの接合時に接合部分の接触面積を減らすた
め、キャップの接合部分に溝を設け、 前記接合時に、前記溝にNF3、NF4又はSF6の内の
少なくとも1つを含むガスを流し、キャップと小キャッ
プが取り外しにくくなることを防いだことを特徴とする
キャップ。 - 【請求項6】 不純物の拡散又は酸化に用いる炉におい
て、 接合部分の接触面積を減らすため、請求項4及び請求項
5に記載された不純物の拡散又は酸化に用いる炉で使用
される小キャップとキャップを同時に用いたことを特徴
とする炉。 - 【請求項7】 前記溝の形状が螺旋状になっており、そ
の螺旋状溝には入口と出口があることを特徴とする請求
項1記載の不純物の拡散又は酸化に用いる炉で使用され
る酸化・拡散チューブ。 - 【請求項8】 前記溝の形状が螺旋状になっており、そ
の螺旋状溝には入口と出口があることを特徴とする請求
項2又は5に記載の不純物の拡散又は酸化に用いる炉で
使用されるキャップ。 - 【請求項9】 前記溝の形状が螺旋状になっており、そ
の螺旋状溝には入口と出口があることを特徴とする請求
項4記載の不純物の拡散又は酸化に用いる炉で使用され
る小キャップ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20873297A JP3526728B2 (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 酸化・拡散チューブ、キャップ、小キャップ及び炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20873297A JP3526728B2 (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 酸化・拡散チューブ、キャップ、小キャップ及び炉 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1154444A JPH1154444A (ja) | 1999-02-26 |
JP3526728B2 true JP3526728B2 (ja) | 2004-05-17 |
Family
ID=16561169
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20873297A Expired - Fee Related JP3526728B2 (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 酸化・拡散チューブ、キャップ、小キャップ及び炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3526728B2 (ja) |
-
1997
- 1997-08-04 JP JP20873297A patent/JP3526728B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH1154444A (ja) | 1999-02-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2019503086A (ja) | 半導体産業用のシリコンのインジェクター | |
KR100284567B1 (ko) | 수직 웨이퍼 보트 | |
US5869405A (en) | In situ rapid thermal etch and rapid thermal oxidation | |
JP3526728B2 (ja) | 酸化・拡散チューブ、キャップ、小キャップ及び炉 | |
US7432204B2 (en) | Wafer and the manufacturing and reclaiming methods thereof | |
JP4566555B2 (ja) | 誘電膜の形成方法 | |
US6176934B1 (en) | Inflatable door seal | |
CN101457350A (zh) | 进气装置、低压化学气相沉积设备及化学气相沉积方法 | |
JP3526737B2 (ja) | 酸化・拡散用二重管式チューブ及び炉 | |
US7732009B2 (en) | Method of cleaning reaction chamber, method of forming protection film and protection wafer | |
JP2006339370A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
KR0165820B1 (ko) | 반도체 디바이스 제조장치의 막 형성장치 | |
JP3727147B2 (ja) | エピタキシャルウェハの製造方法およびその製造装置 | |
JP2001082621A (ja) | プロセスガス供給ユニット | |
US20010051214A1 (en) | Apparatus and method for vapor deposition | |
JPS58171563A (ja) | チユ−ブ型プラズマcvd装置 | |
JPH0799157A (ja) | 成膜方法および装置 | |
JPS61198717A (ja) | 化学的気相成長装置 | |
KR19980056101A (ko) | 수평형 퍼니스에서의 반도체 제조 방법 | |
KR101516587B1 (ko) | 웨이퍼용 열처리 노 세정 방법 | |
JP3866954B2 (ja) | ウェハ保管用カセット及び半導体製造装置 | |
JPS60109217A (ja) | 半導体チツプ収納用トレイ | |
KR100768673B1 (ko) | 샤워헤드 | |
JPS61156725A (ja) | 気相成長装置 | |
TW202418446A (zh) | 包含閘閥組件的基板處理系統 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040119 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040210 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040217 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080227 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090227 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100227 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |