JP3494871B2 - Probe device and probe method - Google Patents

Probe device and probe method

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JP3494871B2
JP3494871B2 JP02770598A JP2770598A JP3494871B2 JP 3494871 B2 JP3494871 B2 JP 3494871B2 JP 02770598 A JP02770598 A JP 02770598A JP 2770598 A JP2770598 A JP 2770598A JP 3494871 B2 JP3494871 B2 JP 3494871B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、低温下で半導体ウ
エハ(以下、単に「ウエハ」と称す。)等の被検査体の
電気的特性検査を行う場合に好適に用いられるプローブ
装置及びプローブ方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a probe apparatus and a probe method which are preferably used when inspecting an electrical characteristic of an object to be inspected such as a semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as "wafer") at a low temperature. Regarding

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のこの種のプローブ装置は、通常、
図5、図6に示すように、ウエハWを搬送すると共にウ
エハWをプリアライメントするローダ室1と、このロー
ダ室1からウエハWを受け取って電気的特性検査行うプ
ローバ室2とを備えて構成されている。ローダ室1には
ピンセット3及びサブチャック4が配設され、ピンセッ
ト3でウエハWを搬送する間にサブチャック4において
オリエンテーションフラットを基準にしてウエハWをプ
リアライメントするようにしてある。また、プローバ室
2にはメインチャック5及びアライメント機構6が配設
され、ウエハWを載置したメインチャック5がX、Y、
Z及びθ方向で移動しながらアライメント機構6により
ウエハWをメインチャック5上方のプローブカード7の
プローブ針7Aに対してアライメントし、ウエハWとプ
ローブ針7Aとを電気的に接触させ、テストヘッドTを
介してウエハWの電気的特性検査を行うようにしてあ
る。尚、プローブカード7はプローバ室2の天面を形成
するヘッドプレート8に対して着脱可能に取り付けられ
ている。
2. Description of the Related Art Conventional probe devices of this type are usually
As shown in FIGS. 5 and 6, a loader chamber 1 for transporting the wafer W and pre-aligning the wafer W and a prober chamber 2 for receiving the wafer W from the loader chamber 1 and inspecting the electrical characteristics are configured. Has been done. The tweezers 3 and the sub chuck 4 are arranged in the loader chamber 1, and while the wafer W is being transported by the tweezers 3, the wafer W is pre-aligned in the sub chuck 4 with reference to the orientation flat. Further, a main chuck 5 and an alignment mechanism 6 are arranged in the prober chamber 2, and the main chuck 5 on which the wafer W is mounted is X, Y,
The wafer W is aligned with the probe needle 7A of the probe card 7 above the main chuck 5 by the alignment mechanism 6 while moving in the Z and θ directions, and the wafer W and the probe needle 7A are electrically contacted to each other, and the test head T The electrical characteristics of the wafer W are inspected via the. The probe card 7 is detachably attached to a head plate 8 forming the top surface of the prober chamber 2.

【0003】また、上記ローダ室1とプローバ室2は隔
壁9によって区画され、更に、この隔壁9のウエハWの
搬出入口9Aには図示しない開閉扉が取り付けられてい
る。この開閉扉はピンセット3を介してローダ室1とプ
ローバ室2との間でウエハWを搬送する時に開くように
なっている。
The loader chamber 1 and the prober chamber 2 are partitioned by a partition wall 9, and an opening / closing door (not shown) is attached to the loading / unloading port 9A of the wafer W in the partition wall 9. The opening / closing door is opened when the wafer W is transferred between the loader chamber 1 and the prober chamber 2 via the tweezers 3.

【0004】また、ウエハWの検査には常温検査は勿論
のこと、低温検査及び高温検査がある。そのため、メイ
ンチャック5には温度調整機構が内蔵され、この温度調
整機構を用いてウエハWの温度を例えば−数10から+
160℃の広い範囲で温度設定できるようにしてある。
例えば、−40℃の低温下でウエハWの検査を行う場合
には、温度調整機構を介してメインチャック5上のウエ
ハWを−40℃に冷却して検査を行うようにしている。
この場合にはプローバ室2内に露点が−40℃以下の乾
燥空気を供給し、ウエハW表面で結露、氷結しないよう
にしている。そして、検査後にはウエハWをピンセット
3でメインチャック5から持ち上げ、プローバ室2から
ローダ室1へウエハWを搬出するようにしている。
The inspection of the wafer W includes not only room temperature inspection but also low temperature inspection and high temperature inspection. Therefore, the main chuck 5 has a built-in temperature adjusting mechanism, and the temperature of the wafer W can be increased from, for example, −10 to + using this temperature adjusting mechanism.
The temperature can be set in a wide range of 160 ° C.
For example, when the wafer W is inspected at a low temperature of −40 ° C., the wafer W on the main chuck 5 is cooled to −40 ° C. via the temperature adjusting mechanism and the inspection is performed.
In this case, dry air having a dew point of -40 [deg.] C. or lower is supplied into the prober chamber 2 so that dew condensation or icing does not occur on the surface of the wafer W. After the inspection, the wafer W is lifted from the main chuck 5 with the tweezers 3 so that the wafer W is unloaded from the prober chamber 2 to the loader chamber 1.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
プローブ装置を用いて今後の主流となる12インチのウ
エハWの低温検査を行う場合には、現在の8インチウエ
ハWまでは想定していない現象、つまりウエハWをプロ
ーバ室2からローダ室1へ搬送する間にウエハW表面で
結露、氷結して全面に霜が付着するという現象が生じ
た。このウエハWをそのままローダ室1へ搬送すると、
この間にウエハWの霜が融け、パーティクル等の塵埃が
付着してウエハW表面が汚染されるという課題が生じて
来た。
However, when performing low-temperature inspection of a 12-inch wafer W, which will become the mainstream in the future, by using the conventional probe apparatus, a phenomenon that is not expected up to the current 8-inch wafer W is obtained. That is, during the transfer of the wafer W from the prober chamber 2 to the loader chamber 1, a phenomenon occurs in which dew condensation and freezing occur on the surface of the wafer W and frost adheres to the entire surface. When this wafer W is directly transferred to the loader chamber 1,
During this time, the problem that the frost on the wafer W melts and dust such as particles adheres to contaminate the surface of the wafer W has arisen.

【0006】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、例えば12インチクラスの大口径の被検査
体であっても低温検査後の被検査体での露を確実に
し、結露に起因する被検査体の汚染を確実に防止する
ことができるプローブ装置及びプローブ方法を提供する
ことを目的としている。
[0006] The present invention has been made to solve the above problems, for example, 12-inch class condensation reliably explosion at the test subject during after cold test a device under test having a large diameter of
And stop, and its object is to provide a probe apparatus and a probe method which can reliably prevent contamination of the device under test due to condensation.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
のプローブ装置は、被検査体を搬送する搬送機構を有す
るローダ室と、このローダ室と隣接し且つX、Y、Z及
びθ方向に移動可能な載置台を有するプローバ室と、こ
のプローバ室と上記ローダ室を区画する隔壁と、この隔
壁の上記被検査体の搬出入口を開閉する開閉扉とを備
え、上記載置台を介して上記被検査体を冷却すると共に
上記被検査体の冷却温度では結露しない乾燥空気を上記
プローバ室内に供給しながら上記被検査体の電気的特性
検査を行うプローブ装置において、上記開閉扉が開いた
時に上記開閉扉の下方を通過する上記被検査体に熱風を
吹き付ける熱風吹き付け装置を設け、上記熱風吹き付け
装置は、上記開閉扉に取り付けられて上記開閉扉と一体
化し且つ上記開閉扉を開けて上記被検査体が上記開閉扉
の下方を通過する時に搬送機構上の上記被検査体に向け
て熱風を噴出する熱風噴出機構と、この熱風噴出機構に
熱風を供給するために接続された気体加熱機構とを備え
たことを特徴とするものである。
A probe device according to a first aspect of the present invention is a loader chamber having a transport mechanism for transporting an object to be inspected, and is adjacent to the loader chamber and is X, Y, Z and θ. A prober chamber having a mounting table movable in a direction, a partition wall that partitions the prober chamber and the loader chamber, and an opening / closing door that opens and closes the loading / unloading port of the object to be inspected of the partition wall, via the mounting table described above. The opening / closing door is opened in the probe device for cooling the above-mentioned inspected object and supplying the dry air which does not condense at the cooling temperature of the inspected object into the prober chamber while inspecting the electrical characteristics of the inspected object. A hot air blowing device that blows hot air onto the object to be inspected that sometimes passes under the opening / closing door is provided , and the hot air blowing is performed.
The device is attached to the door and is integrated with the door.
And the door is opened and the inspection object is opened and closed.
When passing under the
The hot-air blowing mechanism that blows out hot air and the hot-air blowing mechanism
And a gas heating mechanism connected to supply hot air .

【0008】[0008]

【0009】[0009]

【0010】 また、本発明の請求項2に記載のプロー
ブ装置は、請求項1に記載の発明において、上記開閉扉
を開閉するエアシリンダを設けると共に上記熱風吹き付
け装置にソレノイドバルブを設け、且つ、上記エアシリ
ンダの開駆動用の圧縮空気の圧力で上記ソレノイドバル
ブを開放することを特徴とするものである。
A probe device according to a second aspect of the present invention is the probe device according to the first aspect, wherein an air cylinder for opening and closing the opening / closing door is provided and a solenoid valve is provided in the hot air blowing device, and The solenoid valve is opened by the pressure of compressed air for driving the air cylinder to open.

【0011】 また、本発明の請求項3に記載のプロー
ブ方法は、ローダ室とプローバ室間の隔壁の搬出入口に
開閉可能に取り付けられた開閉扉を開き、上記ローダ室
から上記搬出入口を経由して上記プローバ室内の載置台
上へ被検査体を搬送して上記開閉扉を閉じた後、上記載
置台を介して上記被検査体を所定の検査温度まで冷却す
ると共に上記被検査体の冷却温度では結露しない乾燥空
気を上記プローバ室内に供給しながら上記被検査体の低
温検査を行うプローブ方法において、上記開閉扉を開き
上記被検査体を上記プローバ室から上記搬出入口を経由
して上記ローダ室へ搬送する過程で、上記被検査体が上
記開閉扉の下方を通過する時に、上記プローバ室側で水
平に開いた上記開閉扉に取り付けられた熱風吹き付け装
置から上記被検査体に熱風を吹き付けることを特徴とす
るものである。
In the probe method according to the third aspect of the present invention, the loading / unloading port of the partition between the loader chamber and the prober chamber is provided.
After opening and closing the openable door, the test object is transferred from the loader chamber to the loading table in the prober chamber via the loading / unloading port, and the opening and closing door is closed. In the probe method for cooling the inspected object to a predetermined inspection temperature and supplying a dry air that does not condense at the cooling temperature of the inspected object into the prober chamber while performing a low temperature inspection of the inspected object, the opening / closing door Open the above DUT from the above prober room through the above carry in / out port
In the process of conveying to the loader chamber and, when the inspection object passes below the door, the water above the prober chamber side
Hot air blowing equipment attached to the above-mentioned door that opens flat
To put al the inspection object is characterized in that blowing hot air.

【0012】[0012]

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、図1〜図4に示す実施形態
に基づいて従来と同一または相当部分には同一符号を附
して本発明の特徴を中心に説明する。本実施形態のプロ
ーブ装置は、図1に示すように、ローダ室1、プローバ
室2、ピンセット3、サブチャック4、メインチャック
5、アライメント機構(図示せず)及びプローブカード
7等を備えて構成されている。また、ローダ室1とプロ
ーバ室2の隔壁9を介して区画されている。そして、こ
の隔壁9には搬出入口9Aが形成され、この搬出入口9
Aを開閉扉10によって開閉するようにしてある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The features of the present invention will be described below with reference to the embodiments shown in FIGS. As shown in FIG. 1, the probe device of the present embodiment includes a loader chamber 1, a prober chamber 2, tweezers 3, a sub chuck 4, a main chuck 5, an alignment mechanism (not shown), a probe card 7, and the like. Has been done. Further, the loader chamber 1 and the prober chamber 2 are partitioned via a partition wall 9. Then, a loading / unloading port 9A is formed in the partition wall 9, and the loading / unloading port 9A is formed.
A is opened and closed by the opening and closing door 10.

【0014】また、プローバ室2には乾燥空気を受給す
る受給孔2Aが形成され、この受給孔2Aに乾燥空気を
供給する配管(図示せず)が接続されている。そして、
この孔から例えば露点−70℃の乾燥空気をプローバ室
2内に供給すると共にプローバ室2内の乾燥空気を図示
しない排出孔から排出し、プローバ室2内の乾燥空気を
−70℃の露点で保持すると共に常に清浄な状態にして
ある。また、メインチャック5には温度調整機構(図示
せず)が内蔵され、この温度調整機構によりメインチャ
ック5上に載置されたウエハWを例えば−60℃程度の
低温まで設定し、低温検査を行えるようにしてある。ま
た、温度調整機構によりウエハWを加熱し、+160℃
程度までの高温検査を行えるようにしてある。
A receiving hole 2A for receiving dry air is formed in the prober chamber 2, and a pipe (not shown) for supplying dry air is connected to the receiving hole 2A. And
From this hole, for example, dry air having a dew point of -70 ° C is supplied into the prober chamber 2 and the dry air in the prober chamber 2 is discharged from a discharge hole (not shown) so that the dry air in the prober chamber 2 has a dew point of -70 ° C. It is kept and always kept clean. Further, a temperature adjusting mechanism (not shown) is built in the main chuck 5, and the temperature adjusting mechanism sets the wafer W placed on the main chuck 5 to a low temperature of, for example, about −60 ° C. for low temperature inspection. I can do it. Also, the wafer W is heated by the temperature adjusting mechanism to + 160 ° C.
It is possible to perform high-temperature inspection up to a certain degree.

【0015】さて、本実施形態のプローブ装置の場合に
は、上記開閉扉10が開いた時に搬出入口9Aを通過す
るウエハWに熱風を吹き付ける熱風吹き付け装置11が
設けられている。この熱風吹き付け装置11は、開閉扉
10と一体化した熱風噴出機構12と、この熱風噴出機
構12に配管13Aを介して接続された気体加熱機構
(例えばボルテックスチューブ)14と、このボルテッ
クスチューブ14に配管13Bを介して接続されたソレ
ノイドバルブ15とを備えている。ボルテックスチュー
ブ14は、例えば30℃前後の高圧空気を受給すると、
80℃前後の高温空気と−30℃前後の空気を生成する
ように構成されている。また、ソレノイドバルブ15
は、開閉扉10を開閉する後述のエアシリンダの開動作
と同期して開動作し、ボルテックスチューブ14へ高圧
空気を供給するようにしてある。尚、ボルテックスチュ
ーブ14は従来公知のため具体的な説明は省略する。
In the probe device of this embodiment, a hot air blowing device 11 for blowing hot air to the wafer W passing through the loading / unloading port 9A when the opening / closing door 10 is opened is provided. The hot air blowing device 11 includes a hot air blowing mechanism 12 integrated with the opening / closing door 10, a gas heating mechanism (for example, a vortex tube) 14 connected to the hot air blowing mechanism 12 via a pipe 13A, and a vortex tube 14. A solenoid valve 15 connected via a pipe 13B is provided. The vortex tube 14 receives, for example, high-pressure air at around 30 ° C.,
It is configured to generate hot air at around 80 ° C and air at around -30 ° C. Also, the solenoid valve 15
The high pressure air is supplied to the vortex tube 14 by performing an opening operation in synchronization with an opening operation of an air cylinder described later that opens and closes the opening / closing door 10. Since the vortex tube 14 is conventionally known, a detailed description will be omitted.

【0016】上記開閉扉10と熱風噴出機構12は、図
2、図3に示すように、フレーム16を介して隔壁9の
搬出入口9Aに取り付けられ、これら両者は側方に設け
られたエアシリンダ17を介して搬出入口9Aを開閉す
るようにしてある。開閉扉10と熱風噴出機構12との
関係を示したのが図4(a)の分解斜視図である。この
図にも示すように、熱風噴出機構12は、内側(プロー
バ室2側)が全面開口し薄く形成された矩形状の箱体1
2Aと、この箱体12Aの開口を塞ぐノズルプレート1
2Bと、上記配管13Aを箱体12Aに連結する連結部
品12Cとを備えている。箱体12A、ノズルプレート
12B及び開閉扉10はこの順序で重ね合わされ、それ
ぞれの周縁部でネジ12Dによって一体化され、図4の
(b)で示すように内部に狭い空間12Eを形成してい
る。ノズルプレート12Bには多数のノズル孔がほぼ全
面に渡って均等に分散して形成され、これらのノズルか
ら熱風を噴出するようにしてある。更に、開閉扉10に
は開口部10Aが形成され、各ノズル孔を開閉扉10に
よって塞がないようにしてある。このように熱風噴出機
構12が開閉扉10と一体化して隔壁9の搬出入口9A
を開閉すると共に、搬出口9Aを開放した時に熱風を真
下に噴出するようにしてある。従って、配管13Aから
熱風が供給されると、連結部品13Cを介して箱体12
Aの空間12Eへ熱風が流入し、ノズルプレート12B
の各ノズル孔から熱風が均等に噴出するようにしてあ
る。
As shown in FIGS. 2 and 3, the opening / closing door 10 and the hot air blowing mechanism 12 are attached to the carry-in / out port 9A of the partition wall 9 via a frame 16, and both of them are provided on the side of an air cylinder. The carry-in / out port 9A is opened and closed via 17. FIG. 4A is an exploded perspective view showing the relationship between the opening / closing door 10 and the hot air blowing mechanism 12. As shown in this figure, hot air mechanism 12, the inner (Plow
A rectangular box body 1 with a thin opening formed over the entire surface of the chamber 2 )
2A and a nozzle plate 1 for closing the opening of this box 12A
2B and a connecting part 12C for connecting the pipe 13A to the box 12A. The box body 12A, the nozzle plate 12B, and the opening / closing door 10 are stacked in this order, and are integrated by screws 12D at their peripheral portions to form a narrow space 12E inside as shown in FIG. 4B. . The nozzle plate 12B is formed with a large number of nozzle holes evenly distributed over almost the entire surface, and hot air is ejected from these nozzles. Further, the opening / closing door 10 is formed with an opening 10A so that each opening is not blocked by the opening / closing door 10. In this way, the hot air blowing mechanism 12 is integrated with the opening / closing door 10 and the carry-in / out port 9A of the partition wall 9 is formed.
Is opened and closed, and hot air is jetted directly below when the carry-out port 9A is opened. Therefore, when hot air is supplied from the pipe 13A, the box body 12 is passed through the connecting component 13C.
Hot air flows into the space 12E of A, and the nozzle plate 12B
The hot air is evenly ejected from each of the nozzle holes.

【0017】また、上記フレーム16にはプローバ室2
側に矩形状に膨らむ凹陥部16Aが形成され、この凹陥
部16Aに対して上記熱風噴出機構12と一体化した開
閉扉10が複数のヒンジ18を介して開閉自在に連結さ
れ、開閉扉10は上端のヒンジ18を介して搬出入口9
Aからプローバ室2側にほぼ90°回転し、水平位置で
停止するようにしてある。尚、図4の(a)において、
19はヒンジ止め板、20はマイラーである。
The prober chamber 2 is provided in the frame 16.
A concave recess 16A that bulges in a rectangular shape is formed on the side, and the open / close door 10 integrated with the hot air blowing mechanism 12 is openably and closably connected to the recess 16A via a plurality of hinges 18. Carrying in / out port 9 through hinge 18 at the upper end
The prober chamber 2 side is rotated about 90 ° from A to stop at the horizontal position. In addition, in FIG.
19 is a hinge stop plate, and 20 is a mylar.

【0018】また、図1に示すように上記熱風吹き付け
装置11のソレノイドバルブ15と開閉扉10の開閉に
用いるエアシリンダ17とは空気配管21を介して連結
されている。即ち、エアシリンダ17は、開閉扉10を
開く時に圧縮空気を供給する第1配管17Aと、開閉扉
10を閉じる時に圧縮空気を供給する第2配管17Bと
を有している。そして、上記空気配管21は第1配管1
7Aから分岐している。従って、開閉扉10を開く時に
は空気配管21を介してソレノイドバルブ15へ圧縮空
気が供給され、この圧縮空気の圧力でソレノイドバルブ
15が駆動してバルブを開放し、ボルテックスチューブ
14へ高圧空気を供給し、熱風噴出機構12から熱風を
真下へ噴出するようにしてある。
As shown in FIG. 1, the solenoid valve 15 of the hot air blowing device 11 and the air cylinder 17 used for opening and closing the opening / closing door 10 are connected via an air pipe 21. That is, the air cylinder 17 has a first pipe 17A that supplies compressed air when the opening / closing door 10 is opened, and a second pipe 17B that supplies compressed air when the opening / closing door 10 is closed. The air pipe 21 is the first pipe 1
It branches from 7A. Therefore, when the opening / closing door 10 is opened, compressed air is supplied to the solenoid valve 15 via the air pipe 21, the solenoid valve 15 is driven by the pressure of this compressed air to open the valve, and high pressure air is supplied to the vortex tube 14. The hot air blowing mechanism 12 blows hot air directly below.

【0019】次に、本発明のプローブ方法の一実施形態
を上記プローブ装置の動作と共に説明する。ローダ室1
においてピンセット3がカセット内から12インチのウ
エハWを1枚取り出し、サブチャック3上でウエハWの
プリアライメントを行った後、ウエハWをプローバ室2
へ搬入する。この際、コントローラのシーケンシャル制
御に基づいてエアシリンダ17が駆動して開閉扉10を
開き隔壁9の搬出入口9Aを開放する。これにより熱風
噴出機構12から熱風が真下に噴出する。その後、ピン
セット3がサブチャック3上のウエハWを引き取り、搬
出入口9Aからプローバ室2内へ搬入するが、ピンセッ
ト3は開閉扉10の真下を例えば2秒程度で通過し、ウ
エハWが熱風により極力加熱されないようしてメインチ
ャック5上にウエハWを引き渡す。その後、ピンセット
3はプローバ室2から退出し検査後のウエハWを搬出す
るためにローダ室1内で待機すると共にエアシリンダ1
7が駆動して開閉扉10で搬出入口9Aを閉じ、プロー
バ室2をローダ室1から隔絶する。
Next, an embodiment of the probe method of the present invention will be described together with the operation of the above probe device. Loader room 1
At tweezers 3, one 12-inch wafer W is taken out from the cassette, pre-alignment of the wafer W is performed on the sub chuck 3, and then the wafer W is placed in the prober chamber 2.
Carry in. At this time, the air cylinder 17 is driven based on the sequential control of the controller to open the opening / closing door 10 and open the carry-in / out port 9A of the partition wall 9. As a result, hot air is jetted directly from the hot air jetting mechanism 12. After that, the tweezers 3 picks up the wafer W on the sub chuck 3 and carries it into the prober chamber 2 from the carry-in / out port 9A. The tweezers 3 pass under the opening / closing door 10 in about 2 seconds, for example, and the wafer W is heated by hot air. The wafer W is delivered onto the main chuck 5 so as not to be heated as much as possible. After that, the tweezers 3 exits from the prober chamber 2 and stands by in the loader chamber 1 to carry out the wafer W after the inspection and the air cylinder 1
7 is driven to close the loading / unloading port 9A by the opening / closing door 10 to isolate the prober chamber 2 from the loader chamber 1.

【0020】一方、プローバ室2内では連続的に受給孔
2Aから露点−70℃の乾燥空気を受給すると共に排出
孔から排出してプローバ室2内の空気を常にその露点で
保持すると共に内部にパーティクルが滞留せず清浄な環
境を保持している。このような環境下でピンセット3か
らウエハWを受け取ったメインチャック5はウエハWを
真空吸着してウエハWを保持し、ウエハWを例えば−6
0℃まで冷却する一方、X、Y、Z及びθ方向に移動し
てアライメント機構(図示せず)の作用下でウエハWの
電極パッドとプローブ針7Aとをアライメントする。次
いで、メインチャック5がZ方向に上昇し、プローブ針
7Aと接触してウエハWの低温検査を−60℃で行い、
検査後にはZ方向に下降し、引き続き、メインチャック
5をインデックス送りしてウエハWの全ICチップにつ
いて検査を行う。
On the other hand, in the prober chamber 2, the dry air having a dew point of −70 ° C. is continuously received from the receiving hole 2A and is discharged from the discharge hole so that the air in the prober chamber 2 is always held at the dew point and is kept inside. A clean environment is maintained without particles accumulating. Under such an environment, the main chuck 5 that has received the wafer W from the tweezers 3 holds the wafer W by vacuum suction of the wafer W, and holds the wafer W, for example, −6.
While cooling to 0 ° C., the electrode pad of the wafer W and the probe needle 7A are aligned under the action of an alignment mechanism (not shown) by moving in the X, Y, Z and θ directions. Next, the main chuck 5 moves up in the Z direction and comes into contact with the probe needle 7A to perform a low temperature inspection of the wafer W at −60 ° C.
After the inspection, it descends in the Z direction, and subsequently the main chuck 5 is index-fed to inspect all the IC chips on the wafer W.

【0021】全ICチップの検査が終了すると、メイン
チャック5がウエハWの搬出位置まで移動し、停止す
る。これと同期してエアシリンダ17が駆動して開閉扉
10を開き、搬出入口9Aを開放する。この時、第1配
管17Aから圧縮空気をエアシリンダ17へ供給して開
閉扉10を開くと共に、熱風吹き付け装置11が作動す
る。即ち、圧縮空気が第1配管17Aから分岐した空気
配管21を経由して熱風吹き付け装置11のソレノイド
バルブ15に達し、ソレノイドバルブ15を開き、例え
ば30℃の高圧空気を配管13Bを介してボルテックス
チューブ14へ供給する。ボルテックスチューブ14で
は高圧空気から例えば80℃前後の高温空気を生成し、
この高温空気を配管13Aを介して熱風噴出機構12へ
供給する一方、高温空気と同時に生成した低温空気を系
外へ排気する。熱風噴出機構12では箱体12Aの空間
12Eに流入した高温空気がノズルプレート12Bの各
ノズル孔から熱風を真下へ噴出する。
When the inspection of all IC chips is completed, the main chuck 5 moves to the carry-out position of the wafer W and stops. In synchronization with this, the air cylinder 17 is driven to open the open / close door 10 and open the carry-in / out port 9A. At this time, the compressed air is supplied from the first pipe 17A to the air cylinder 17 to open the opening / closing door 10 and the hot air blowing device 11 operates. That is, the compressed air reaches the solenoid valve 15 of the hot air blowing device 11 via the air pipe 21 branched from the first pipe 17A, opens the solenoid valve 15, and, for example, high-pressure air at 30 ° C. is vortexed through the pipe 13B. 14 is supplied. In the vortex tube 14, high temperature air of around 80 ° C. is generated from high pressure air,
This high temperature air is supplied to the hot air blowing mechanism 12 via the pipe 13A, while the low temperature air generated at the same time as the high temperature air is exhausted to the outside of the system. In the hot air jetting mechanism 12, the hot air that has flowed into the space 12E of the box 12A jets hot air directly below from each nozzle hole of the nozzle plate 12B.

【0022】熱風吹き付け装置11の熱風噴出機構12
から80℃の熱風が噴出した状態で、ピンセット3が駆
動してローダ室1からプローバ室2へ進出し、メインチ
ャック5上のウエハWを引き取り、プローバ室2からロ
ーダ室1へウエハWを搬出する。この間に露点の高い空
気が搬出入口9Aを介してローダ室1からプローバ室2
内に流入するため、プローバ室2内の露点がかなり上昇
する。更に、低温のウエハWは露点の高い空気雰囲気に
あるローダ室1内に搬入される。仮に、ウエハWが低温
のままであれば、ウエハWが上述の露点の高い空気に触
れるとその表面に着霜し、氷結してウエハWが霜で被わ
れて真っ白になる。つまり、ピンセット3によりウエハ
Wをメインチャック5から持ち上げるとウエハWの温度
が−60℃から急激に上昇するが、このウエハWは口径
が12インチと大きいため、8インチまでのウエハと異
なりその温度上昇が緩やかで室温よりかなり低い温度の
ままであるため、ウエハWが霜で被われて真っ白にな
る。
Hot air blowing mechanism 12 of hot air blowing device 11
In a state where hot air of 80 ° C. is ejected from the tweezers 3, the tweezers 3 are driven to advance from the loader chamber 1 to the prober chamber 2, the wafer W on the main chuck 5 is taken, and the wafer W is unloaded from the prober chamber 2 to the loader chamber 1. To do. During this time, air with a high dew point is transferred from the loader chamber 1 to the prober chamber 2 through the carry-in / out port 9A.
Since it flows into the inside, the dew point in the prober chamber 2 rises considerably. Further, the low-temperature wafer W is loaded into the loader chamber 1 in an air atmosphere having a high dew point. If the wafer W is kept at a low temperature, the surface of the wafer W is frosted when the wafer W comes into contact with the above-mentioned air having a high dew point, and the surface of the wafer W is frozen to be covered with frost and becomes pure white. That is, when the wafer W is lifted from the main chuck 5 by the tweezers 3, the temperature of the wafer W rapidly rises from −60 ° C. However, since this wafer W has a large diameter of 12 inches, its temperature is different from that of wafers up to 8 inches. Since the temperature rises slowly and remains much lower than room temperature, the wafer W is covered with frost and becomes pure white.

【0023】しかしながら本実施形態では、ウエハWを
ローダ室1へ搬出する際、コントローラの制御下でピン
セット3がウエハ搬入時よりもかなり遅い速度でプロー
バ室2からローダ室1へ退出し、熱風噴出機構12の真
下を例えば13秒程度を掛けて通過する。この間に熱風
噴出機構12からウエハWに80℃の熱風を吹き付け、
ウエハW表面の霜を融解、蒸発させ、あるいは水分を飛
散させてウエハWから水分を確実に除去することができ
る。更に、この熱風によりウエハWが常温よりかなり高
い温度に達するため、ウエハWがプローバ室2からロー
ダ室1へ搬出されて露点の高い空気に触れてもその表面
での結露、着霜を防止することができる。従って、ピン
セット3でウエハWをカセット内へ収納する時にはウエ
ハW表面には水分の付着はなく、完全に乾燥した状態に
なっている。
However, in the present embodiment, when the wafer W is unloaded to the loader chamber 1, the tweezers 3 retreat from the prober chamber 2 to the loader chamber 1 under the control of the controller at a speed much slower than when the wafer is loaded, and the hot air is blown out. It passes under the mechanism 12 for about 13 seconds, for example. During this time, hot air of 80 ° C. is blown onto the wafer W from the hot air blowing mechanism 12,
Moisture can be reliably removed from the wafer W by melting and evaporating frost on the surface of the wafer W, or by scattering water. Further, since the wafer W reaches a temperature considerably higher than room temperature by this hot air, even if the wafer W is carried out from the prober chamber 2 to the loader chamber 1 and comes into contact with air having a high dew point, dew condensation and frost formation on the surface are prevented. be able to. Therefore, when the wafer W is stored in the cassette with the tweezers 3, the surface of the wafer W is completely free of moisture and is in a completely dry state.

【0024】以上説明したように本実施形態によれば、
搬出入口9Aの開閉扉10が開いてプローバ室2からロ
ーダ室1へウエハWを搬出する過程で、ウエハWが搬出
入口9Aを通過する時に熱風吹き付け装置11によりウ
エハWに80℃前後の熱風を吹き付け、しかもゆっくり
とした速度でプローバ室2からローダ室1へ搬出するた
め、プローバ室2からローダ室1へ達した時点では熱風
によりウエハWの温度が上昇してウエハWでの結露、着
霜を防止することができ、しかもウエハWの温度が上昇
し完全に乾燥している。従って、ローダ室1内でウエハ
Wがパーティクル等の塵埃により汚染される虞がない。
As described above, according to this embodiment,
In the course of closing door 10 of the transfer port 9A is unloading the wafer W from the prober chamber 2 to the loader chamber 1 is opened, the wafer W is unloaded
When passing through the inlet 9A , the hot air blowing device 11 blows hot air of about 80 ° C. onto the wafer W, and further, it is carried out from the prober chamber 2 to the loader chamber 1 at a slow speed. At this point, the temperature of the wafer W rises due to the hot air to prevent dew condensation and frost formation on the wafer W, and the temperature of the wafer W rises and is completely dried. Therefore, there is no possibility that the wafer W is contaminated by dust such as particles in the loader chamber 1.

【0025】上記実施形態では、熱風吹き付け装置11
の気体加熱機構として空気を加熱するボルテックスチュ
ーブ14を利用したが、ヒータ等を加熱源としても良
く、また空気に代えて窒素等の不活性ガスを用いても良
い。また、熱風を供給用のバルブとしてソレノイドバル
ブ15を利用したが、電動バルブを利用しても良い。
In the above embodiment, the hot air blowing device 11
Although the vortex tube 14 that heats air is used as the gas heating mechanism, a heater or the like may be used as a heating source, and an inert gas such as nitrogen may be used instead of air. Further, although the solenoid valve 15 is used as a valve for supplying hot air, an electric valve may be used.

【0026】[0026]

【発明の効果】本発明の請求項1〜請求項3に記載の発
明によれば、ローダ室とプローバ室間の隔壁の搬出入口
に開閉可能に取り付けられた開閉扉を開き、上記ローダ
室から上記搬出入口を経由して上記プローバ室内の載置
台上へ被検査体を搬送して上記開閉扉を閉じた後、上記
載置台を介して上記被検査体を所定の検査温度まで冷却
すると共に上記被検査体の冷却温度では結露しない乾燥
空気を上記プローバ室内に供給しながら上記被検査体の
低温検査を行う際に、上記開閉扉を開き上記低温検査後
の上記被検査体を上記プローバ室から上記搬出入口を経
由して上記ローダ室へ搬送する過程で、上記被検査体が
上記開閉扉の下方を通過する時に、上記プローバ室側で
水平に開いた上記開閉扉に取り付けられた熱風吹き付け
装置から上記被検査体に熱風を吹き付けるようにしたた
め、例えば12インチクラスの大口径の被検査体であっ
ても低温検査後の被検査体での大気中の水分に起因した
結露を確実に防止し、結露に起因する被検査体の汚染を
確実に防止することができるプローブ装置及びプローブ
方法を提供することができる。
According to the first to third aspects of the present invention, the loading / unloading port of the partition between the loader chamber and the prober chamber is provided.
Open the openable door that can be opened and closed, and transport the object to be inspected from the loader chamber to the loading table in the prober chamber through the loading / unloading port and close the opening door, and then open the loading table. When the low temperature inspection of the object to be inspected is performed while cooling the object to be inspected to a predetermined inspection temperature through it and supplying dry air that does not condense at the cooling temperature of the object to be inspected to the prober chamber, the opening / closing door Open the above-mentioned object to be inspected after the low-temperature inspection from the prober chamber through the carry-in / out port.
And reason in the course of conveying to the loader chamber, when the inspection object passes below the door, in the prober chamber side
Hot air blowing attached to the above-mentioned door opened horizontally
Since hot air is blown from the device to the object to be inspected, even if the object to be inspected has a large diameter of, for example, a 12-inch class, it is caused by moisture in the atmosphere of the object to be inspected after the low temperature inspection. It is possible to provide a probe device and a probe method capable of reliably preventing the contamination of the object to be inspected due to dew condensation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のプローブ装置の一実施形態の要部を示
す構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a main part of an embodiment of a probe device of the present invention.

【図2】図1に示す熱風吹き付け装置の熱風噴出機構を
隔壁に取り付ける状態を示す分解斜視図である。
FIG. 2 is an exploded perspective view showing a state in which the hot air blowing mechanism of the hot air blowing device shown in FIG. 1 is attached to a partition wall.

【図3】図2に示すエアシリンダを拡大して示す斜視図
である。
3 is an enlarged perspective view showing the air cylinder shown in FIG. 2. FIG.

【図4】(a)は図2に示す熱風噴出機構及び開閉扉の
分解斜視図、(b)は熱風噴出機構の一部の断面図であ
る。
4A is an exploded perspective view of the hot air blowing mechanism and the opening / closing door shown in FIG. 2, and FIG. 4B is a sectional view of a part of the hot air blowing mechanism.

【図5】従来のプローブ装置の一例をプローバ室を破断
して示す部分断面図である。
FIG. 5 is a partial cross-sectional view showing an example of a conventional probe device with a prober chamber cut away.

【図6】図5に示すプローブ装置の内部を示す構成図で
ある。
6 is a configuration diagram showing the inside of the probe device shown in FIG. 5. FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ローダ室 2 プローバ室 3 ピンセット(搬送機構) 5 メインチャック(載置台) 9 隔壁 9A 搬出入口 10 開閉扉 11 熱風吹き付け装置 12 熱風噴出機構 14 ボルテックスチューブ(気体加熱機構) 15 ソレノイドバルブ 17 エアシリンダ 1 loader room 2 Prober room 3 tweezers (transport mechanism) 5 Main chuck (mounting table) 9 partitions 9A entrance / exit 10 open / close door 11 Hot air blowing device 12 Hot air blowing mechanism 14 Vortex tube (gas heating mechanism) 15 Solenoid valve 17 Air cylinder

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01L 21/68 G01R 31/28 K (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/66 G01R 31/26 G01R 31/28 H01L 21/68 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI H01L 21/68 G01R 31/28 K (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/66 G01R 31 / 26 G01R 31/28 H01L 21/68

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 被検査体を搬送する搬送機構を有するロ
ーダ室と、このローダ室と隣接し且つX、Y、Z及びθ
方向に移動可能な載置台を有するプローバ室と、このプ
ローバ室と上記ローダ室を区画する隔壁と、この隔壁の
上記被検査体の搬出入口を開閉する開閉扉とを備え、上
記載置台を介して上記被検査体を冷却すると共に上記被
検査体の冷却温度では結露しない乾燥空気を上記プロー
バ室内に供給しながら上記被検査体の電気的特性検査を
行うプローブ装置において、上記開閉扉が開いた時に上
開閉扉の下方を通過する上記被検査体に熱風を吹き付
ける熱風吹き付け装置を設け、上記熱風吹き付け装置
は、上記開閉扉に取り付けられて上記開閉扉と一体化し
且つ上記開閉扉を開けて上記被検査体が上記開閉扉の下
方を通過する時に搬送機構上の上記被検査体に向けて熱
風を噴出する熱風噴出機構と、この熱風噴出機構に熱風
を供給するために接続された気体加熱機構とを備えたこ
とを特徴とするプローブ装置。
1. A loader chamber having a transport mechanism for transporting an object to be inspected, and X, Y, Z and θ adjacent to the loader chamber.
A prober chamber having a mounting table movable in a direction, a partition wall that partitions the prober chamber and the loader chamber, and an opening / closing door that opens and closes the loading / unloading port of the object to be inspected of the partition wall, via the mounting table described above. The opening / closing door is opened in the probe device for cooling the above-mentioned inspected object and supplying the dry air which does not condense at the cooling temperature of the inspected object into the prober chamber while inspecting the electrical characteristics of the inspected object. A hot air blowing device for blowing hot air to the object to be inspected, which sometimes passes under the opening / closing door, is provided .
Is attached to the door and integrated with the door.
In addition, the opening / closing door is opened so that the inspection object is under the opening / closing door.
When passing through
The hot air blowing mechanism that blows out the wind and the hot air blowing mechanism
And a gas heating mechanism connected to supply the probe device.
【請求項2】 上記開閉扉を開閉するエアシリンダを設
けると共に上記熱風吹き付け装置にソレノイドバルブを
設け、且つ、上記エアシリンダの開駆動用の圧縮空気の
圧力で上記ソレノイドバルブを開放することを特徴とす
る請求項1に記載のプローブ装置。
2. An air cylinder for opening and closing the opening and closing door is provided, a solenoid valve is provided for the hot air blowing device, and the solenoid valve is opened by the pressure of compressed air for opening and driving the air cylinder. The probe device according to claim 1 .
【請求項3】 ローダ室とプローバ室間の隔壁の搬出入
口に開閉可能に取り付けられた開閉扉を開き、上記ロー
ダ室から上記搬出入口を経由して上記プローバ室内の載
置台上へ被検査体を搬送して上記開閉扉を閉じた後、上
記載置台を介して上記被検査体を所定の検査温度まで冷
却すると共に上記被検査体の冷却温度では結露しない乾
燥空気を上記プローバ室内に供給しながら上記被検査体
の低温検査を行うプローブ方法において、上記開閉扉を
開き上記被検査体を上記プローバ室から上記搬出入口を
経由して上記ローダ室へ搬送する過程で、上記被検査体
が上記開閉扉の下方を通過する時に、上記プローバ室側
で水平に開いた上記開閉扉に取り付けられた熱風吹き付
け装置から上記被検査体に熱風を吹き付けることを特徴
とするプローブ方法。
3. Loading and unloading of a partition wall between the loader chamber and the prober chamber
After opening the opening / closing door attached to the mouth so that it can be opened / closed, the object to be inspected is transferred from the loader chamber to the loading table in the prober chamber through the loading / unloading port, and the opening / closing door is closed, and then the loading table described above. In the probe method for performing a low-temperature inspection of the inspected object while supplying the dry air that does not condense at the cooling temperature of the inspected object to the prober chamber while cooling the inspected object to a predetermined inspection temperature via Open the open / close door and move the DUT from the prober chamber to the loading / unloading port.
When the object to be inspected passes under the opening / closing door in the process of being transferred to the loader chamber via the prober chamber side.
With hot air blowing attached to the above-mentioned door that opens horizontally with
A probe method comprising blowing hot air onto the object to be inspected from a cleaning device .
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110058102A (en) * 2019-05-16 2019-07-26 黄先日 Electronic component temperature-detecting device

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10252561A1 (en) * 2002-11-08 2004-05-27 Ralf Spillecke Device and method for thawing a test object
JP2007057444A (en) * 2005-08-25 2007-03-08 Nidec-Read Corp Board inspection device and temperature maintenance mechanism for same
TWI405983B (en) * 2005-08-25 2013-08-21 Nidec Read Corp Substrate inspection device and substrate inspection method
JP4711067B2 (en) * 2005-12-02 2011-06-29 株式会社島津製作所 Low temperature type hardness tester
JP4605387B2 (en) 2005-12-12 2011-01-05 住友電気工業株式会社 Temperature characteristic inspection device
KR20080091072A (en) * 2006-05-24 2008-10-09 에스이아이 하이브리드 가부시키가이샤 Wafer holder, method for producing the same and semiconductor production apparatus
JP4767896B2 (en) * 2007-03-29 2011-09-07 東京エレクトロン株式会社 Inspected object transport device and inspection device
JP5874427B2 (en) * 2012-02-14 2016-03-02 セイコーエプソン株式会社 Parts inspection device and handler
JP5967508B1 (en) * 2015-02-27 2016-08-10 株式会社東京精密 Transport unit and prober
JP2016188782A (en) * 2015-03-30 2016-11-04 セイコーエプソン株式会社 Electronic component conveyance device and electronic component inspection device
JP6681572B2 (en) 2016-02-26 2020-04-15 株式会社東京精密 Transport unit and prober
TWI585419B (en) * 2016-12-15 2017-06-01 Test equipment for electronic components operating equipment with anti - condensation unit and its application
JP7132484B2 (en) * 2018-03-22 2022-09-07 株式会社東京精密 Prober cooling system
JP7018368B2 (en) * 2018-07-12 2022-02-10 東京エレクトロン株式会社 Inspection equipment and cleaning method of inspection equipment

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110058102A (en) * 2019-05-16 2019-07-26 黄先日 Electronic component temperature-detecting device

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