JP3485259B2 - アレイ導波路型回折格子の製造方法 - Google Patents
アレイ導波路型回折格子の製造方法Info
- Publication number
- JP3485259B2 JP3485259B2 JP2000192532A JP2000192532A JP3485259B2 JP 3485259 B2 JP3485259 B2 JP 3485259B2 JP 2000192532 A JP2000192532 A JP 2000192532A JP 2000192532 A JP2000192532 A JP 2000192532A JP 3485259 B2 JP3485259 B2 JP 3485259B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- arrayed
- tmk
- tek
- arrayed waveguide
- phase adjustment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Description
れ、複数の光入射端,分岐部,合波部,複数の光出射
端,前記分岐部と前記合波部に挟まれた複数のアレイ導
波路から構成され、各光入射端からの入射光を分岐して
それぞれの光出射端より出射するアレイ導波路型回折格
子において、アレイ導波路間の位相値の設計値からのず
れを外的に制御することでチャンネル間のクロストーク
が小さなアレイ導波路型回折格子を作製することに関す
るものである。
導波路の長さは一定のピッチで増加することが基本であ
る。実際には、作製後の各アレイ導波路間の光路差は設
計値からわずかにずれており、この設計値からのずれが
位相誤差となる。各アレイ導波路に位相誤差が発生する
と、これがチャンネル間のクロストークを劣化させる要
因となる。
N:Nはアレイ導波路の本数)の位相誤差φk を外的に
解消するには、アレイ導波路#kの一部(導波路長をΔ
Lk )の有効屈折率をΔnk だけ変化させて位相変化Δ
Lk Δnk を誘起することによりφk を打ち消す必要が
ある。
率変化がある。これは、光導波路に紫外線を照射すると
クラマースークローニッヒ機構を中心とするいくつかの
現象が複合して屈折率変化が生じる現象であり、Ge添
加コアファイバの屈折率変化を用いて光ファイバ上にブ
ラッグ回折格子を作製する技術に応用されている。
拡大図である図1(b)に示した、光誘起屈折率変化を
利用して位相誤差を低減する従来の方法では、照射すべ
き部分を窓4で露呈させる以外は紫外線をカットするプ
レート(位相調整用マスク)2でアレイ導波路をマスク
し、露呈したアレイ導波路部分ΔLk のみを平行な紫外
線ビーム5で照射することにより、位相変化ΔLk Δn
k を誘起し位相誤差φ k を解消する。なお図1(a)
(b)において、1はアレイ導波路型回折格子が形成さ
れた基板、3はスラブ導波路である。
率変化によって発生する有効屈折率変化量は、TEとT
Mの伝播モードで異なる。例えば、比屈折率差が0.7
5%である石英系導波路では、TEとTMモードで誘起
される屈折率変化量ΔnTEとΔnTMの比は、Δn TM/Δ
nTE≒0.5である。このため、TEモードに対して位
相誤差を補償してもTMモードに対しては誘起される位
相変化が少なく位相誤差を解消することができないと言
った事態が発生する。
に対しては位相誤差が解消されてクロストークを十分低
減できるが、TMモードに対してはクロストークを低減
できなくなる。なお、図2において符号6は、TEモー
ド入射に対する透過バンドを示し、符号7はTMモード
入射に対する透過バンドを示す。
率変化を利用して位相誤差の補償を行う方法において、
TEとTMモードで誘起される位相変化が異なる場合で
も、TEとTMモードに対する位相誤差を解消すること
を目的とする。
う半波長板をアレイ導波路の中心を垂直に横断するよう
に設置し、照射すべきアレイ導波路部以外の部分は紫外
線をカットするマスクをこの半波長板に対して左側およ
び右側のアレイ導波路部分に設置した後に露呈した部分
のみを紫外線平行ビームで照射することにより、TEと
TMの両モードの光がアレイ導波路の入射端より入射し
ても、これらモードに対する位相誤差を同時に解消し、
かつ、両モードに対する透過バンドの中心を一致させる
ことを特徴とする。
に対してクロストークが非常に低いアレイ導波路型回折
格子を実現できる利点がある。
アレイ導波路#kにおけるTEとTMモードで入射した
光の伝播を模式的に示す図である。図中、8と9はTE
モードおよびTMモードでの#kアレイ導波路の光路を
示す。10はアレイ導波路の中心部に設置された半波長
板であり、11と12は、紫外線照射ビームを示す。
れた半波長板10に入射するまで半波長板10に対して
アレイ導波路の左半分をTEモードで伝播し、この半波
長板10によりTMモードに変換され、このアレイ導波
路の右半分をTMモードとして伝播する。この光伝播に
より受ける位相誤差をφTEk とする。
設置された半波長板10に入射するまでアレイ導波路の
左半分をTMモードで伝播し、この半波長板10により
TEモードに変換され、このアレイ導波路の右半分をT
Eモードとして伝播する。この光伝播により受ける位相
誤差をφTMK とする。
ドで誘起される屈折率変化量ΔnTEとΔnTMの比をδ=
ΔnTM/ΔnTEとする。半波長板10に対して左側部分
および右側部分に紫外線ビーム11,12で誘起すべき
TEモードに対する位相変化をXk およびYk とすれ
ば、半波長板10に対して左側部分および右側部分に誘
起されるTMモードに対する位相変化はδXk およびδ
Yk で表わされる。
端で出射するまでに受ける位相変化はXk +δYk +φ
TEK 、TMモードで入射した光が受ける位相変化はδX
k +Yk +φTMK であるので、位相調整によるターゲッ
ト位相値をTEとTMモードでCTEK 、CTMK とすれ
ば、Xk とYk は Xk +δYk +φTEK =CTEK (1) δXk +Yk +φTMK =CTMK (2) を満たす必要がある。誘起される位相変化は Xk ≧0、Yk ≧0 (3) であるべきなので、(1)〜(3)式を満たすXk とY
k を求めることが必要である。
チャンネル数が128でありガウス型透過バンドを有す
るアレイ導波路型回折格子を用いた。この場合、全アレ
イ導波路の位相誤差が一定(TEモードでCTE、TMモ
ードでCTM)である場合にクロストークが最低となるの
で、(1),(2)式は、 Xk +δYk +φTEK =CTE (4) δXk +Yk +φTMK =CTM (5) となる。ここで、CTEとCTMは定数である。
てのkに対して、 CTE−δCTM≧φTEK −δφTMK (8) δCTE−CTM≦δφTEK −φTMK (9) を満たす必要があるので、k=1,2,…,Nに対する
φTEK −δφTMK の最大値をa、δφTEK −φTMK の最
小値をbとすれば、 CTE−δCTM≧a (10) δCTE−CTM≦b (11) を満たすCTEとCTMを求めればよい。
イ導波路に対して同じ値をターゲットとして位相調整を
行った結果について述べるが、ターゲット位相値である
CTE K とCTMK は位相誤差φTEK とφTMK のkに対する
変化の様子により種々の値に設定することができる。
かに変化する場合には、φTEK とφ TMK の平均値である
(φTEK +φTMK )/2を一定値Cave にするように位
相調整してもクロストークを低減できることがわかって
いる。この場合には、 Xk +δYk =Cave −(φTEK +φTMK )/2 (12) δXk +Yk =Cave −(φTEK +φTMK )/2 (13) を解けばよい。
Cave +(φTEK −φTMK )/2、CTMK =Cave +
(φTMK −φTEK )/2の場合に相当する。このよう
に、ターゲット位相値であるCTEK とCTMK の候補に
は、位相誤差φTEK とφTMK およびkを含む種種の関数
が存在しうる。
レイ導波路型回折格子の概観を示す。図中、10は半波
長板、13と17は光入出射端、14と16はスラブ導
波路、15はアレイ導波路、18と20は位相調整用マ
スク、19と21は一部のアレイ導波路を紫外線に対し
て露呈させるための窓である。
する位相誤差であるφTEK とφTMKを測定した。これら
測定データと(8)と(9)式から求めたCTEとCTMを
用いて(6)と(7)式から、半波長板10に対して左
側および右側のアレイ導波路に対して誘起すべき位相変
化であるXk とYk を決定した。
4,16付近では、各アレイ導波路15が発散状に広が
っている。半波長板10に対して左側および右側のスラ
ブ導波路14,16と各アレイ導波路#kの接点をP1k
およびP2kと決め、C=1,000として、k番目のア
レイ導波路上でP1kとの距離がCXk (ミクロン)とな
る点Q1kおよびP2kとの距離がCYk となる点Q2kを求
めた。
mmの金属薄膜18,20を用意し、この金属薄膜1
8,20から、点{P11,P12,…,P1N}と点
{Q1N,…,Q12,Q11}を順次結んで得られる閉曲線
Σ1 、および点{P21,P22,…,P 2N-1,P2N}と点
{Q2N,Q2N-1,…,Q22,Q21}を順次結んで得られ
る閉曲線Σ2 で囲まれた部分をエッチングで除去し、窓
19,21を作製した。
…,P1N}、{Q1N,…,Q12,Q11}、{P21,
P22,…,P2N-1,P2N}、{Q2N,Q2N-1,…,
Q22,Q21}とマスク18,19上の各点が一致するよ
うにこれらのマスク18,19をアレイ導波路15上に
設置し、接着剤で固定した。
エキシマーレーザを用いた。このレーザ光源からの出射
ビームの断面は約1cm×2cmの矩形であり、位相調
整用マスク18,20の窓19,21よりもかなり広が
っていたので、このレーザビームをマスク18,19に
対して垂直に照射した。
ド入射に対するアレイ導波路型回折格子の透過バンドを
示す。図5中、実線と破線はTEおよびTMモード入射
に対する透過バンドを示す。TEとTMモードでの伝播
時の光路長が複屈折性によりわずかに異なるため、TE
およびTMモードでの透過バンドの中心はわずかにずれ
ている。照射前の透過バンドのクロストークは約−20
dBであり、これはバンドの両側に発生しているサイド
ローブで決定される。
波長板を設置し、上記の位相調整用マスクを介して位相
誤差を調整した結果を示す。TEおよびTMモードの両
モードの入射に対しても透過バンドは一致しており、か
つ、両バンド共にサイドローブの成分は−35dB以下
に低減された。なお図6中、実線と破線はTEおよびT
Mモード入射に対する透過バンドを示す。
の光がアレイ導波路の入射端より入射しても、これらモ
ードに対する位相誤差を同時に解消し、かつ、両モード
に対する透過バンドの中心を一致させることができる。
この結果、偏波無依存動作でTEとTMの両モードに対
してクロストークが非常に低いアレイ導波路型回折格子
を実現できる利点がある。
示す説明図。
示す特性図。
播を示す模式図。
整法を示す説明図。
性図。
特性図。
Claims (3)
- 【請求項1】 基板上に形成され、複数の光入射端,分
岐部,合波部,複数の光出射端,前記分岐部と前記合波
部に挟まれた複数のアレイ導波路から構成され、各光入
射端からの入射光を分岐してそれぞれの光出射端より出
射するアレイ導波路型回折格子の製造方法であって、前記 アレイ導波路を伝播する光のTEとTMの伝播モー
ドをそれぞれTMおよびTEモードに変換する半波長板
を、該アレイ導波路の中心部分を垂直に横断するように
設置し、 更に、前記 半波長板に関して左側および右側のアレイ導
波路の一部のみを紫外線照射するために露呈させること
を目的とした窓を有する位相調整用マスクを作製する行
程と、この位相調整用マスクを用いて前記アレイ導波路
の位相調整をする行程を有し、 位相調整用マスクを作製する行程では、 該アレイ導波路の本数をN、該アレイ導波路型回折格子
の特定の光入射端よりTEおよびTMモードで入射し、
k番目(k=1,2,…,N)のアレイ導波路を伝播し
た後に特定の光出射端よりそれぞれTMおよびTEモー
ドで出射する光の伝播経路の設計値からの位相のずれを
φTEk およびφTMk 、紫外線照射により光導波路のTE
およびTMモードに誘起される屈折率変化であるΔnTE
とΔnTMの比をδ=ΔnTM/ΔnTE、CTEk は定数CTE
に等しく、CTMk は定数CTMに等しいとして、Xk とY
k に関する連立方程式Xk +δYk +φTEk =CTEk 、
δXk +Yk +φTMk =CTMk (k=1,2,…,N)
を満たし、かつ、Xk ≧0、Yk ≧0であるようにX
k ,Yk を決定し、k番目のアレイ導波路上の前記半波
長板に関して左側の部分の特定の地点をP1k、前記半波
長板に関して右側の部分の特定の地点をP2kとし、点P
1kからk番目の導波路に沿ってCを定数としてCXk の
距離にあり且つ前記半波長板に関して左側の地点Q1k、
点P2kからk番目の導波路に沿ってCを定数としてCY
k の距離にあり且つ前記半波長板に関して右側の地点Q
2kとを求めた後に、点{P11,P12,…,P1N}と点
{Q1N,…,Q12,Q11}を順次結んで得られる閉曲線
Σ1 、および点{P21,P22,…,P2N-1,P2N}と点
{Q2N,Q2N-1,…,Q22,Q21}を順次結んで得られ
る閉曲線Σ2 を求め、その表面が該閉曲線よりも広く紫
外線を遮断する薄膜金属等のプレート上で、該閉曲線Σ
1 およびΣ2 で囲まれた部分を除去してできる間隙を窓
として有する位相調整用マスクを作製し、 位相調整用マスクを用いて前記アレイ導波路の位相調整
をする行程では、 該位相調整用マスク上の閉曲線で囲まれた窓が、前記ア
レイ導波路上の点である{P 11 ,P 12 ,…,P 1N }、
{Q 1N ,…,Q 12 ,Q 11 }および{P 21 ,P 22 ,…,P
2N }、{Q 2N ,…,Q 22 ,Q 21 }と重なるように該位相
調整用マスクを該アレイ導波路格子型波長分波器上に設
置し、該マスク上の該窓を紫外線で照射した後に、該位
相調整用マスクを除去する、 ことを特徴とするアレイ導波路型回折格子の製造方法。 - 【請求項2】 請求項1に記載したアレイ導波路型回折
格子の製造方法において、 前記位相調整用マスクを作製する行程では、 前記位相調整マスクは、 Caveを定数として、CTEk =
Cave+(φTEk−φTMk)/2、CTMk =Cave +(φ
TMk−φTEk )/2としたときの閉曲線Σ1およびΣ2を
窓として有することを特徴とするアレイ導波路型回折格
子の製造方法。 - 【請求項3】 請求項1に記載したアレイ導波路型回折
格子の製造方法において、 前記位相調整用マスクを作製する行程では、 該閉曲線Σ1およびΣ2をなめらかな曲線に平滑化し、こ
の平滑化された閉曲線が前記プレートの窓としているこ
とを特徴とするアレイ導波路型回折格子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000192532A JP3485259B2 (ja) | 2000-06-27 | 2000-06-27 | アレイ導波路型回折格子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000192532A JP3485259B2 (ja) | 2000-06-27 | 2000-06-27 | アレイ導波路型回折格子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002006157A JP2002006157A (ja) | 2002-01-09 |
JP3485259B2 true JP3485259B2 (ja) | 2004-01-13 |
Family
ID=18691651
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000192532A Expired - Lifetime JP3485259B2 (ja) | 2000-06-27 | 2000-06-27 | アレイ導波路型回折格子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3485259B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1261779C (zh) * | 2001-10-19 | 2006-06-28 | Ntt电子股份有限公司 | 阵列波导衍射光栅型光多路复用/分用器 |
JP4988163B2 (ja) * | 2005-02-28 | 2012-08-01 | 日本電信電話株式会社 | アレイ導波路格子の波長特性を調整するための方法およびマスク |
CN110673419B (zh) * | 2019-09-03 | 2020-09-18 | 华中科技大学 | 一种提升光学相控阵扫描范围的方法及光学天线器件 |
-
2000
- 2000-06-27 JP JP2000192532A patent/JP3485259B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
K.Takada et.al.,Electronics Letters,2000年 1月 6日,Vol.36 No.1,pp.60−61 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002006157A (ja) | 2002-01-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Adar et al. | Broad-band array multiplexers made with silica waveguides on silicon | |
JP3527044B2 (ja) | 光信号整形装置 | |
US5940548A (en) | Guided-wave circuit with optical characteristics adjusting plate, method for producing it, and apparatus for producing optical characteristics adjusting plate | |
US5945261A (en) | Creation of Bragg reflective gratings in waveguides | |
EP0840147A2 (en) | Method and apparatus for making continuous chirped fiber bragg gratings | |
US5832154A (en) | Optical device formed with grating therein, add/drop filter using same, and method of fabricating same | |
US7046374B1 (en) | Interferometers for optical communications utilizing photo-sensitive materials | |
JP3816769B2 (ja) | 光ファイバー加工用位相マスクの製造方法、光ファイバー加工用位相マスク並びにブラッググレーティング付き光ファイバー及びこの光ファイバーを用いた分散補償デバイス | |
JP3485259B2 (ja) | アレイ導波路型回折格子の製造方法 | |
WO2001013150A9 (fr) | Selecteur de mode de diffraction de guides d'ondes en reseau | |
US6483965B1 (en) | Method of writing a bragg diffraction grating | |
JP3867453B2 (ja) | 光損失フィルタおよびその製造方法 | |
US6428944B1 (en) | Fabrication of gratings in planar waveguide devices | |
US6983091B2 (en) | Method for writing a planar waveguide having gratings of different center wavelengths | |
US6577799B1 (en) | Laser direct writing of planar lightwave circuits | |
JP3693494B2 (ja) | チャープ型光ファイバフィルタの製造方法及びチャープ型光ファイバフィルタ | |
JP2005338467A (ja) | 光分岐器及びその製造方法 | |
Pissadakis et al. | Gratings in indium oxide film overlayers on ion-exchanged waveguides by excimer laser micromachining | |
JP4155440B2 (ja) | 回折格子形成用位相マスク及びこのマスクを用いて複製した回折格子を備えた光ファイバー、光導波路 | |
JP2001124944A (ja) | 光合分波回路 | |
JP3632851B2 (ja) | アレイ導波路格子の位相調整用マスクおよびそれを用いたアレイ導波路格子の製造方法 | |
Takada et al. | Slab-waveguide irradiation of UV laser light for photosensitive phase error compensation of arrayed-waveguide gratings | |
JP3743249B2 (ja) | アレイ導波路格子の位相調整用マスク及びそれを用いたアレイ導波路格子の製造方法 | |
JPH11295541A (ja) | 導波路型回折格子の製造方法及び導波路型回折格子製造装置 | |
Kobayashi et al. | Direct fabrication of polyimide waveguide grating by synchrotron radiation |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20031007 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3485259 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071024 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081024 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091024 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101024 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101024 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121024 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121024 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131024 Year of fee payment: 10 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |