JP3501753B2 - 磁性粉末供給方法および装置ならびに磁石の製造方法 - Google Patents
磁性粉末供給方法および装置ならびに磁石の製造方法Info
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Description
下、簡単に「給粉」と称する場合がある。)の方法およ
び装置、磁性粉末成形体の製造方法、ならびに、これら
の磁性粉末供給方法や給粉装置を利用した磁石の製造方
法に関している。
−B系永久磁石(RはYを含む希土類元素、Feは鉄、
Bはホウ素)は、三元系正方晶化合物(R2Fe14B
相)の主相とRリッチの粒界相とを含む組織を有し、優
れた磁石特性を発揮する。現在、R−Fe−B系磁石
は、一般家庭の各種電器製品から大型コンピュータの周
辺機器まで幅広い分野で使用されているが、電気・電子
機器の小型・軽量化ならびに高機能化の要求は強く、R
−Fe−B系永久磁石のより一層の高性能化が求められ
ている。
(Br)を高めるためには、1)強磁性相であるR2Fe
14B相の存在割合を多くすること、2)焼結体の密度を
主相の理論密度に近づけること、3)さらに主相結晶粒
の磁化容易軸方向への配向度を高めることが要求され
る。
(成形空間)内に供給するには、フィーダボックス(ま
たはフィーダカップ)をキャビティ上にスライドさせ、
フィーダボックス内の粉末自重を利用してキャビティ内
に落下させていた。
ックスによる粉末供給方法を模式的に示している。この
従来方法によれば、図1(a)〜(c)に示されるよう
に、粉末プレス装置のダイ10と下パンチ11とによっ
て形成されるキャビティ12の上をフィーダボックス1
3が横方向にスライドするとき、フィーダボックス13
内の磁性粉末14をキャビティ12内に充填していた。
この方法では、単重ばらつきを低減する目的で、フィー
ダボックス13内に設けた摺り切り棒(不図示)などの
加圧手段で充填粉末の上部を下方(矢印Aの方向)に加
圧していた。
た充填法によれば、粉末をキャビティ内に確実に充填で
き、しかも、充填粉末の体積を「摺り切り」によってほ
ぼ一定に制御することが可能である。
ティの底部に近い位置ほど、粉末の自重によって強い圧
力を受けて粉体の流動性が低下するため、磁界中で配向
しにくいという現象が生じてしまう。その結果、充填粉
末のうちキャビティ底部に近い部位の配向度が他の部位
の配向度よりも低下し、磁気特性が部位によってばらつ
くという問題が発生する。
石の製造する場合に顕著に発生する。R−Fe−B系磁
性粉末は、フェライト系磁性粉末に比べて比重が大きい
ため、R−Fe−B系磁性粉末をキャビティ内に充填し
た場合、フェライト系磁性粉末の場合に比べて、キャビ
ティ底部に近い位置でより大きな自重圧力が発生する。
このため、R−Fe−B系磁性粉末を用いる場合は、例
えば潤滑剤を粉末に添加することによって粉末粒子の摩
擦係数を低下させたり、印加する配向磁界の強度を高く
しても粉末配向の低下は充分に抑制できず、最終的な磁
石製品の磁気特性が劣化しやすい。
であり、その主な目的は、キャビティ内の充填位置によ
る配向度ばらつきを低減できる磁性粉末供給方法を提供
することにある。
方法を利用して均一でかつ高い配向度を示す成形体を製
造する方法、および磁気特性に優れた磁石を製造する方
法を提供することにある。
給方法に好適に用いられる磁性粉末供給装置を提供する
ことにある。
給方法は、プレス装置のキャビティ内に磁性粉末を供給
する磁性粉末供給方法であって、前記キャビティの外部
に磁性粉末を配置する工程と、前記キャビティを含む空
間に磁界を形成する工程と、前記磁界が前記磁性粉末を
及ぼす力により、前記磁性粉末を前記磁界の向きに配向
させながら、前記磁性粉末を前記キャビティの内部へ移
動させる工程とを包含し、前記磁性粉末の前記キャビィ
内部への移動を、前記磁界の印加開始後に行う。
動させる工程は、前記磁界の形成と連動して動作する電
気機械的機構を用いて、前記磁性粉末を前記キャビティ
の内部へ落下させることを包含していてもよい。
おいて、プレス方向に対して垂直な向きを有しているこ
とが好ましい。
て、水平方向に向いていることが好ましい。
るまで前記磁性粉末と前記キャビティとの間に前記磁性
粉末の移動を妨げる部材を挿入しておき、前記磁界を形
成した後に、前記部材を駆動し、それによって前記磁性
粉末の移動を可能ならしめる。
装置のキャビティ内に磁性粉末を供給する磁性粉末供給
方法であって、前記キャビティの上方に磁性粉末を配置
する工程と、前記キャビティを含む空間に配向磁界を形
成する工程と、前記配向磁界が前記磁性粉末を引き寄せ
る力を利用して前記磁性粉末を前記磁界の向きに配向さ
せながら前記磁性粉末を前記キャビティの内部へ落下さ
せる工程とを包含する磁性粉末供給方法。
向きは、前記磁性粉末に対する重力の向きと一致してい
ることが好ましい。
充填されるべき量だけ、前記キャビティの上方に配置さ
れることが好ましい。
部において、前記プレス装置のプレス方向に対して垂直
な向きを有していることが好ましい。
いて、水平方向に向いていることが好ましい。
成するまで、前記磁性粉末と前記キャビティとの間に前
記磁性粉末の落下を妨げる部材を挿入しておき、前記配
向磁界を形成した後に、前記部材を駆動することによっ
て前記磁性粉末の落下を可能ならしめる。
る工程は、前記磁性粉末の自重によっては閉じた状態を
維持するが、前記配向磁界が前記磁性粉末を引き寄せる
力によって下方に開放され得る開閉機構を備えた粉末容
器を用いて実行することが好ましい。この開閉機構は、
配向磁界の形成のタイミングに合わせて電気機械的に動
作する機構であってもよい。
る工程において、前記磁性粉末は、前記配向磁界中で最
大の磁界強度を示す位置から離れた位置に配置されるこ
とが好ましい。
は、上記何れかの磁性粉末供給方法によって、前記プレ
ス装置のキャビティ内に磁性粉末を供給する工程と、前
記キャビティ内に供給された磁性粉末を圧縮成形するプ
レス工程とを包含する。
印加を継続しながら前記磁性粉末を圧縮成形することが
好ましい。
かに記載の磁性粉末供給方法によって、前記プレス装置
のキャビティ内に磁性粉末を供給する工程と、前記キャ
ビティ内部に供給された前記磁性粉末を圧縮成形し、成
形体を作製するプレス工程と、前記成形体を加熱する工
程とを包含する。
ィ内に前記磁性粉末を供給する工程で印加した配向磁界
を継続的に印加しながら前記磁性粉末を圧縮成形するこ
とが好ましい。
記磁性粉末を前記キャビティの内部に充填する際に印加
する配向磁界と実質的に同一の強度分布を有しているこ
とが好ましい。
は、少なくとも前記キャビティ内において、前記磁性粉
末を前記キャビティの内部に充填する際に印加する配向
磁界の向きと一致していることが好ましい。
磁界強度は、前記磁性粉末を前記キャビティの内部に充
填する際に印加する配向磁界の最大磁界強度よりも大き
いことが好ましい。
末の自重に抗して前記磁性粉末を支持する部材と、配向
磁界の印加によって磁性粉末を下方に落下させる手段と
を備えている。この磁性粉末を下方に落下させる手段
は、前記配向磁界の印加に連動して電気機械的に動作す
るものであってもよい。
末を収納する容器本体と、前記容器本体に回転可能に支
持され、前記磁性粉末が載せられる底板と、前記磁性粉
末の自重に抗して前記底板を閉じる開閉手段とを備え、
前記開閉手段は、プレス装置によって形成された配向磁
界が前記磁性粉末を下方に引きよせたとき、前記底板を
回動させ、前記底板上の前記磁性粉末を下方に位置する
前記プレス装置のキャビティに落下させることができ
る。前記容器本体および前記底板は非磁性材料から構成
されていることが好ましい。
いて配向磁界を形成した際、その磁界強度が最高値を示
す部分から離れた位置に置かれた磁性粉末も上記配向磁
界からの力を受け、磁界強度の高い位置に移動しようと
する現象に着目し、これをキャビティへの給粉に利用す
ることに想到した。すなわち、本発明の磁性粉末供給方
法では、プレス装置のキャビティ外部に磁性粉末を配置
した後、キャビティを含む空間に配向磁界を形成し、そ
れによって、配向磁界が磁性粉末に及ぼす力を用いて磁
性粉末を配向させながらキャビティ内へ充填する。
に充填する際、配向磁界そのものを利用して粉末を吸引
することにより、充填中の磁性粉末を充分に配向させる
ことが可能になる。このためキャビティへの粉末充填が
完了した時には既に磁界配向が達成された状態を実現で
きる。
形態を説明する。
施形態にかかる磁性粉末供給装置の主要部を示してい
る。図2(a)は、本発明に係る磁性粉末供給装置23
をプレス装置のキャビティ22の上に配置させた状態を
示し、図2(b)は、配向磁界を印加した状態を示して
いる。図2(c)は、配向磁界を印加しながら、磁性粉
末供給装置23をキャビティ22の上方から取り除き、
上パンチ25を降下させつつある状態を示している。
に、図2(a)に示すように、ダイ20と下パンチ21
とによって成形されたキャビティ22の上方へ磁性粉末
供給装置23を配置する。給粉装置23の中にはキャビ
ティ22の内容積よりも少ない容積の磁性粉末24が収
められている。
界Hを印加し、それによって給粉装置23内の磁性粉末
24に磁力を及ぼす。配向磁界Hは、キャビティ22の
中心部付近で最大磁界強度を示すような磁界分布を示す
ため、磁性粉末24はキャビティ中心へ引きよせられる
向きに磁力を受ける。配向磁界Hは、パルス的に印加さ
れてもよいし、複数のパルスおよび/または静的な磁界
であってもよい。
を乗せている支持部材(底板)23aを下方に開放し、
磁性粉末24をキャビティ22の内部へ落下させる。こ
うして、一定体積の磁性粉末24がキャビティ22内に
充填されることになる。磁性粉末24を落下させるタイ
ミングは、配向磁界Hの印加開始後であればいつでも良
い。配向磁界Hの印加開始直後、その磁界強度は比較的
短い時間(例えば0.2〜0.5秒)で最高レベルに達
するが、磁界強度が最高レベルに達する前に、粉末の充
填を開始するようにしてもよい。キャビティ中心部での
磁界強度が0から数百kA/mに増大するまでの期間の
途中において、磁界強度が例えば160kA/m程度で
粉末充填(粉末落下)を開始しても、充分なレベルの配
向が達成され得る。本実施形態では、配向磁界Hによっ
て磁性粉末24を下方に引寄せる力を利用して底板23
aを開放させている。給粉装置23の構造については、
のちに詳細を説明する。
落下した磁性粉末24の上面がダイ20の上面よりも低
くなるようにしている。言いかえると、キャビティ22
の内部に完全に収まるように、予め給粉装置24内の粉
末量が調整されている。その結果、従来例のように充填
粉末24の上部を擦り切ることによって充填量を均一化
する必要はない。このため、本実施形態によれば、単重
ばらつきを小さく抑えることが可能である。このよう
に、予め計量した粉末を落下させるため、充填された粉
末の上面中央部が盛りあがり、隆起部が形成されてしま
う。キャビティ上を粉末供給装置が通過するとき、上記
の粉末隆起部が粉末供給装置によって引きずられないよ
うに、粉末量を調節することが好ましい。
に落下する間に配向磁界Hによってほぼ一方向に配向す
るため、キャビティ22の底部でも中央部でも充填位置
に関係なく高い配向度が達成され、配向の均一性が向上
する。
配向磁界Hを印加したままで給粉装置23をキャビティ
22の上方から不図示の位置に移動させた後、プレス装
置の上パンチ25を降下させる。キャビティ22内に充
填された磁性粉末24は、上パンチ25と下パンチ21
との間での圧縮され、配向磁界H中で成形される。粉末
充填中に配向した粉末粒子の向きは、圧縮成形時に受け
る摩擦力などによって変化し得る。これを避けるため、
圧縮成形に際しても配向磁界Hの印加を継続させること
が好ましい。粉末充填中に印加する配向磁界Hと、圧縮
成形時に印加する配向磁界Hとは、同じ強度を持つ必要
はない。
中も同一の不図示の磁界形成装置(コイルなど)を用い
て配向磁界を形成しているが、粉末充填のために補助的
な磁界形成装置を備え付け、粉末充填中と圧縮成形中と
で磁界強度分布が異なるようにしてもよい。
体はプレス装置から取り出され、例えば焼結工程や時効
処理工程などの公知の製造プロセスを経て、最終的に永
久磁石製品となる。
着磁された状態の永久磁石だけではなく、着磁前の状態
の磁石をも広く含むものとする。
置23の構造を模式的に示す斜視図である。この給粉装
置23は、図3に示されるように、磁性粉末を収納する
容器本体30と、磁性粉末が載せられる支持部材(底
板)23aおよび側板23bとを備えている。底板23
aは、容器本体30に設けられた支点部分31によって
回転可能に支持されている。更に、装置23には、磁性
粉末の自重に抵抗して底板23aを閉じる開閉機構(図
3において不図示)が備え付けられている。開閉機構
は、配向磁界が磁性粉末を下方に引き寄せる力を形成し
たとき、底板23aを図3の矢印方向に回動させ、底板
23a上の磁性粉末を下方のキャビティ内に落下させる
ことができる。この開閉機構の構成は、上記構成に限ら
れない。配向磁界として静磁界を印加する場合、磁界印
加時から0.1〜1.0秒後に、磁力によってではな
く、配向磁界の印加に応じて発せられた電気信号を受け
てモータなどの力によって開閉動作を行なう機構であっ
ても良い。また、配向磁界としてパルス磁界を印加する
場合は、磁界印加とほぼ同時または数秒後にモータなど
の力によって開閉動作を行なう機構を採用しても良い。
パルス磁界印加時間は、1/1000秒程度であるた
め、開閉動作に要する時間を考慮し、パルス磁界の印加
よりも僅かに早めに開閉動作を開始させても良い。
性粉末供給装置23の異なる開閉機構を示している。
の一端が装置23の一部とバネ41を介して接続されて
いる。底板23a上に粉末24が充填されているとき、
底板23aには粉末24の自重が下向きに加わり、それ
によって底板23aを矢印の向きに回転させようと力が
発生しているが、バネ41の弾性力によって底板23a
の回転は阻止される。しかし、配向磁界が印加され、配
向磁界が粉末24を下方に吸引すると、バネ41の弾性
力によるモーメントよりも大きな逆向きのモーメントが
底板23aに加わり、その結果、底板23aが矢印方向
に回動して粉末24が落下することになる。
aの一端に重り(weight)42が固定されている。図4
(a)の場合と同様に、底板23a上に粉末24が充填
されているときは、底板23aには粉末24の自重が下
向きに加わり、それによって底板23aを矢印の向きに
回転させようと力が発生しているが、重り42によって
底板23aの回転は阻止される。しかし、配向磁界が印
加され、配向磁界が粉末24を下方に吸引すると、重り
42によるモーメントよりも大きな逆向きのモーメント
が底板23aに加わり、その結果、底板23aが矢印方
向に回動して粉末24が落下することになる。
は、一対の底板23aが中央部で開閉するように構成さ
れているが、各底板23aの隣接する端部を支点として
回転するように構成しても良い。
の他の弾性体を利用してもよい。これらの弾性体は、粉
末24の自重に抵抗する大きさの力を発生するととも
に、配向磁界が粉末を吸引した場合には、それらの吸引
力(磁力)には抵抗しきれない程度の力を発生する。配
向磁界の最高磁界強度が例えば160kA/mの場合、
最高磁界強度を示す部分から数十mm〜数百mm程度離
れた位置(磁界強度分布によって異なる)において磁性
粉末24が受ける磁力は、その自重に比較して充分に大
きくなる。このため、弾性力の調整は比較的容易であ
る。
側面とが略同一平面上に整合するか、または側板23b
の内側面がキャビティ内側面よりもキャビティの内側に
位置するように装置23は設計されることが好ましい。
このような構成を採用することにより、落下時に粉末の
一部が磁界によって引きつけられてダイ上に落ちること
を防止することができる。
に通電するタイミングに合わせて、底板(支持部材)を
電気機械的に開閉させても良い。例えば、ステッピング
モータによって底板を回動またはスライドさせるように
してもよい。この場合、配向磁界の印加直後にステッピ
ングモータを駆動し、それによって底板を回転またはス
ライドさせ、底板上の粉末を下方へ落下させることにな
る。
なるように支持された皿状の容器を底板の代わりに用い
て、これを磁界印加時に180度反転させることによっ
て、容器内の粉末を下方へ落下させるようにしてもよ
い。
せる方式(シャッター方式)を採用する場合は、図4
(a)および(b)に示す機構を採用する場合に比べ
て、給粉装置23内における磁性粉末の位置をダイの上
面に近づけることが容易である。ダイの上面から計測し
た給粉装置23内の磁性粉末の位置は、充填時の粉末落
下距離を左右する。これについては、図6を参照しなが
ら後述する。
がら、開閉動作に必要な力として、モータやエアーシリ
ンダ等の電気機械的な力を用いる機構を説明する。
他のタイプの磁性粉末供給装置123を示す上面図であ
り、図5(b)は、そのB−B線断面図である。この給
粉装置123は、磁性粉末を収納する容器本体130
と、磁性粉末114が載せられる支持部材(底板)12
3aとを備えている。底板123aは、容器本体130
に設けられたピンなどの支点部分131によって回転可
能に支持されている。装置123には、磁性粉末114
の自重に抵抗して底板123aを閉じ、その開閉動作を
制御する駆動装置150が備え付けられている。駆動装
置150は、配向磁界が印加された時、または、配向磁
界が印加された時から所定時間経過後に、支点部分13
1を中心軸として底板123aを図5(b)の矢印方向
に回動させ、底板123a上の磁性粉末114を下方の
キャビティ(不図示)内に落下させることができる。駆
動装置150として、モータ、アクチュエータ、および
エアシリンダなどの種々の装置が用いられ得る。
板123aによって閉じられた容器本体130の底部
は、磁力によってではなく、電気機械的な駆動力を受け
て開放される。底板123aを動かして容器本体130
内の磁性粉末114を下方に落下させるタイミングは、
例えば、駆動装置150の動作を制御する電気信号を不
図示の制御回路から駆動装置150へ送出する時間を調
節することによって任意に設定され得る。あるいは、駆
動装置150の動作に必要な電力やエアーを駆動装置に
150に対して供給する時間を調節することによっても
上記タイミングを任意に設定することが可能である。
23の場合、磁力を用いて底板123aを開閉するので
はないため、底板123aの材料やサイズの選択範囲が
広がり、また、配向磁界の印加開始と給粉開始のタイミ
ングも任意に調節できるようになる。本発明で重要な点
は、給粉の際、移動(落下)中の磁性粉末に対して配向
磁界を印加し、粉末粒子同士の摩擦を低減させて配向の
程度を向上させることにあり、本発明は、容器底板の開
閉動作を磁力によって行なう場合に限定されない。本発
明によれば、容器内には所定量の粉末が収容され、その
粉末がキャビティ内に充填されるため、充填工程毎に粉
末充填量が変動することがなくなる。
水平横方向であるため、配向磁界が磁性粉末を吸引する
方向(プレス方向)に対して垂直である。このため、キ
ャビティに充填された粉末粒子は水平横方向に配向す
る。粉末粒子は磁気的相互作用のため水平横方向に沿っ
て鎖状に連なる。充填粉末の上面に位置する粉末粒子も
水平方向に連なる結果、粉末はキャビティの外側にはみ
だすことなく、キャビティ内に完全に収まりやすい。
た場合、磁界が磁性粉末を吸引する方向(プレス方向)
と配向方向とが平行になるため、キャビティに充填され
た粉末粒子は鉛直方向に配向する。その場合、充填され
た粉末粒子は磁気的相互作用のため鉛直方向に沿って鎖
状に連なる。その結果、充填粉末の上面に位置する粉末
粒子は、キャビティの外部に向かって連なろうとし、粉
末の一部がキャビティの外側に広がるおそれがある。
の向き(配向方向)はプレス方向(充填方向)に対して
垂直であることが好ましい。
末に及ぼす力(吸引力)の向きと重力の向きとが完全に
一致しているが、本発明はこれに限定されるわけではな
い。例えば、図2(a)〜(c)に示すプレス装置が鉛
直方向に対して傾斜していても良い。
するダイは、特開平9−35978号公報に記載されて
いるように、飽和磁化が0.05〜1.2テスラの金属
材料から形成することが好ましい。上記のような金属材
料から形成されたダイによれば、配向磁界の印加時にお
けるキャビティ内での磁界強度分布が均一になり、磁石
の磁気性能を向上させることができる。一つのダイが複
数のキャビティを有する場合、各キャビティ内での磁界
強度分布が不均一になる傾向がある。このため、ダイが
複数のキャビィを有する場合は、上記の金属材料を用い
てダイを構成することが特に望ましい。
粉末の作製方法について、その一例を説明する。
元素のうち、少なくとも1種):11〜18原子%、
B:4〜10原子%、残部:Fe、および不可避的不純
物を含有するR−Fe−B系合金の溶湯を作製する。た
だし、Feの1部をCo、Niの1種または2種にて置
換してもよいし、Bの一部をCで置換しても良い。
法によって厚さ0.03mm〜10mmの薄板状に凝固
する。そして、Rリッチ相が5μm以下の微細なサイズ
で分離した組織を有する鋳片に鋳造した後、鋳片を吸排
気可能な容器に収容する。容器内の空気をH2ガスで置
換した後、容器内に圧力0.03MPa〜1.0MPa
のH2ガスを供給し、崩壊合金粉を形成する(水素吸蔵
処理)。この崩壊合金粉は、脱水素処理後、ジェットミ
ルなどにより、不活性ガス気流中で微粉砕される。
組成の合金溶湯を単ロール法または双ロール法によるス
トリップキャスト法によって好適に製造される。作製す
る鋳片の板厚に応じて、単ロール法と双ロール法とを使
い分けることができる。鋳片が厚い場合は双ロール法を
用いることが好ましく、薄い場合は単ロール法を用いる
ことが好ましい。
冷効果が大きくなるため、結晶粒径が小さくなりすぎる
おそれがある。結晶粒径が小さすぎると、粉末化された
ときに粒子個々が多結晶化し、結晶方位を揃えられなく
なるため、磁気特性の劣化を招来する。逆に鋳片の厚さ
が10mmを超えると、冷却速度が遅くなるため、α−
Feが晶出しやすく、Ndリッチ相の偏在も生じる。
行われ得る。すなわち、所定の大きさに破断した鋳片を
原料ケース内に挿入した後、原料ケースを密閉可能な水
素炉に装入し、その水素炉を密閉する。次に、その水素
炉内を十分に真空引きした後、圧力が30kPa〜1.
0MPaの水素ガスを容器内に供給し、鋳片に水素を吸
蔵させる。水素吸蔵反応は発熱反応であるため、炉の外
周には冷却水を供給する冷却配管を周設して炉内の昇温
を防止することが好ましい。水素の吸収吸蔵によって鋳
片は脆化する(粗粉砕)。
脱水素処理を行う。脱水素処理によって得られた合金粉
末の粒内には微細亀裂が存在するため、その後に行うボ
ール・ミルやジェットミル等で短時間で微粉砕され、前
述した粒度分布を持った合金粉末を作製することができ
る。水素粉砕処理の好ましい態様については、特開平7
−18366号公報に開示されている。
2やArなど)を用いたジェット・ミルによって行うこ
とが好ましいが、有機溶媒(例えば、ベンゼンやトルエ
ン等)を用いたボールミルやアトライター粉砕を用いて
も良い。
などを主成分とする液体潤滑剤を添加することが好まし
い。添加量は例えば0.15〜5.0質量%である。脂
肪酸エステルとしては、カプロン酸メチル、カプリル酸
メチル、ラウリン酸メチルなとが挙げられる。潤滑剤に
は結合剤などの成分が含まれていても良い。重要な点
は、のちの工程で潤滑剤が揮発し、除去され得ることに
ある。また、潤滑剤それ自体が合金粉末と均一に混合し
にくい固形状のものである場合は、溶剤で希釈して用い
れば良い。溶剤としては、イソパラフィンに代表される
石油系溶剤やナフテン系溶剤等を用いることができる。
潤滑剤添加のタイミングは任意であり、微粉砕前、微粉
砕中、微粉砕後の何れであっても良い。液体潤滑剤は、
粉末粒子の表面を被覆し、粒子の酸化防止効果を発揮す
るとともに、プレスに際して成形体の密度を均一化し、
配向の乱れを抑制する機能を発揮する。
粉末に限定されないことは言うまでもない。また、本発
明は、焼結磁石の製造方法だけではなく、異方性ボンド
磁石の製造方法にも適用され得る。
%Nd−2重量%Dy−0.5重量%Co−1重量%B
−残部Feを含有するNd−Fe−B系合金の溶湯から
磁性粉末を作製した後、その磁性粉を用いて、永久磁石
を作製し、その磁石特性を評価した。磁粉の作製方法
は、上記実施形態について述べた方法と同様であった。
て説明した方法で粉末充填を行った後、配向磁界中で圧
縮成形を行った。その後、1030〜1200℃、4〜
8時間程度の焼結工程を経て永久磁石を製造した。そし
て、1個の永久磁石について、部位ごとの磁気特性を評
価した。評価結果を下記の表1に記載する。なお、磁石
のサイズは80mm×52mm×23mm、成形密度は
4.1g/cm3、配向磁界の最大強度は810kA/
m、充填時の粉末落下距離は、約150mmであった。
比較例として、従来のフィーダボックスによる粉末充填
を行った磁石の測定結果を表2に記載する。
合、磁石の上部、中央部および下部において、残留磁束
密度Brおよび最大エネルギー積(BH)maxは同一の値
を示しており、均一な特性が発揮されている。これに対
して、比較例では、表2からわかるように、磁石の下部
において残留磁束密度Brおよび最大エネルギー積(B
H)maxが他の部分よりも低下しており、磁気特性がば
らついている。
明によれば磁石全体の平均磁気特性も従来例に比較して
優れたものとなることがわかる。
度Br)との関係を示すグラフである。この実験に用い
たプレス装置では、通常のプレス装置と同様、配向磁界
の強度(水平横方向磁界の強度)はキャビティ中心で最
大値を示し、キャビティ中心から上方へ遠ざかるにつれ
て小さくなる。すなわち、落下距離が増加するほど、落
下開始位置における磁界強度は低下する。図6の実験の
場合、キャビティ中央部で約1205kA/mの最高値
を示す配向磁界を形成したとき、落下距離Lの増加に応
じて、落下開始位置での磁界強度は約525〜約380
kA/mの範囲内の値を示した。より詳細には、落下距
離が90mmの位置では磁界強度は525kA/m、落
下距離が115mmの位置では磁界強度は454kA/
m、落下距離が140mmの位置では磁界強度は414
kA/m、落下距離が165mmの位置では磁界強度は
382kA/mであった。なお、図6のグラフにおい
て、黒丸は「従来例」を示し、従来のフィーダボックス
を用いて粉末充填を行った後に磁界配向を行った場合の
結果を表している。従来例の場合は、キャビティ中央部
で1262kA/mの最高値を示す配向磁界が形成され
た。
mm×69mm×23mmのブロック状のものを作製し
た。成形密度は4.1g/cm3だった。
特性は従来例に比較して優れていることがわかる。次
に、落下距離の増大に伴って残留磁束密度Brが増加し
ていることもわかる。図6の実験の場合は、落下距離が
150mmを超えて長くなっても残留磁束密度Brの増
加は観察されなかった。残留磁束密度Brの向上という
観点からは、落下距離は90mm以上160mm以下で
あることが好ましい。図6の実験の場合、図4(a)に
示すような給粉装置を用いていたため、落下距離を90
mmよりも短くはしなかったが、落下距離が90mm以
下であっても、磁界中で粉末の落下が生じる限り、それ
によって配向度が向上するため、従来に比較して優れた
磁気特性が獲得されるものと考えられる。ここで、落下
距離とは、粉末落下直前における下パンチ21の上面か
ら底板23aの上面までの距離のことである。
点とプレス工程時点とで等しい値を示す必要は全く無
い。プレス工程時点における配向磁界強度は、粉末充填
時における強度よりも大きいことが好ましい。その理由
は、プレス工程に際して、キャビティ内の粉末が大きな
摩擦力を受けるのに対して、粉末充填時はそのような摩
擦力が生じず、自由落下に近い状態で容易に配向し得る
からである。その意味で、粉末充填時点では、キャビテ
ィ中心における磁界強度が160〜320kA/m程度
であっても良い。
依存性を示すグラフである。グラフ中で白丸は本発明の
実施例を示し、黒丸は従来のフィーダを用いた比較例を
示している。ここでの配向磁界強度はキャビティの中心
部で測定した値である。残留磁束密度の測定は、それぞ
れの配向磁界強度のもとで充填・プレスした2個の磁石
の各4箇所に対して行った。
配向磁界強度の大小にかかわらず、残留磁束密度Brが
増加する。
キャビティ中心部に向けて引き寄せる力を利用して、磁
性粉末をキャビティ内へ充填しながら、磁性粉末を磁界
の向きに配向させることができる。このため、キャビテ
ィ内で粉末自重による圧力を受ける前に、粉末充填時点
において磁界配向が実現し、また、キャビティ内の充填
位置によって粉末の配向度がばらついてしまうという問
題を解決することができる。その結果、同一磁石内の部
位によって磁気特性かばらつくことも少なく、磁石特性
に優れた磁石を歩留まり良く提供することができる。こ
の効果は、比重の相対的に重いR−Fe−B系希土類磁
石のための磁性粉末(比重7.5グラム/cm3以上)
に対して特に有効に発揮される。
よる粉末供給方法を模式的に示す工程断面図である。
磁性粉末供給装置とプレス装置の主要部とを示す工程断
面図である。
装置の構造を示す斜視図である。
る粉末供給装置の開閉機構を示す図である。
供給装置123の構造を模式的に示す上面図であり、
(b)は、そのB−B線断面図である。
末の落下距離と残留磁束密度B r)との関係を示すグラ
フである。
束密度Brと配向磁界強度との関係を示すグラフであ
る。
Claims (21)
- 【請求項1】 プレス装置のキャビティ内に磁性粉末を
供給する磁性粉末供給方法であって、 前記キャビティの上方に磁性粉末を配置する工程と、 前記キャビティを含む空間に磁界を形成する工程と、 前記磁界が前記磁性粉末を引き寄せる力を利用して前記
磁性粉末を前記磁界の向きに配向させながら、前記磁性
粉末を前記キャビティの内部へ落下させる工程とを包含
し、 前記磁性粉末の前記キャビティ内部への落下を、前記磁
界の印加開始後に行うことを特徴とする磁性粉末供給方
法。 - 【請求項2】 プレス装置のキャビティ内に磁性粉末を
供給する磁性粉末供給方法であって、 前記キャビティの上方に磁性粉末を配置する工程と、 前記キャビティを含む空間に磁界を形成する工程と、 前記磁界の形成によって発生する前記磁性粉末を引き寄
せる力と連動して動作する電気機械的開閉機構を用い
て、前記磁性粉末を前記キャビティの内部へ落下させる
とともに、前記磁性粉末を前記磁界の向きに配向させる
工程とを包含する磁性粉末供給方法。 - 【請求項3】 前記磁界の強度が所定の値になった時点
で前記磁性粉末を前記キャビティ内に移動させる請求項
1または2に記載の磁性粉末供給方法。 - 【請求項4】 前記磁界の向きは、前記キャビティ内部
において、プレス方向に対して垂直な向きを有している
請求項1または2に記載の磁性粉末供給方法。 - 【請求項5】 前記磁界は、前記キャビティ内部におい
て、略水平方向に向いている請求項1または2に記載の
磁性粉末供給方法。 - 【請求項6】 前記磁界を形成するまでは、前記磁性粉
末と前記キャビティとの間に前記磁性粉末の移動を妨げ
る部材を挿入しておき、前記磁界を形成した後に、前記
部材を駆動し、それによって前記磁性粉末の移動を可能
ならしめる請求項1または2に記載の磁性粉末供給方
法。 - 【請求項7】 前記配向磁界が前記粉末を引き寄せる力
の向きは、前記磁性粉末に対する重力の向きと一致して
いる請求項1また2に記載の磁性粉末供給方法。 - 【請求項8】 前記磁性粉末は、前記キャビティの内部
に充填されるべき量だけ、前記キャビティの上方に配置
される請求項1また2に記載の磁性粉末供給方法。 - 【請求項9】 前記キャビティの上方に磁性粉末を配置
する工程は、前記磁性粉末の自重によっては閉じた状態
を維持するが、前記配向磁界が前記磁性粉末を引き寄せ
る力によって下方に開放され得る開閉機構を備えた粉末
容器を用いて実行する請求項1また2に記載の磁性粉末
供給方法。 - 【請求項10】 請求項1または2に記載の磁性粉末供
給方法によって、前記プレス装置のキャビティ内に磁性
粉末を供給する工程と、 前記キャビティ内に供給された磁性粉末を圧縮成形する
プレス工程と、 を包含する磁性粉末成形体の製造方法。 - 【請求項11】 前記プレス工程において、前記配向磁
界の印加を継続しながら前記磁性粉末を圧縮成形する請
求項10に記載の磁性粉末成形体の製造方法。 - 【請求項12】 請求項1または2に記載の磁性粉末供
給方法によって、前記プレス装置のキャビティ内に磁性
粉末を供給する工程と、 前記キャビティ内部に供給された前記磁性粉末を圧縮成
形し、成形体を作製するプレス工程と、 前記成形体を焼結する工程と、 を包含する磁石の製造方法。 - 【請求項13】 前記プレス工程においては、前記キャ
ビティ内に前記磁性粉末を供給する工程で印加した配向
磁界を継続的に印加しながら前記磁性粉末を圧縮成形す
る請求項12に記載の磁石の製造方法。 - 【請求項14】 前記プレス工程で印加する配向磁界
は、前記磁性粉末を前記キャビティの内部に充填する際
に印加する配向磁界と実質的に同一の強度分布を有して
いる請求項12に記載の磁石の製造方法。 - 【請求項15】 前記プレス工程で印加する配向磁界の
向きは、少なくとも前記キャビティ内において、前記磁
性粉末を前記キャビティの内部に充填する際に印加する
配向磁界の向きと一致している請求項12に記載の磁石
の製造方法。 - 【請求項16】 前記プレス工程で印加する配向磁界の
最大磁界強度は、前記磁性粉末を前記キャビティの内部
に充填する際に印加する配向磁界の最大磁界強度よりも
大きい請求項12に記載の磁石の製造方法。 - 【請求項17】 磁性粉末の自重に抗して前記磁性粉末
を支持する部材と、 配向磁界の印加によって磁性粉末を下方に落下させる手
段とを備えた磁性粉末供給装置。 - 【請求項18】 磁性粉末の自重に抗して前記磁性粉末
を支持する部材と、 配向磁界の印加に連動して電気機械的動作を実行し、そ
れによって前記磁性粉末を下方に落下させる手段と、 を備えた磁性粉末供給装置。 - 【請求項19】 磁性粉末を収納する容器本体と、 前記容器本体に回転可能に支持され、前記磁性粉末が載
せられる底板と、 前記磁性粉末の自重に抗して前記底板を閉じる開閉手段
と、 を備え、 前記開閉手段は、プレス装置によって形成された配向磁
界が前記磁性粉末を下方に引きよせたとき、前記底板を
回動させ、前記底板上の前記磁性粉末を下方に位置する
前記プレス装置のキャビティに落下させることができる
磁性粉末供給末装置。 - 【請求項20】 前記容器本体および前記底板が非磁性
材料から構成されている請求項17または18に記載の
磁性粉末供給装置。 - 【請求項21】 請求項17または18に記載の磁性粉
末供給装置と、 飽和磁化が0.05〜1.2テスラの磁性体材料から構
成されたダイと、 を備えた粉末プレス装置。
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