JP3506209B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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JP3506209B2
JP3506209B2 JP08749198A JP8749198A JP3506209B2 JP 3506209 B2 JP3506209 B2 JP 3506209B2 JP 08749198 A JP08749198 A JP 08749198A JP 8749198 A JP8749198 A JP 8749198A JP 3506209 B2 JP3506209 B2 JP 3506209B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に関す
る。より詳しくは光を用いて液晶層のアドレッシングを
行う液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置は、その駆動方式によっ
て、電気アドレス方式、熱アドレス方式、および光アド
レス方式に分類される。これらのうち、直視型表示装置
として現在もっとも多く用いられているのは、電気アド
レス方式のパッシブマトリクス(PM)方式ならびにア
クティブマトリクス(AM)方式である。
【0003】近年、表示装置の大型化や高精細化に対す
るニーズが高まっている。しかしながら、従来の方式の
液晶表示装置では、これらのニーズに十分に対応できて
おらず、市販品で対角20インチ、試作段階でも対角3
0インチ程度が限界となっているのが現状である。とく
に、PM方式では、画素数の増加に伴い、クロストーク
のためにコントラストが低下するという問題がある。ま
た、AM方式では、スイッチング素子(特に薄膜トラン
ジスタ:TFT)を無欠陥で多数作り込むことが困難で
あるという問題がある。
【0004】これに対し、TFTのような半導体スイッ
チング素子を用いないAM方式液晶表示装置として、19
90年にアメリカのTektronix社のT.Buzakらによってプラ
ズマアドレス方式液晶表示装置(PALC)が開発され
た(例えば、特開平1-217396号公報)。PALCの断面
構造を模式的に図1に示す。
【0005】PALC100は、液晶セルとプラズマセ
ルとを積層した構成をしている。基板1と、誘電体セパ
レータ4との間に液晶層3が挟持されており、信号電極
(列電極)2と、誘電体セパレータ4との間の電位差に
よって、液晶層3が駆動される。プラズマセルは、基板
9と誘電体セパレータ4との間隙が複数のリブ隔壁6で
分割された複数のプラズマ放電チャネル5を有してい
る。プラズマ放電チャネル5には、イオン化可能なガス
が封入されており、カソード7とアノード8との間に放
電パルス電圧を印加することによって、プラズマが発生
する。複数のプラズマ放電チャネル5は、信号電極(列
電極)2と直交する方向に延びており、カソード7とア
ノード8とが走査電極(行電極)10として機能し、線
順次走査される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述したPALC方式
を用いた液晶表示装置は、TFTを用いた液晶表示装置
に比べ、比較的簡単に大型化を行うことが出来る。しか
しながら、PALCに用いられている誘電体セパレータ
4はガラスからなる薄板であり、これは高価である上に
表示装置が大きくなればなるほど取り扱いが難しく、表
示装置作製中に破損する確率が高くなる。
【0007】さらに、PALCの駆動時においてこの薄
板ガラスのプラズマ側表面は擬似的な電極として働く
が、そのガラスの厚さは約50〜100ミクロンであ
り、一般的なネマティック液晶層の厚さである3〜6ミ
クロンに比べて10倍以上の厚みを持っている。このた
めPALCを駆動する際には液晶層を有効に駆動する電
圧の10倍以上の電圧を印加する必要が有る。このこと
は駆動回路の負担を増やすと共に消費電力の増加、それ
に伴う発熱などの問題を引き起こす。
【0008】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、大型化や高精細化に適した低コスト、
高歩留まりな液晶表示装置を提供することを目的とす
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、第1基板と、第2基板と、該第1基板と該第2基板
との間に挟持された液晶層と、該第1基板の該液晶層側
における表示領域の全面に設けられた単一の第1電極
と、該第2基板の該液晶層側における表示領域の全面に
設けられ、透明導電材料からなる、第1の方向に延びる
互いに平行なストライプ状の複数の信号電極と、該複数
の信号電極を覆う光導電層と、該第2基板の前記液晶層
側とは反対側に設けられ、該光導電層の少なくとも一部
に紫外光を照射する、該第1の方向と異なる第2の方向
に延びる互いに平行なストライプ状の複数の光源と、を
有し、該光導電層は、該紫外光を照射することによって
電気伝導度が変化する物質を含み、該複数の光源を線順
次的にスイッチングすることによって前記信号電極を介
して該紫外光が照射された該光導電層の電気伝導度を変
化させて、該光導電層の該紫外光が照射された領域と該
信号電極とを電気的に接続し、該信号電極と電気的に接
続された該光導電層の領域と前記第1電極との間に印加
される駆動電圧によって、該液晶層を光アドレスする
成であり、前記複数の光源のそれぞれは、イオン化可能
なガスを封入したプラズマ発光チャネルを有し、そのこ
とにより上記目的が達成される。
【0010】 本発明による他の液晶表示装置は、第1
基板と、第2基板と、該第1基板と該第2基板との間に
挟持された液晶層と、該第1基板の該液晶層側における
表示領域の全面に設けられ、第1の方向に延びる互いに
平行なストライプ状の複数の第1電極と、該第2基板の
該液晶層側における表示領域の全面に設けられ、透明導
電材料からなる、該第1の方向と異なる第2の方向に延
びる互いに平行なストライプ状の複数の信号電極と、該
複数の信号電極を覆う光導電層と、該第2基板の前記液
晶層側とは反対側に設けられ、該光導電層の少なくとも
一部に紫外光を照射する、該第2の方向に延びる互いに
平行なストライプ状の複数の光源と、を有し、該光導電
層は、該紫外光を照射することによって電気伝導度が変
化する物質を含み、該複数の光源を線順次的にスイッチ
ングすることによって前記信号電極を介して該紫外光が
照射された該光導電層の電気伝導度を変化させて、該光
導電層の該紫外光が照射された領域と該信号電極とを電
気的に接続し、該信号電極と電気的に接続された該光導
電層の領域と前記第1電極との間に印加される駆動電圧
によって、該液晶層を光アドレスする構成であり、前記
複数の光源のそれぞれは、イオン化可能なガスを封入し
たプラズマ発光チャネルを有し、そのことにより上記目
的が達成される。
【0011】 本発明による他の液晶表示装置は、第1
基板と、第2基板と、該第1基板と該第2基板との間に
挟持された液晶層と、該第1基板の該液晶層側における
表示領域の全面に設けられた単一の第1電極と、該第2
基板の該液晶層側における表示領域の全面に設けられ、
透明導電材料からなる、第1の方向に延びる互いに平行
なストライプ状の複数の信号電極と、該複数の信号電極
上に形成された絶縁層と、該複数の信号電極と該絶縁層
との間に形成された光導電層と、該絶縁層に形成された
スルーホールを介して、該光導電層と接続された複数の
画素電極と、該第2基板の前記液晶層側とは反対側に設
けられ、該光導電層の少なくとも一部に紫外光を照射す
る、該第1の方向と異なる第2の方向に延びる互いに平
行なストライプ状の複数の光源と、を有し、該光導電層
は、該紫外光を照射することによって電気伝導度が変化
する物質を含み、該複数の光源を線順次的にスイッチン
グすることによって前記信号電極を介して該紫外光が照
射された該光導電層の電気伝導度を変化させて、該光導
電層の該紫外光が照射された領域を介して該画素電極と
該信号電極とを電気的に接続し、該信号電極と電気的に
接続された該画素電極と前記第1電極との間に印加され
る駆動電圧によって、該液晶層を光アドレスする構成で
あり、前記複数の光源のそれぞれは、イオン化可能なガ
スを封入したプラズマ発光チャネルを有し、そのことに
より上記目的が達成される。
【0012】 本発明による他の液晶表示装置は、第1
基板と、第2基板と、該第1基板と該第2基板との間に
挟持された液晶層と、該第1基板の該液晶層側における
表示領域の全面に設けられ、第1の方向に延びる互いに
平行なストライプ状の複数の第1電極と、該第2基板の
該液晶層側における表示領域の全面に設けられ、透明導
電材料からなる、該第1の方向と異なる第2の方向に延
びる互いに平行なストライプ状の複数の信号電極と、該
複数の信号電極上に形成された絶縁層と、該複数の信号
電極と該絶縁層との間に形成された光導電層と、該絶縁
層に形成されたスルーホールを介して、該光導電層と接
続された複数の画素電極と、該第2基板の前記液晶層側
とは反対側に設けられ、該光導電層の少なくとも一部に
紫外光を照射する、該第2の方向に延びる互いに平行な
ストライプ状の複数の光源と、を有し、該光導電層は、
該紫外光を照射することによって電気伝導度が変化する
物質を含み、該複数の光源を線順次的にスイッチングす
ることによって前記信号電極を介して該紫外光が照射さ
れた該光導電層の電気伝導度を変化させて、該光導電層
の該紫外光が照射された領域を介して該画素電極と該信
号電極とを電気的に接続し、該信号電極と電気的に接続
された該画素電極と前記第1電極との間に印加される駆
動電圧によって、該液晶層を光アドレスする構成であ
り、前記複数の光源のそれぞれは、イオン化可能なガス
を封入したプラズマ発光チャネルを有し、そのことによ
上記目的が達成される。
【0013】前記光導電層は、前記複数の画素電極のそ
れぞれに対して配置された少なくとも1つのドット状の
光導電膜を有してもよい。
【0014】前記画素電極に電気的に接続された蓄積容
量をさらに有してもよい。
【0015】前記第1電極は透明導電層からなり、前記
第1電極層は、該第1電極と電気的に接続された金属電
極をさらに有してもよい。
【0016】前記光導電層は、紫外光によって電気伝導
度が変化する物質を含み、透過モードまたは反射モード
で表示を行う構成としてもよい。
【0017】前記光導電層は、可視光によって電気伝導
度が変化する物質を含み、反射モードで表示を行う構成
としてもよい。
【0018】前記光導電層は、単一の光導電膜であって
もよい。
【0019】前記光導電層は、ストライプ状の前記複数
の信号電極と平行なストライプ状の複数の光導電膜から
なってもよい。
【0020】
【0021】
【0022】以下、本発明の作用を説明する。
【0023】本発明の液晶表示装置は、信号電極と、信
号電極を覆う光導電層と、光導電層に光照射する複数の
光源とを有している。光導電層に選択的に光照射するこ
とによって、信号電極と電気的に接続される光導電層の
領域を(例えば、列を線順次的に)選択することができ
る。従って、選択された光導電層の領域と対向電極との
間に印加された電圧を、光源のスイッチングによって線
順次走査することができる。即ち、液晶層を光アドレス
することができる。
【0024】例えば、行方向に延びるストライプ状の複
数の信号電極上に形成された光導電層に、列方向(行方
向に直交)に延びるストライプ状に光照射すると、光照
射された領域と信号電極とが交差する領域が選択される
(所定の電圧になる)。従って、対向電極と光導電層の
光照射された領域との間の液晶層に所定の電圧が印加さ
れる。ストライプ状の信号電極とストライプ状の光源と
を互いに直交するように構成すると、単一の対向電極を
用いることができる。
【0025】また、行方向に延びるストライプ状の複数
の信号電極に形成された光導電層に、信号電極と平行な
ストライプ状に光を照射すると、光導電層が行毎に選択
される(所定の電圧になる)。従って、対向基板側の電
極を列方向に延びるストライプ状の複数の電極(走査電
極)とすると、走査電極と信号電極との交差部に位置す
る液晶層に所定の電圧が印加される。
【0026】本発明による液晶表示装置の光源は、例え
ば、PALCのプラズマセルと類似の構成とすることが
できる。従来のPALCにおいては、プラズマ放電チャ
ネル5が誘電体セパレータ4を介して、液晶層3と電気
的にカップリングする必要がある。そのために、誘電体
セパレータ4として非常に薄いガラスシートを用いる必
要がある。一方、本願発明の液晶表示装置に用いられる
光源としてのプラズマセルは、光導電層の電気伝導度を
十分に変化させるだけの光を照射できればよい。従っ
て、光の強度と光導電層の感度とが十分であれば、プラ
ズマ発光部と光導電層との間に設けられる基板の厚さに
制限はなく、製造工程でのハンドリング等を考慮して適
宜設計することができる。
【0027】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。
【0028】(実施形態1)本実施形態による液晶表示
装置200を模式的に図2に示す。液晶表示装置200
は、液晶セル200aとプラズマ発光セル200bとを
有している。液晶セル200aとプラズマ発光セル20
0bとは、基板16を共有している。この基板16は、
従来のPALCの誘電体セパレータ(図1の参照符号
4)に相当する。
【0029】液晶セル200aは、基板11(第1基
板)と基板16(第2基板)との間に液晶層13を有す
る。基板11の液晶層13側の表面には、ITO(イン
ジウム錫酸化物)などの透明導電材料からなる対向電極
12が表示領域のほぼ全面に形成されている。必要に応
じて、カラーフィルタを形成してもよい。
【0030】基板16の液晶層13側表面には、互いに
平行なストライプ状の複数の信号電極15、信号電極1
5を覆う光導電層14が形成されている。光導電層14
は、表示領域のほぼ全面に形成されている。
【0031】液晶層13は、従来のアクティブマトリク
ス型液晶表示装置に用いられている液晶材料を用いて形
成することができる。例えば、ネマティック液晶、コレ
ステリック液晶などの液晶材料を用いることができる。
また、基板11および基板16の液晶層13に接する面
に必要に応じて配向膜を形成してもよい。
【0032】プラズマ発光セル200bは、基板16と
基板19との間隙が複数のリブ隔壁17で分割された複
数のプラズマ発光チャネル25aを有している。プラズ
マ発光チャネル25aには、イオン化可能なガスが封入
されており、カソード18aとアノード18bとの間に
放電パルス電圧を印加することによって、プラズマが発
生する。複数のプラズマ発光チャネル25aは、信号電
極15と直交する方向に延びている(Type I)。従っ
て、プラズマ発光チャネル25aのON/OFFを制御
することによって、信号電極15と電気的に接続される
光導電層14の領域が線順次的に選択(走査)される。
この構成の場合、信号電極15とプラズマ発光チャネル
25aとの交差部に位置する光導電層14が選択される
ので、対向電極12は単一の電極とすることができる。
【0033】プラズマ発光セル200bは、PALCの
プラズマ放電セルと同様の構成のものを用いることがで
きる。基板19上に複数のリブ隔壁17を設ける代わり
に、厚い基板をエッチングすることによって、プラズマ
発光チャネル25aを形成してもよい。また、発光効率
を高めるために、プラズマ発光チャネル25aに封入す
るガスの種類やガス圧を最適化すればよい。例えば、紫
外線を発光させる場合には、例えば、ヘリウム、キセノ
ンやこれらの混合ガスを用いることができる。また、可
視光を発光させる場合には、ネオンとキセノンの混合ガ
スなどを用いるか、または、プラズマ発光チャネル25
aの内壁に適切な蛍光体を塗布し、紫外線を可視光に変
換する構成としてもよい。アドレス用の光として紫外線
を用いると透過型液晶表示装置を形成することができる
という利点がある。
【0034】本発明による液晶表示装置においては、光
アドレス用の光源からの光の強度と光導電層の感度とが
十分であれば、液晶セル200aとプラズマセル200
bとの間に設けられる基板16の材料や厚さに制限はな
く、製造工程の歩留まりを考慮して適宜設定することが
できる。紫外線を用いる場合には、例えば、石英基板や
溶融シリカ基板などを用いることができる。また、大画
面の表示装置を構成する場合には、基板16を複数の基
板で構成してもよい。
【0035】光導電層14の材料は、アドレス用の光に
対して電気伝導度が十分に変化する材料を、アドレス用
の光の波長や強度および装置の構成を考慮して、公知の
材料から選択すればよい。紫外線に対しては、例えば、
酸化チタンを用いることができる。また、可視光に対し
ては、例えば、アモルファスシリコンを用いることがで
きる。
【0036】プラズマ発光を用いた表示装置として、い
わゆるプラズマ表示装置(PDP)が知られている。P
DPは、プラズマ発光された紫外線を蛍光体で可視光に
変換し、その可視光を表示に用いる、自発光型の表示装
置である。それに対し、本発明による液晶表示装置にお
いては、プラズマ発光によって得られた光を、画素をア
ドレスするために用いる。表示に用いる光は、従来の液
晶表示装置と同様に、透過型の場合にはバックライトか
らの光であり、反射型の場合には周囲光である。従っ
て、プラズマ発光の強度は光導電層の電気伝導度を十分
に変化させることが可能であればよく、比較的弱い光を
用いることができる。例えば、プラズマ発光による紫外
線を用いる場合においては、その輝線を用いる必要がな
く、光導電層の感度や基板や信号電極の材料の透過率特
性を考慮して、最適化すればよい。
【0037】図3を参照しながら、本実施形態の液晶表
示装置200の動作原理を説明する。選択されたプラズ
マ発光チャネル25a内のカソード18aとアノード1
8bとの間に放電パルス電圧を印加することによって、
プラズマ発光チャネル25a内のガスがイオン化され、
プラズマが発生する。プラズマはそのガスの種類やガス
圧によって種々の波長の光を発生する(図3(a))。
【0038】この光は基板16(および信号電極15)
を通過し、光導電層14に照射される。光照射された領
域14aは、光導電層14の電気伝導度が増加し、導電
体となり、信号電極15に電気的に接続される。従っ
て、光照射された領域14aの電位は信号電極の電位と
同じになるので、対向電極12と信号電極15との間に
駆動電圧を印加すると、光導電層14の光照射された領
域14aと対向電極12との間の液晶層13に電圧が印
加され、画素に対応する領域の液晶層13aが駆動され
る(図3(b))。
【0039】次に、カソード18aとアノード18bと
の間の電圧を切り、プラズマ発光を停止すると、光導電
層14の電気伝導度は低下し絶縁体となり、信号電極1
5とは電気的に絶縁される。信号電極15/光導電層1
4/液晶層13/対向電極12は、キャパシタとして機
能するので、先に印加された駆動電圧に対応する電荷が
光導電層14上に保持され、液晶層13の駆動状態は保
持される(いわゆるサンプルホールドである)(図3
(c))。プラズマ発光が停止した状態(消光状態)で
は、対向電極12と信号電極15との間に駆動電圧を印
加しても、信号電極15と光導電層14とは電気的に切
り離されているので、光導電層14と液晶層13との容
量分割のために、液晶層13に十分な電圧が印加されな
い。次のフレーム(またはフィールド)で、プラズマ発
光チャネル25aが選択される期間(プラズマ発光する
期間)に、液晶層13に新たな駆動電圧が印加される。
【0040】本実施形態の液晶表示装置200は、従来
のプラズマアドレス型液晶表示装置(PALC)やプラ
ズマ表示装置(PDP)の製造方法と同様の製造方法で
製造することができる。本実施形態1の液晶表示装置2
00の製造方法の例を図4A〜図4Cを参照しながら説
明する。
【0041】図4A(a)および(b)に示すように、
例えば、約1.1mm厚のガラス基板11上に厚さ約5
0nmのITOをスパッタ法により形成し、対向電極1
2を形成する。必要に応じて、配向膜やカラーフィルタ
を形成してもよい。
【0042】図4B(a)〜(c)に示すように、例え
ば、約1.1mm厚のガラス基板19をフッ酸等を用い
てエッチングすることによって、高さ約200μmのリ
ブ隔壁17を形成する。あるいは、基板19上にリブ隔
壁17を形成してもよい。放電用の電極18aおよび1
8bは、例えば、厚さ約1μmのニッケル膜をスパッタ
法で形成し、エッチングすることによって形成すること
ができる。
【0043】図4C(a)〜(c)に示すように、紫外
線透過性材料からなる基板16(例えば、約0.7mm
厚の石英基板)上に、約15nm厚の透明導電膜を例え
ばスパッタ法により形成し(図4(a))、ストライプ
状にエッチングして信号電極15を形成する(図4
(b))。この基板のほぼ全面を覆うように、約0.1
μmの酸化チタン膜をスパッタ法で形成し、光導電層1
4を得る(図4(c))。その後、必要に応じて、配向
膜の形成およびラビング処理を行ってもよい。
【0044】得られた基板16および基板19を貼りあ
わせ、溝内部を減圧した後に、例えば、ヘリウムとキセ
ノンの混合ガスを封入し、プラズマ発光チャネル25a
を形成する。大型のパネルを形成する場合には、一枚の
基板19に対して、複数の基板16を貼り合わせてもよ
い。
【0045】基板11と基板16とを、それぞれの電極
を内側にして、適当なスペーサーを用いてギャップを制
御しながら、貼り合わせる。このギャップに所望の液晶
材料を注入し、液晶層13を形成し、液晶表示装置20
0が作製される。本実施形態の液晶表示装置200は、
透明な基板を用い、紫外線をアドレス光として用いる構
成としたので、透過モードで表示を行うことができる。
【0046】上述の例では、光導電層14を表示領域の
ほぼ全面に形成したが、必ずしもその必要はない。光導
電層14は、信号電極15との電気的接続を光でスイッ
チングするために設けられているので、例えば、図5に
示すように、信号電極15上に、信号電極15と同様に
ストライプ状の光導電層14’を形成してもよい。
【0047】本発明による液晶表示装置は、TFT等の
アクティブ素子を形成する必要がないので、歩留まりが
高く、比較的安価に製造できる。また、従来のPALC
のように、薄い誘電体セパレータを必要としないので、
大型のディスプレイの製造も比較的容易であり、駆動電
圧も低くすることができ、低消費電力の大型表示装置を
提供することができる。
【0048】(実施形態2)本実施形態による液晶表示
装置300を模式的に図6に示す。液晶表示装置300
は、液晶セル300aとプラズマ発光セル300bとを
有している。液晶セル300aの構成以外は、実施形態
1の液晶表示装置200と同様なので、同様の機能を有
する構成要素には同じ参照符号を用い、その説明を省略
する。
【0049】液晶セル300aは、基板11の液晶層側
表面に、複数の互いに平行なストライプ状の電極20が
配置されている。このストライプ電極20は、信号電極
22と直交する方向に延びており、プラズマ発光チャネ
ル25a’は信号電極22と平行に配置されている(Ty
pe II)。すなわち、プラズマ発光セル300bのプラ
ズマ発光チャネル25a’とストライプ電極20とは互
いに直交している。
【0050】本実施形態(Type II)の液晶表示装置3
00の動作原理は、実施形態1(TypeI)の液晶表示装置
200と基本的に同じであるが、プラズマ発光チャネル
25a’が信号電極22と平行に配置されているので、
液晶層の駆動のためには、ストライプ状に形成した電極
20の各々と、信号電極22との間に電圧を印加する必
要がある点において異なっている。
【0051】(実施形態3)本実施形態の液晶表示装置
においては、液晶層のプラズマセル側の電極及び光導電
層の配置が先の実施形態と異なっている。本実施形態に
よる液晶表示装置の液晶層のプラズマセル側に形成され
る電極及び光導電層の構成(アドレス側基板400’)
を図7に模式的に示す。
【0052】基板46上に複数のストライプ状の信号電
極42が形成されている。この複数のストライプ状の信
号電極42を覆って光導電層41が形成されている。図
7に示した例では、光導電層41が全てのストライプ状
の信号電極42を覆うように単一の光導電層41をほぼ
全面に形成した例を示したが、図5に示したように、信
号電極上にストライプ状の光導電層14’(図5
(a))またはドット状の光導電層14’’(図5
(b))を形成してもよい。
【0053】さらに、この光導電層41を覆うように絶
縁層45が形成されており、絶縁層45上に、各画素に
応じてドット状に画素電極44が形成されている。絶縁
層45には、コンタクトホール43が形成されている。
コンタクトホール43には、例えば、画素電極44を形
成する材料が少なくとも一部充填されており、このコン
タクトホール43を介して、画素電極44と光導電層4
1は接続されている。
【0054】本実施形態の液晶表示装置は、実施形態1
と同様の材料を用いて、同様の方法で形成することがで
きる。なお絶縁層の材料としては、特に限定されず、公
知の有機材料や無機材料を広く用いることができる。絶
縁膜の形成やコンタクトホールの形成も公知の方法を用
いることができる。
【0055】本実施形態の液晶表示装置400の動作原
理を図8(a)〜(c)を参照しながら説明する。
【0056】液晶表示装置400は、液晶セル400a
とプラズマ発光セル400bとを有している。液晶セル
400aの構成以外は、実施形態1の液晶表示装置20
0と同様なので、同様の機能を有する構成要素には同じ
参照符号を用い、その説明を省略する。液晶セル400
aは、図7に示したアドレス側基板400’を有する。
ここでは、プラズマ発光チャネル25aを信号電極42
と直交する(TypeI)ように構成した例について、その
動作を説明する。なお、プラズマ発光チャネル25aを
信号電極42と平行(Type II)に配置してもよい。但
し、この場合には、対向電極12を信号電極42と直交
する方向に延びる複数のストライプ状電極とする必要が
ある(実施形態2参照)。
【0057】選択されたプラズマ発光チャネル25a内
のカソード18aとアノード18bとの間に放電パルス
電圧を印加することによって、プラズマ発光チャネル2
5a内のガスがイオン化され、プラズマが発生する。プ
ラズマはそのガスの種類やガス圧によって種々の波長の
光を発生する(図8(a))。
【0058】この光は基板46(および信号電極42)
を通過し、光導電層41に照射される。光照射された光
導電層41aは、その電気伝導度が増加し、導電体とな
り、信号電極42と画素電極44とがコンタクトホール
43を介して電気的に接続される。光導電層41が導電
状態の時に、対向電極12と信号電極42との間に駆動
電圧を印加すると、信号電極42と対向電極12との間
の液晶層13に電圧が印加され、画素に対応する領域の
液晶層13aが駆動される(図8(b))。
【0059】次に、カソード18aとアノード18bと
の間の電圧を切り、プラズマ発光を停止すると、光導電
層41の電気伝導度は低下し絶縁体となり、信号電極4
2と画素電極44とは電気的に絶縁される。信号電極4
2/光導電層41/絶縁層45/画素電極44/液晶層
13/対向電極12は、キャパシタとして機能するの
で、先に印加された駆動電圧に対応する電荷が画素電極
44上に保持され、液晶層13の駆動状態は保持される
(いわゆるサンプルホールドである)(図8(c))。
プラズマ発光が停止した状態(消光状態)では、対向電
極12と信号電極42との間に駆動電圧を印加しても、
信号電極42と画素電極44とは、電気的に切り離され
ているので、容量分割のために、画素電極44上の液晶
層13に十分な電圧が印加されない。次のフレーム(ま
たはフィールド)で、プラズマ発光チャネル25aが選
択される期間(プラズマ発光する期間)に、液晶層13
に新たな駆動電圧が印加される。
【0060】なお、本実施形態の構成の場合、液晶層1
3に印加される電圧は、信号電極42/光導電層41/
絶縁層45/画素電極44によって形成される容量と画
素電極44/液晶層13/対向電極12とによって形成
される容量との比で分配されるので、絶縁層45の厚さ
および誘電率を調整することによって、光導電層41の
厚さや誘電率のマージンを大きくとることができ、設計
上有利である。
【0061】(実施形態4)本実施形態においては、反
射型の液晶表示装置を作製する。基本的な構成は実施形
態3と同様なので、詳細な説明は省略する。
【0062】図9に示した本実施形態4の液晶表示装置
のアドレス側基板400’’は、光導電層41’を可視
光に対して電気伝導度が変化する材料を用いて形成(例
えば、アモルファスシリコンを化学気相成長(CVD)
法を用いて形成)した点と、画素電極44’を可視光を
反射する材料を用いて形成(例えば、アルミニウムをス
パッタ法で形成)した点において、実施形態4と異なっ
ている。また、遮光機能を持つ高分子材料(例えば、黒
色顔料を含む高分子材料)からなるスペーサー50を画
素電極44’間の隙間を埋めるように形成すれば、隣接
する画素からの余分な反射光を防ぐことが出来るのでコ
ントラストが上がる(図9中では、画素電極44’の右
側のスペーサを省略してある)。なお、可視光を反射す
る材料を用いて画素電極を形成する代わりに、透明な画
素電極上に、反射膜(例えば、誘電体反射膜)を形成し
てもよい。
【0063】可視光によって電気伝導度が変化する光導
電層を用いる場合、プラズマ発光チャネルに封入するガ
スの種類やガス圧を適宜変更する。例えば、可視光の発
光強度が比較的強いネオンとキセノンとの混合ガスを用
いることができる。あるいは、紫外線を発光するガス
と、紫外線を受けて可視光を発光する蛍光体とを組み合
わせて用いてもよい。これらの組み合わせは、PDPで
用いられている組み合わせを用いることができる。ま
た、蛍光体はプラズマ発光チャネル内に、例えば塗布す
ることによって形成すればよい。
【0064】アドレス光として可視光を用いる場合に
は、光導電層を例えば、硫化カドミウムを用いて形成し
てもよい。また、アドレス用の光源として、EL素子等
を用いてもよい。光導電層の材料とアドレス用の光源の
組み合わせは、公知の材料および光源のなかから種々の
組み合わせを用いることができる。
【0065】また、反射型の液晶表示装置を形成する場
合、液晶層としてSTNモードの液晶層を用いることに
よって、一枚の偏光板を用いて、コントラストが比較的
高い液晶表示装置を形成することができるという利点が
ある。
【0066】(実施形態5)本実施形態では、実施形態
3および4で説明した液晶表示装置の表示特性を改善す
るために、画素電極に電気的に接続された蓄積容量をさ
らに有する液晶表示装置について説明する。
【0067】上述した実施形態3および4の液晶表示装
置においては、電荷保持時間の調整(特に、十分な保持
時間の確保)が問題となることがある。電荷保持時間
は、液晶材料の抵抗値、素子に用いた絶縁層や配向層の
誘電率、セルギャップ、透明電極の抵抗値などによって
決定されるので、保持時間を変更することは極めて困難
である。
【0068】そこで本実施形態においては、例えば、実
施形態4の液晶表示装置において、画素電極に電気的に
接続された蓄積容量(補助容量)を作り込むことによ
り、電荷保持時間の設定を可能にする。
【0069】蓄積容量を含むアドレス側基板500の模
式的な構成を図10に示す。基板56(アドレス側基板
400’の基板46に対応)上に複数のストライプ状の
信号電極52が形成されている。この信号電極52上に
単一の(またはストライプ状の)光導電層51が形成さ
れている。光導電層51を覆う絶縁層55上に形成され
た画素電極54は、コンタクトホール53を介して光導
電層51と接続されている。
【0070】画素電極54と絶縁層55との間には、金
属配線57と、金属配線57を覆う絶縁層58が形成さ
れており、金属配線57/絶縁層58/画素電極54
が、蓄積容量を形成する。この例では、金属配線57を
信号電極52と直交する方向に延びるストライプ状の電
極として形成したが、これに限られない。
【0071】蓄積容量は、例えば、以下のようにして形
成することができる。約0.7mm厚の基板56上に約
0.1μm厚のアルミ層を蒸着し、約30μm幅のスト
ライプ状にエッチングし、アルミ配線57を形成する。
得られたアルミ配線57を陽極酸化することにより、そ
の表面に絶縁膜(陽極酸化膜)58を形成する。これら
を覆って、約50nm厚のITOをスパッタ法により形
成し、ドット状にエッチングして、マトリクス状に配置
された画素電極54を形成する。得られたアルミ/酸化
アルミ/ITO構造が蓄積容量として機能する。
【0072】保持時間は、画素電極54の下のアルミ配
線57の幅や絶縁層58の厚み、種類(酸化アルミ57
上にさらに窒化シリコンをスパッタする等)などを変え
ることにより、変更が可能なことは言うまでもない。
【0073】ここで、アルミ配線57を対向基板に形成
されるカラーフィルターのブラックマトリクスに隠れる
位置に配置すると、液晶表示装置の開口率を下げること
はない。ただし電荷保持時間の要求上、ブラックマトリ
クス以上の幅で配置しなければならない場合でも、開口
率の低下は最小限に抑えられる。
【0074】(実施形態6)本実施形態では、実施形態
3の液晶表示装置400の対向基板の構成を改良した例
を説明する。ITOなどの透明導電材料は電気伝導率が
比較的低いので、大型の表示装置において、電極12を
ITOで形成すると、信号電圧の遅延、電圧波形の歪や
振幅の低下等の問題を生じる場合がある。本実施形態で
は、上記の問題を回避するために、透明電極に電気的に
接続された金属電極を形成する。以下の例では、カラー
表示を行うためのカラーフィルター層を併せて形成した
例について説明するが、カラーフィルター層を省略する
こともできる。 図11を参照しながら、本実施形態に
よる対向基板およびその製造方法を説明する。
【0075】約1.1mm厚のガラス基板61上にカラ
ーレジスト(例えば、富士ハント社製CR−2000
(赤)、CG−2000(緑)、CB−2000
(青))を用い、これらを順次スピンナー塗布、マスク
露光、現像、焼成を繰り返すことにより、ストライプ状
のカラーフィルター層62(例えば、R:62a、G:
62b、B:62c)を形成する(図11(a)および
(b))。
【0076】次に、基板表面の平坦化とカラーフィルタ
ー層62を保護するためのオーバーコート層63を透明
な高分子材料(例えば新日鐵化挙社製 V259−P
A)を用いて形成する(図11(c))。
【0077】さらに、オーバーコート層63上に、例え
ば、金属クロムからなる約0.2μm厚の金属電極64
を形成する(図11(d))。この金属電極64は、画
素電極(図7及び図8の参照符号44参照)の隙間に対
応する位置に形成されているので、ブラックマトリクス
としても機能する。最後に、この基板の表面を覆ってほ
ぼ全面に約50nm厚のITO膜を形成し、対向電極6
5を得る(図11(e))。
【0078】(実施形態7)実施形態3および4では、
Type IIの液晶表示装置を例示したが、実施形態3およ
び4と同様の構成でType Iの液晶表示装置を構成するこ
とが可能なことは、勿論である。信号電極と画素電極と
が、信号電極と画素電極との間(信号電極/絶縁層/光
導電層/画素電極)に形成される容量によってカップリ
ングしているので、画素電極が選択されていない期間に
おいても、信号電極の電位の影響で画素電極の電位が変
化し、液晶層に印加される電圧が所望の電圧からずれ、
その結果、表示品質が低下する場合がある。
【0079】本実施形態では、信号電極と画素電極との
間に形成される容量(信号電極と画素電極との容量カッ
プリング)を小さくする構成例を説明する。ここでは、
信号電極/光導電層/絶縁層/画素電極の構成について
のみ説明する。本実施形態の構成は、先の実施形態の液
晶表示装置に適用することができる。
【0080】図12(a)および(b)に本実施形態の
画素電極/光導電層/信号電極の構成例を模式的に示
す。簡単のために、マトリクス状に形成された複数の画
素電極の内の1つの構成を説明する。
【0081】基板166上に、信号電極162が形成さ
れている。画素電極164との間に形成される容量を小
さくするように、信号電極162の幅は先の実施形態の
信号電極の幅よりも狭い。信号電極162上には、ドッ
ト状の光導電層161が形成されており、これらの上を
覆って基板166のほぼ全面に形成されている絶縁層1
65は、光導電層161上にスルーホール163を有し
ている。ドット状の光導電層161は、例えば、画素電
極164上の端辺の中央部に形成されている。本実施形
態の構成は、先の実施形態と同様に、公知の材料および
製造方法を用いて製造することができる。
【0082】さらに、例えば、図13(a)および
(b)に示したように構成すると、絶縁膜を省略し、且
つ、信号電極と画素電極との間に形成される容量を低下
することができる。
【0083】基板76上に形成された信号電極72は、
隣接する画素電極74間に設けられており、信号電極7
2の一部がT字型に分岐した凸部72aを有している。
この凸部72aを覆うようにドット状の光導電層71が
形成されており、光導電層71を覆うように画素電極7
4が形成されている。
【0084】図13から明らかなように、信号電極72
と画素電極74とが重なって容量を形成する領域は、信
号電極72の凸部72aの下部に限られる。従って、信
号電極と画素電極との間に形成される容量が小さい。な
お、1つの画素電極に対して、複数のドット状の光導電
層71を形成してもよい。例えば、2つの光導電層71
を形成し、П字型に分岐した信号電極の凸部とを接続し
てもよい。
【0085】また、本実施形態の構成のように、光導電
層の面積を小さくすることで、アドレス光の利用効率を
高めることもできる。プラズマ発光チャネルの内壁に反
射層を形成し、また、必要に応じて集光機能を有する部
材を形成し、プラズマ発光チャネルで発生する光を光導
電層に集中することができる。
【0086】
【発明の効果】上述したように、本発明によれば、光に
よってアドレスする新しい方式の液晶表示装置が提供さ
れる。本発明による液晶表示装置は、TFTなどのアク
ティブ素子を必要としないので、高い歩留まりで比較的
安価に製造できる。さらに、光によってアドレスするの
で、従来のPALCで必要とされるきわめて薄い(約5
0μm程度)誘電体セパレータを必要としないので、従
来のPALCよりも比較的安価に高歩留まりで作製でき
る上に、従来のPALCに比べて低電圧で駆動できる液
晶表示装置を提供することができる。
【0087】本発明における透過型の表示装置において
バックライトを置く場合に、バックライトと表示装置と
の間に紫外線吸収層(例えば高分子からなるフィルムな
ど)を適時追加しても構わない。また、本発明による液
晶表示装置では、液晶層の構造には制限がなく(例えば
ホスト−ゲスト型液晶、コレステリック液晶、高分子分
散型液晶など)公知の液晶層を広く利用することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のPALCの断面構造を模式的に示す図で
ある。
【図2】本発明による液晶表示装置の一例を模式的に示
す図である。
【図3】本発明による液晶表示装置の動作原理を説明す
るための断面である。
【図4A】本発明による液晶表示装置の製造方法の例を
示す概略図である。
【図4B】本発明による液晶表示装置の製造方法の例を
示す概略図である。
【図4C】本発明による液晶表示装置の製造方法の例を
示す概略図である。
【図5】本発明による液晶表示装置における光導電層の
配置の他の例を模式的に示す図である。
【図6】本発明による液晶表示装置の他の例を模式的に
示す図である。
【図7】本発明による液晶表示装置の他の例を模式的に
示す図である。
【図8】本発明による液晶表示装置の動作原理を説明す
るための断面である。
【図9】本発明による液晶表示装置の他の例を模式的に
示す図である。
【図10】本発明の液晶表示装置における蓄積容量の構
成を模式的に示す図である。
【図11】本発明の液晶表示装置の製造方法の一部を模
式的に示す図である。
【図12】実施形態7による信号電極/光導電層/絶縁
層/画素電極の構成例を模式的に示す図である。(a)
は平面図、(b)は(a)の12b−12b’断面図で
ある。
【図13】実施形態7による信号電極/光導電層/画素
電極の構成例を模式的に示す図である。(a)は平面
図、(b)は(a)の13b−13b’断面図である。
【符号の説明】
1 ガラス基板 2 信号(列)電極 3 液晶層 4 誘電セパレータ 5 プラズマ放電チャネル 6 リブ隔壁 7 カソード 8 アノード 9 ガラス基板 10 走査(行)電極 11 基板 12 対向電極(ITO) 13 液晶層 13a 電圧が印加された液晶層 14、14’、41 光導電層 14a、41a 光照射された光導電層 15 信号電極 16、46 基板 17、50 リブ隔壁 18 放電電極 18a カソード 18b アノード 19、46、56 基板 20 電極(ITO) 21、51 光導電層 22、42、52 信号電極(ストライプ状) 25a プラズマ発光チャネル 43、53 コンタクトホール 44、54 画素電極 45、55 絶縁層 57 金属配線 58 絶縁層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/135 G02F 1/1333

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1基板と、第2基板と、該第1基板と
    該第2基板との間に挟持された液晶層と、 該第1基板の該液晶層側における表示領域の全面に設け
    られた単一の第1電極と、 該第2基板の該液晶層側における表示領域の全面に設け
    られ、透明導電材料からなる、第1の方向に延びる互い
    に平行なストライプ状の複数の信号電極と、 該複数の信号電極を覆う光導電層と、 該第2基板の前記液晶層側とは反対側に設けられ、該光
    導電層の少なくとも一部に紫外光を照射する、該第1の
    方向と異なる第2の方向に延びる互いに平行なストライ
    プ状の複数の光源と、を有し、 該光導電層は、該紫外光を照射することによって電気伝
    導度が変化する物質を含み、 該複数の光源を線順次的にスイッチングすることによっ
    て前記信号電極を介して該紫外光が照射された該光導電
    層の電気伝導度を変化させて、該光導電層の該紫外光が
    照射された領域と該信号電極とを電気的に接続し、該信
    号電極と電気的に接続された該光導電層の領域と前記第
    1電極との間に印加される駆動電圧によって、該液晶層
    を光アドレスする構成であり、 前記複数の光源のそれぞれは、イオン化可能なガスを封
    入したプラズマ発光チャネルを有する、 液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 第1基板と、第2基板と、該第1基板と
    該第2基板との間に挟持された液晶層と、 該第1基板の該液晶層側における表示領域の全面に設け
    られ、第1の方向に延びる互いに平行なストライプ状の
    複数の第1電極と、 該第2基板の該液晶層側における表示領域の全面に設け
    られ、透明導電材料からなる、該第1の方向と異なる第
    2の方向に延びる互いに平行なストライプ状の複数の信
    号電極と、 該複数の信号電極を覆う光導電層と、 該第2基板の前記液晶層側とは反対側に設けられ、該光
    導電層の少なくとも一部に紫外光を照射する、該第2の
    方向に延びる互いに平行なストライプ状の複数の光源
    と、を有し、 該光導電層は、該紫外光を照射することによって電気伝
    導度が変化する物質を含み、 該複数の光源を線順次的にスイッチングすることによっ
    て前記信号電極を介して該紫外光が照射された該光導電
    層の電気伝導度を変化させて、該光導電層の該紫外光が
    照射された領域と該信号電極とを電気的に接続し、該信
    号電極と電気的に接続された該光導電層の領域と前記第
    1電極との間に印加される駆動電圧によって、該液晶層
    を光アドレスする構成であり、 前記複数の光源のそれぞれは、イオン化可能なガスを封
    入したプラズマ発光チャネルを有する、 液晶表示装置。
  3. 【請求項3】 第1基板と、第2基板と、該第1基板と
    該第2基板との間に挟持された液晶層と、 該第1基板の該液晶層側における表示領域の全面に設け
    られた単一の第1電極と、 該第2基板の該液晶層側における表示領域の全面に設け
    られ、透明導電材料からなる、第1の方向に延びる互い
    に平行なストライプ状の複数の信号電極と、 該複数の信号電極上に形成された絶縁層と、 該複数の信号電極と該絶縁層との間に形成された光導電
    層と、 該絶縁層に形成されたスルーホールを介して、該光導電
    層と接続された複数の画素電極と、 該第2基板の前記液晶層側とは反対側に設けられ、該光
    導電層の少なくとも一部に紫外光を照射する、該第1の
    方向と異なる第2の方向に延びる互いに平行なストライ
    プ状の複数の光源と、を有し、 該光導電層は、該紫外光を照射することによって電気伝
    導度が変化する物質を含み、 該複数の光源を線順次的にスイッチングすることによっ
    て前記信号電極を介して該紫外光が照射された該光導電
    層の電気伝導度を変化させて、該光導電層の該紫外光が
    照射された領域を介して該画素電極と該信号電極とを電
    気的に接続し、該信号電極と電気的に接続された該画素
    電極と前記第1電極との間に印加される駆動電圧によっ
    て、該液晶層を光アドレスする構成であり、 前記複数の光源のそれぞれは、イオン化可能なガスを封
    入したプラズマ発光チャネルを有する、 液晶表示装置。
  4. 【請求項4】 第1基板と、第2基板と、該第1基板と
    該第2基板との間に挟持された液晶層と、 該第1基板の該液晶層側における表示領域の全面に設け
    られ、第1の方向に延びる互いに平行なストライプ状の
    複数の第1電極と、 該第2基板の該液晶層側における表示領域の全面に設け
    られ、透明導電材料からなる、該第1の方向と異なる第
    2の方向に延びる互いに平行なストライプ状の複数の信
    号電極と、 該複数の信号電極上に形成された絶縁層と、 該複数の信号電極と該絶縁層との間に形成された光導電
    層と、 該絶縁層に形成されたスルーホールを介して、該光導電
    層と接続された複数の画素電極と、 該第2基板の前記液晶層側とは反対側に設けられ、該光
    導電層の少なくとも一部に紫外光を照射する、該第2の
    方向に延びる互いに平行なストライプ状の複数の光源
    と、を有し、 該光導電層は、該紫外光を照射することによって電気伝
    導度が変化する物質を含み、 該複数の光源を線順次的にスイッチングすることによっ
    て前記信号電極を介して該紫外光が照射された該光導電
    層の電気伝導度を変化させて、該光導電層の該紫外光が
    照射された領域を介して該画素電極と該信号電極とを電
    気的に接続し、該信号電極と電気的に接続された該画素
    電極と前記第1電極との間に印加される駆動電圧によっ
    て、該液晶層を光アドレスする構成であり、 前記複数の光源のそれぞれは、イオン化可能なガスを封
    入したプラズマ発光チャネルを有する、 液晶表示装置。
  5. 【請求項5】 前記光導電層は、前記複数の画素電極の
    それぞれに対して配置された少なくとも1つのドット状
    の光導電膜を有する請求項3または4に記載の液晶表示
    装置。
  6. 【請求項6】 前記画素電極に電気的に接続された蓄積
    容量をさらに有する請求項3から5のいずれかに記載の
    液晶表示装置。
  7. 【請求項7】 前記第1電極は透明導電層からなり、前
    記第1電極層は、該第1電極と電気的に接続された金属
    電極をさらに有する請求項1から6のいずれかに記載の
    液晶表示装置。
  8. 【請求項8】 前記光導電層は、透過モードまたは反射
    モードで表示を行う、請求項1から7のいずれかに記載
    の液晶表示装置。
  9. 【請求項9】 前記光導電層は、単一の光導電膜である
    請求項1から4および6から8のいずれかに記載の液晶
    表示装置。
  10. 【請求項10】 前記光導電層は、ストライプ状の前記
    複数の信号電極と平行なストライプ状の複数の光導電膜
    からなる請求項1から4および6から8のいずれかに記
    載の液晶表示装置。
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