JP3503610B2 - 真空処理装置用の防着部材及び真空処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマ処理など
の真空処理を行う真空処理装置において処理室を形成す
る密閉空間の内面への汚染物の付着を防止する真空処理
装置用の防着部材及び真空処理装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】電子部品などの表面処理方法として、プ
ラズマ処理が知られている。この方法は密閉空間内を減
圧雰囲気にしてプラズマを発生させ、このプラズマの物
理作用や化学作用によって処理対象面の表面処理を行う
ものである。このプラズマ処理は、処理対象物の表面に
電子やイオンを衝突させ、そのエッチング効果で表面の
汚染物を除去するものであるため、除去された微粒子状
の汚染物は周囲に飛散して密閉空間を形成する真空チャ
ンバの内壁面に付着する。

【０００３】この汚染物が真空チャンバの内面に付着・
堆積すると、この堆積層が真空チャンバの開閉の度に外
部から導入される大気中の水蒸気その他のガスを吸着す
る。これらのガスは、真空チャンバの真空排気時に堆積
層から放出され真空排気に要する時間を増加させること
から、このような汚染物の付着・堆積は極力防止する必
要がある。

【０００４】このため、真空処理装置においては、一般
にこのような付着を防止するための防着用のシールド部
材が真空チャンバの内面に装着される。そして、所定の
稼働時間が経過すると、シールド部材を取り外して洗浄
し付着物を除去したり、あるいは新たなシールド部材と
交換する保守作業が行われる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
真空処理装置に用いられる防着部材は、金属板などで製
作されたシールド板を真空チャンバの内面にボルトなど
の固定手段によって固着されていた。このため、シール
ド板は複数の板部材に分割されており、保守作業に際し
てはこれらの板部材をボルトによって着脱する作業に手
間と時間を要していた。

【０００６】そこで本発明は、保守作業の手間と労力を
低減することができる真空処理装置用の防着部材及び真
空処理装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の真空処理
装置用の防着部材は、真空処理装置において処理室を形
成する密閉空間内面への汚染物の付着を防止する真空処
理装置用の防着部材であって、１枚のシート状のシール
ド材を前記密閉空間を構成する凹状容器の内面の平面展
開形状に即して切断した展開防着部材と、この展開防着
部材を立体的に組み立てた立体防着部材を凹状容器内面
に固定する固定手段とを備え、前記展開防着部材の平面
形状は、前記凹状容器において開口面に対向する位置に
ある第１平面に対応した平面部と、前記第１平面に略直
交する位置にある第２平面に対応した立面部と、前記平
面部と立面部との境界に所定幅で設けられた弧面部と、
前記弧面部に部分的に形成された切り欠き部とによって
構成される。

【０００８】請求項２記載の真空処理装置用の防着部材
は、請求項１記載の真空処理装置用の防着部材であっ
て、前記固定手段は、前記シート状のシールド材の凹状
容器との当接面に形成された粘着層である。

【０００９】請求項３記載の真空処理装置は、処理室を
形成する密閉空間内で処理対象物の真空処理を行う真空
処理装置であって、前記密閉空間を構成する凹状容器
と、１枚のシート状のシールド材を前記凹状容器の内面
の平面展開形状に即して切断した展開防着部材を立体的
に組み立てた立体防着部材と、この立体防着部材を凹状
容器内面に固定する固定手段とを備え、前記展開防着部
材の平面形状は、前記凹状容器において開口面に対向す
る位置にある第１平面に対応した平面部と、前記第１平
面に略直交する位置にある第２平面に対応した立面部
と、前記平面部と立面部との境界に所定幅で設けられた
弧面部と、前記弧面部に部分的に形成された切り欠き部
とによって構成され、前記立体防着部材を凹状容器の内
面に装着した状態で、前記第１平面と第２平面と立体防
着部材の弧面部とによって閉囲される空間が、前記密閉
空間の内部と前記切り欠き部を介して連通する。

【００１０】上記構成の本発明によれば、密閉空間を構
成する凹状容器の内面に装着される防着部材を展開した
展開防着部材の平面形状の平面部と立面部との境界に所
定幅で設けられた弧面部に部分的に切り欠きを形成し、
防着部材装着状態において弧面部と凹状容器のコーナ部
とで閉囲される空間を密閉空間内部と連通させることに
より、１枚のシート上のシールド材のみで防着部材を構
成することができ、防着部材交換時の保守作業の手間と
労力を低減することができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を図面を
参照して説明する。図１は本発明の一実施の形態の真空
処理装置の断面図、図２は本発明の一実施の形態の立体
防着部材の斜視図、図３（ａ）は本発明の一実施の形態
の防着部材を展開した展開防着部材の平面図、図３
（ｂ）は本発明の一実施の形態の展開防着部材の断面
図、図４は本発明の一実施の形態の防着部材の装着状態
の説明図、図５（ａ）は本発明の一実施の形態の電子部
品の真空処理装置の蓋部材の部分反転平面図、図５
（ｂ）は本発明の一実施の形態の電子部品の真空処理装
置の蓋部材の部分断面図である。

【００１２】まず図１を参照して真空処理装置の構造を
説明する。図１において、真空チャンバ１は、基部２と
基部２上に開閉自在に配設された蓋部４（凹状容器）を
備えている。基部２の上面には開口部２ａが設けられて
おり、開口部２ａ内には、下部電極５が絶縁部６を介し
て絶縁状態で装着されている。下部電極５の上面には真
空処理の処理対象物である基板７が載置される。蓋部４
を基部２上に下降させることにより、基部２、下部電極
５および蓋部４によって構成される密閉空間は、プラズ
マ処理の処理室８を形成する。このとき、シール部材３
によって処理室８は真空密に保たれる。

【００１３】真空チャンバ１は、基部２に設けられた開
孔部２ｂを介して真空排気部１２およびガス供給部１３
と接続されている。真空排気部１２は、真空チャンバ１
の処理室８内を真空排気する。ガス供給部１３は、処理
室８内にアルゴンガスや酸素ガスなどのプラズマ発生用
のガスを供給する。下部電極５は高周波電源部１４と電
気的に接続されている。接地部１５に接地された蓋部４
は、下部電極５と対向する上部電極となっている。蓋部
４の内面には、以下に説明する防着部材９が装着されて
いる。

【００１４】次に図２、図３を参照して、防着部材９に
ついて説明する。防着部材９は、後述するように真空処
理過程において発生する汚染物の蓋部４内面への付着を
防止する目的で装着されるものである。防着部材９は、
シート状のシールド材１６の蓋部４との当接面に形成さ
れた粘着層１６ａ（図３（ｂ）参照）によって、蓋部４
内面に貼着して固定される。シールド材１６は、屈曲性
に優れ取り扱いが容易で、かつ真空処理で発生する汚染
物の付着性がよい材質が用いられ、ここではアルミ箔な
どの金属薄膜の表面にセラミック層を形成した積層シー
ト材を用いている。

【００１５】図２に示すように、防着部材９の装着に際
しては、１枚のシートから切り出したシールド材１６を
立体形状に組み立てた状態の防着部材（立体防着部材９
Ａ）を、一括して蓋部４の内面に装着する。図３は、立
体防着部材９Ａを平面に展開した展開防着部材９Ｂの平
面形状を示しており、この平面形状にしたがってシール
ド材１６を切断加工することにより、展開防着部材９Ｂ
が製作される。

【００１６】図２、図３に示すように、この平面形状
は、蓋部４において開口面Ａ（正置状態で基部２と当接
する側の面）に対向する位置にある天井面（第１平面）
４ａに対応した平面部９ａと、この天井面４ａに直交す
る位置にある蓋部４の４つの内側壁面（第２平面）４ｂ
にそれぞれ対応した４つの立面部９ｂを有している。平
面部９ａと立面部９ｂとの境界には、立体形状に組み立
てる際に蓋部４内面の天井面４ａと内側壁面４ｂが交わ
るコーナ部に相当する折れ曲がり部において、シールド
材１６を円弧状に屈曲するための所定幅の弧面部９ｃが
設定されている。

【００１７】そして各弧面部９ｃの両端には、この弧面
部９ｃを部分的に切り取った切り欠き部９ｄが形成され
ている。これらの切り欠き部９ｄは、蓋部４内面の前記
コーナ部を部分的に蓋部４内の密閉空間に露呈させるた
めに設けられるものである。なおここでは切り欠き部９
ｄを弧面部９ｃの両端部に設けた例を示しているが、図
３（ａ）に示すように弧面部９ｃの中間位置を部分的に
切り取って切り欠き部９ｄ’としてもよい。

【００１８】次に、図４、図５を参照して、防着部材９
の蓋部４内面への装着について説明する。まず図４に示
すように、図３（ａ）の展開防着部材９Ｂの立面部９ｂ
を、弧面部９ｃを屈曲させることにより平面部９ａに対
して直角に曲げ、図２に示す立体防着部材９Ａを組み立
てる。そして、平面部９ａの各コーナ点Ｐを蓋部４の天
井面４ａの対応点Ｑに位置あわせして、立体防着部材９
Ａを蓋部４の開口面Ａより押し込み、平面部９ａを天井
面４ａに、立面部９ｂを内側壁面４ｂにそれぞれ粘着層
１６ａによって貼着して固定する。

【００１９】したがって粘着層１６ａは、立体防着部材
９Ａを凹状容器である蓋部４の内面に固定する固定手段
となっている。なお粘着層１６ａをシールド材１６の全
面に設ける方法以外にも、両面テープなどでシールド材
１６の固定のために必要な箇所にのみ部分的に粘着層を
形成する方法を用いてもよい。

【００２０】図５（ａ）は、立体防着部材９Ａが装着さ
れた状態の蓋部４のコーナ部の平面を示しており、コー
ナ点Ｐが対応点Ｑに位置あわせされた状態では、蓋部４
の天井面４ａの４つのコーナ部には、弧面部９ｃの両端
の切り欠き部９ｄに対応して開口部１７が形成される。

【００２１】図５（ｂ）は、図５（ａ）のＡ−Ａ断面、
Ｂ−Ｂ断面を示しており、この装着状態において、天井
面４ａと内側壁面４ｂが交わるコーナ部には、弧面部９
ｃに相当するシールド材１６と天井面４ａ、内側壁面４
ｂとによって閉囲された空間１８が生じる。そしてこの
空間１８は、開口部１７を介して蓋部４内の密閉空間と
連通する。これにより、防着部材９の装着状態で密閉空
間内を真空排気する際には、空間１８内も共に排気され
る。したがって、空間１８内が排気されないまま密閉空
間内を真空排気することによる防着部材９の剥離などの
不具合が生じない。

【００２２】この真空処理装置は上記のような構成より
成り、次に動作を説明する。まず図１において蓋部４が
開放された状態で、下部電極５上に基板７が載置され
る。次に蓋部４を閉じた後、真空排気部１２を駆動して
真空チャンバ１によって形成された処理室８を真空吸引
する。その後処理室８にはガス供給部１３によりプラズ
マ発生用ガスが供給される。

【００２３】次に、高周波電源部１４を駆動して下部電
極５に高周波電圧を印加することにより処理室８内には
プラズマが発生し、プラズマによる電子やイオンが基板
７の表面に衝突する。そしてこれら電子やイオンのエッ
チング作用により、基板７の表面を対象としたプラズマ
処理が行われる。

【００２４】このプラズマ処理過程においては、基板７
の表面から除去された汚染物や基板７の微粒子が飛散し
て蓋部４の内面に装着された防着部材９に付着し、稼働
時間の経過とともにシールド材１６の表面に堆積する。
このような汚染物の堆積を放置すると、堆積層に吸着さ
れた水蒸気その他のガスが真空排気時に放出され真空排
気に要する時間を増加させることから、汚染物の堆積が
進行した防着部材９は、定期的に交換する必要がある。
このため防着部材９は、コスト的に安価で、交換時の取
り扱いが容易なものが望まれる。

【００２５】本実施の形態に示す防着部材９は、１枚の
シート状のシールド材１６から安価・簡便に製作が可能
であり、しかもシールド材１６に形成された粘着層１６
ａによって容易に蓋部４の内面に装着することができ、
交換時には１枚のシールド材１６を剥離させるだけで、
きわめて容易に取り外すことができる。これにより、ね
じなどの固定手段で締結された複数のプレート状のシー
ルド部材を脱着する従来の方法と比較して、防着部材９
の交換時の手間と労力を低減することができる。

【００２６】

【発明の効果】本発明によれば、密閉空間を構成する凹
状容器の内面に装着される防着部材を展開した展開防着
部材の平面形状の平面部と立面部との境界に所定幅で設
けられた弧面部に部分的に切り欠きを形成し、防着部材
装着状態において弧面部と凹状容器のコーナ部とで閉囲
される空間を密閉空間内部と連通させるようにしたの
で、１枚のシート状のシールド材のみで防着部材を構成
することができ、防着部材交換時の保守作業の手間と労
力を低減することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態の真空処理装置の断面図

【図２】本発明の一実施の形態の立体防着部材の斜視図

【図３】（ａ）本発明の一実施の形態の防着部材を展開
した展開防着部材の平面図（ｂ）本発明の一実施の形態
の展開防着部材の断面図

【図４】本発明の一実施の形態の防着部材の装着状態の
説明図

【図５】（ａ）本発明の一実施の形態の電子部品の真空
処理装置の蓋部材の部分反転平面図 （ｂ）本発明の一実施の形態の電子部品の真空処理装置
の蓋部材の部分断面図

【符号の説明】

１ 真空チャンバ ２ 基部 ４ 蓋部 ４ａ 天井面（第１平面） ４ｂ 内側壁面（第２平面） ８ 処理室 ９ 防着部材 ９Ａ 立体防着部材 ９Ｂ 展開防着部材 ９ａ 平面部 ９ｂ 立面部 ９ｃ 弧面部 ９ｄ 切り欠き部

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】真空処理装置において処理室を形成する密
   閉空間内面への汚染物の付着を防止する真空処理装置用
   の防着部材であって、１枚のシート状のシールド材を前
   記密閉空間を構成する凹状容器の内面の平面展開形状に
   即して切断した展開防着部材と、この展開防着部材を立
   体的に組み立てた立体防着部材を凹状容器内面に固定す
   る固定手段とを備え、前記展開防着部材の平面形状は、
   前記凹状容器において開口面に対向する位置にある第１
   平面に対応した平面部と、前記第１平面に略直交する位
   置にある第２平面に対応した立面部と、前記平面部と立
   面部との境界に所定幅で設けられた弧面部と、前記弧面
   部に部分的に形成された切り欠き部とによって構成され
   ることを特徴とする真空処理装置用の防着部材。
2. 【請求項２】前記固定手段は、前記シート状のシールド
   材の凹状容器との当接面に形成された粘着層であること
   を特徴とする請求項１記載の真空処理装置用の防着部
   材。
3. 【請求項３】処理室を形成する密閉空間内で処理対象物
   の真空処理を行う真空処理装置であって、前記密閉空間
   を構成する凹状容器と、１枚のシート状のシールド材を
   前記凹状容器の内面の平面展開形状に即して切断した展
   開防着部材を立体的に組み立てた立体防着部材と、この
   立体防着部材を凹状容器内面に固定する固定手段とを備
   え、前記展開防着部材の平面形状は、前記凹状容器にお
   いて開口面に対向する位置にある第１平面に対応した平
   面部と、前記第１平面に略直交する位置にある第２平面
   に対応した立面部と、前記平面部と立面部との境界に所
   定幅で設けられた弧面部と、前記弧面部に部分的に形成
   された切り欠き部とによって構成され、前記立体防着部
   材を凹状容器の内面に装着した状態で、前記第１平面と
   第２平面と立体防着部材の弧面部とによって閉囲される
   空間が、前記密閉空間の内部と前記切り欠き部を介して
   連通することを特徴とする真空処理装置。