JP3511656B2 - Manufacturing method of leadless chip carrier - Google Patents

Manufacturing method of leadless chip carrier

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JP3511656B2
JP3511656B2 JP31251993A JP31251993A JP3511656B2 JP 3511656 B2 JP3511656 B2 JP 3511656B2 JP 31251993 A JP31251993 A JP 31251993A JP 31251993 A JP31251993 A JP 31251993A JP 3511656 B2 JP3511656 B2 JP 3511656B2
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chip carrier
leadless chip
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は,電子部品を搭載する際
に必要であった樹脂封止枠を用いることなく,簡易な構
造で,電子部品及びボンディングワイヤーを樹脂封止す
ることができる,リードレスチップキャリア製造方法
に関する。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can seal an electronic component and a bonding wire with a resin with a simple structure without using a resin sealing frame which is necessary for mounting an electronic component. a method of manufacturing a leadless chip carrier.

【0002】[0002]

【従来技術】従来,リードレスチップキャリアとして
は,例えば,図16に示すごとく,絶縁基板91と,電
子部品搭載用の搭載用凹部90と,電子回路55と,側
面回路56と,接続用パッド57とを有するものがあ
る。絶縁基板91の上面15には搭載用凹部90及び電
子回路55が,その側面16には側面回路56が,その
下面17には接続用パッド57が設けられている。上記
接続用パッド57は,半田等により外部素子の上に接着
される。搭載用凹部90の底面13には,電子部品3搭
載用のパッド53を有している。上記搭載用凹部90の
周囲には,上記電子回路55と接続したボンディングパ
ッド50が形成されている。上記電子部品3は,ボンデ
ィングワイヤー30によりボンディングパッド50と接
続されており,更に電子回路55,側面回路56,及び
接続用パッド57を介して,外部素子へと電気的に接続
している。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a leadless chip carrier, for example, as shown in FIG. 16, an insulating substrate 91, a mounting recess 90 for mounting electronic components, an electronic circuit 55, a side circuit 56, and a connecting pad. Some have 57 and 57. The upper surface 15 of the insulating substrate 91 is provided with a mounting recess 90 and an electronic circuit 55, the side surface 16 thereof is provided with a side circuit 56, and the lower surface 17 thereof is provided with a connection pad 57. The connection pad 57 is bonded onto the external element by soldering or the like. The bottom surface 13 of the mounting recess 90 has a pad 53 for mounting the electronic component 3. Around the mounting recess 90, a bonding pad 50 connected to the electronic circuit 55 is formed. The electronic component 3 is connected to the bonding pad 50 by the bonding wire 30, and is also electrically connected to an external element via the electronic circuit 55, the side circuit 56, and the connection pad 57.

【0003】また,搭載用凹部90は,電子部品3及び
ボンディングワイヤー30を被覆するための封止樹脂6
により封止されている。封止樹脂6は,搭載用凹部90
の周囲に設けられた樹脂封止枠99により密閉されてい
る。樹脂封止枠99は,接着剤81により,絶縁基板9
1の上面15に固定されている。
The mounting recess 90 has a sealing resin 6 for covering the electronic component 3 and the bonding wire 30.
It is sealed by. The sealing resin 6 has a mounting recess 90.
It is sealed by a resin sealing frame 99 provided around the. The resin sealing frame 99 is attached to the insulating substrate 9 by the adhesive 81.
It is fixed to the upper surface 15 of 1.

【0004】[0004]

【解決しようとする課題】しかしながら,上記従来のリ
ードレスチップキャリアにおいては,搭載用凹部90の
周囲に樹脂封止枠99を設けているため,リードレスチ
ップキャリアの構造が複雑となる。また,樹脂封止枠9
9の加工,及び絶縁基板91への接着にも,多大な労力
とコストがかかる。また,樹脂封止枠99を接着した場
合には,リードレスチップキャリアを長期使用している
間に,接着剤81中の成分が封止樹脂6の中を経てボン
ディングワイヤー30,電子部品3に達し,これらを腐
食させるおそれがある。また,近年は,高密度実装が要
求されている。
However, in the above-mentioned conventional leadless chip carrier, since the resin sealing frame 99 is provided around the mounting recess 90, the structure of the leadless chip carrier becomes complicated. In addition, the resin sealing frame 9
A great deal of labor and cost are also required for processing 9 and adhering it to the insulating substrate 91. Further, when the resin sealing frame 99 is adhered, the components in the adhesive 81 pass through the sealing resin 6 to the bonding wire 30 and the electronic component 3 during long-term use of the leadless chip carrier. May reach and corrode them. Further, in recent years, high-density mounting is required.

【0005】本発明はかかる従来の問題点に鑑み,樹脂
封止枠を設けることなく,簡易な構造で,電子部品及び
ボンディングワイヤーを樹脂封止でき,かつ高密度実装
を図ることができる,リードレスチップキャリア製造
方法を提供しようとするものである。
In view of the above conventional problems, the present invention is capable of resin-sealing an electronic component and a bonding wire with a simple structure without providing a resin-sealing frame, and leads to high-density mounting. method of manufacturing a less chip carrier is intended to provide.

【0006】[0006]

【課題の解決手段】本発明は,絶縁基板に切断用の貫通
孔を穿設すると共に,上記絶縁基板に,底部から上部外
方へ向かう斜面壁を有する電子部品搭載用の搭載用凹部
を形成し,かつ,上記搭載用凹部の上端は,該搭載用凹
部内に搭載した電子部品の上端よりも高い位置にあり,
次に,上記貫通孔内も含めて,上記絶縁基板の全表面
に,金属メッキ膜を施すと共に感光性のエッチングレジ
スト膜を形成し,次に,上記絶縁基板の上面にパターン
形成用の上面フィルムを配置すると共に,該上面フィル
ムの上方から平行光を照射し,その後,上記上面フィル
ムを上記絶縁基板の上面から除去し,次に,上記絶縁基
板にエッチングを施して,上記搭載用凹部の底面にはボ
ンディングパッドを,搭載用凹部の斜面壁には斜面回路
を,絶縁基板の上面には電子回路を,絶縁基板の側面に
は側面回路を,更に上記絶縁基板の下面に接続用パッド
を形成し,その後,上記貫通孔に沿って上記絶縁基板を
切断して,個片化またはフレーム化することを特徴とす
るリードレスチップキャリアの製造方法にある。
According to the present invention, an insulating substrate is pierced for cutting.
A hole is formed in the insulating substrate, and
Mounting recess for mounting electronic components having a sloped wall facing toward
And the upper end of the mounting recess is
It is located higher than the top edge of the electronic components installed inside
Next, the entire surface of the insulating substrate including the inside of the through hole
A metal plating film is applied to the
Forming a strike film, and then patterning on the upper surface of the insulating substrate.
A top film for forming is arranged, and the top film is filled.
Parallel light is radiated from above the chamber, and then the upper surface fill
The upper surface of the insulating substrate, and then the insulating substrate.
After etching the plate, the bottom of the mounting recess is
Mounting pad and slope circuit on the slope wall of the mounting recess.
, The electronic circuit on the upper surface of the insulating substrate and the side surface of the insulating substrate.
Is a side circuit, and a pad for connection on the lower surface of the insulating substrate.
And then the insulating substrate along the through hole.
Characterized by cutting into individual pieces or frames
A method of manufacturing a leadless chip carrier .

【0007】以下,これを詳説する。まず,絶縁基板に
金型等を用いて個片化用の貫通孔を打ち抜く。該貫通孔
は,例えば長孔状のスリットで,後述するリードレスチ
ップキャリアの側面に相当する位置に形成される。上記
絶縁基板は,上記貫通孔形成により,リードレスチップ
キャリアを構成する個片部と,該個片部を支持する支持
部とに仕切られる。
This will be described in detail below. First, for the insulating substrate
Punch through holes for singulation using a mold or the like. The through hole
Is, for example, a slit having a long hole, and is a leadless stitch described later.
It is formed at a position corresponding to the side surface of the up carrier. the above
Insulating substrate is leadless chip by forming the through hole
Individual piece constituting the carrier and support for supporting the individual piece
Divided into divisions.

【0008】次に,上記絶縁基板の上面側に,上記斜面
壁を有する上記搭載用凹部を,ザグリ加工等により形成
する。次に,上記絶縁基板の全表面にパネルメッキを施
し,金属メッキ膜を形成する。このとき,絶縁基板の貫
通孔内にも金属メッキ膜が形成される。次に,上記貫通
孔内も含めて,上記絶縁基板の全表面に,感光性のエッ
チングレジスト膜を形成し,上記金属メッキ膜の全表面
を被覆する。該エッチングレジスト膜は,例えば,電着
塗装方法などの湿式方法により形成される。
Next, on the upper surface side of the insulating substrate, the sloped surface is formed.
The mounting recess having a wall is formed by counterboring, etc.
To do. Next, panel plating is applied to the entire surface of the insulating substrate.
Then, a metal plating film is formed. At this time, the insulating substrate
A metal plating film is also formed in the through hole. Next, the above penetration
The entire surface of the insulating substrate, including the inside of the holes, is coated with a photosensitive etchant.
Forming a coating resist film, and the entire surface of the metal plating film
To cover. The etching resist film is, for example, electrodeposited.
It is formed by a wet method such as a coating method.

【0009】次に,絶縁基板の上面に,下記のパターン
を形成するための上面フィルムを配置する。該上面フィ
ルムは,光を遮断する遮光部を有し,その他は光が透過
するように構成されている。上記遮光部は,絶縁基板の
上面側に形成されるパターンと同一形状を有するパター
ン部と,延設部とを有している。該延設部は,側面回路
が形成される貫通孔を覆うように上記パターン部から延
設されている。上記絶縁基板の上面側に形成されるパタ
ーンとは,絶縁基板の上面に形成される電子回 路,搭載
用凹部の斜面壁に形成される斜面回路,及びその底面に
形成されるボンディングパッド等をいう。
Next, the following pattern is formed on the upper surface of the insulating substrate.
A top film for forming the. The upper surface
The rum has a light-shielding part that blocks light, and other parts transmit light.
Is configured to. The light-shielding part is an insulating substrate
A putter having the same shape as the pattern formed on the upper surface side
It has an extension part and an extension part. The extension is a side circuit
Extending from the pattern part so as to cover the through hole in which
It is set up. A pattern formed on the upper surface side of the insulating substrate.
The over emissions, electronic circuits formed on the upper surface of the insulating substrate, mounting
On the bottom surface of the slope circuit formed on the slope wall of the recess
It refers to a bonding pad or the like that is formed.

【0010】次に,上記絶縁基板の上方から平行光を照
射する。このとき,上面フィルムのパターン部により絶
縁基板の上面側に光の影ができるとともに,上面フィル
ムの延設部により上記貫通孔の内壁にも光の影ができ
て,その部分は露光しない未露光部分となる。
Next, a parallel light is illuminated from above the insulating substrate.
Shoot. At this time, the pattern part of the upper surface film is used.
A shadow of light is created on the upper surface side of the edge substrate, and the upper surface fill
Due to the extended portion of the light, a shadow of light is also created on the inner wall of the through hole.
That portion becomes an unexposed portion that is not exposed.

【0011】次に,上記エッチングレジスト膜の露光部
分に現像液を施す。これにより,上記エッチングレジス
ト膜の未露光部分はそのまま残り,その他の露光部分は
除去されて金属メッキ膜が露出する。次いで,金属メッ
キ膜の露出部分をエッチングにより除去する。これによ
り,絶縁基板の上面側及び貫通孔の内壁にパターンが形
成される。その後,上記パターンの表面に残存するエッ
チングレジスト膜を除去する。これにより,絶縁基板の
上面側には電子回路,斜面回路,及びボンディングパッ
ドが,貫通孔の内壁には側面回路が,各々形成される。
Next, the exposed portion of the etching resist film
Apply developer to the minute. As a result, the above etching resist
The unexposed part of the coating film remains as it is, and the other exposed part remains
The metal plating film is exposed by being removed. Next, the metal
The exposed part of the film is removed by etching. By this
Pattern is formed on the upper surface of the insulating substrate and on the inner wall of the through hole.
Is made. After that, the etchant remaining on the surface of the above pattern is
The coating resist film is removed. This allows the insulating substrate
On the upper surface side, electronic circuits, slope circuits, and bonding pads
And side circuits are formed on the inner walls of the through holes.

【0012】次に,上記絶縁基板の下面に,例えば上記
の絶縁基板の上面側に電子回路等のパターンを形成した
方法を用いて,接続用パッドを形成する。尚,上記絶縁
基板の上面に,上面フィルムを配置する際に,絶縁基板
の下面にも同様の下面フィルムを配置しておき,この状
態で,上記絶縁基板の上方と下方の両方から平行光を照
射することが好ましい。これにより,絶縁基板の上面側
及び側面とともに,その下面にも,同時にパターンを形
成することができる。
Next, on the lower surface of the insulating substrate, for example, the above
A pattern such as an electronic circuit was formed on the upper surface of the insulating substrate of
The method is used to form connection pads. The above insulation
When placing the top film on the top surface of the substrate, the insulating substrate
Place a similar bottom film on the bottom of the
Parallel light from above and below the insulating substrate.
It is preferable to shoot. As a result, the upper surface side of the insulating substrate
And the side surface as well as the lower surface at the same time.
Can be made.

【0013】次に,上記貫通孔に沿って,ダイシングソ
ー等により,絶縁基板の個片部が個片化される。なお,
この個片化用切断は,上記の樹脂封止の後に行なっても
よい。これにより,本発明にかかるリードレスチップキ
ャリアが得られる。その後,該リードレスチップキャリ
アの搭載用凹部に,上記のごとく電子部品の搭載,樹脂
封止等を行なう。
Next, along the through hole, a dicing saw
-The individual parts of the insulating substrate are separated into individual pieces. In addition,
This cutting for singulation may be performed even after the above resin sealing.
Good. As a result, the leadless tip key according to the present invention is
You can get the aria. After that, the leadless tip carrier
In the mounting recess of a.
Sealing, etc.

【0014】上記絶縁基板の上面にある電子回路には接
続用パッドを設けてもよいし,上記絶縁基板の下面には
電子回路を設けてもよい。これら接続用パッド及び電子
回路は,前記パターン形成用の上面フィルム等を用いて
平行光を照射する際に,他のパターン形成と同時に形成
することができる。
There is no contact with the electronic circuit on the upper surface of the insulating substrate.
Continuation pads may be provided, or the lower surface of the insulating substrate may be
Electronic circuitry may be provided. These connection pads and electronic
The circuit uses the top film for pattern formation, etc.
Formed at the same time as other patterns when irradiating parallel light
can do.

【0015】上記リードレスチップキャリアの製造方法
によって製造するリードレスチップキャリアとしては,
例えば,絶縁基板に電子部品搭載用の搭載用凹部を設け
てなるリードレスチップキャリアにおいて,上記搭載用
凹部の側壁は,該搭載用凹部の底面から上部外方へ広が
る斜面壁により構成され,また搭載用凹部の底面はボン
ディングパッドを有し,上記絶縁基板の上面は電子回路
を,その下面は接続用パッドを有し,上記絶縁基板の側
面は,上記電子回路と接続用パッドとの間を接続する側
面回路を有し,上記搭載用凹部の斜面壁は,上記ボンデ
ィングパッドと電子回路との間を接続する斜面回路を有
しており,かつ,上記搭載用凹部の上端は,該搭載用凹
部内に搭載した電子部品の上端よりも高い位置にあるこ
とを特徴とするリードレスチップキャリアがある。
Method for manufacturing the leadless chip carrier
As a leadless chip carrier manufactured by
For example, mounting recesses for mounting electronic components on the insulating substrate
For leadless chip carrier
The sidewall of the recess extends from the bottom of the mounting recess to the outside of the top.
The bottom surface of the mounting recess is a
The upper surface of the insulating substrate has an electronic circuit.
The bottom surface of the insulating board has a pad for connection.
The side is the side that connects between the electronic circuit and the connection pad.
And a sloped wall of the mounting recess has a surface circuit.
There is a slope circuit that connects the swing pad and the electronic circuit.
And the upper end of the mounting recess is the mounting recess.
Be sure that it is higher than the top edge of the electronic components installed in the unit.
There is a leadless chip carrier that is characterized by.

【0016】上記リードレスチップキャリアにおいて最
も注目すべきことは,絶縁基板の上面に,電子部品搭載
用の搭載用凹部を設けたこと,及び該搭載用凹部の側壁
はその底面から上部外方へ広がる斜面壁により構成され
ていることである。上記リードレスチップキャリアにお
いて,上記搭載用凹部は,絶縁基板の上面に開口し てお
り,その底面には電子部品が搭載されている。
Most of the above leadless chip carriers
Also noteworthy is the mounting of electronic components on the top surface of the insulating substrate.
And a side wall of the mounting recess.
Is composed of a sloped wall that extends outward from the bottom of the
It is that. In the leadless chip carrier above
The mounting recess is opened on the upper surface of the insulating substrate .
On the bottom of it, electronic components are mounted.

【0017】上記搭載用凹部の側壁は,搭載用凹部の底
面から搭載用凹部の上端外方へ広がる斜面壁により構成
されている。該斜面壁は,平面として形成されていても
よいし,凹状又は凸状の曲面として形成されていてもよ
い。上記搭載用凹部の上端は,該搭載用凹部内に搭載し
た電子部品及びボンディングワイヤーの上端よりも高い
位置にある。
The side wall of the mounting recess is the bottom of the mounting recess.
Consists of a sloped wall that extends from the surface to the outside of the upper end of the mounting recess
Has been done. Even if the sloped wall is formed as a flat surface,
Good, it may be formed as a concave or convex curved surface
Yes. The upper end of the mounting recess is mounted in the mounting recess.
Higher than the top of electronic components and bonding wires
In position.

【0018】上記斜面壁には,斜面回路が設けられてい
る。該斜面回路は,搭載用凹部の底面に設けられたボン
ディングパッドと,絶縁基板の上面に設けられた電子回
路と電気的に接続している。上記電子回路は,絶縁基板
の側面に設けられた側面回路及び絶縁基板の下面に設け
られた接続用パッドと電気的に接続している。上記接続
用パッドは,半田等により,マザーボード等の外部素子
の上に電気的に接続するためのものである。
A slope circuit is provided on the slope wall.
It The slope circuit is a bonnet provided on the bottom of the mounting recess.
Pad and the electronic circuit provided on the top surface of the insulating substrate.
Electrically connected to the road. The electronic circuit is an insulating substrate
Side circuits provided on the side of the
It is electrically connected to the connected connection pad. Connection above
Pads are used for external devices such as motherboard by soldering.
For electrical connection on top.

【0019】また,上記接続用パッドは,絶縁基板の下
面だけでなく,絶縁基板の上面にも設けることが好まし
い。該上面の接続用パッドの上には,半田等を介して他
のリードレスチップキャリアを積層,固定することがで
き,複数のリードレスチップキャリアを一体的に積層し
た積層型のリードレスチップキャリアを得ることができ
る。
Further , the connection pad is under the insulating substrate.
It is preferable to provide it not only on the surface but also on the upper surface of the insulating substrate.
Yes. Others, such as solder, should be placed on the connection pads on the top surface.
It is possible to stack and fix the leadless chip carriers of
When multiple leadless chip carriers are integrally laminated,
You can get a stacked leadless chip carrier
It

【0020】また,絶縁基板の上面には電子回路が設け
られているが,絶縁基板の下面にも電子回路を設けるこ
とができる。又,絶縁基板の下面には電子部品が発する
熱を放散させる放熱層を設けてもよい。また,絶縁基板
には,絶縁基板の内部又は上面及び下面の電気的導通を
図るためのスルーホールを設けてもよい。
An electronic circuit is provided on the upper surface of the insulating substrate.
However, an electronic circuit should be provided on the bottom surface of the insulating substrate.
You can Also, electronic components are emitted from the bottom surface of the insulating substrate.
A heat dissipation layer that dissipates heat may be provided. Insulating board
Shall be electrically connected to the inside or top and bottom of the insulating substrate.
A through hole for the purpose may be provided.

【0021】上記搭載用凹部の底面には,電子部品が搭
載されると共に,該電子部品と上記ボンディングパッド
との間はボンディングワイヤーにより接続される。更
に,樹脂封止枠を設けることなく,上記搭載用凹部内
は,上記電子部品及び上記ボンディングパッドの全体を
被覆するように樹脂封止される。
Electronic parts are mounted on the bottom surface of the mounting recess.
When mounted, the electronic component and the bonding pad
Are connected to each other by a bonding wire. Change
In the mounting recess without the resin sealing frame
Is the entire electronic component and bonding pad described above.
It is resin-sealed so as to cover it.

【0022】[0022]

【作用及び効果】本発明のリードレスチップキャリアの
製造方法においては,絶縁基板の上面にパターン形成用
の上面フィルムを配置し,その上方から平行光を照射し
ている。そのため,絶縁基板の上面側のパターン(上記
電子回路,斜面回路,ボンディングパッド)形成ととも
に,絶縁基板の側面回路も同時に形成することができ,
製造容易である。
[Operation and effect] The leadless chip carrier of the present invention
In the manufacturing method, for pattern formation on the upper surface of the insulating substrate
Place the top film of the, and irradiate parallel light from above
ing. Therefore, the pattern on the upper surface side of the insulating substrate (above
With electronic circuit, slope circuit, bonding pad) formation
In addition, the side circuit of the insulating substrate can be formed at the same time,
Easy to manufacture.

【0023】また,平行光を用いているので,絶縁基板
の上面と斜面壁及び底面との間に間隙があっても,上面
フィルムのパターンが精度良く,斜面壁に投影される。
そのため,精度良く斜面回路を形成することができる。
また,搭載用凹部の壁面は,上記斜面壁により構成され
ているため,ザグリ加工等により,形成しやすい。
Since parallel light is used, the insulating substrate
Even if there is a gap between the upper surface of the
The film pattern is accurately projected onto the sloped wall.
Therefore, the slope circuit can be formed accurately.
The wall surface of the mounting recess is composed of the above sloped wall.
Therefore, it is easy to form by counterboring.

【0024】なお、上記方法により得られたリードレス
チップキャリアにおいては,上記搭載用凹部の上端は,
電子部品及びボンディングワイヤーの上端よりも高い位
置にある。また,搭載用凹部は,その上端まで封止樹脂
により封止できる。そのため,電子部品及びボンディン
グワイヤーは,封止樹脂により完全に被覆される。
The leadless obtained by the above method
In the chip carrier, the upper end of the mounting recess is
Higher than the tops of electronic components and bonding wires
It is in the table. In addition, the mounting recess has a sealing resin up to the top.
Can be sealed by. Therefore, electronic components and bondins
The wire is completely covered with the sealing resin.

【0025】従って,従来必要とされていた樹脂封止枠
を用いることなく,搭載用凹部を密封でき, その中の電
子部品及びボンディングワイヤーを腐食から保護するこ
とができる。即ち,本発明においては,絶縁基板上に樹
脂封止枠を接着しないので,接着剤の成分によりボンデ
ィングワイヤー及び電子部品が腐食することがない。ま
た,樹脂封止枠を取付けないため,簡易な構造とするこ
とができる。また,ボンディングワイヤーは,搭載用凹
部内にあるため,断線することがなく,電子部品又はボ
ンディングパッドとの電気的接続性を確保することがで
きる。
Therefore, the resin sealing frame that has been conventionally required
Without using a can seal the mounting recess, electrostatic therein
Protect the child parts and bonding wires from corrosion.
You can That is, in the present invention, the tree is placed on the insulating substrate.
Since the oil sealing frame is not adhered, the bond component may
The swing wires and electronic components will not corrode. Well
In addition, since a resin sealing frame is not attached, the structure should be simple.
You can In addition, the bonding wire is a concave for mounting.
Since it is inside the unit, it will not be broken and will not
It is possible to secure electrical connection with the bonding pad.
Wear.

【0026】また,上記搭載用凹部の壁面は,搭載用凹
部の底面から搭載用凹部の上端外方へ広がる斜面壁によ
り構成されている。そのため,搭載用凹部の壁面にも斜
面回路を形成することができ,斜面壁の有効利用を図る
ことができる。更に,絶縁基板の側面にも,絶縁基板の
側面回路を設けている。
The wall surface of the mounting recess has a mounting recess.
The sloped wall that extends from the bottom of the
It is composed of Therefore, the wall surface of the mounting recess is also slanted.
A surface circuit can be formed and the slope wall can be effectively used.
be able to. In addition, the side surface of the insulating substrate
A side circuit is provided.

【0027】このように,絶縁基板の上面,下面,及び
側面だけでなく,搭載用凹部の底面及び斜面壁にもパタ
ーンを形成することができ,絶縁基板のあらゆる面をパ
ターン形成のために活用することができる。それ故,リ
ードレスチップキャリアの高密度実装化を図ることがで
きる。
In this way, the upper and lower surfaces of the insulating substrate, and
Not only on the side surface but also on the bottom surface of the mounting recess and the sloped wall.
Can be formed on all sides of the insulating substrate.
It can be used for turn formation. Therefore,
-High density packaging of dress chip carriers can be achieved.
Wear.

【0028】以上のごとく,本発明によれば,樹脂封止
枠を設けることなく,簡易な構造で,電子部品及びボン
ディングワイヤーを樹脂封止することができ,かつ高密
度実装を図ることができる,リードレスチップキャリア
製造方法を提供することができる。
As described above, according to the present invention, electronic parts and bonding wires can be resin-sealed with a simple structure without providing a resin sealing frame, and high-density mounting can be achieved. , Leadless chip carrier
It is possible to provide a method of manufacturing.

【0029】[0029]

【実施例】実施例1 本発明の実施例にかかるリードレスチップキャリアの製
造方法について,図1〜図9を用いて説明する。本例
おいて得ようとするリードレスチップキャリア100
は,図1,図2に示すごとく,絶縁基板1に電子部品搭
載用の搭載用凹部10を設けている。搭載用凹部10の
側壁は,その底面13から上端外方へ平面状に広がる斜
面壁11により構成されている。また,搭載用凹部10
の底面13は,ボンディングパッド50及びパッド53
を有している。搭載用凹部10の上端111は,電子部
品3及びボンディングワイヤー30の上端よりも高い位
置にある。
EXAMPLES Example 1 Production of a leadless chip carrier according to an example of the present invention .
The manufacturing method will be described with reference to FIGS. In this example
Leadless chip carrier 100 to be obtained
As shown in FIGS. 1 and 2, the insulating substrate 1 is provided with a mounting recess 10 for mounting electronic components. The side wall of the mounting recess 10 is formed by a sloped wall 11 that spreads in a planar manner from the bottom surface 13 thereof to the outside of the upper end. In addition, the mounting recess 10
The bottom surface 13 of the bonding pad 50 and the pad 53.
have. The upper end 111 of the mounting recess 10 is higher than the upper ends of the electronic component 3 and the bonding wire 30.

【0030】絶縁基板1の上面15は電子回路55を,
下面17は接続用パッド57及び放熱層58を有してい
る。絶縁基板1の側面16は,電子回路55と接続用パ
ッド57との間を接続する側面回路56を有している。
搭載用凹部10の斜面壁11は,ボンディングパッド5
0と電子回路55との間を接続する斜面回路51を有し
ている。
The upper surface 15 of the insulating substrate 1 has an electronic circuit 55,
The lower surface 17 has a connection pad 57 and a heat dissipation layer 58. The side surface 16 of the insulating substrate 1 has a side surface circuit 56 that connects the electronic circuit 55 and the connection pad 57.
The sloped wall 11 of the mounting recess 10 has the bonding pad 5
It has a slope circuit 51 connecting 0 and the electronic circuit 55.

【0031】本例のリードレスチップキャリア100に
おいて,搭載用凹部10内のパッド53の上には,電子
部品3が搭載される。ボンディングパッド50と電子部
品3との間はボンディングワイヤー30によって接続さ
れる。また,樹脂封止枠を設けることなく,搭載用凹部
10内には,電子部品3及びボンディングワイヤー30
の全体を被覆するように封止樹脂6が封止される。
In the leadless chip carrier 100 of this example, the electronic component 3 is mounted on the pad 53 in the mounting recess 10. The bonding wire 50 connects the bonding pad 50 and the electronic component 3. In addition, the electronic component 3 and the bonding wire 30 are provided in the mounting recess 10 without providing a resin sealing frame.
The encapsulating resin 6 is encapsulated so as to cover the whole of the.

【0032】次に,上記リードレスチップキャリア10
0の製造方法について,図3〜図9を用いて説明する。
まず,図3,図4に示すごとく,絶縁基板1に,リード
レスチップキャリアの寸法線165に沿ってその4方向
に,切断用の長孔状の貫通孔160を穿設する。これに
より,上記貫通孔160の内側にはリードレスチップキ
ャリア作製用の個片部19が,その外側には個片部19
を支持する支持部191が形成される。
Next, the leadless chip carrier 10
The manufacturing method of 0 will be described with reference to FIGS.
First, as shown in FIGS. 3 and 4, in the insulating substrate 1, elongated through holes 160 for cutting are formed in four directions along the dimension line 165 of the leadless chip carrier. As a result, the individual piece portion 19 for producing the leadless chip carrier is inside the through hole 160 and the individual piece portion 19 is outside thereof.
A support portion 191 for supporting the is formed.

【0033】次に,図5に示すごとく,絶縁基板1の個
片部19に,電子部品搭載用の搭載用凹部10を,ザグ
リ加工により穿設する。該搭載用凹部10は,底部13
から上部外方へ広がる平面状の斜面壁11を有してい
る。搭載用凹部10は,その上端111が,該搭載用凹
部10内に搭載したときの電子部品及びボンディングワ
イヤーの上端よりも高い位置となるように形成してお
く。次に,図6に示すごとく,絶縁基板1の全表面にパ
ネルメッキを施し,金属メッキ膜5を形成する。このと
き,貫通孔160の内部にも,金属メッキ膜5が形成さ
れる。
Next, as shown in FIG. 5, the individual mounting portion 19 of the insulating substrate 1 is provided with a mounting recess 10 for mounting electronic components by counterboring. The mounting recess 10 has a bottom 13
Has a flat sloped wall 11 that spreads from the top to the outside. The mounting recess 10 is formed such that the upper end 111 thereof is located higher than the upper ends of the electronic component and the bonding wire when mounted in the mounting recess 10. Next, as shown in FIG. 6, the entire surface of the insulating substrate 1 is panel-plated to form a metal plating film 5. At this time, the metal plating film 5 is also formed inside the through hole 160.

【0034】次に,図7に示すごとく,上記貫通孔16
0も含めて,湿式方法により絶縁基板1の全表面にエッ
チングレジスト膜7を形成する。また,図7,図8に示
すごとく,絶縁基板1の上面15,下面17に,パター
ン形成用の上面フィルム21,下面フィルム22を,そ
れぞれ配置する。上面フィルム21,下面フィルム22
は,それぞれ絶縁基板1のパターン形成部位を遮光する
ための遮光部210,220を有し,該遮光部210,
220を除く部分は透明な透明部213,223であ
る。
Next, as shown in FIG.
The etching resist film 7 is formed on the entire surface of the insulating substrate 1 including the 0 by a wet method. Further, as shown in FIGS. 7 and 8, an upper surface film 21 and a lower surface film 22 for pattern formation are arranged on the upper surface 15 and the lower surface 17 of the insulating substrate 1, respectively. Top film 21, bottom film 22
Have light-shielding portions 210 and 220 for shielding the pattern forming portions of the insulating substrate 1, respectively.
The portions other than 220 are transparent portions 213 and 223 which are transparent.

【0035】遮光部210,220は,絶縁基板1の上
面側151,下面17にそれぞれ形成するパターンと同
一形状のパターン部211,221と,絶縁基板1の貫
通孔160内における側面パターン形成部位を被覆する
延設部212,222とを有している。
The light-shielding portions 210 and 220 have pattern portions 211 and 221 having the same shape as the patterns formed on the upper surface 151 and the lower surface 17 of the insulating substrate 1, and side surface pattern forming portions in the through holes 160 of the insulating substrate 1. It has extended portions 212 and 222 for covering.

【0036】次に,絶縁基板1に,その上下両側から平
行光8を照射する。このとき,図7,図8に示すごと
く,遮光部210,220により平行光8が遮られ,絶
縁基板1の上面側151,下面にそれぞれ光の影81が
できると共に,貫通孔160の内壁にも光の影82がで
き,この影81,82の部分は露光しないで,絶縁基板
1の透明部213,223と対応した部分のみが露光す
る。
Next, the insulating substrate 1 is irradiated with parallel light 8 from both the upper and lower sides thereof. At this time, as shown in FIGS. 7 and 8, the parallel light 8 is shielded by the light shields 210 and 220, and light shadows 81 are formed on the upper surface 151 and the lower surface of the insulating substrate 1, and on the inner wall of the through hole 160. Also forms a shadow 82 of light, and the portions of these shadows 81 and 82 are not exposed, but only the portions corresponding to the transparent portions 213 and 223 of the insulating substrate 1 are exposed.

【0037】次に,絶縁基板1から上面フィルム21,
下面フィルム22を除去する。次いで,エッチングレジ
スト膜7の露光部分に現像液を施す。これにより,エッ
チングレジスト膜の未露光部分はそのまま残り,その他
の露光部分は除去されて金属メッキ膜5が露出する。次
いで,金属メッキ膜の露出部分をエッチングにより除去
する。これにより,図9に示すごとく,上記露光部分の
エッチングレジスト膜7及び金属メッキ膜5が,絶縁基
板1から取り除かれる。
Next, the insulating substrate 1 to the top film 21,
The lower surface film 22 is removed. Next, a developing solution is applied to the exposed portion of the etching resist film 7. As a result, the unexposed portion of the etching resist film remains as it is, and the other exposed portion is removed to expose the metal plating film 5. Then, the exposed portion of the metal plating film is removed by etching. As a result, as shown in FIG. 9, the etching resist film 7 and the metal plating film 5 in the exposed portion are removed from the insulating substrate 1.

【0038】次に,絶縁基板1に残ったエッチングレジ
スト膜7のみを除去する。これにより,図10に示すご
とく,絶縁基板1の上面15には電子回路55が,その
下面17には接続用パッド57及び放熱層58が形成さ
れる。また,貫通孔160の内壁には側面回路56が,
搭載用凹部10の斜面壁11には斜面回路51が,その
底面13にはボンディングパッド50及びパッド53が
形成される。次に,図10に示す貫通孔160及び寸法
線165に沿って,ダイシングソーにより絶縁基板1を
切断し,個片部19を個片化する。これにより,図1,
図2に示すリードレスチップキャリア100が得られ
る。
Next, only the etching resist film 7 remaining on the insulating substrate 1 is removed. As a result, as shown in FIG. 10, the electronic circuit 55 is formed on the upper surface 15 of the insulating substrate 1, and the connection pads 57 and the heat dissipation layer 58 are formed on the lower surface 17. In addition, the side circuit 56 is formed on the inner wall of the through hole 160,
A slope circuit 51 is formed on the slope wall 11 of the mounting recess 10, and a bonding pad 50 and a pad 53 are formed on the bottom surface 13. Next, the insulating substrate 1 is cut by a dicing saw along the through holes 160 and the dimension lines 165 shown in FIG. 10 to separate the individual pieces 19 into individual pieces. As a result,
The leadless chip carrier 100 shown in FIG. 2 is obtained.

【0039】次に,本例の製造方法によって得られたリ
ードレスチップキャリア100の作用効果について説明
する。本例のリードレスチップキャリア100におい
て,図1,図2に示すごとく,搭載用凹部10の上端1
11は,電子部品3及びボンディングワイヤー30の上
端よりも高い位置にある。また,搭載用凹部10は,そ
の上端111まで封止樹脂6により封止されている。
Next, the re-obtained by the manufacturing method of this example
The function and effect of the dress chip carrier 100 will be described. In the leadless chip carrier 100 of this example, as shown in FIGS. 1 and 2, the upper end 1 of the mounting recess 10 is
11 is at a position higher than the upper ends of the electronic component 3 and the bonding wire 30. Further, the mounting recess 10 is sealed with the sealing resin 6 up to the upper end 111 thereof.

【0040】そのため,電子部品3及びボンディングワ
イヤー30は,封止樹脂6により完全に被覆される。従
って,樹脂封止枠を用いることなく,搭載用凹部10を
密封でき,その中の電子部品3及びボンディングワイヤ
ー30を腐食から保護することができる。即ち,本例に
おいては,絶縁基板1の上に樹脂封止枠を接着しないの
で,接着剤の成分によりボンディングワイヤー30及び
電子部品3が腐食することがない。
Therefore, the electronic component 3 and the bonding wire 30 are completely covered with the sealing resin 6. Therefore, the mounting recess 10 can be sealed without using a resin sealing frame, and the electronic component 3 and the bonding wire 30 therein can be protected from corrosion. That is, in this example, since the resin sealing frame is not bonded onto the insulating substrate 1, the bonding wire 30 and the electronic component 3 are not corroded by the component of the adhesive.

【0041】また,樹脂封止枠を取付けないため,簡易
な構造とすることができる。また,ボンディングワイヤ
ー30は,搭載用凹部10内にあるため,断線すること
がなく,電子部品3又はボンディングパッド50との電
気的接続性を確保することができる。
Further, since the resin sealing frame is not attached, the structure can be simplified. In addition, since the bonding wire 30 is in the mounting recess 10, it is possible to secure electrical connection with the electronic component 3 or the bonding pad 50 without breaking.

【0042】また,上記搭載用凹部10の壁面は,搭載
用凹部10の底面13から搭載用凹部10の上部外方へ
広がる斜面壁11により構成されている。そのため,搭
載用凹部10の壁面にも斜面回路51を形成することが
でき,斜面壁11の有効利用を図ることができる。更
に,絶縁基板1の側面16にも,側面回路56を設けて
いる。
The wall surface of the mounting recess 10 is formed by a sloped wall 11 extending from the bottom surface 13 of the mounting recess 10 to the outside of the upper part of the mounting recess 10. Therefore, the slope circuit 51 can be formed on the wall surface of the mounting recess 10 and the slope wall 11 can be effectively used. Further, a side surface circuit 56 is also provided on the side surface 16 of the insulating substrate 1.

【0043】このように,絶縁基板1の上面15,下面
17,及び側面16だけでなく,搭載用凹部10の底面
13及び斜面壁11にもパターンを形成することがで
き,絶縁基板のあらゆる面をパターン形成のために活用
することができる。それ故,リードレスチップキャリア
100の高密度実装化を図ることができる。
As described above, not only the upper surface 15, the lower surface 17, and the side surface 16 of the insulating substrate 1, but also the bottom surface 13 and the sloped wall 11 of the mounting recess 10 can be patterned, and all the surfaces of the insulating substrate can be formed. Can be utilized for pattern formation. Therefore, high density mounting of the leadless chip carrier 100 can be achieved.

【0044】次に,本例の製造方法においては,図7,
図8に示すごとく,絶縁基板1の上面15及び下面17
にパターン形成用の上面フィルム21,下面フィルム2
2をそれぞれ配置し,その上方,下方から平行光8を照
射している。そのため,絶縁基板1の上面側151,下
面17のパターン形成とともに,絶縁基板1の側面16
にも同時にパターンが形成されるため,製造容易であ
る。
Next, in the manufacturing method of this example, as shown in FIG.
As shown in FIG. 8, the upper surface 15 and the lower surface 17 of the insulating substrate 1 are
Top film 21 and bottom film 2 for pattern formation
2 are arranged respectively, and the parallel light 8 is emitted from above and below. Therefore, the upper surface 151 and the lower surface 17 of the insulating substrate 1 are patterned, and the side surface 16 of the insulating substrate 1 is formed.
Since the pattern is formed at the same time, it is easy to manufacture.

【0045】また,搭載用凹部10の壁面は,上記斜面
壁11から構成されているため,ザグリ加工等により,
形成しやすい。また,平行光8を用いているので,絶縁
基板1の上面15と斜面壁11及び底面13との間に間
隙があっても,上面フィルム21のパターンが精度良
く,斜面壁11に投影される。そのため,精度良く斜面
回路51を形成することができる。
Further, since the wall surface of the mounting recess 10 is composed of the above-mentioned sloped wall 11, it can be subjected to counterboring or the like.
Easy to form. Further, since the parallel light 8 is used, even if there is a gap between the upper surface 15 of the insulating substrate 1 and the sloped wall 11 and the bottom surface 13, the pattern of the upper surface film 21 is accurately projected onto the sloped wall 11. . Therefore, the slope circuit 51 can be accurately formed.

【0046】実施例2 本例において得られたリードレスチップキャリア100
は,図11に示すごとく,搭載用凹部10の斜面壁11
0が,凹形状に湾曲した曲面である。その他は,上記実
施例1と同様である。本例においては,斜面壁110が
曲面であるため,応力を緩和することができる。その他
は,実施例1と同様の効果を得ることができる。
Example 2 Leadless chip carrier 100 obtained in this example
11 is a slope wall 11 of the mounting recess 10 as shown in FIG.
0 is a curved surface curved in a concave shape. Others are the same as those in the first embodiment. In this example, since the slope wall 110 is a curved surface, stress can be relaxed. Other than that, the same effects as those of the first embodiment can be obtained.

【0047】実施例3 本例において得られたリードレスチップキャリア100
は,図12に示すごとく,絶縁基板1の下面17に,電
子回路59を設けている。該電子回路59は,放熱層5
8の周囲に形成されている。その他は,実施例1と同様
である。本例においては,絶縁基板1の下面17にも電
子回路59を設けているため,更なる高密度実装化を図
ることができる。その他は,実施例1と同様の効果を得
ることができる。
Example 3 Leadless chip carrier 100 obtained in this example
As shown in FIG. 12, an electronic circuit 59 is provided on the lower surface 17 of the insulating substrate 1. The electronic circuit 59 includes a heat dissipation layer 5
It is formed around eight. Others are the same as in the first embodiment. In this example, since the electronic circuit 59 is also provided on the lower surface 17 of the insulating substrate 1, higher density mounting can be achieved. Other than that, the same effects as those of the first embodiment can be obtained.

【0048】実施例4 本例において得られたリードレスチップキャリア101
は,図13〜図15に示すごとく,絶縁基板1の上面1
5に形成されている電子回路55に,接続用パッド57
1を設けている。上記接続用パッド571の上には,図
15に示すごとく,半田4等を用いて,実施例1で示し
たリードレスチップキャリア100が積層,固定されて
いる。この2つのリードレスチップキャリア100,1
01は,積層型リードレスチップキャリア102を構成
している。その他は,実施例1と同様である。本例にお
いても,実施例1と同様の効果を得ることができる。
Example 4 Leadless chip carrier 101 obtained in this example
Is the upper surface 1 of the insulating substrate 1 as shown in FIGS.
5 to the electronic circuit 55 formed, the connection pad 57
1 is provided. As shown in FIG. 15, the leadless chip carrier 100 shown in the first embodiment is laminated and fixed on the connection pad 571 by using solder 4 or the like. These two leadless chip carriers 100,1
Reference numeral 01 constitutes a laminated leadless chip carrier 102. Others are the same as in the first embodiment. Also in this example, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1の,リードレスチップキャリアの断面
図。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a leadless chip carrier according to a first embodiment.

【図2】実施例1の,リードレスチップキャリアの斜視
図。
FIG. 2 is a perspective view of the leadless chip carrier according to the first embodiment.

【図3】実施例1の,リードレスチップキャリアの製造
方法における,貫通孔を穿設した絶縁基板の断面図。
FIG. 3 is a cross-sectional view of an insulating substrate having a through hole in the method for manufacturing a leadless chip carrier according to the first embodiment.

【図4】図3の平面図。FIG. 4 is a plan view of FIG.

【図5】実施例1の,リードレスチップキャリアの製造
方法における,搭載用凹部を形成した絶縁基板の断面
図。
FIG. 5 is a cross-sectional view of an insulating substrate in which a mounting recess is formed in the leadless chip carrier manufacturing method according to the first embodiment.

【図6】実施例1の,リードレスチップキャリアの製造
方法における,金属メッキ膜を施した絶縁基板の断面
図。
FIG. 6 is a cross-sectional view of an insulating substrate provided with a metal plating film in the method for manufacturing a leadless chip carrier according to the first embodiment.

【図7】実施例1の,リードレスチップキャリアの製造
方法における,平行光照射時の絶縁基板の断面図。
FIG. 7 is a cross-sectional view of an insulating substrate during parallel light irradiation in the method for manufacturing a leadless chip carrier according to the first embodiment.

【図8】実施例1の,リードレスチップキャリアの製造
方法における,平行光照射時の絶縁基板の要部斜視図。
FIG. 8 is a perspective view of an essential part of the insulating substrate during parallel light irradiation in the method for manufacturing a leadless chip carrier according to the first embodiment.

【図9】実施例1の,リードレスチップキャリアの製造
方法における,エッチング後の絶縁基板の断面図。
FIG. 9 is a cross-sectional view of an insulating substrate after etching in the method for manufacturing a leadless chip carrier according to the first embodiment.

【図10】実施例1の,リードレスチップキャリアの製
造方法における,絶縁基板の切断位置を示す断面図。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a cutting position of the insulating substrate in the leadless chip carrier manufacturing method according to the first embodiment.

【図11】実施例2のリードレスチップキャリアの断面
図。
11 is a sectional view of the leadless chip carrier of Example 2. FIG.

【図12】実施例3のリードレスチップキャリアの断面
図。
FIG. 12 is a sectional view of a leadless chip carrier of Example 3.

【図13】実施例4のリードレスチップキャリアの断面
図。
FIG. 13 is a cross-sectional view of the leadless chip carrier of Example 4.

【図14】実施例4のリードレスチップキャリアの斜視
図。
FIG. 14 is a perspective view of a leadless chip carrier of Example 4.

【図15】実施例4の積層型リードレスチップキャリア
の断面図。
FIG. 15 is a sectional view of a laminated leadless chip carrier of Example 4.

【図16】従来例のリードレスチップキャリアの断面
図。
FIG. 16 is a cross-sectional view of a conventional leadless chip carrier.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1...絶縁基板,10...搭載用凹部,100,1
01...リードレスチップキャリア,11,11
0...斜面壁,13...底面,15...上面,1
6...側面,160...貫通孔,17...下面,
19...個片部,191...支持部,3...電子
部品,30...ボンディングワイヤー,4...半
田,50...ボンディングパッド,51...斜面回
路,55,59...電子回路,56...側面回路,
57,571...接続用パッド,6...封止樹脂,
1. . . Insulating substrate, 10. . . Mounting recess, 100,1
01. . . Leadless chip carrier, 11, 11
0. . . Slope wall, 13. . . Bottom, 15. . . Top, 1
6. . . Side, 160. . . Through-holes, 17. . . Bottom surface,
19. . . Individual piece, 191. . . Support part, 3. . . Electronic components, 30. . . Bonding wire, 4. . . Solder, 50. . . Bonding pad, 51. . . Slope circuit, 55, 59. . . Electronic circuit, 56. . . Side circuit,
57,571. . . Connection pad, 6. . . Sealing resin,

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−158555(JP,A) 特開 昭60−194548(JP,A) 特公 昭54−44634(JP,B1) 実公 昭59−8363(JP,Y1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 23/12 ─────────────────────────────────────────────────── --Continued from the front page (56) Reference JP-A-4-158555 (JP, A) JP-A-60-194548 (JP, A) JP-B-54-44634 (JP, B1) JP-B-59- 8363 (JP, Y1) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 23/12

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 絶縁基板に切断用の貫通孔を穿設すると
共に,底部から上部外方へ向かう斜面壁を有する電子部
品搭載用の搭載用凹部を形成し, かつ,上記搭載用凹部の上端は,該搭載用凹部内に搭載
した電子部品の上端よりも高い位置にあり, 次に,上記貫通孔内も含めて,上記絶縁基板の全表面
に,金属メッキ膜を施すと共に感光性のエッチングレジ
スト膜を形成し, 次に,上記絶縁基板の上面にパターン形成用の上面フィ
ルムを配置すると共に,該上面フィルムの上方から平行
光を照射し,その後,上記上面フィルムを上記絶縁基板
の上面から除去し, 次に,上記絶縁基板にエッチングを施して,上記搭載用
凹部の底面にはボンディングパッドを,搭載用凹部の斜
面壁には斜面回路を,絶縁基板の上面には電子回路を,
絶縁基板の側面には側面回路を,更に上記絶縁基板の下
面に接続用パッドを形成し, その後,上記貫通孔に沿って上記絶縁基板を切断して,
個片化またはフレーム化することを特徴とするリードレ
スチップキャリアの製造方法。
1. A through hole for cutting is bored in an insulating substrate, and a mounting recess for mounting an electronic component is formed which has a sloped wall extending from the bottom to the outside of the upper part, and the upper end of the mounting recess. Is at a position higher than the upper end of the electronic component mounted in the mounting recess. Next, a metal plating film is applied to the entire surface of the insulating substrate, including the inside of the through hole, and a photosensitive etching is performed. A resist film is formed, and then an upper surface film for pattern formation is arranged on the upper surface of the insulating substrate, and parallel light is irradiated from above the upper surface film. Then, the insulating substrate is etched to form a bonding pad on the bottom of the mounting recess, a sloped circuit on the sloped wall of the mounting recess, and an electronic circuit on the upper surface of the insulating substrate.
A side surface circuit is formed on the side surface of the insulating substrate, and a connecting pad is formed on the lower surface of the insulating substrate. Then, the insulating substrate is cut along the through hole,
A method for manufacturing a leadless chip carrier, which is characterized by individualization or frame formation.
【請求項2】 請求項において,上記絶縁基板の上面
に形成された電子回路には,接続用パッドを形成するこ
とを特徴とするリードレスチップキャリアの製造方法。
2. The method for manufacturing a leadless chip carrier according to claim 1, wherein a connecting pad is formed on the electronic circuit formed on the upper surface of the insulating substrate.
【請求項3】 請求項,又はにおいて,上記絶縁基
板の下面には,電子回路を形成することを特徴とするリ
ードレスチップキャリアの製造方法。
3. The method of claim 1, or 2, the insulation on the lower surface of the substrate, a manufacturing method of the leadless chip carrier and forming an electronic circuit.
【請求項4】 請求項,又はにおいて,上記エ
ッチングレジスト膜は,電着塗装法などの湿式方法によ
り形成されることを特徴とするリードレスチップキャリ
アの製造方法。
4. The method of claim 1, 2, or 3, the etching resist film, a manufacturing method of the leadless chip carrier, characterized in that it is formed by a wet method such as electrodeposition coating method.
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