JP3523865B2 - ガス浄化法またはガス冷却法および装置 - Google Patents

ガス浄化法またはガス冷却法および装置

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Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、粒子の分離、ガス汚染物の吸収またはガス
冷却のための、ガスを微細液滴と接触させる汚染ガス浄
化法および熱ガス冷却法に関するものである。微細液滴
は、ガス本流に対して実質的に直角方向の複数の面の中
に規則的に配置されるように、本質的に傘状または本質
的に線形カーテン状で供給される。また本発明は前記方
法を実施する装置に関するものである。この装置は、汚
染ガスおよび／または熱ガスの導入口と、浄化されたガ
スおよび／または冷却されたガスの排出口と、前記の導
入口と排出口との間に配置された接触区域とを含む。前
記接触区域は、微細液滴を本質的に傘状または線形カー
テン状に噴射するための複数の供給手段を含み、前記供
給手段は、ガスの本流方向に本質的に直角の複数の面に
配置される。
本特願において考察される技術的問題点の解決法は、
あらゆるサイズのガス浄化装置、いわゆるスクラバー、
およびガス冷却装置、例えば空調塔および熱回収装置に
応用する事ができる。しかし最高の需要、従って最大の
用途は大型工場、大型発電所、または大型焼却プラント
にある。従って下記の説明において、装置は工業規模の
装置であって、ガス洗浄塔が約１−20メートルの直径と
約１−40メートルの高さとを有すると仮定する。下記に
おいて便宜上、「洗浄」とは浄化または冷却またはその
両方を指すものとする。
本発明の方法は開放型ガス洗浄塔にのみ応用可能であ
る。いわゆる充填スクラバーまたは充填カラムは本発明
の方法の接触部分としては使用できない。しかしもちろ
んカスケード接続型構造においては、本発明の洗浄方法
と例えば充填カラムとを組合わせて使用する事ができ
る。
本発明の方法は、特に汚染熱ガスからガス浄化と熱回
収とを組合わて実施する状況に好適である。液とガスと
の良好な接触は伝熱効果を増進することからである。
技術的背景 粒子またはガス物質を除去するための汚染ガス浄化処
理は今日の工業社会においては重要な一般的なプロセス
である。各種の技術が開発され、今日ではガス浄化プラ
ントを設計する際に、また非常に特殊な汚染物質を除去
する際に選択すべき種々の方法がある。
しばしば粒子状の汚染物質はダイナミックセパレー
タ、例えばサイクロン、静電沈降装置またはバリヤフィ
ルタ、バッグフィルタおよびカセットフィルタによって
除去される。
ガス汚染物質は一般にガスを粒状物質に転化するため
にある種の添剤を使用する間接的技術によって除去され
る。例えば、これらの汚染物質を乾燥粒子または湿潤粒
子上に結合させ、あるいは汚染物質をガス状または液状
の物質と反応させて粒子生成物を生じ、この反応生成物
を粒子セパレータの中で分離する事によって除去され
る。
ガス温度を調節しまたはガスから熱を回収するために
ガスを冷却する技術は今日では重要な一般的なプロセス
である。一般に伝熱は、回収型あるいは再生型熱交換器
によって実施され、または熱媒体と冷媒体との間の直接
接触によって実施される。本発明はガスと液との間の直
接接触による伝熱に関するものであるから、他の技術に
ついては述べない。
多くの点において有効な１つの方法は、ガスを微細液
滴の雨の中を通し、または液体のあふれ流の表面にそっ
て案内するにある。これらの方法は熱ガスを冷却すると
共に、粒子を液体中に捕捉し、また汚染ガスのガス成分
を液体中に溶解させる事ができる。またこの液体は、溶
解したガス成分を固体状に転化してこれを液体から分離
しやすくするための物質を含有する事ができる。
液体は通常、洗浄装置の中を循環されるが、液体の一
部が一般に連続的に除去されてその熱を他の用途にし使
用し、あるいは汚染物質をガス状または固体状で分離す
るために処理され、オプションとして有益物質を回収す
るために処理され、このように冷却されまた処理された
液体がガス洗浄プラントの中に再び使用するために回収
される。
これらのガス洗浄プラントは、ガスが微細液滴にのみ
遭遇する開放型塔と、ガスがサドル型またはコイル型の
小部材を充填された塔を通して流れ、これらの部材の上
に液体が噴霧されて液体薄膜を成し、この薄膜が表面全
体にそって流下するようにした充填スクラバーまたは充
填カラムとに大別される。
充填スクラバーは本発明の応用分野の中には入らない
ので、これについては説明しない。
二酸化硫黄を分離しまた熱を回収するためにガスを回
収するための開放塔の実施例が例えばUS3,532,595号に
記載され、この特許においては垂直塔と、水平ガス流を
有するスクラバーとが開示され、液体は数レベルまたは
数箇所において供給される。US3,4164,399はこれより簡
単な設計の処理塔を示し、この場合に液体は１レベルに
おいてのみ供給されるが、数レベルにおいて捕集された
後に分配される。
US2,523,441は開放塔と充填区域との組合せを示して
いる。
前記のそれぞれの技術においては、ガス洗浄塔の中に
使用される液体が洗浄塔内部の運動の大部分において重
力によって落下しまたは下方に流れる必要がある。しか
しまた、多少とも水平方向の液体カーテンを通してガス
が流されるスクラバーの設計も公知である。その１例は
SE103,474に記載された非常に複雑な設計であって、こ
の場合ガスの下降運動は大部分垂直壁体にそって生じる
とみなされる。他の２例がUS2,589,956およびUS3,691,7
31に記載されるている。
US4,583,999に記載の中間設計においては、洗浄液は
水平方向に供給されるが、ある程度減速した後に微細液
滴の雨として下降する。
先行技術の中で本発明に最も近い型のガス洗浄塔にお
いては、例えばDE−A13341318またはUS3,532,595におい
ては液体が４乃至６レベルで供給される。各レベルは円
錐形または中空円錐形の区域に、あるいは完全円錐形ま
たは中実円錐形区域の中に微細液滴を分布させる数個の
ノズルを備えている。この円錐形の頂角90−120゜であ
る。
各レベルは、規則的格子状に0.5−1mの間隔に配置さ
れた複数のノズルを備えている。レベルの間隔は１−2m
である。少なくとも１部のレベルが塔の底部から相当上
方に配置される。この目的は、これらのレベルが塔の高
さの相当部分にわたって、よく分布された雨の形で下降
する微細液滴を生じるにある。
ガス洗浄塔の効率は、液滴とガスとの相対運動に大き
く依存している。従って一般に、ガス流が下降液滴と逆
に上方に流れる事が好ましいが、すなわち逆流が望まし
いが、二、三の理由から、ガスが下降液滴と同一方向
に、すなわち共流的に下降するガス洗浄器が存在する。
この方法を使用した場合にガス洗浄効率を増大しよう
とするならば、処理塔の高さを増大する必要があり、あ
るいは洗浄液のレベルを上昇させる必要がある。いずれ
にしても、その結果として一定のガス流量に対してポン
プ仕事が増大する。
発明の説明 技術的問題点 開放型ガス洗浄塔は大きなスペースを必要とするとい
う欠点がある。この欠点は相当の建設コストを生じる。
前記の欠点から生じるもう１つの問題点は洗浄塔が一般
に非常に高くなければならない事である。これは微細液
滴の雨の形で洗浄塔を通して下降する液体を最初に相当
の高さまでポンプ輸送しなければならない事を意味す
る。このようなポンプ仕事は運転コストに対する大きな
インパクトを与える。
本発明の目的 湿式洗浄塔、いわゆるスクラバーにおけるガスの浄化
およびガス冷却は、プロセス工業、発電所および焼却プ
ラントにおいて数十年来確立された技術である。この技
術はよく検討されており、効率的で確実な技術と見なさ
れる。しかし前記のようにその明白な欠点は、この装置
が大きなスペースを必要とし従って建設コストが高く、
またその大きなポンプ仕事のゆえに多大のエネルギーを
必要とする事にある。
従って本発明の主目的は、公知の方法の信頼性と効率
とを保持しながら、より小型の洗浄装置を使用する改良
法を提供するにある。
本発明の他の目的は、ガス浄化およびガス冷却のため
のエネルギー消費量の少ない方法および装置を提供する
にある。
発明の概要 本発明は、粒子の分離、ガス汚染物の吸収またはガス
冷却のために、ガスを微細液滴と接触させるように成さ
れた汚染ガス浄化法および／または熱ガス冷却法に関す
るものである。微細液滴が、ガス本流に対して実質的に
直角方向の複数の面の中に規則的に配置されるように、
本質的に傘状または本質的に線形カーテン状に供給され
る。
本発明によれば、汚染ガスの本流方向に直角の方向に
ガスに対して液の衝撃作用を加える事によりガスを交互
に濃縮し拡張させるように微細液滴を供給する事によっ
て前記の技術的問題点が解決される。
また微細液滴を供給される隣接面の間においてガス流
の実質的平衡化が生じないようにこれらの隣接面間の垂
直距離が調節される。
ガス本流方向に見てすぐ上流の面に供給された液の衝
撃作用によりガス流が濃縮された箇所に対応して下流の
面の中に液供給が生じるように、隣接面の中に液供給が
実施される。
発明の全体的説明 下記の説明において、用語「塔」は「洗浄塔」と同義
語であり、また用語「液」は「洗浄液」と同義語であ
る。用語「ガス」は、流入ガス、汚染ガスまたは熱ガ
ス、および接触部において浄化または冷却されているガ
スを意味する。
本発明の方法において、ガスは規則的に配置された供
給手段から微細液滴を供給される。これらの供給手段は
下記においてノズルと呼ばれ、種々の設計とする事がで
きる。最も一般的なノズルの型は実質的に円筒形の本体
の回りに傘状の中級円錐形に微細液滴を供給する手段、
また／あるいは実質的にまっすぐな線にそってこの線の
仮想運動によって生成されるカーテンとして微細液滴を
供給する細長い手段である。
これらのノズルは、これらのノズルから供給された微
細液滴がガス本流に対して横方向の運動をガスに加えて
その濃度効果を生じるように配置されている。これらの
ノズルは一般的に、スクラバーを通るガス本流方向に対
して直角方向の主成分を有する液体を供給する。これら
のノズルは１つの面において同一方向に噴霧し、次の面
において反対方向に噴霧するように配向する事ができる
が、好ましくはすべての面が円形噴霧傘状ノズルを備
え、または少なくとも２つの反対方向に液体を分布する
線形ノズルを備える。
格子形の中に配置されまたガス本流に対して直角方向
に液体を供給するノズルを使用する事により、ガスの移
動と濃度は、実質的にガス流全体がノズルに隣接してい
ない区域を通るように生じる。ノズル間隔が均等である
ので、この区域は、隣接ノズルを結ぶ線によって画成さ
れる面積の重心の回りに配置される。
本発明によれば、ガス本流方向に見て第１面の下流に
ある第２面においては、ノズルは第１面のこれらの重心
に対向配置されなければならない。また本発明によれ
ば、ガス流が次の下流面のノズルから噴射される微細液
滴と接触する前にこのガス流が相当程度に平衡化される
のに十分なスペースと時間が存在しないように、これら
のノズル配置面を近接配置しなければならない。
第２面の下流には、同様に第３面および第４面、さら
に必要なら次の面が配置される。このようにして、ガス
−液滴接触区域を通してガスのジクザク運動が与えられ
る。
ノズル配置面間の距離はノズルの設計に対応して、１
つの面において噴射される液が隣接面の中の隣接ノズル
から噴射される逆流液と干渉しないようにしなければな
らない。しかしまた、この面間距離は完全に液滴のない
区域をできるだけ避けるほどに小でなければならない。
1m以下、好ましくは0.6m以下とする。
このような干渉の測定される場合として、１つの面の
ノズルから噴射された液滴の一部が隣接面の中の隣接ノ
ズルから噴射された高濃度または高密度の液滴流と遭遇
する場合がある。この干渉の生じる空間点において、液
滴流の断面分布における液滴流密度はノズルからの距離
に対応して極大値の少なくとも10％まで低下しなければ
ならない。
効率はガスと液との間の接触強さに依存するが、面の
間隔とノズルの液滴分布は小干渉が生じるように調節さ
れる事が好ましい。このようにして一方のノズルからく
る小量の液滴が隣接ノズルからくる小量の液滴と接触す
る。本発明によれば、２つの液滴流が同等の密度を有す
るとしてこれらの液滴流の間に仮想的境界線の引かれる
箇所に、最大液滴流密度の少なくとも0.01％、好ましく
は少なくとも0.1％の密度が存在しなければならない。
ノズルを備えた２面のみを使用する場合、第１面につ
いて「傘」の円錐角度は任意に選定されるが、第２面に
ついては、２つの面の傘が相互に実質的に接線を成すよ
うに円錐角度が調節される。数ノズル面を必要とする場
合には、液を実質的に平面にそって供給する事、すなわ
ち180゜の円錐角度を使用する事が望ましい。この構造
は対称性を与える。２面のみの場合にも、この角度は最
も効果的である。
１つの面におけるノズルは好ましくは規則的に分布さ
れる。すべての面が同数のノズルを備える場合、正方形
格子が最も望ましい。しかし等辺三角形の格子点はなん
らの問題を生じないが、各ノズル面が相異なる格子点対
数を有しなければならない。また菱形格子および前記の
完全線形平行ノズルを使用する事ができる。
本発明の利点を達成するためには、各面における格子
点数は比較的大であって、少なくとも16、好ましくは少
なくとも25とする。線形ノズルの場合、各面において少
なくとも５ノズルを使用しなければならない。
図面の簡単な説明 以下、本発明を図面に示す実施例について詳細に説明
するが本発明はこれに限定されるものではない。
第１図は通常設計の洗浄塔の垂直断面図である。
第２図は本発明による洗浄塔の垂直断面図である。
第３図は円形断面の洗浄塔の中のノズルの本発明によ
る分布を示す平面図である。
第４図は円形断面の洗浄塔の中のノズルの他の分布を
示す平面図である。
第５図は相異なる面の隣接ノズル間の液滴分布を示す
側面図である。
第６図は第５図のノズルの空間座標における液滴流密
度分布を示すグラフである。
第７図は正方形断面の洗浄におけるノズルの本発明に
よるノズル分布の平面図である。
第８図は本発明による洗浄塔を通るガス流を示すダイ
ヤグラムである。また 第９図は他のノズル設計による線形ノズルを中心とす
る液滴分布を示すダイヤグラムである。
好ましい実施態様の説明 第１図に図示の公知の洗浄塔1aは、汚染ガス導入口２
と、浄化されたガスの排出口３と、中間接触区画４とを
有する。洗浄塔1aの底部に洗浄液６が捕集される。洗浄
液６はポンプ７によって分配管８までポンプ輸送され、
またノズル9aが接触区画４の上部に配置されている。ノ
ズル9aを備えた面81−84の間のレベル差は約2mである。
ノズル9aはきわめて略示されているが、中空円錐形であ
って、すなわち頂角120゜の円錐シェルの中に洗浄液の
微細的を噴射する。次に洗浄液は小滴の雨のように接触
区画を通して下降し、底部５の中に捕集される。分配管
８とノズル9aの上方に小滴セパレータ10が配備されてい
る。新しい洗浄液が導管18を通して供給され、消費され
た汚染洗浄液が他の導管19を通して除去される。
第２図は本発明によって設計された洗浄塔１の概略図
である。この洗浄塔１はその高さが著しく低減されてい
る事が第１図の洗浄塔と相違する。さらに接触区画４に
配備されたノズル９は液の微細滴を実質的に水平に拡散
する。すなわち、180゜の頂角を有する中空円錐ノズル
として構成されている。この場合、ノズル面間のレベル
差は20−60cmにすぎない。この点において付図は実際ス
ケールではなく、第１図の塔1aと第２図の塔１との高さ
の差は図示よりも大である。第１図に対応する第２図の
部分は同一数字を付けられている。
第３図は、実際用例における円形断面を有する塔の断
面全体のノズル９の分布を示す。塔は約12mの直径を有
し、内部に各レベルに約100のノズルを約1mのピッチで
正方形格子パタンを成して収容する。この分布は複数の
円形31で示され、微細滴６が各格子が先端から噴射され
る状態を示す。すなわち第３図ａは第２図の面81、83に
おけるノズル９の分布を示し、また第３図ｂは面82、84
におけるノズル９の対応の分布を示す。
ガスの小部分が壁体にそって塔の中をほとんど直線的
に流れる事を防止するため、第４図に図示のノズル分布
が考えられる。この場合、塔の内周にそって、内側に配
向され液体を実質的に半円形に噴射する複数のノズル９
を備え、塔内部のノズルの分布がこれに対応して調節さ
れている。図示のように、パタンは完全に規則的配置と
ならず、また次のノズル分布は理論的に望ましい分布か
ら少しずれたように調節されなければならない。
第５図は、第３図のパタンを対角線的に通る仮想垂直
断面における２つの隣接面のノズル９の相対配置と、こ
の区域における微細滴の流れとを示す。本発明を理解し
やすくするため、水平面における間隔に対して垂直方向
の間隔を間隔を増大する事によってスケールを変更して
ある。
面81のノズル51から微細液滴が液滴流61の中に入る。
面82におけるノズル52から逆方向液滴流62が出る。液滴
流61、62は流線511、512および521、522によって制限さ
れるのではなく、これらの流線は液滴流の主要部分の配
置される境界を示す。これらの液滴は部分的に相互に干
渉し、またこれらの液滴が実質的に同等大きさとなる境
界を線66で示す。しかしこの境界66においては、液滴流
の密度は中心部よりも実質滴に低い。
第６図は線65にそってとられた断面における第５図の
液滴流の密度分布の一例である。この場合、「液滴流密
度」とは単位面積あたりの質量流を意味する。この図か
ら明らかなように、それぞれの面から離間するに従って
液滴流密度が徐々に減少している。前記のように、線66
は、それぞれの滴流が優勢である各区域の境界を示す。
本発明によれば、面81と82の間隔は、境界線66におけ
る液滴流密度61と62がいずれもそれぞれの面81、82の近
くの極大値の10％以下に落ちるように調節されなければ
ならない。しかし本発明の利点の最適利用のためには、
面81、82の間隔が過大であってはならない。従って液滴
流密度61、62は境界線66における極大値の0.01％以上、
好ましくは0.1％以上でなければならない。
第７図は正方形断面を有する塔の断面にそったノズル
９の分布の実施例を示す。この正方形は約12.4mの辺を
有し、その内部に各面において約1.2mのピッチで正方形
格子パタンで約100ノズルを収容する。この分布は円形7
1で示され、微細液流６が格子先端から噴射される状態
を示す。第７図ａは第２図の面81、83におけるノズル９
の分布状態を示し、第７図ｂは面82、84におけるノズル
９の分布を示す。これらの第７図は、正方形断面におい
ては理論的に望ましい規則的格子からの片寄りを伴なう
必要がない事を示す。
第８図は接触断面４を通るガス流を示す。ガス流線11
はノズル９の周囲を曲がりくねっている。
第９図は、120゜の噴射頂角を有するノズル9d,9aの回
りの液滴分布を示す。第９図ａに図示の線形噴射ノズル
9dは２つの線形カーテンを生じ、各カーテンがそれぞれ
120゜の角度を成す。図から明らかなように、面81−84
が同一レベルに対を成して配置され、あるいはガスが後
の面からの液と最初に遭遇する事ができる。第９図ｂに
おいては、中空円錐型ノズル9aを使用する場合の同一パ
タンを示す。この設計においては、液滴流の間隔の対ご
との相違を認めて完全対称からの片寄りを生じる事が望
ましい。
第２図の装置は下記のように作動する。ガスは塔１の
接触区域４の中に導入口２を通して入る。次にガスはノ
ズル９の第１面81の近くまで垂直に上昇する。
これらのノズル９から液６が実質的に水平にガスの中
に10−15m/sの速度で噴射される。ガスは微細流滴によ
って影響されて、実質的に水平方向に同伴され、同一面
81のノズル９のほぼ中間において反対方向に流れる他の
ガス流に遭遇する。
液滴流はノズル９からの距離の増大と共に拡張するの
で、この場合に液滴流はノズル９の近くよりも実質的に
低い液滴流密度を有するから、ガスは液滴の間を次の面
82のノズル９に向かって上方に直進する。このようにし
て面81の中において洗浄液の衝撃によって濃縮されたガ
ス流はこの面82のノズル９によってガス中に噴射された
液滴の衝撃によって拡張される。そこでガスは再び実質
的に水平に流れ、他の隣接ノズル９からの液滴によって
同伴されるガスに遭遇する。
このようなプロセスが次の面83などに移行する際にも
繰り返される。このようにして反復方向変換と加速／減
速の繰り返しによって、ガスと液との間の緊密な効率的
な相互作用が生じる。
微細液滴の形でガスによって同伴された液は液／滴セ
パレータ10の中で分離される。
導管19を通して、この液の一部が次の処理のために排
出され、次に新しい液または再生液が必要に応じて導管
18から導入される。
他の実施態様 本発明は前記の説明のみに限定されるものでなく、そ
の主旨の範囲内において任意に変更実施できる。
前記のように、種々の設計のノズルを使用する事がで
きる。またノズルは前記以外の多くの形に配置する事が
できる。規則的格子が望ましいが、それ以外の格子も考
えられる。三角形または菱形格子は非常によい結果を与
える。他の望ましい実施態様として、１つおきの面のノ
ズルを三角形格子に配置し、他の１つおきの面のノズル
を菱形格子に配置する事ができる。
またもちろん本発明は汚染ガスの洗浄または熱ガスの
冷却以外にも使用する事ができる。本発明はガスを微細
液滴と接触させる大抵の用途で有効に使用する事ができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01D 47/06 B01D 53/34 B01D 53/77 F28C 1/00

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】粒子の分離、ガス汚染物の吸収またはガス
    冷却のために、ガスを微細液滴と接触させる段階と、 ガス本流に対して実質的に直角方向の複数の面の中に規
    則的に配置されるように、本質的に傘状または本質的に
    線形カーテン状に微細液滴を供給する段階と、 ガス本流に対して直角の面における速度成分がガス本流
    に対して平行または逆方向の速度成分より大となるよう
    に、微細液滴の大部分を供給する段階とを含む汚染ガス
    を浄化しまたは熱ガスを冷却する方法において、 汚染ガスの本流方向に直角の方向にガスに対して液の衝
    撃作用を加える事によりガスを交互に濃縮し拡張させる
    ように微細液滴を供給する段階を含み、そのため、 微細液滴を供給される隣接面間の垂直距離を所定の値に
    調節し、これによりこれらの隣接面の間においてガス流
    の実質的平衡化が生じないようにして、また ガス本流方向に見てすぐ上流の面に供給された液の衝撃
    作用によりガス流が濃縮された箇所に対応して下流の面
    の中に液供給が生じるように、隣接面の中に液供給を実
    施する事を特徴とする汚染ガスを浄化しまたは熱ガスを
    冷却する方法。
  2. 【請求項２】相異なる面に供給され逆方向に流れる液滴
    間において実質的な干渉が液滴流の主要部分で生じない
    ように、微細液滴を供給される隣接面間の垂直距離を調
    節する事を特徴とする請求項１に記載の方法。
  3. 【請求項３】隣接面に供給される液滴の逆方向流れの小
    干渉部分において、それぞれの流れの微細液滴密度がそ
    の最大密度の0.01％乃至10％の範囲内となるような液供
    給点からの距離の点でそれぞれの流れの同一密度を生じ
    るように、微細液滴を供給される隣接面間の垂直間隔を
    調節することを特徴とする請求項１または２のいずれか
    に記載の方法。
  4. 【請求項４】相異なる面に供給される液滴の隣接逆方向
    流れの主要部分間の相互作用がそれぞれの液滴供給点の
    中間区域で生じないように、微細液滴を供給される隣接
    面間の垂直間隔を調節する事を特徴とする請求項１また
    は２のいずれかに記載の方法。
  5. 【請求項５】ガス本流の方向に対して直角の面を中心と
    して対称的に20゜の角度範囲内に含まれる方向に微細液
    滴の主部分を供給する事を特徴とする請求項１、２、３
    または４のいずれかに記載の方法。
  6. 【請求項６】不平行噴射を成すように隣接面の中に配置
    されたノズルによって、90゜乃至180゜の頂角とガス本
    流に対して本質的に平行な対称軸線とを有する中空円錐
    形に微細液滴の主要部分を供給する事を特徴とする請求
    項１、２、３または４のいずれかに記載の方法。
  7. 【請求項７】汚染ガスおよび／または熱ガスの導入口
    （２）と、浄化されたガスおよび／または冷却されたガ
    スの排出口（３）と、前記の導入口（２）と排出口
    （３）との間においてガスを流す接触区域（４）とを含
    み、前記接触区域（４）の中において微細液滴を本質的
    に傘状または線形カーテンに噴射するための供給手段
    （9,9a,9d）を含み、前記供給手段はガスの本流方向（4
    1）に本質的に直角の複数の面（81−84）において本質
    的に規則的格子パタンに配置され、その際に前記供給手
    段は、ガス本流に対して直角の面における速度成分がガ
    ス本流に対して平行または逆方向の速度成分より大とな
    るように微細液滴の大部分を供給し、また前記供給手段
    は、汚染ガスの本流方向に直角の方向にガスに対して液
    の衝撃作用を加える事によりガスを交互に濃縮し拡張さ
    せるように微細液滴を供給するように成された前項１乃
    至６のいずれかに記載の方法またを実施する装置におい
    て、 供給手段（9,9a,9d）を備えた隣接面（81、82）の間の
    垂直距離がこれらの面の間においてガス流の実質的平衡
    化が生じない程度に小さく、 またガス本流方向に見てすぐ上流の面（81）に供給され
    た液の衝撃作用によりガス流が濃縮された箇所に対応し
    て下流の面（82）の中に前記供給手段（9,9a,9d）が配
    置される事を特徴とする装置。
  8. 【請求項８】隣接面（81、82）間の垂直距離がそれぞれ
    の面の中の隣接格子点または隣接格子線の間の距離より
    実質的に小であり、また供給手段（9,9a,9d）を備えた
    隣接面（81,82）間の垂直距離が1m以下である事を特徴
    とする請求項７に記載の装置。
  9. 【請求項９】前記供給手段（９、9a）は実質的に三角
    形、四角形または六角形および好ましくは等辺図形の格
    子点パタンに配置された実質的に円形の噴射ノズルであ
    り、また隣接面（81、82）の中の格子パタンが相互に片
    寄らされていて、ガス本流方向に見て下流に位置する面
    （82）中の格子点がすぐ上流の面（81）の隣接格子点間
    の線によって生成される多角形の重心に実質的に対向す
    るように配置される事を特徴とする請求項７または８の
    いずれかに記載の装置。
  10. 【請求項１０】供給手段は実質的に線形ノズルであっ
    て、これらの線形はまっすぐであって相互に平行であり
    また好ましくは接触部分（４）の断面全体にわたって均
    一に分布され、またガス本流方向に見て下流の面（82）
    の線形がすぐ上流の面（81）の中の隣接線形の中間の仮
    想線に実質的に対向するように、これらの隣接面（81、
    82）の線形が相互に片寄らされる事を特徴とする請求項
    ７または８のいずれかに記載の装置。
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