JP3492707B2 - クリーム半田部の高さ分布及び体積の測定方法 - Google Patents
クリーム半田部の高さ分布及び体積の測定方法Info
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- JP3492707B2 JP3492707B2 JP31770391A JP31770391A JP3492707B2 JP 3492707 B2 JP3492707 B2 JP 3492707B2 JP 31770391 A JP31770391 A JP 31770391A JP 31770391 A JP31770391 A JP 31770391A JP 3492707 B2 JP3492707 B2 JP 3492707B2
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、クリーム半田の高さ分
布及び体積の測定方法に係り、詳しくは、レーザ三角測
量とＸ線透過画像の濃度分布とを組合せて、クリーム半
田部の高さ分布と体積とを正確・迅速に測定できるよう
にした手段に関する。
布及び体積の測定方法に係り、詳しくは、レーザ三角測
量とＸ線透過画像の濃度分布とを組合せて、クリーム半
田部の高さ分布と体積とを正確・迅速に測定できるよう
にした手段に関する。
【０００２】
【従来の技術】基板に電子部品を搭載するに先立ち、基
板の回路パターンの電極上には、一般に、スクリーン印
刷装置によりクリーム半田が塗布される。このスクリー
ン印刷は、パターン孔が開設されたスクリーンマスクを
基板の上面に近接させ、スキージをスクリーンマスク上
で摺動させることにより、パターン孔を通してクリーム
半田を塗布し、次いでスクリーンマスクと基板とを離反
させることにより、パターン孔内のクリーム半田を電極
上に転写するようになっている。
板の回路パターンの電極上には、一般に、スクリーン印
刷装置によりクリーム半田が塗布される。このスクリー
ン印刷は、パターン孔が開設されたスクリーンマスクを
基板の上面に近接させ、スキージをスクリーンマスク上
で摺動させることにより、パターン孔を通してクリーム
半田を塗布し、次いでスクリーンマスクと基板とを離反
させることにより、パターン孔内のクリーム半田を電極
上に転写するようになっている。
【０００３】ところが、パターン孔内のクリーム半田
は、必ずしも完全に転写されるわけではない。例えば、
パターン孔が目詰まりを生じたり、クリーム半田がスク
リーンマスクの裏面へにじみ出たりすることにより、電
極上のクリーム半田部の体積が不足したり、クリーム半
田部の表面の高さが不適切になる場合があり、結果とし
て、電子部品の実装、半田付け後の接合状態、電極の浮
き、半田ブリッジ、半田ボール、チップの立ち等の不良
を発生する場合がある。
は、必ずしも完全に転写されるわけではない。例えば、
パターン孔が目詰まりを生じたり、クリーム半田がスク
リーンマスクの裏面へにじみ出たりすることにより、電
極上のクリーム半田部の体積が不足したり、クリーム半
田部の表面の高さが不適切になる場合があり、結果とし
て、電子部品の実装、半田付け後の接合状態、電極の浮
き、半田ブリッジ、半田ボール、チップの立ち等の不良
を発生する場合がある。
【０００４】したがって、このクリーム半田部につい
て、その高さ分布と体積を正確・迅速に測定し、半田の
塗布状態の良否を検査することが必要となる。ところが
現状では、この測定は目視によることが一般であり、正
確を欠く。そこで、目視によらない測定手段として、次
に述べるものが試みられている。
て、その高さ分布と体積を正確・迅速に測定し、半田の
塗布状態の良否を検査することが必要となる。ところが
現状では、この測定は目視によることが一般であり、正
確を欠く。そこで、目視によらない測定手段として、次
に述べるものが試みられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】第１に、カメラにより
クリーム半田部を上方から観察する手段がある。しか
し、この手段では、クリーム半田部の平面画像しか得ら
れず、クリーム半田部の高さを知ることができない。ま
た、クリーム半田部は、半田合金粉末とフラックスの混
合状態にあり、その表面は通常フラックスで覆われてい
るが、このフラックスが輝いてカメラの画像のノイズと
なり、クリーム半田部の平面形状が不明瞭となりがちで
あるという問題点がある。
クリーム半田部を上方から観察する手段がある。しか
し、この手段では、クリーム半田部の平面画像しか得ら
れず、クリーム半田部の高さを知ることができない。ま
た、クリーム半田部は、半田合金粉末とフラックスの混
合状態にあり、その表面は通常フラックスで覆われてい
るが、このフラックスが輝いてカメラの画像のノイズと
なり、クリーム半田部の平面形状が不明瞭となりがちで
あるという問題点がある。
【０００６】第２に、レーザ三角測量による手段があ
る。しかし、レーザ三角測量は、基本的に１点のみの高
さしか測定できない。したがって、表面に凹凸を有する
クリーム半田部の表面全点の高さを十分な精度で測定す
るには、例えばクリーム半田部の長手方向に沿う走査
を、その直角方向に非常に多数回繰り返す必要がある。
よって、この手段では測定に多大の時間を要し、実用に
供しづらいという問題点がある。
る。しかし、レーザ三角測量は、基本的に１点のみの高
さしか測定できない。したがって、表面に凹凸を有する
クリーム半田部の表面全点の高さを十分な精度で測定す
るには、例えばクリーム半田部の長手方向に沿う走査
を、その直角方向に非常に多数回繰り返す必要がある。
よって、この手段では測定に多大の時間を要し、実用に
供しづらいという問題点がある。
【０００７】第３に、Ｘ線透過画像の濃度分布のみによ
り測定する手段がある。この手段は、クリーム半田部が
高い（厚い）箇所はＸ線が透過しにくいので画像は暗く
なり、低い（薄い）箇所は画像が明るくなることを利用
して、画像の濃度分布（濃度レベル）からクリーム半田
部の高さを求め、体積を測定するというものである。し
かし、この画像の濃度レベルは、あくまでクリーム半田
部の相対的な高低を示すものにすぎず、濃度レベルによ
ってその濃度レベルを有する箇所の絶対的な高さ（厚
さ）の値を、一義的に決することは非常に困難である。
り測定する手段がある。この手段は、クリーム半田部が
高い（厚い）箇所はＸ線が透過しにくいので画像は暗く
なり、低い（薄い）箇所は画像が明るくなることを利用
して、画像の濃度分布（濃度レベル）からクリーム半田
部の高さを求め、体積を測定するというものである。し
かし、この画像の濃度レベルは、あくまでクリーム半田
部の相対的な高低を示すものにすぎず、濃度レベルによ
ってその濃度レベルを有する箇所の絶対的な高さ（厚
さ）の値を、一義的に決することは非常に困難である。
【０００８】そこで本発明は、クリーム半田部の高さ分
布と体積を正確・迅速に測定できる手段を提供すること
を目的とする。
布と体積を正確・迅速に測定できる手段を提供すること
を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板に形成さ
れたクリーム半田部の一部分の高さ情報をレーザ三角測
量により求めると共に、この基板にＸ線を照射してＸ線
透過画像を得る工程と、次に前記Ｘ線透過画像の濃度分
布と前記高さ情報を対応づけるキャリブレーションを行
う工程と、このキャリブレーションの結果を利用して、
前記Ｘ線透過画像の濃度分布からクリーム半田部の高さ
分布を求める工程から構成される。
れたクリーム半田部の一部分の高さ情報をレーザ三角測
量により求めると共に、この基板にＸ線を照射してＸ線
透過画像を得る工程と、次に前記Ｘ線透過画像の濃度分
布と前記高さ情報を対応づけるキャリブレーションを行
う工程と、このキャリブレーションの結果を利用して、
前記Ｘ線透過画像の濃度分布からクリーム半田部の高さ
分布を求める工程から構成される。
【００１０】
【作用】上記構成によれば、レーザ三角測量を多数回繰
り返して行う必要がないし、Ｘ線透過画像は短時間で得
ることができるので、迅速に所定の測定を行うことがで
きる。しかもキャリブレーションにより、Ｘ線透過画像
の濃度分布が、高さの絶対値に一義的に対応することに
なるので、クリーム半田部の絶対的な高さ分布や体積を
正確に知ることができる。
り返して行う必要がないし、Ｘ線透過画像は短時間で得
ることができるので、迅速に所定の測定を行うことがで
きる。しかもキャリブレーションにより、Ｘ線透過画像
の濃度分布が、高さの絶対値に一義的に対応することに
なるので、クリーム半田部の絶対的な高さ分布や体積を
正確に知ることができる。
【００１１】
【実施例】次に図面を参照しながら、本発明の実施例を
説明する。図１はＸ線装置の正面図である。１は基板、
２は基板１上に形成された電極、３は電極２の上面にス
クリーン印刷装置により塗布されたクリーム半田部であ
る。４はＸ線源であり、基板１に白色Ｘ線を照射する。
５は基板１の下方に設けられた絞りユニット、６はＸ線
検出器、７は光学ユニット、８はカメラである。Ｘ線源
４から基板１にＸ線を照射すると、Ｘ線透過画像は、こ
のカメラ８に取込まれ、その濃度分布を得ることができ
る。
説明する。図１はＸ線装置の正面図である。１は基板、
２は基板１上に形成された電極、３は電極２の上面にス
クリーン印刷装置により塗布されたクリーム半田部であ
る。４はＸ線源であり、基板１に白色Ｘ線を照射する。
５は基板１の下方に設けられた絞りユニット、６はＸ線
検出器、７は光学ユニット、８はカメラである。Ｘ線源
４から基板１にＸ線を照射すると、Ｘ線透過画像は、こ
のカメラ８に取込まれ、その濃度分布を得ることができ
る。
【００１２】９はＸテーブル、１０はＹテーブルであ
り、これらのＸＹテーブル９，１０は基板１と平行にな
るように設けられる。１１はレーザ照射器、１２はレー
ザ照射器１１から照射され、クリーム半田部３で反射さ
れたレーザ光Ｂを受光する受光器、１３は、レーザ照射
器１１と受光器１２をＹテーブル１０に固定するブラケ
ット、１４，１５はＸＹテーブル９，１０の駆動用モー
タである。レーザ照射器１１と受光器１２は、一体的に
移動することにより、クリーム半田部３をＸＹ方向に走
査できる。つまり、基板１に形成されたクリーム半田部
３の任意の点の高さ情報（絶対値）を、レーザ三角測量
により求めることができる。
り、これらのＸＹテーブル９，１０は基板１と平行にな
るように設けられる。１１はレーザ照射器、１２はレー
ザ照射器１１から照射され、クリーム半田部３で反射さ
れたレーザ光Ｂを受光する受光器、１３は、レーザ照射
器１１と受光器１２をＹテーブル１０に固定するブラケ
ット、１４，１５はＸＹテーブル９，１０の駆動用モー
タである。レーザ照射器１１と受光器１２は、一体的に
移動することにより、クリーム半田部３をＸＹ方向に走
査できる。つまり、基板１に形成されたクリーム半田部
３の任意の点の高さ情報（絶対値）を、レーザ三角測量
により求めることができる。
【００１３】図２は、基板１の電極２上に塗布されたク
リーム半田部３を示す。クリーム半田部３の表面は平面
ではなく、凹凸があり、その高さｔは均一ではない。こ
こで、ＸＹテーブル９，１０の駆動用モータ１４，１５
を駆動して、レーザ照射器１１からレーザ光Ｂを照射
し、このレーザ光Ｂでクリーム半田部３の長手方向に沿
い、しかもクリーム半田部３の頂点を通るように走査し
て、クリーム半田部３の一部分（クリーム半田部３をそ
の長手方向に横切る稜線について）の絶対的な高さｔの
情報を求める。なお、このレーザ光Ｂは若干太くしてお
いた方が、測定値を安定させる上で望ましい。
リーム半田部３を示す。クリーム半田部３の表面は平面
ではなく、凹凸があり、その高さｔは均一ではない。こ
こで、ＸＹテーブル９，１０の駆動用モータ１４，１５
を駆動して、レーザ照射器１１からレーザ光Ｂを照射
し、このレーザ光Ｂでクリーム半田部３の長手方向に沿
い、しかもクリーム半田部３の頂点を通るように走査し
て、クリーム半田部３の一部分（クリーム半田部３をそ
の長手方向に横切る稜線について）の絶対的な高さｔの
情報を求める。なお、このレーザ光Ｂは若干太くしてお
いた方が、測定値を安定させる上で望ましい。
【００１４】次に、基板１に上記Ｘ線装置によりＸ線を
照射して、Ｘ線透過画像を得る。図３は、図２に示すク
リーム半田部３をカメラ８に取込んだＸ線透過画像の濃
度分布を示す。１４は、カメラ８の受光部の画素、Ｌ
（Ｌ０〜Ｌ５）はこの画像の濃度レベルである。但し、
濃度レベルＬがＬ０〜Ｌ５に向かって次第に暗くなるこ
とを示す。すなわち、濃度レベルＬ１ではクリーム半田
部３が低くＸ線が透過しやすいので明るくなり、濃度レ
ベルＬ５ではクリーム半田部３が高くＸ線が透過しにく
いので暗くなるものである。
照射して、Ｘ線透過画像を得る。図３は、図２に示すク
リーム半田部３をカメラ８に取込んだＸ線透過画像の濃
度分布を示す。１４は、カメラ８の受光部の画素、Ｌ
（Ｌ０〜Ｌ５）はこの画像の濃度レベルである。但し、
濃度レベルＬがＬ０〜Ｌ５に向かって次第に暗くなるこ
とを示す。すなわち、濃度レベルＬ１ではクリーム半田
部３が低くＸ線が透過しやすいので明るくなり、濃度レ
ベルＬ５ではクリーム半田部３が高くＸ線が透過しにく
いので暗くなるものである。
【００１５】次に、Ｘ線透過画像の濃度分布とレーザ三
角測量の高さ情報を対応づけるキャリブレーションにつ
いて説明する。さて、一般に単色Ｘ線の物質透過に関
し、次の基礎式が成立する。
角測量の高さ情報を対応づけるキャリブレーションにつ
いて説明する。さて、一般に単色Ｘ線の物質透過に関
し、次の基礎式が成立する。
【００１６】Ｉ＝Ｉ0 ｅｘｐ（−μｔ）
ただし、ＩはＸ線透過強度、Ｉ0 は入射Ｘ線強度、μは
線吸収係数、ｔは透過物質の高さである。ここで、上式
の両辺の対数をとり、縦軸にｌｏｇＩ、横軸に高さｔを
とってグラフを描くと右下りの直線となる（ただし、Ｉ
0 は一定とし、μは透過物質の種類と単色Ｘ線の波長で
定まる）。しかし本実施例では、白色Ｘ線を照射するＸ
線源４を用いたので、Ｘ線の波長には分布があり、また
Ｘ線の線束が太くＸ線検出器６で散乱線を検知すること
などから、上記グラフは定性的に図４破線に示す下に凸
の曲線となる。なお、あらかじめクリーム半田について
この曲線を求めておく。ここで、濃度レベルＬ０はＸ線
透過強度Ｉが大きな場合に対応し、濃度レベルＬ５はＸ
線透過強度Ｉが小さな場合に対応する。
線吸収係数、ｔは透過物質の高さである。ここで、上式
の両辺の対数をとり、縦軸にｌｏｇＩ、横軸に高さｔを
とってグラフを描くと右下りの直線となる（ただし、Ｉ
0 は一定とし、μは透過物質の種類と単色Ｘ線の波長で
定まる）。しかし本実施例では、白色Ｘ線を照射するＸ
線源４を用いたので、Ｘ線の波長には分布があり、また
Ｘ線の線束が太くＸ線検出器６で散乱線を検知すること
などから、上記グラフは定性的に図４破線に示す下に凸
の曲線となる。なお、あらかじめクリーム半田について
この曲線を求めておく。ここで、濃度レベルＬ０はＸ線
透過強度Ｉが大きな場合に対応し、濃度レベルＬ５はＸ
線透過強度Ｉが小さな場合に対応する。
【００１７】そして、上述のようにレーザ三角測量によ
り求めた高さ（絶対値）の情報を利用してキャリブレー
ションを行う。望ましくは図４に示すように、クリーム
半田部３の頂点について、高さ（絶対値）をレーザ三角
測量の結果から求めると共にＸ線透過画像からこの頂点
の濃度レベルＬ及びｌｏｇＩを求め、図４のグラフにプ
ロットする（点Ｐ）。そして、点Ｐを通り、且つ破線の
曲線をΔｔだけ横軸と平行に移動した実線の曲線を求め
る。この実線の曲線が、キャリブレーション後の特性線
となる。次に、この特性線から、各ｌｏｇＩ、濃度レベ
ルＬに対する高さｔの絶対値を求める。
り求めた高さ（絶対値）の情報を利用してキャリブレー
ションを行う。望ましくは図４に示すように、クリーム
半田部３の頂点について、高さ（絶対値）をレーザ三角
測量の結果から求めると共にＸ線透過画像からこの頂点
の濃度レベルＬ及びｌｏｇＩを求め、図４のグラフにプ
ロットする（点Ｐ）。そして、点Ｐを通り、且つ破線の
曲線をΔｔだけ横軸と平行に移動した実線の曲線を求め
る。この実線の曲線が、キャリブレーション後の特性線
となる。次に、この特性線から、各ｌｏｇＩ、濃度レベ
ルＬに対する高さｔの絶対値を求める。
【００１８】次に、上記キャリブレーションの結果を利
用して、Ｘ線透過画像の濃度分布からクリーム半田部の
高さ分布を求める。図５は、上記キャリブレーションを
行った結果をまとめた関係図であり、クリーム半田部３
の高さｔ、濃度レベルＬ、画素数Ｎの関係を示す。な
お、ｔ０〜ｔ５は濃度レベルＬ０〜Ｌ５に対応する高さ
ｔであり、Ｎ０〜Ｎ５は濃度レベルＬ０〜Ｌ５に対応す
る画素数Ｎである。すなわち、上記キャリブレーション
により、Ｘ線透過画像の濃度分布が、一義的にクリーム
半田部３の高さ（絶対値）の分布に対応している。すな
わち、図３及び図５を参照すると、ただちにクリーム半
田部３の高さ（絶対値）の分布を知ることができる。
用して、Ｘ線透過画像の濃度分布からクリーム半田部の
高さ分布を求める。図５は、上記キャリブレーションを
行った結果をまとめた関係図であり、クリーム半田部３
の高さｔ、濃度レベルＬ、画素数Ｎの関係を示す。な
お、ｔ０〜ｔ５は濃度レベルＬ０〜Ｌ５に対応する高さ
ｔであり、Ｎ０〜Ｎ５は濃度レベルＬ０〜Ｌ５に対応す
る画素数Ｎである。すなわち、上記キャリブレーション
により、Ｘ線透過画像の濃度分布が、一義的にクリーム
半田部３の高さ（絶対値）の分布に対応している。すな
わち、図３及び図５を参照すると、ただちにクリーム半
田部３の高さ（絶対値）の分布を知ることができる。
【００１９】さらに、クリーム半田部３の体積Ｖは、高
さｔと画素数Ｎの積算、すなわちＶ＝ΣｔＮから求める
ことができる。そして、この結果に基づき、クリーム半
田部の塗布状態の良否を判定する。
さｔと画素数Ｎの積算、すなわちＶ＝ΣｔＮから求める
ことができる。そして、この結果に基づき、クリーム半
田部の塗布状態の良否を判定する。
【００２０】以後新たな測定対象（基板上のクリーム半
田部）については、上記よりもさらに簡単迅速に測定を
行なうことができる。すなわち上記と同じ条件下でＸ線
透過画像を得れば、レーザ三角測量を行わなくとも、上
記キャリブレーションの結果からこの画像の濃度分布が
絶対的高さ分布を示していることになるので、新たに測
定対象としたこのクリーム半田部の絶対的な高さ分布及
び体積を、ただちに測定することができる。
田部）については、上記よりもさらに簡単迅速に測定を
行なうことができる。すなわち上記と同じ条件下でＸ線
透過画像を得れば、レーザ三角測量を行わなくとも、上
記キャリブレーションの結果からこの画像の濃度分布が
絶対的高さ分布を示していることになるので、新たに測
定対象としたこのクリーム半田部の絶対的な高さ分布及
び体積を、ただちに測定することができる。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、基板に形
成されたクリーム半田部の一部分の高さ情報をレーザ三
角測量により求めると共に、この基板にＸ線を照射して
Ｘ線透過画像を得る工程と、次に前記Ｘ線透過画像の濃
度分布と前記高さ情報を対応づけるキャリブレーション
を行う工程と、このキャリブレーションの結果を利用し
て、前記Ｘ線透過画像の濃度分布からクリーム半田部の
高さ分布を求める工程を構成したので、レーザ三角測量
を多数回繰り返す必要がなく、しかもＸ線透過画像は短
時間で得ることができるので、迅速に測定を行うことが
できる。またキャリブレーションによってＸ線透過画像
の濃度分布から一義的に高さ分布を求めることができる
ので、クリーム半田部の高さ分布及び体積を正確に知る
ことができる。
成されたクリーム半田部の一部分の高さ情報をレーザ三
角測量により求めると共に、この基板にＸ線を照射して
Ｘ線透過画像を得る工程と、次に前記Ｘ線透過画像の濃
度分布と前記高さ情報を対応づけるキャリブレーション
を行う工程と、このキャリブレーションの結果を利用し
て、前記Ｘ線透過画像の濃度分布からクリーム半田部の
高さ分布を求める工程を構成したので、レーザ三角測量
を多数回繰り返す必要がなく、しかもＸ線透過画像は短
時間で得ることができるので、迅速に測定を行うことが
できる。またキャリブレーションによってＸ線透過画像
の濃度分布から一義的に高さ分布を求めることができる
ので、クリーム半田部の高さ分布及び体積を正確に知る
ことができる。
【図１】本発明の測定装置の正面図
【図２】同クリーム半田部の斜視図
【図３】同Ｘ線透過画像の濃度分布図
【図４】同キャリブレーションの説明図
【図５】同高さ、濃度レベル、画素数の関係図
１ 基板
３ クリーム半田部
ｔ 高さ
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平３−29807（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−239953（ＪＰ，Ａ)
特開 昭54−143290（ＪＰ，Ａ)
実開 昭54−183373（ＪＰ，Ｕ)
実開 昭56−82608（ＪＰ，Ｕ)
Claims (2)
- 【請求項１】基板に形成されたクリーム半田部の一部分
の高さ情報をレーザ三角測量により求めると共に、この
基板にＸ線を照射してＸ線透過画像を得る工程と、次に
前記Ｘ線透過画像の濃度分布と前記高さ情報を対応づけ
るキャリブレーションを行う工程と、このキャリブレー
ションの結果を利用して、前記Ｘ線透過画像の濃度分布
からクリーム半田部の高さ分布を求める工程を有するこ
とを特徴とするクリーム半田部の高さ分布及び体積の測
定方法。 - 【請求項２】請求項１に記載の高さ測定方法によって求
めたクリーム半田部の高さ分布に面積を積算することを
特徴とするクリーム半田部の高さ分布及び体積の測定方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31770391A JP3492707B2 (ja) | 1991-12-02 | 1991-12-02 | クリーム半田部の高さ分布及び体積の測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31770391A JP3492707B2 (ja) | 1991-12-02 | 1991-12-02 | クリーム半田部の高さ分布及び体積の測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05149733A JPH05149733A (ja) | 1993-06-15 |
| JP3492707B2 true JP3492707B2 (ja) | 2004-02-03 |
Family
ID=18091088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31770391A Expired - Fee Related JP3492707B2 (ja) | 1991-12-02 | 1991-12-02 | クリーム半田部の高さ分布及び体積の測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3492707B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2012247760A1 (en) * | 2011-04-29 | 2013-11-28 | J&C Bachmann Gmbh | Method and device for characterising physical properties of granular materials |
| US11688067B2 (en) * | 2019-07-12 | 2023-06-27 | Bruker Nano, Inc. | Methods and systems for detecting defects in devices using X-rays |
-
1991
- 1991-12-02 JP JP31770391A patent/JP3492707B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05149733A (ja) | 1993-06-15 |
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